JPH1151226A - プロセスガス供給ユニット - Google Patents
プロセスガス供給ユニットInfo
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- JPH1151226A JPH1151226A JP13021098A JP13021098A JPH1151226A JP H1151226 A JPH1151226 A JP H1151226A JP 13021098 A JP13021098 A JP 13021098A JP 13021098 A JP13021098 A JP 13021098A JP H1151226 A JPH1151226 A JP H1151226A
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- Japan
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- process gas
- supply unit
- gas supply
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- Pipeline Systems (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 小型化・集積化されると共に、全ての機器を
同じ方向から取外し及び取付け可能なプロセスガス供給
ユニットを提供すること。 【解決手段】 マスフローコントローラ８、入力弁５、
出力弁１０、パージ弁６、真空弁９、逆止弁７、レギュ
レータ３、フィルタ１３のうちの少なくとも２つの機器
を有し、プロセスガスを供給するプロセスガス供給ユニ
ットにおいて、（ａ）機器のうちの少なくとも１つが所
定方向からボルト止めされるモジュールブロック４２〜
５０と、（ｂ）モジュールブロック４２〜５０が前記所
定方向と同じ方向からボルト止めされるベースプレート
２１〜２８と、（ｃ）ベースプレート２１〜２８が前記
所定方向と同じ方向からボルト止めされる取付パネル１
２とが備えられている。
同じ方向から取外し及び取付け可能なプロセスガス供給
ユニットを提供すること。 【解決手段】 マスフローコントローラ８、入力弁５、
出力弁１０、パージ弁６、真空弁９、逆止弁７、レギュ
レータ３、フィルタ１３のうちの少なくとも２つの機器
を有し、プロセスガスを供給するプロセスガス供給ユニ
ットにおいて、（ａ）機器のうちの少なくとも１つが所
定方向からボルト止めされるモジュールブロック４２〜
５０と、（ｂ）モジュールブロック４２〜５０が前記所
定方向と同じ方向からボルト止めされるベースプレート
２１〜２８と、（ｃ）ベースプレート２１〜２８が前記
所定方向と同じ方向からボルト止めされる取付パネル１
２とが備えられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
使用されるプロセスガス供給ユニットに関し、さらに詳
細には、プロセスガス供給弁、パージ弁、逆止弁、真空
弁、マスフローコントローラ、レギュレータ、フィルタ
等を備えるプロセスガス供給ユニットに関するものであ
る。
使用されるプロセスガス供給ユニットに関し、さらに詳
細には、プロセスガス供給弁、パージ弁、逆止弁、真空
弁、マスフローコントローラ、レギュレータ、フィルタ
等を備えるプロセスガス供給ユニットに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造工程において、エッチ
ングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガ
ス供給ユニットが開発されている。そして、半導体製造
工程が、複数枚のウェハをバッチ処理する方法から、ウ
ェハを１枚づつ処理する枚葉処理方法に移行するように
なり、プロセスガス供給ユニットの小型化がより強く要
求されている。プロセスガス供給ユニットを小型化する
ために、本出願人は、特許第２５６８３６５号公報によ
り、マニホールドであるモジュールブロックに供給弁、
パージ弁、真空弁を上からボルトにより連結するプロセ
スガス供給ユニットを提案している。
ングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガ
ス供給ユニットが開発されている。そして、半導体製造
工程が、複数枚のウェハをバッチ処理する方法から、ウ
ェハを１枚づつ処理する枚葉処理方法に移行するように
なり、プロセスガス供給ユニットの小型化がより強く要
求されている。プロセスガス供給ユニットを小型化する
ために、本出願人は、特許第２５６８３６５号公報によ
り、マニホールドであるモジュールブロックに供給弁、
パージ弁、真空弁を上からボルトにより連結するプロセ
スガス供給ユニットを提案している。
【０００３】図１５に上記マニホールドを用いたプロセ
スガス供給ユニットの構成を示す。このユニットは、図
１６の回路図を具体化したものである。先ず図１６の回
路図を説明する。プロセスガスは、図において左端から
入り、右端から出る。手動弁１に逆止弁２が接続し、逆
止弁２にレギュレータ３が接続している。レギュレータ
３は、入力弁５に接続している。レギュレータ３と入力
弁５との流路の途中に圧力計４が接続している。入力弁
５は、マスフローコントローラ８の入力ポートに接続し
ている。また、マスフローコントローラ８の入力ポート
には、パージ弁６、逆止弁７を介してパージガス源が接
続している。マスフローコントローラ８の出力ポート
は、出力弁１０に接続している。また、マスフローコン
トローラ８の出力ポートには、真空弁９を介して真空源
である真空ポンプが接続している。出力弁１０は、手動
弁１１に接続している。手動弁１１の出口が、半導体製
造工程の真空チャンバに接続している。
スガス供給ユニットの構成を示す。このユニットは、図
１６の回路図を具体化したものである。先ず図１６の回
路図を説明する。プロセスガスは、図において左端から
入り、右端から出る。手動弁１に逆止弁２が接続し、逆
止弁２にレギュレータ３が接続している。レギュレータ
３は、入力弁５に接続している。レギュレータ３と入力
弁５との流路の途中に圧力計４が接続している。入力弁
５は、マスフローコントローラ８の入力ポートに接続し
ている。また、マスフローコントローラ８の入力ポート
には、パージ弁６、逆止弁７を介してパージガス源が接
続している。マスフローコントローラ８の出力ポート
は、出力弁１０に接続している。また、マスフローコン
トローラ８の出力ポートには、真空弁９を介して真空源
である真空ポンプが接続している。出力弁１０は、手動
弁１１に接続している。手動弁１１の出口が、半導体製
造工程の真空チャンバに接続している。
【０００４】次に、図１５により、図１６の回路を具体
化した構成を説明する。全ての機器は、取付パネル１２
上にボルト止めされている。手動弁１は、ブラケットＢ
１により取付パネル１２に固定されている。手動弁１の
両端には、配管１ａ，１ｂ及び継手Ｍが接続している。
下流側の配管１ｂ、継手Ｍには、逆止弁２が接続してい
る。逆止弁２は、継手Ｍ、配管３ａを介してレギュレー
タ３に接続している。レギュレータ３は、ブラケットＢ
２（構成はブラケットＢ１と同じ）により取付パネル１
２に固定されている。レギュレータ３の右端には、継手
Ｍを介して三叉配管５ａ，４ａが接続している。三叉配
管４ａには圧力計４が接続している。三叉配管５ａに
は、継手Ｍを介してマニホールドＣ１に接続している。
マニホールドＣ１の上面には入力弁５及びパージ弁６が
取り付けられている。またマニホールドＣ１のパージ弁
６のポートには、配管６ａ、継手Ｍを介して逆止弁７が
接続している。逆止弁７は、継手Ｍを介して図示しない
パージガス源に接続されている。ここで、逆止弁７から
配管６ａまでの流路は、プレートＡ１に形成されてい
る。
化した構成を説明する。全ての機器は、取付パネル１２
上にボルト止めされている。手動弁１は、ブラケットＢ
１により取付パネル１２に固定されている。手動弁１の
両端には、配管１ａ，１ｂ及び継手Ｍが接続している。
下流側の配管１ｂ、継手Ｍには、逆止弁２が接続してい
る。逆止弁２は、継手Ｍ、配管３ａを介してレギュレー
タ３に接続している。レギュレータ３は、ブラケットＢ
２（構成はブラケットＢ１と同じ）により取付パネル１
２に固定されている。レギュレータ３の右端には、継手
Ｍを介して三叉配管５ａ，４ａが接続している。三叉配
管４ａには圧力計４が接続している。三叉配管５ａに
は、継手Ｍを介してマニホールドＣ１に接続している。
マニホールドＣ１の上面には入力弁５及びパージ弁６が
取り付けられている。またマニホールドＣ１のパージ弁
６のポートには、配管６ａ、継手Ｍを介して逆止弁７が
接続している。逆止弁７は、継手Ｍを介して図示しない
パージガス源に接続されている。ここで、逆止弁７から
配管６ａまでの流路は、プレートＡ１に形成されてい
る。
【０００５】マニホールドＣ１は、プレートＡ１により
取付パネル１２に固定されている。また、マニホールド
Ｃ１には、マスフローコントローラブロックＤが接続さ
れている。マスフローコントローラブロックＤの上面に
は、マスフローコントローラ８が付設されている。マス
フローコントローラブロックＤの右端は、真空弁９及び
出力弁１０が上面に取り付けられたマニホールドＣ２
（構成はマニホールドＣ１と同じ）にに接続している。
マニホールドＣ２は、プレートＡ２により取付パネル１
２に固定されている。真空弁９は、真空源である真空ポ
ンプに接続している。ここで、逆止弁７からの流路は、
プレートＡ２（構成はプレートＡ１と同じ）に形成され
ている。マニホールドＣ２は、継手Ｍ、配管１１ａを介
して手動弁１１に接続している。手動弁１１は、ブラケ
ットＢ３（構成はブラケットＢ１と同じ）により取付パ
ネル１２に固定されている。手動弁１１の右端は、配管
１１ｂ、継手Ｍを介して真空チャンバへと接続してい
る。
取付パネル１２に固定されている。また、マニホールド
Ｃ１には、マスフローコントローラブロックＤが接続さ
れている。マスフローコントローラブロックＤの上面に
は、マスフローコントローラ８が付設されている。マス
フローコントローラブロックＤの右端は、真空弁９及び
出力弁１０が上面に取り付けられたマニホールドＣ２
（構成はマニホールドＣ１と同じ）にに接続している。
マニホールドＣ２は、プレートＡ２により取付パネル１
２に固定されている。真空弁９は、真空源である真空ポ
ンプに接続している。ここで、逆止弁７からの流路は、
プレートＡ２（構成はプレートＡ１と同じ）に形成され
ている。マニホールドＣ２は、継手Ｍ、配管１１ａを介
して手動弁１１に接続している。手動弁１１は、ブラケ
ットＢ３（構成はブラケットＢ１と同じ）により取付パ
ネル１２に固定されている。手動弁１１の右端は、配管
１１ｂ、継手Ｍを介して真空チャンバへと接続してい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プロセスガス供給ユニットには次のような問題があっ
た。 （１）入力弁５やパージ弁６を上面から取付ボルトによ
り一体的に取り付けるマニホールドＣ１が採用されたこ
とにより、全ての機器を配管で接続していた時代と比較
して小型化されたが、近年のプロセスガス供給ユニット
に対する小型化・集積化の要求から見ると、未だ不十分
であった。すなわち、配管及び継手がなお多く存在する
ため、スペースが大きくなると同時に、配管のつなぎ部
の溶接等からパーティクルが発生する問題があった。パ
ーティクルの発生は、半導体の歩留まりに影響を与える
ため大きな問題であった。
プロセスガス供給ユニットには次のような問題があっ
た。 （１）入力弁５やパージ弁６を上面から取付ボルトによ
り一体的に取り付けるマニホールドＣ１が採用されたこ
とにより、全ての機器を配管で接続していた時代と比較
して小型化されたが、近年のプロセスガス供給ユニット
に対する小型化・集積化の要求から見ると、未だ不十分
であった。すなわち、配管及び継手がなお多く存在する
ため、スペースが大きくなると同時に、配管のつなぎ部
の溶接等からパーティクルが発生する問題があった。パ
ーティクルの発生は、半導体の歩留まりに影響を与える
ため大きな問題であった。
【０００７】（２）取付パネル１２から入力弁５及びパ
ージ弁６の取り付けられているマニホールドＣ１及びプ
レートＡ１を取り外したいときに、取付パネル１２に対
してプレートＡが下面からボルトにより固定されている
ので、取付パネル１２をひっくり返す必要が有り、取付
パネル１２に取り付けられている全ての機器を取り外さ
なければならず、極めて不便であった。一般的に、半導
体製造工程では、取付スペースを狭くするために、取付
パネル１２が壁等に密着させて固定されているからであ
る。これは真空弁９、出力弁１０が取り付けられている
マニホールドＣ２及びＡ２についても同様である。
ージ弁６の取り付けられているマニホールドＣ１及びプ
レートＡ１を取り外したいときに、取付パネル１２に対
してプレートＡが下面からボルトにより固定されている
ので、取付パネル１２をひっくり返す必要が有り、取付
パネル１２に取り付けられている全ての機器を取り外さ
なければならず、極めて不便であった。一般的に、半導
体製造工程では、取付スペースを狭くするために、取付
パネル１２が壁等に密着させて固定されているからであ
る。これは真空弁９、出力弁１０が取り付けられている
マニホールドＣ２及びＡ２についても同様である。
【０００８】本発明は上記問題点を解決し、小型化・集
積化されると共に、全ての機器を同じ方向から取り外し
及び取り付け可能なプロセスガス供給ユニットを提供す
ることを目的とする。
積化されると共に、全ての機器を同じ方向から取り外し
及び取り付け可能なプロセスガス供給ユニットを提供す
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のプロセスガス供給ユニットは、次のような構
成を有している。 （１）（ａ）プロセスガス供給に使用されるコンポーネ
ント部品の１つ又は２つ以上がボルト止めされるモジュ
ールブロックと、（ｂ）モジュールブロックがボルト止
めされるベースプレートと、（ｃ）ベースプレートがボ
ルト止めされる取付パネルとを有している。従って、前
記プロセスガス流路に、前記コンポーネントを接続する
ためのパイプを有しない。
に本発明のプロセスガス供給ユニットは、次のような構
成を有している。 （１）（ａ）プロセスガス供給に使用されるコンポーネ
ント部品の１つ又は２つ以上がボルト止めされるモジュ
ールブロックと、（ｂ）モジュールブロックがボルト止
めされるベースプレートと、（ｃ）ベースプレートがボ
ルト止めされる取付パネルとを有している。従って、前
記プロセスガス流路に、前記コンポーネントを接続する
ためのパイプを有しない。
【００１０】（２）前記（１）に記載のプロセスガス供
給ユニットにおいて、前記モジュールブロックと前記ベ
ースプレートとが面接触した状態で前記ボルト止めによ
り接合されていることを特徴とする。 （３）前記（１）に記載のプロセスガス供給ユニットに
おいて、前記コンポーネント部品、モジュールブロッ
ク、及び前記ベースプレートが、いずれも同じ所定方向
からボルト止めされていることを特徴とする。 （４）前記（３）に記載のプロセスガス供給ユニットに
おいて、前記コンポーネント部品が、マスフローコント
ローラ、供給弁、パージ弁、真空弁、逆止弁、レギュレ
ータ、フィルタのうちの１つ又は２つ以上の機器である
ことを特徴とする。
給ユニットにおいて、前記モジュールブロックと前記ベ
ースプレートとが面接触した状態で前記ボルト止めによ
り接合されていることを特徴とする。 （３）前記（１）に記載のプロセスガス供給ユニットに
おいて、前記コンポーネント部品、モジュールブロッ
ク、及び前記ベースプレートが、いずれも同じ所定方向
からボルト止めされていることを特徴とする。 （４）前記（３）に記載のプロセスガス供給ユニットに
おいて、前記コンポーネント部品が、マスフローコント
ローラ、供給弁、パージ弁、真空弁、逆止弁、レギュレ
ータ、フィルタのうちの１つ又は２つ以上の機器である
ことを特徴とする。
【００１１】（５）前記（１）又は（３）に記載のプロ
セスガス供給ユニットにおいて、前記ベースプレートに
略Ｖ字形の流路が形成されていることを特徴とする。 （６）前記（１）又は（３）に記載のプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記供給するプロセスガスの種類が
２以上であって、前記モジュールブロックの２つ以上が
一直線上に配置されて構成されるモジュールブロック列
の２以上が並列に配置されているとき、前記ベースプレ
ートが、前記モジュールブロック列に交差して配置さ
れ、２つ以上の前記モジュールブロックと接続されるこ
とを特徴とする。 （７）前記（１）又は（３）に記載のプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記ベースプレート及び前記取付パ
ネルが、相互に位置決め手段を有することを特徴とす
る。 （８）前記（７）に記載のプロセスガス供給ユニットに
おいて、前記位置決め手段が、位置決めピン及び位置決
め孔の組合せであることを特徴とする。 （９）前記（１）又は（３）に記載のプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記ベースプレートを前記取付パネ
ルに連結するためのボルト頭が、前記ベースプレートに
形成された座ぐり孔に入り、前記モジュールブロックの
上面からは見えないことを特徴とする。
セスガス供給ユニットにおいて、前記ベースプレートに
略Ｖ字形の流路が形成されていることを特徴とする。 （６）前記（１）又は（３）に記載のプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記供給するプロセスガスの種類が
２以上であって、前記モジュールブロックの２つ以上が
一直線上に配置されて構成されるモジュールブロック列
の２以上が並列に配置されているとき、前記ベースプレ
ートが、前記モジュールブロック列に交差して配置さ
れ、２つ以上の前記モジュールブロックと接続されるこ
とを特徴とする。 （７）前記（１）又は（３）に記載のプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記ベースプレート及び前記取付パ
ネルが、相互に位置決め手段を有することを特徴とす
る。 （８）前記（７）に記載のプロセスガス供給ユニットに
おいて、前記位置決め手段が、位置決めピン及び位置決
め孔の組合せであることを特徴とする。 （９）前記（１）又は（３）に記載のプロセスガス供給
ユニットにおいて、前記ベースプレートを前記取付パネ
ルに連結するためのボルト頭が、前記ベースプレートに
形成された座ぐり孔に入り、前記モジュールブロックの
上面からは見えないことを特徴とする。
【００１２】上記構成を有するプロセスガス供給ユニッ
トの作用を説明する。本発明に係るプロセスガス供給ユ
ニットにおいては、マスフローコントローラ、供給弁、
パージ弁、真空弁、逆止弁、レギュレータ、フィルタの
うちの１つの機器が、所定方向である上方向からモジュ
ールブロックに対してボルト止めされている。そして、
複数のモジュールブロックが所定の方向と同じ方向であ
る上方向からベースプレートに対してボルト止めされて
いる。さらに、ベースプレートが前記所定の方向と同じ
方向である上方向から取付パネルに対してボルト止めさ
れている。従って、全てのコンポーネント部品が、パイ
プを用いることなく、モジュールブロック、ベースブロ
ックに直接取り付けられているので、全体を集積化して
コンパクト化することができる。また、パイプから発生
するパーティクルの恐れがなくなった。
トの作用を説明する。本発明に係るプロセスガス供給ユ
ニットにおいては、マスフローコントローラ、供給弁、
パージ弁、真空弁、逆止弁、レギュレータ、フィルタの
うちの１つの機器が、所定方向である上方向からモジュ
ールブロックに対してボルト止めされている。そして、
複数のモジュールブロックが所定の方向と同じ方向であ
る上方向からベースプレートに対してボルト止めされて
いる。さらに、ベースプレートが前記所定の方向と同じ
方向である上方向から取付パネルに対してボルト止めさ
れている。従って、全てのコンポーネント部品が、パイ
プを用いることなく、モジュールブロック、ベースブロ
ックに直接取り付けられているので、全体を集積化して
コンパクト化することができる。また、パイプから発生
するパーティクルの恐れがなくなった。
【００１３】全てのコンポーネント部品がモジュールブ
ロックに対して、また、全てのモジュールブロックがベ
ースプレートに対して、さらに、全てのベースプレート
が取付パネルに対して、それぞれ同じ所定方向からボル
ト止めされているので、取付パネルが機械や壁に密着し
て取り付けられている場合でも、取付パネルを取り外す
ことなく、全ての機器、モジュールブロック、及びベー
スプレートを取り外し又は取り付けることが可能であ
る。なお、使用する全てのボルトの径及び長さを統一す
れば、取り外し・取り付け作業を行うときに、ボルトを
特別に仕分けする必要がなく、作業効率を高めることが
できる。
ロックに対して、また、全てのモジュールブロックがベ
ースプレートに対して、さらに、全てのベースプレート
が取付パネルに対して、それぞれ同じ所定方向からボル
ト止めされているので、取付パネルが機械や壁に密着し
て取り付けられている場合でも、取付パネルを取り外す
ことなく、全ての機器、モジュールブロック、及びベー
スプレートを取り外し又は取り付けることが可能であ
る。なお、使用する全てのボルトの径及び長さを統一す
れば、取り外し・取り付け作業を行うときに、ボルトを
特別に仕分けする必要がなく、作業効率を高めることが
できる。
【００１４】ベースプレートに形成されたＶ字形流路に
よれば、余分な止め栓を必要とせず、また、余分な空間
がないため、プロセスガスをパージするときに、プロセ
スガスが滞留することがなく、プロセスガスにより配管
内部が腐食されてパーティクルが発生するという恐れが
低減される。また、ベースプレートに設けられた位置決
めピンと取付パネルに設けられた位置決め孔とが嵌合さ
れて、ベースプレートの位置決めがなされるため、複数
のプロセスガスラインが並列に配置されたときに、複数
のベースプレートが各プロセスガスラインを構成するモ
ジュールブロック列に対して交差して配置されていて
も、各々の位置関係が正確であるため、漏れ等が発生す
る恐れを低減することができる。
よれば、余分な止め栓を必要とせず、また、余分な空間
がないため、プロセスガスをパージするときに、プロセ
スガスが滞留することがなく、プロセスガスにより配管
内部が腐食されてパーティクルが発生するという恐れが
低減される。また、ベースプレートに設けられた位置決
めピンと取付パネルに設けられた位置決め孔とが嵌合さ
れて、ベースプレートの位置決めがなされるため、複数
のプロセスガスラインが並列に配置されたときに、複数
のベースプレートが各プロセスガスラインを構成するモ
ジュールブロック列に対して交差して配置されていて
も、各々の位置関係が正確であるため、漏れ等が発生す
る恐れを低減することができる。
【００１５】また、全体のユニットが組み付けられてい
る状態で、ベースプレートを取付パネルに取り付けてい
る取付ボルトの頭が座ぐり孔に隠れていて、外側から見
えないため、誤ってベースプレートを取付パネルから取
り外してしまう恐れがない。また、余分なボルト頭が隠
れているため、作業者に余分な確認作業を行わせる必要
がなく、メインテナンス作業の効率を高めることができ
る。
る状態で、ベースプレートを取付パネルに取り付けてい
る取付ボルトの頭が座ぐり孔に隠れていて、外側から見
えないため、誤ってベースプレートを取付パネルから取
り外してしまう恐れがない。また、余分なボルト頭が隠
れているため、作業者に余分な確認作業を行わせる必要
がなく、メインテナンス作業の効率を高めることができ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る電磁弁の取付
構造及びその取付用部材を具体化した実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。本発明の第１の実施の形態
であるプロセスガス供給ユニットを図１乃至図５に示
す。図１乃至図４は、プロセスガス供給ユニットの具体
的構成を分解した状態で示す斜視図であり、図５は回路
図である。図１は、プロセスガス供給ユニットで用いら
れるベースプレート２１，２２，２３，２４，２５，２
６，２７，２８のみを抜き出した斜視図である。また、
図２は、取付パネル１２の斜視図である。また、図３
は、モジュールブロック並びにその上に取り付けられて
いるレギュレータ、圧力計、フィルタ、逆止弁、マスフ
ローコントローラの斜視図である。また、図４は、図３
のモジュールブロック上に取り付けられる手動弁、自動
開閉弁などの斜視図である。
構造及びその取付用部材を具体化した実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。本発明の第１の実施の形態
であるプロセスガス供給ユニットを図１乃至図５に示
す。図１乃至図４は、プロセスガス供給ユニットの具体
的構成を分解した状態で示す斜視図であり、図５は回路
図である。図１は、プロセスガス供給ユニットで用いら
れるベースプレート２１，２２，２３，２４，２５，２
６，２７，２８のみを抜き出した斜視図である。また、
図２は、取付パネル１２の斜視図である。また、図３
は、モジュールブロック並びにその上に取り付けられて
いるレギュレータ、圧力計、フィルタ、逆止弁、マスフ
ローコントローラの斜視図である。また、図４は、図３
のモジュールブロック上に取り付けられる手動弁、自動
開閉弁などの斜視図である。
【００１７】先ず、図５に示される回路を説明する。本
実施の形態では、２種類のプロセスガスＡ，Ｂが供給さ
れるプロセスガス供給ユニットの回路が構成されてい
る。なお、大文字のＡ，Ｂ，Ｃは、プロセスガスＡ，Ｂ
及びパージガスＣ供給用のガス供給ラインにそれぞれ対
応している。ここで、２つのプロセスガス供給ラインに
おいては、各プロセスガス源に入力ポートが接続する手
動弁１Ａ，１Ｂにレギュレータ３Ａ，３Ｂが接続してい
る。レギュレータ３Ａ，３Ｂには、フィルタ１３Ａ，１
３Ｂが接続している。また、レギュレータ３Ａ，３Ｂと
フィルタ１３Ａ，１３Ｂを連通する流路には、圧力計４
Ａ，４Ｂが接続されている。フィルタ１３Ａ，１３Ｂ
は、自動開閉弁である入力弁５Ａ，５Ｂに接続してい
る。入力弁５Ａ，５Ｂは、マスフローコントローラ８
Ａ，８Ｂに接続している。また、入力弁５Ａ，５Ｂとマ
スフローコントローラ８Ａ，８Ｂを連通する流路には、
自動開閉弁であるパージ弁６Ａ，６Ｂが接続している。
マスフローコントローラ８Ａ，８Ｂには、自動開閉弁で
ある出力弁１０Ａ，１０Ｂが接続している。出力弁１０
Ａ，１０Ｂの出力ポートは、真空チャンバに接続してい
る。
実施の形態では、２種類のプロセスガスＡ，Ｂが供給さ
れるプロセスガス供給ユニットの回路が構成されてい
る。なお、大文字のＡ，Ｂ，Ｃは、プロセスガスＡ，Ｂ
及びパージガスＣ供給用のガス供給ラインにそれぞれ対
応している。ここで、２つのプロセスガス供給ラインに
おいては、各プロセスガス源に入力ポートが接続する手
動弁１Ａ，１Ｂにレギュレータ３Ａ，３Ｂが接続してい
る。レギュレータ３Ａ，３Ｂには、フィルタ１３Ａ，１
３Ｂが接続している。また、レギュレータ３Ａ，３Ｂと
フィルタ１３Ａ，１３Ｂを連通する流路には、圧力計４
Ａ，４Ｂが接続されている。フィルタ１３Ａ，１３Ｂ
は、自動開閉弁である入力弁５Ａ，５Ｂに接続してい
る。入力弁５Ａ，５Ｂは、マスフローコントローラ８
Ａ，８Ｂに接続している。また、入力弁５Ａ，５Ｂとマ
スフローコントローラ８Ａ，８Ｂを連通する流路には、
自動開閉弁であるパージ弁６Ａ，６Ｂが接続している。
マスフローコントローラ８Ａ，８Ｂには、自動開閉弁で
ある出力弁１０Ａ，１０Ｂが接続している。出力弁１０
Ａ，１０Ｂの出力ポートは、真空チャンバに接続してい
る。
【００１８】パージ弁６Ａ，６Ｂの入力ポートには、自
動開閉弁であるパージガス元弁１４が接続している。ま
た、パージガス元弁１４は、逆止弁７を介してフィルタ
１３Ｃに接続している。フィルタ１３Ｃは、レギュレー
タ３Ｃに接続している。また、フィルタ１３Ｃとレギュ
レータ３Ｃを連通する流路には、圧力計４Ｃが接続され
ている。レギュレータ３Ｃは、手動弁１Ｃを介してパー
ジガスである窒素ガスのタンクに接続している。また、
パージガス元弁１４の出力ポートは、パージ弁６Ｃを介
して、出力弁１０Ａ，１０Ｂの出力ポート側に接続して
いる。
動開閉弁であるパージガス元弁１４が接続している。ま
た、パージガス元弁１４は、逆止弁７を介してフィルタ
１３Ｃに接続している。フィルタ１３Ｃは、レギュレー
タ３Ｃに接続している。また、フィルタ１３Ｃとレギュ
レータ３Ｃを連通する流路には、圧力計４Ｃが接続され
ている。レギュレータ３Ｃは、手動弁１Ｃを介してパー
ジガスである窒素ガスのタンクに接続している。また、
パージガス元弁１４の出力ポートは、パージ弁６Ｃを介
して、出力弁１０Ａ，１０Ｂの出力ポート側に接続して
いる。
【００１９】次に、上記回路に基づくプロセスガス供給
ユニットの具体的構成について説明する。図１におい
て、ベースプレート２１，２２，２３，２４，２５，２
６，２７，２８は、内部に形成された流路を示すために
部分断面図で示されている。すなわち、各ベースプレー
トにおいて手前側に形成された流路の中心線で切断され
ている。例えば、ベースプレート２１は直方体状のブロ
ックであり、上面に座ぐり付空孔３１ａ，３１ｂ、入力
ポート３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ、出力ポート３３Ａ，３
３Ｂ，３３Ｃが形成されている。また、入力ポート３２
Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ及び出力ポート３３Ａ，３３Ｂ，３
３Ｃの両側には、ボルト用の雌ネジが切られたネジ孔３
４が形成されている。なお、本実施例では、集積化を容
易にするために、直方体状ブロックによりベースプレー
トを形成しているが、本発明はこれに限定されるもので
はない。
ユニットの具体的構成について説明する。図１におい
て、ベースプレート２１，２２，２３，２４，２５，２
６，２７，２８は、内部に形成された流路を示すために
部分断面図で示されている。すなわち、各ベースプレー
トにおいて手前側に形成された流路の中心線で切断され
ている。例えば、ベースプレート２１は直方体状のブロ
ックであり、上面に座ぐり付空孔３１ａ，３１ｂ、入力
ポート３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ、出力ポート３３Ａ，３
３Ｂ，３３Ｃが形成されている。また、入力ポート３２
Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ及び出力ポート３３Ａ，３３Ｂ，３
３Ｃの両側には、ボルト用の雌ネジが切られたネジ孔３
４が形成されている。なお、本実施例では、集積化を容
易にするために、直方体状ブロックによりベースプレー
トを形成しているが、本発明はこれに限定されるもので
はない。
【００２０】入力ポート３２Ａ（３２Ｂ，３２Ｃ）と出
力ポート３３Ａ（３３Ｂ，３３Ｃ）とは、断面図に示す
ように、Ｖ字形流路３８Ａにより連通されている。ま
た、入力ポート３２Ａ（３２Ｂ，３２Ｃ）及び出力ポー
ト３３Ａ（３３Ｂ，３３Ｃ）には、接続部における漏れ
を防止するためのリングガスケットを収納する座３２ａ
（３２ｂ，３２ｃ），３３ａ（３３ｂ，３３ｃ）がそれ
ぞれ形成されている。また、ベースプレート２１，２
２，２３，２４，２５，２６，２７，２８の裏面には、
図示しない位置決め用孔が形成されている。一方、図２
に示すように、取付パネル１２の上面には、位置決め用
ピン３６が埋め込まれている。また、ベースプレート取
付ボルト３５用の雌ネジが形成されたネジ孔３７ａ，３
７ｂが形成されている。尚、本実施の形態においては、
ベースプレート取付ボルト３５は、ねじサイズ５ｍｍの
六角穴付ボルトが使用されている。
力ポート３３Ａ（３３Ｂ，３３Ｃ）とは、断面図に示す
ように、Ｖ字形流路３８Ａにより連通されている。ま
た、入力ポート３２Ａ（３２Ｂ，３２Ｃ）及び出力ポー
ト３３Ａ（３３Ｂ，３３Ｃ）には、接続部における漏れ
を防止するためのリングガスケットを収納する座３２ａ
（３２ｂ，３２ｃ），３３ａ（３３ｂ，３３ｃ）がそれ
ぞれ形成されている。また、ベースプレート２１，２
２，２３，２４，２５，２６，２７，２８の裏面には、
図示しない位置決め用孔が形成されている。一方、図２
に示すように、取付パネル１２の上面には、位置決め用
ピン３６が埋め込まれている。また、ベースプレート取
付ボルト３５用の雌ネジが形成されたネジ孔３７ａ，３
７ｂが形成されている。尚、本実施の形態においては、
ベースプレート取付ボルト３５は、ねじサイズ５ｍｍの
六角穴付ボルトが使用されている。
【００２１】次に、ベースプレート２１，２２，２３，
２４，２５，２６，２７，２８を取付パネル１２に取り
付ける方法について説明する。取付パネル１２の上面
に、図１に示すベースプレート２１，２２，２３，２
４，２５，２６，２７，２８が、ベースプレート取付ボ
ルト３５により上方向から取り付けられる。一例を説明
すれば、ベースプレート２１は、裏面に形成された図示
しない位置決め孔と取付パネル１２上面に設けられた位
置決め用ピン３６を嵌合させた状態で、ベースプレート
取付ボルト３５ａ、３５ｂを、座ぐり付空孔３１ａ，３
１ｂを通して、ネジ孔３７ａ，３７ｂにねじ込むことに
より、取付パネル１２に取り付けられる。この取り付け
られた状態で、ベースプレート取付ボルト３５ａ，３５
ｂのボルト頭は完全にベースプレート２１の上面より下
側に位置する。他のベースプレート２２，２３，２４，
２５，２６，２７，２８も同様にして、取付パネル１２
に取り付けられる。
２４，２５，２６，２７，２８を取付パネル１２に取り
付ける方法について説明する。取付パネル１２の上面
に、図１に示すベースプレート２１，２２，２３，２
４，２５，２６，２７，２８が、ベースプレート取付ボ
ルト３５により上方向から取り付けられる。一例を説明
すれば、ベースプレート２１は、裏面に形成された図示
しない位置決め孔と取付パネル１２上面に設けられた位
置決め用ピン３６を嵌合させた状態で、ベースプレート
取付ボルト３５ａ、３５ｂを、座ぐり付空孔３１ａ，３
１ｂを通して、ネジ孔３７ａ，３７ｂにねじ込むことに
より、取付パネル１２に取り付けられる。この取り付け
られた状態で、ベースプレート取付ボルト３５ａ，３５
ｂのボルト頭は完全にベースプレート２１の上面より下
側に位置する。他のベースプレート２２，２３，２４，
２５，２６，２７，２８も同様にして、取付パネル１２
に取り付けられる。
【００２２】他のベースプレートの例として、ベースプ
レート２５は、２本の位置決めピン３６を位置決め孔に
嵌合させた状態で、４本のベースプレート取付ボルト３
５により、取付パネル１２に取り付けられる。また、ベ
ースプレートの長手方向に沿って貫通孔３９が形成され
ており、両端がエンドプレート４１により密閉されてい
る。ベースプレート２５の上面には、貫通孔３９に連通
するパージガスポート４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃが形成さ
れている。ベースプレート２５のベースプレート取付ボ
ルト３５の位置は、貫通孔３９を避けるために貫通孔３
９の両側に２カ所ずつ配置されている。本実施の形態で
は、ベースプレートとしては、ベースプレート２１タイ
プとベースプレート２５タイプとの２種類がある。ここ
では、ベースプレート２２〜２４，２６及び２７がベー
スプレート２１と同じタイプとされ、ベースプレート２
８がベースプレート２５と同じタイプとされている。
レート２５は、２本の位置決めピン３６を位置決め孔に
嵌合させた状態で、４本のベースプレート取付ボルト３
５により、取付パネル１２に取り付けられる。また、ベ
ースプレートの長手方向に沿って貫通孔３９が形成され
ており、両端がエンドプレート４１により密閉されてい
る。ベースプレート２５の上面には、貫通孔３９に連通
するパージガスポート４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃが形成さ
れている。ベースプレート２５のベースプレート取付ボ
ルト３５の位置は、貫通孔３９を避けるために貫通孔３
９の両側に２カ所ずつ配置されている。本実施の形態で
は、ベースプレートとしては、ベースプレート２１タイ
プとベースプレート２５タイプとの２種類がある。ここ
では、ベースプレート２２〜２４，２６及び２７がベー
スプレート２１と同じタイプとされ、ベースプレート２
８がベースプレート２５と同じタイプとされている。
【００２３】次に、図３によりモジュールブロックにつ
いて説明する。なお、集積化を容易にするため、本実施
例におけるモジュールブロックは、好適には直方体状ブ
ロックにより構成されているが、本発明はこれに何ら限
定されるものではない。図３において、手前側からプロ
セスガスＡの供給ライン、プロセスガスＢの供給ライ
ン、パージガスの供給ラインである。プロセスガスＡの
供給ラインにおいては、Ｘ方向からプロセスガスＡが入
力され、Ｙ方向へ出力される。上記供給ラインは、それ
ぞれモジュールブロック列Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３から構成さ
れている。そして各モジュールブロック列は、ガス入力
側から手動弁ブロック４２、レギュレータブロック４
３、圧力計ブロック４４、フィルタブロック４５、入力
弁ブロック４６、入力弁第２ブロック４７、マスフロー
コントローラ入力ブロック４８、マスフローコントロー
ラ８（但し、モジュールブロック列Ｌ３には設けられて
いない）、マスフローコントローラ出力ブロック４９、
出力弁ブロック５０から構成されている。
いて説明する。なお、集積化を容易にするため、本実施
例におけるモジュールブロックは、好適には直方体状ブ
ロックにより構成されているが、本発明はこれに何ら限
定されるものではない。図３において、手前側からプロ
セスガスＡの供給ライン、プロセスガスＢの供給ライ
ン、パージガスの供給ラインである。プロセスガスＡの
供給ラインにおいては、Ｘ方向からプロセスガスＡが入
力され、Ｙ方向へ出力される。上記供給ラインは、それ
ぞれモジュールブロック列Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３から構成さ
れている。そして各モジュールブロック列は、ガス入力
側から手動弁ブロック４２、レギュレータブロック４
３、圧力計ブロック４４、フィルタブロック４５、入力
弁ブロック４６、入力弁第２ブロック４７、マスフロー
コントローラ入力ブロック４８、マスフローコントロー
ラ８（但し、モジュールブロック列Ｌ３には設けられて
いない）、マスフローコントローラ出力ブロック４９、
出力弁ブロック５０から構成されている。
【００２４】手動弁ブロック４２には、図４に示す手動
弁１が取り付けられて手動弁モジュールを構成してい
る。かかる手動弁モジュールの構成を図６に示す。
（ａ）が上面図であり、（ｂ）が側面図である。手動弁
１は、４本の機器取付ボルト５２により、上方向から手
動弁ブロック４２に取り付けられている。手動弁ブロッ
ク４２の左端面には入力継手５１が取り付けられてい
る。手動弁ブロック４２には、入力継手５１と手動弁１
の入力ポートとを連通する直角流路４２ａが形成されて
いる。また、手動弁１の出力ポートとベースプレート２
１の入力ポート３２（Ａ、Ｂ又はＣ）とを連通する斜め
流路４２ｂが形成されている。また、手動弁ブロック４
２は、２本のモジュール取付ボルト５３によりベースプ
レート２１に取り付けられている。尚、本実施の形態に
おいては、機器取付ボルト５２及びモジュール取付ボル
ト５３として、ねじサイズ５ｍｍの六角穴付ボルトが使
用されている。
弁１が取り付けられて手動弁モジュールを構成してい
る。かかる手動弁モジュールの構成を図６に示す。
（ａ）が上面図であり、（ｂ）が側面図である。手動弁
１は、４本の機器取付ボルト５２により、上方向から手
動弁ブロック４２に取り付けられている。手動弁ブロッ
ク４２の左端面には入力継手５１が取り付けられてい
る。手動弁ブロック４２には、入力継手５１と手動弁１
の入力ポートとを連通する直角流路４２ａが形成されて
いる。また、手動弁１の出力ポートとベースプレート２
１の入力ポート３２（Ａ、Ｂ又はＣ）とを連通する斜め
流路４２ｂが形成されている。また、手動弁ブロック４
２は、２本のモジュール取付ボルト５３によりベースプ
レート２１に取り付けられている。尚、本実施の形態に
おいては、機器取付ボルト５２及びモジュール取付ボル
ト５３として、ねじサイズ５ｍｍの六角穴付ボルトが使
用されている。
【００２５】レギュレータブロック４３には、レギュレ
ータ３が取り付けられてレギュレータモジュールを構成
している。レギュレータモジュールの構成を図７に示
す。（ａ）が上面図であり、（ｂ）が側面図である。図
７（ｂ）に示すように、レギュレータ３は、キャップタ
イプの取付ナット３ａにより、レギュレータブロック４
３に取り付けられている。レギュレータブロック４３
は、４本のモジュール取付ボルト５３により、ベースプ
レート２１，２２に取り付けられている。レギュレータ
ブロック４３には、レギュレータ３の入力ポートとベー
スプレート２１の出力ポート３３（Ａ、Ｂ又はＣ）とを
連通させる斜め流路４３ａが形成されている。また、レ
ギュレータ３の出力ポートとベースプレート２２の入力
ポート３２（Ａ、Ｂ又はＣ）とを連通させる斜め流路４
３ｂが形成されている。
ータ３が取り付けられてレギュレータモジュールを構成
している。レギュレータモジュールの構成を図７に示
す。（ａ）が上面図であり、（ｂ）が側面図である。図
７（ｂ）に示すように、レギュレータ３は、キャップタ
イプの取付ナット３ａにより、レギュレータブロック４
３に取り付けられている。レギュレータブロック４３
は、４本のモジュール取付ボルト５３により、ベースプ
レート２１，２２に取り付けられている。レギュレータ
ブロック４３には、レギュレータ３の入力ポートとベー
スプレート２１の出力ポート３３（Ａ、Ｂ又はＣ）とを
連通させる斜め流路４３ａが形成されている。また、レ
ギュレータ３の出力ポートとベースプレート２２の入力
ポート３２（Ａ、Ｂ又はＣ）とを連通させる斜め流路４
３ｂが形成されている。
【００２６】圧力計ブロック４４には、圧力計４が取り
付けられて圧力計モジュールを構成している。圧力計モ
ジュールの構成を図８に示す。（ａ）が上面図であり、
（ｂ）が側面図である。図８（ｂ）に示すように、圧力
計４は、継手４ａにより圧力計ブロック４４に取り付け
られている。圧力計ブロック４４は、４本のモジュール
取付ボルト５３により、ベースプレート２２，２３に取
り付けられている。圧力計ブロック４４には、逆Ｖ字形
の逆Ｖ字流路４４ａが形成されている。逆Ｖ字流路４４
ａの頂点に圧力計４が接続している。逆Ｖ字流路４４ａ
は、ベースプレート２２の出力ポート３３とベースプレ
ート２３の入力ポート３２とに連通している。
付けられて圧力計モジュールを構成している。圧力計モ
ジュールの構成を図８に示す。（ａ）が上面図であり、
（ｂ）が側面図である。図８（ｂ）に示すように、圧力
計４は、継手４ａにより圧力計ブロック４４に取り付け
られている。圧力計ブロック４４は、４本のモジュール
取付ボルト５３により、ベースプレート２２，２３に取
り付けられている。圧力計ブロック４４には、逆Ｖ字形
の逆Ｖ字流路４４ａが形成されている。逆Ｖ字流路４４
ａの頂点に圧力計４が接続している。逆Ｖ字流路４４ａ
は、ベースプレート２２の出力ポート３３とベースプレ
ート２３の入力ポート３２とに連通している。
【００２７】フィルタブロック４５には、フィルタ１３
が取り付けられてレギュレータモジュールを構成してい
る。レギュレータモジュールの構成を図９に示す。
（ａ）が上面図であり、（ｂ）が側面図である。図９
（ｂ）に示すように、メタルフィルタであるフィルタ１
３は、フィルタブロック４５に圧入により取り付けられ
ている。フィルタブロック４５は、４本のモジュール取
付ボルト５３により、ベースプレート２３，２４に取り
付けられている。フィルタブロック４５には、フィルタ
１３の入力ポートとベースプレート２３の出力ポート３
３とを連通させる斜め流路４５ａが形成されている。ま
た、フィルタ１３の出力ポートとベースプレート２４の
入力ポート３２とを連通させる斜め流路４５ｂが形成さ
れている。
が取り付けられてレギュレータモジュールを構成してい
る。レギュレータモジュールの構成を図９に示す。
（ａ）が上面図であり、（ｂ）が側面図である。図９
（ｂ）に示すように、メタルフィルタであるフィルタ１
３は、フィルタブロック４５に圧入により取り付けられ
ている。フィルタブロック４５は、４本のモジュール取
付ボルト５３により、ベースプレート２３，２４に取り
付けられている。フィルタブロック４５には、フィルタ
１３の入力ポートとベースプレート２３の出力ポート３
３とを連通させる斜め流路４５ａが形成されている。ま
た、フィルタ１３の出力ポートとベースプレート２４の
入力ポート３２とを連通させる斜め流路４５ｂが形成さ
れている。
【００２８】入力弁ブロック４６及び入力弁第２ブロッ
ク４７の構成を図１０に示す。モジュールブロック列Ｌ
１及びＬ２における入力弁ブロック４６Ａ，４６Ｂに
は、入力弁５Ａ，５Ｂ及びパージ弁６Ａ，６Ｂが取り付
けられている。また、モジュールブロック列Ｌ３におけ
る入力弁ブロック４６Ｃには、パージガス元弁１４及び
逆止弁７が取り付けられている（図５参照）。入力弁５
及びパージ弁６は、各々４本の機器取付ボルト５２によ
り、上方向から入力弁ブロック４６に取り付けられてい
る。また、入力弁第２ブロック４７と入力弁ブロック４
６とは、図示しない取付ボルトにより図１０（ｂ）の右
方向から一体的に固設されている。そして、入力弁ブロ
ック４６と入力弁第２ブロック４７とは、ベースプレー
ト２４、ベースプレート２５、ベースプレート２６に対
して、一体的に上方向から各々２本のモジュール取付ボ
ルト５３により取り付けられている。
ク４７の構成を図１０に示す。モジュールブロック列Ｌ
１及びＬ２における入力弁ブロック４６Ａ，４６Ｂに
は、入力弁５Ａ，５Ｂ及びパージ弁６Ａ，６Ｂが取り付
けられている。また、モジュールブロック列Ｌ３におけ
る入力弁ブロック４６Ｃには、パージガス元弁１４及び
逆止弁７が取り付けられている（図５参照）。入力弁５
及びパージ弁６は、各々４本の機器取付ボルト５２によ
り、上方向から入力弁ブロック４６に取り付けられてい
る。また、入力弁第２ブロック４７と入力弁ブロック４
６とは、図示しない取付ボルトにより図１０（ｂ）の右
方向から一体的に固設されている。そして、入力弁ブロ
ック４６と入力弁第２ブロック４７とは、ベースプレー
ト２４、ベースプレート２５、ベースプレート２６に対
して、一体的に上方向から各々２本のモジュール取付ボ
ルト５３により取り付けられている。
【００２９】入力弁ブロック４６Ａ，４６Ｂには、ベー
スプレート２４の出力ポート３３（Ａ，Ｂ）と入力弁５
の入力ポートとを連通させる斜め流路４６ａ、直線流路
４６ｂ、入力弁５の出力ポートと直線流路４６ｂとを連
通させる流路４６ｃ、パージ弁６の出力ポートと直線流
路４６ｂとを連通させる流路４６ｄが形成されている。
スプレート２４の出力ポート３３（Ａ，Ｂ）と入力弁５
の入力ポートとを連通させる斜め流路４６ａ、直線流路
４６ｂ、入力弁５の出力ポートと直線流路４６ｂとを連
通させる流路４６ｃ、パージ弁６の出力ポートと直線流
路４６ｂとを連通させる流路４６ｄが形成されている。
【００３０】一方、入力弁ブロック４６Ｃにおいては、
入力弁５の代わりに逆止弁７が取り付けられ、パージ弁
６の代わりにパージガス元弁１４が取り付けられてい
る。そして、流路は、直線流路４６ｂがなく、逆止弁７
の出力ポートがパージガス元弁１４の入力ポートに連通
し、パージガス元弁１４の出力ポートは、図１０に図示
する流路４６ｅにより、ベースプレート２５のパージガ
スポート４０Ｃを介して貫通孔３９に連通している。
入力弁５の代わりに逆止弁７が取り付けられ、パージ弁
６の代わりにパージガス元弁１４が取り付けられてい
る。そして、流路は、直線流路４６ｂがなく、逆止弁７
の出力ポートがパージガス元弁１４の入力ポートに連通
し、パージガス元弁１４の出力ポートは、図１０に図示
する流路４６ｅにより、ベースプレート２５のパージガ
スポート４０Ｃを介して貫通孔３９に連通している。
【００３１】マスフローコントローラ８の入力側には、
マスフローコントローラ入力ブロック４８が横方向から
固設され、出力側には、マスフローコントローラ出力ブ
ロック４９が横方向から固設されている。マスフローコ
ントローラ８とマスフローコントローラ入力ブロック４
８とマスフローコントローラ出力ブロック４９とは、一
体的に、モジュール取付ボルト５３により、上方向から
ベースプレート２６，２７に取り付けられている。ベー
スプレート２６のＶ字流路２６ａが、入力弁第２ブロッ
ク４７とマスフローコントローラ入力ブロック４８の各
々の流路を連通している。また、ベースプレート２７の
Ｖ字流路２７ａが、マスフローコントローラ出力ブロッ
ク４９と出力弁ブロック５０の各々の流路を連通してい
る。
マスフローコントローラ入力ブロック４８が横方向から
固設され、出力側には、マスフローコントローラ出力ブ
ロック４９が横方向から固設されている。マスフローコ
ントローラ８とマスフローコントローラ入力ブロック４
８とマスフローコントローラ出力ブロック４９とは、一
体的に、モジュール取付ボルト５３により、上方向から
ベースプレート２６，２７に取り付けられている。ベー
スプレート２６のＶ字流路２６ａが、入力弁第２ブロッ
ク４７とマスフローコントローラ入力ブロック４８の各
々の流路を連通している。また、ベースプレート２７の
Ｖ字流路２７ａが、マスフローコントローラ出力ブロッ
ク４９と出力弁ブロック５０の各々の流路を連通してい
る。
【００３２】出力弁ブロック５０には、図４に示す出力
弁１０が取り付けられて出力弁モジュールを構成してい
る。出力弁モジュールの構成を図１１に示す。（ａ）が
上面図であり、（ｂ）が側面図である。出力弁１０は、
４本の機器取付ボルト５２により、上方向から出力弁ブ
ロック５０に取り付けられている。図１１において、出
力弁ブロック５０の左端面には出力継手５４が取り付け
られている。出力弁ブロック５０には、出力継手５４と
出力弁１０の出力ポートとを連通する直角流路５０ｂが
形成されている。また、出力弁１０の入力ポートとベー
スプレート２７の出力ポートとを連通する斜め流路５０
ａが形成されている。また、出力弁ブロック５０は、２
本のモジュール取付ボルト５３によりベースプレート２
８に取り付けられている。
弁１０が取り付けられて出力弁モジュールを構成してい
る。出力弁モジュールの構成を図１１に示す。（ａ）が
上面図であり、（ｂ）が側面図である。出力弁１０は、
４本の機器取付ボルト５２により、上方向から出力弁ブ
ロック５０に取り付けられている。図１１において、出
力弁ブロック５０の左端面には出力継手５４が取り付け
られている。出力弁ブロック５０には、出力継手５４と
出力弁１０の出力ポートとを連通する直角流路５０ｂが
形成されている。また、出力弁１０の入力ポートとベー
スプレート２７の出力ポートとを連通する斜め流路５０
ａが形成されている。また、出力弁ブロック５０は、２
本のモジュール取付ボルト５３によりベースプレート２
８に取り付けられている。
【００３３】一方、出力弁ブロック５０Ｃにおいては、
出力弁１０の代わりにパージ弁６Ｃが取り付けられてい
る。そして、流路は、直線流路５０ｂがなく、パージ弁
６Ｃの出力ポートは、図１１に図示する流路５０ｃによ
り、ベースプレート２８の貫通孔３９に連通している。
出力弁１０の代わりにパージ弁６Ｃが取り付けられてい
る。そして、流路は、直線流路５０ｂがなく、パージ弁
６Ｃの出力ポートは、図１１に図示する流路５０ｃによ
り、ベースプレート２８の貫通孔３９に連通している。
【００３４】次に、上記構成を有するプロセスガス供給
ユニットの作用を説明する。プロセスガスＡを真空チャ
ンバに供給する場合には、入力弁５Ａ及び出力弁１０Ａ
を開けて、プロセスガスＡを手動弁１Ａ、フィルタ１３
Ａを介してマスフローコントローラ８Ａに送り込む。こ
のとき、プロセスガスＡの圧力は、レギュレータ３Ａ、
圧力計４Ａにより一定に保たれている。マスフローコン
トローラ８Ａは、一定質量のプロセスガスＡを出力弁１
０Ａを介して真空チャンバに供給する。
ユニットの作用を説明する。プロセスガスＡを真空チャ
ンバに供給する場合には、入力弁５Ａ及び出力弁１０Ａ
を開けて、プロセスガスＡを手動弁１Ａ、フィルタ１３
Ａを介してマスフローコントローラ８Ａに送り込む。こ
のとき、プロセスガスＡの圧力は、レギュレータ３Ａ、
圧力計４Ａにより一定に保たれている。マスフローコン
トローラ８Ａは、一定質量のプロセスガスＡを出力弁１
０Ａを介して真空チャンバに供給する。
【００３５】プロセスガスＡの供給を終える手順を説明
する。入力弁５Ａ及び出力弁１０Ａを閉じる。そして、
パージ弁６Ａ及びパージ弁６Ｃを開ける。このとき、パ
ージガス元弁１４は開いている。従って、パージ弁６Ａ
及びパージ弁６Ｃを介して、パージガスが各流路に流れ
込み、滞留しているプロセスガスＡとパージガスとが置
換される。このとき、逆止弁７は、プロセスガスＡがパ
ージガスラインに逆流することを防止している。プロセ
スガスＢを供給する場合も、プロセスガスＡの手順と同
じである。
する。入力弁５Ａ及び出力弁１０Ａを閉じる。そして、
パージ弁６Ａ及びパージ弁６Ｃを開ける。このとき、パ
ージガス元弁１４は開いている。従って、パージ弁６Ａ
及びパージ弁６Ｃを介して、パージガスが各流路に流れ
込み、滞留しているプロセスガスＡとパージガスとが置
換される。このとき、逆止弁７は、プロセスガスＡがパ
ージガスラインに逆流することを防止している。プロセ
スガスＢを供給する場合も、プロセスガスＡの手順と同
じである。
【００３６】プロセスガス供給ユニットにおいては、プ
ロセスガスとして腐食性の高いガス等が使用されるた
め、レギュレータ３、圧力計４、フィルタ１３、入力弁
５、パージ弁６、逆止弁７、マスフローコントローラ
８、出力弁１０等の機器の流路表面が経時的に腐食さ
れ、パーティクルを発生する恐れがある。これを防止す
るため、定期的にそれら機器を取り外して点検・交換を
行っている。本実施の形態のプロセスガス供給ユニット
によれば、手動弁ブロック４２、レギュレータブロック
４３、圧力計ブロック４４、フィルタブロック４５、入
力弁ブロック４６、マスフローコントローラ入力ブロッ
ク４８、マスフローコントローラ出力ブロック４９、出
力弁ブロック５０というモジュールブロックが、モジュ
ール取付ボルト５３により、上方向からベースプレート
２１，２２，２３，２４，２５，２６，２７，２８に取
り付けられているので、上記のような点検・交換の際の
各部品の取り外し・取り付けが容易である。
ロセスガスとして腐食性の高いガス等が使用されるた
め、レギュレータ３、圧力計４、フィルタ１３、入力弁
５、パージ弁６、逆止弁７、マスフローコントローラ
８、出力弁１０等の機器の流路表面が経時的に腐食さ
れ、パーティクルを発生する恐れがある。これを防止す
るため、定期的にそれら機器を取り外して点検・交換を
行っている。本実施の形態のプロセスガス供給ユニット
によれば、手動弁ブロック４２、レギュレータブロック
４３、圧力計ブロック４４、フィルタブロック４５、入
力弁ブロック４６、マスフローコントローラ入力ブロッ
ク４８、マスフローコントローラ出力ブロック４９、出
力弁ブロック５０というモジュールブロックが、モジュ
ール取付ボルト５３により、上方向からベースプレート
２１，２２，２３，２４，２５，２６，２７，２８に取
り付けられているので、上記のような点検・交換の際の
各部品の取り外し・取り付けが容易である。
【００３７】さらに、ベースプレート２１，２２，２
３，２４，２５，２６，２７，２８が、ベースプレート
取付ボルト３５により、モジュール取付ボルト５３と同
じ方向から取付パネル１２に取り付けられているので、
モジュールブロックを外した後、そのままの作業でベー
スプレートを取り外すことができる。従って、ベースプ
レートに形成された流路も、プロセスガスと接触するた
め、腐食されパーティクルを発生する恐れがあり、定期
的な点検・交換が必要であるが、その際の作業効率が上
記構成により高くなる。ここで、ベースプレートを取付
パネル１２に対して取り付けているベースプレート取付
ボルト３５のボルト頭が、座ぐり付空孔３１ａ，３１ｂ
の座ぐり部に隠れているため、モジュールブロックを取
り外すつもりで、モジュール取付ボルト５３と間違えて
ベースプレート取付ボルト３５を外す可能性がない。
３，２４，２５，２６，２７，２８が、ベースプレート
取付ボルト３５により、モジュール取付ボルト５３と同
じ方向から取付パネル１２に取り付けられているので、
モジュールブロックを外した後、そのままの作業でベー
スプレートを取り外すことができる。従って、ベースプ
レートに形成された流路も、プロセスガスと接触するた
め、腐食されパーティクルを発生する恐れがあり、定期
的な点検・交換が必要であるが、その際の作業効率が上
記構成により高くなる。ここで、ベースプレートを取付
パネル１２に対して取り付けているベースプレート取付
ボルト３５のボルト頭が、座ぐり付空孔３１ａ，３１ｂ
の座ぐり部に隠れているため、モジュールブロックを取
り外すつもりで、モジュール取付ボルト５３と間違えて
ベースプレート取付ボルト３５を外す可能性がない。
【００３８】さらに、ベースプレートの連通路としてＶ
字流路が形成されているので、流路にプロセスガスの滞
留する箇所がないため、ベースプレート流路の腐食を軽
減することができる。また、ベースプレートが、モジュ
ールブロック列に交差して配置され、２以上のモジュー
ルブロック列と接続されているので、ベースプレートを
取り付けるモジュール取付ボルト５３の数を減らすこと
ができる。また、貫通孔３９を形成することにより、パ
ージガス等を各ラインに供給する流路を形成することが
できる。
字流路が形成されているので、流路にプロセスガスの滞
留する箇所がないため、ベースプレート流路の腐食を軽
減することができる。また、ベースプレートが、モジュ
ールブロック列に交差して配置され、２以上のモジュー
ルブロック列と接続されているので、ベースプレートを
取り付けるモジュール取付ボルト５３の数を減らすこと
ができる。また、貫通孔３９を形成することにより、パ
ージガス等を各ラインに供給する流路を形成することが
できる。
【００３９】次に、本発明の第２の実施の形態のプロセ
スガス供給ユニットを説明する。これは、従来技術で説
明した図１６の回路を本発明の構成に従って実現化する
ためのものである。図１２及び図１３は、それぞれ、本
実施の形態におけるプロセスガス供給ユニットの部分斜
視図を示し、図１２の右端に図１３を接続させるとプロ
セスガス供給ユニット全体が構成される。図１４はかか
るユニット全体の側面図を示す。尚、図１２及び図１３
において、モジュールブロックは、モジュールブロック
列の列方向中央線で切断した断面が示され、ベースプレ
ートも同様な断面が示されている。第１実施の形態と同
じモジュールブロックについては、同じ符号を付けて詳
細な説明を省略する。第１実施の形態と異なる構成のみ
説明する。逆止弁２が、逆止弁ブロック６０に対して上
方向から４本の機器取付ボルト５２により取り付けられ
ている。そして、逆止弁ブロック６０は、ベースプレー
ト２１に対して上方向から４本のモジュール取付ボルト
５３により取り付けられている。尚、本実施の形態にお
いて、機器取付ボルト５２及びモジュール取付ボルト５
３は、ねじサイズ５ｍｍの六角穴付ボルトが使用されて
いる。
スガス供給ユニットを説明する。これは、従来技術で説
明した図１６の回路を本発明の構成に従って実現化する
ためのものである。図１２及び図１３は、それぞれ、本
実施の形態におけるプロセスガス供給ユニットの部分斜
視図を示し、図１２の右端に図１３を接続させるとプロ
セスガス供給ユニット全体が構成される。図１４はかか
るユニット全体の側面図を示す。尚、図１２及び図１３
において、モジュールブロックは、モジュールブロック
列の列方向中央線で切断した断面が示され、ベースプレ
ートも同様な断面が示されている。第１実施の形態と同
じモジュールブロックについては、同じ符号を付けて詳
細な説明を省略する。第１実施の形態と異なる構成のみ
説明する。逆止弁２が、逆止弁ブロック６０に対して上
方向から４本の機器取付ボルト５２により取り付けられ
ている。そして、逆止弁ブロック６０は、ベースプレー
ト２１に対して上方向から４本のモジュール取付ボルト
５３により取り付けられている。尚、本実施の形態にお
いて、機器取付ボルト５２及びモジュール取付ボルト５
３は、ねじサイズ５ｍｍの六角穴付ボルトが使用されて
いる。
【００４０】また、入力弁ブロック６１には、入力弁
５、パージ弁６及び逆止弁７が、各々４本の機器取付ボ
ルト５２により上方向から取り付けられている。入力弁
出口側ブロック６３が、入力弁ブロック６１に対して横
方向から取り付けボルトにより取り付けられている。入
力弁ブロック６１及び入力弁出力側ブロック６３は、４
本のモジュール取付ボルト５３によりベースプレート２
１に対して上方向から取り付けられている。また、図１
３に示すように、出力弁ブロック６４には、真空弁９及
び出力弁１０が上方向から各々４本の機器取付ボルト５
２により取り付けられている。
５、パージ弁６及び逆止弁７が、各々４本の機器取付ボ
ルト５２により上方向から取り付けられている。入力弁
出口側ブロック６３が、入力弁ブロック６１に対して横
方向から取り付けボルトにより取り付けられている。入
力弁ブロック６１及び入力弁出力側ブロック６３は、４
本のモジュール取付ボルト５３によりベースプレート２
１に対して上方向から取り付けられている。また、図１
３に示すように、出力弁ブロック６４には、真空弁９及
び出力弁１０が上方向から各々４本の機器取付ボルト５
２により取り付けられている。
【００４１】出力弁ブロック６４には、出力弁入口側ブ
ロック６２が、横方向から取り付けボルトにより取り付
けられている。出力弁ブロック６４及び出力弁入口側ブ
ロック６２は、４本のモジュール取付ボルト５３により
ベースプレート２１に対して上方向から取り付けられて
いる。出口側の手動弁１１が取り付けられる手動弁ブロ
ック６５は、入力側の手動弁ブロック４２と同様な構成
を有し、反対向きに取り付けたものである。
ロック６２が、横方向から取り付けボルトにより取り付
けられている。出力弁ブロック６４及び出力弁入口側ブ
ロック６２は、４本のモジュール取付ボルト５３により
ベースプレート２１に対して上方向から取り付けられて
いる。出口側の手動弁１１が取り付けられる手動弁ブロ
ック６５は、入力側の手動弁ブロック４２と同様な構成
を有し、反対向きに取り付けたものである。
【００４２】第２の実施の形態のプロセスガス供給ユニ
ットにおいても、全てのモジュールブロックがベースプ
レートに対して上方向からモジュール取付ボルト５３に
より取り付けられており、かつ全てのベースプレート
も、第１実施の形態と同様に取付パネル１２に対してベ
ースプレート取付ボルト３５により上方向から取り付け
られているので、モジュールブロックを外した後、その
ままの作業でベースプレートを取り外すことができるた
め、作業効率が高い。尚、本実施の形態においても、第
１実施の形態と同様に、ベースプレート取付ボルト３５
としてねじサイズ５ｍｍの六角穴付ボルトを使用してい
る。
ットにおいても、全てのモジュールブロックがベースプ
レートに対して上方向からモジュール取付ボルト５３に
より取り付けられており、かつ全てのベースプレート
も、第１実施の形態と同様に取付パネル１２に対してベ
ースプレート取付ボルト３５により上方向から取り付け
られているので、モジュールブロックを外した後、その
ままの作業でベースプレートを取り外すことができるた
め、作業効率が高い。尚、本実施の形態においても、第
１実施の形態と同様に、ベースプレート取付ボルト３５
としてねじサイズ５ｍｍの六角穴付ボルトを使用してい
る。
【００４３】また、第１及び第２実施の形態のプロセス
ガス供給ユニットによれば、ベースプレート及びモジュ
ールブロックの取り付けボルト個数及び位置をできる限
り一定とし、機器取付ボルト５２、モジュール取付ボル
ト５３、ベースプレート取付ボルト３５をねじサイズ５
ｍｍの六角穴付ボルトに統一しているので、メインテナ
ンスの適性が良い。また、複数のユニットを並列に並べ
たとき、マスフローコントローラ８等の位置が一定とな
り、メインテナンスの適性が良い。また、ベースプレー
トを各ユニットに対して、共通化することが可能であ
る。
ガス供給ユニットによれば、ベースプレート及びモジュ
ールブロックの取り付けボルト個数及び位置をできる限
り一定とし、機器取付ボルト５２、モジュール取付ボル
ト５３、ベースプレート取付ボルト３５をねじサイズ５
ｍｍの六角穴付ボルトに統一しているので、メインテナ
ンスの適性が良い。また、複数のユニットを並列に並べ
たとき、マスフローコントローラ８等の位置が一定とな
り、メインテナンスの適性が良い。また、ベースプレー
トを各ユニットに対して、共通化することが可能であ
る。
【００４４】なお、本発明は上記実施の形態に何ら限定
されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲に
おいて以下のように実施することもできる。例えば、上
記各実施の形態では、モジュールブロックに取付られる
機器として、マスフローコントローラ、供給弁、パージ
弁、真空弁、逆止弁、レギュレータ、フィルタを例示し
たが、必要に応じて他の気体用機器を使用してもよく、
同様の効果が得られる。また、本発明に係るプロセスガ
ス供給ユニットは、取付パネル１２を用いずに、壁等を
構成する金属板に直接ベースプレート２１を取り付ける
ことも可能である。
されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲に
おいて以下のように実施することもできる。例えば、上
記各実施の形態では、モジュールブロックに取付られる
機器として、マスフローコントローラ、供給弁、パージ
弁、真空弁、逆止弁、レギュレータ、フィルタを例示し
たが、必要に応じて他の気体用機器を使用してもよく、
同様の効果が得られる。また、本発明に係るプロセスガ
ス供給ユニットは、取付パネル１２を用いずに、壁等を
構成する金属板に直接ベースプレート２１を取り付ける
ことも可能である。
【００４５】
【発明の効果】本発明のプロセスガス供給ユニットによ
れば、（ａ）プロセスガス供給に使用されるコンポーネ
ント部品の１つ又は２つ以上がボルト止めされるモジュ
ールブロックと、（ｂ）モジュールブロックがボルト止
めされるベースプレートと、（ｃ）ベースプレートがボ
ルト止めされる取付パネルとを有しており、プロセスガ
ス流路に、コンポーネントを接続するためのパイプを有
しないので、プロセスガス供給ユニット全体を集積化し
てコンパクト化することができる。また、パイプ及びパ
イプの接続部から発生するパーティクルの恐れがなくな
った。
れば、（ａ）プロセスガス供給に使用されるコンポーネ
ント部品の１つ又は２つ以上がボルト止めされるモジュ
ールブロックと、（ｂ）モジュールブロックがボルト止
めされるベースプレートと、（ｃ）ベースプレートがボ
ルト止めされる取付パネルとを有しており、プロセスガ
ス流路に、コンポーネントを接続するためのパイプを有
しないので、プロセスガス供給ユニット全体を集積化し
てコンパクト化することができる。また、パイプ及びパ
イプの接続部から発生するパーティクルの恐れがなくな
った。
【００４６】本発明のプロセスガス供給ユニットによれ
ば、マスフローコントローラ、供給弁、パージ弁、真空
弁、逆止弁、レギュレータ、フィルタのうちの１つまた
は２つ以上が所定方向からボルト止めされるモジュール
ブロックと、モジュールブロックが所定の方向と同じ方
向からボルト止めされるベースプレートと、ベースプレ
ートが所定の方向と同じ方向からボルト止めされる取付
パネルとを有しているので、モジュールブロック及びベ
ースプレートの取り外し及び取り付けが容易であり、作
業効率が高い。
ば、マスフローコントローラ、供給弁、パージ弁、真空
弁、逆止弁、レギュレータ、フィルタのうちの１つまた
は２つ以上が所定方向からボルト止めされるモジュール
ブロックと、モジュールブロックが所定の方向と同じ方
向からボルト止めされるベースプレートと、ベースプレ
ートが所定の方向と同じ方向からボルト止めされる取付
パネルとを有しているので、モジュールブロック及びベ
ースプレートの取り外し及び取り付けが容易であり、作
業効率が高い。
【図１】本発明の第１の実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第１斜視図
である。
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第１斜視図
である。
【図２】本発明の第１の実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第２斜視図
である。
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第２斜視図
である。
【図３】本発明の第１の実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第３斜視図
である。
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第３斜視図
である。
【図４】本発明の第１の実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第４斜視図
である。
ユニットの具体的構成を分解した状態で示す第４斜視図
である。
【図５】本発明の第１の実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの回路図である。
ユニットの回路図である。
【図６】手動弁モジュールの構成を示す図である。
【図７】レギュレータモジュールの構成を示す図であ
る。
る。
【図８】圧力計モジュールの構成を示す図である。
【図９】フィルタモジュールの構成を示す図である。
【図１０】入力弁ブロック及び入力弁第２ブロックの構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図１１】出力弁モジュールの構成を示す図である。
【図１２】本発明の第２実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの第１斜視図である。
ユニットの第１斜視図である。
【図１３】本発明の第２実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの第２斜視図である。
ユニットの第２斜視図である。
【図１４】本発明の第２実施の形態のプロセスガス供給
ユニットの側面図である。
ユニットの側面図である。
【図１５】従来のプロセスガス供給ユニットの側面図で
ある。
ある。
【図１６】プロセスガス供給ユニットの回路図である。
２１〜２８ ベースプレート ３５ ベースプレート取付ボルト ４２ 手動弁ブロック ４３ レギュレータブロック ４４ 圧力計ブロック ４５ フィルタブロック ４６ 入力弁ブロック ４７ 入力弁第２ブロック ４８ マスフローコントローラ入力ブロック ４９ マスフローコントローラ出力ブロック ５０ 出力弁ブロック ５２ 機器取付ボルト ５３ モジュール取付ボルト
フロントページの続き (72)発明者 矢田 雅彦 愛知県春日井市堀の内町850 シーケーデ ィ株式会社春日井事業所内 (72)発明者 板藤 寛 愛知県春日井市堀の内町850 シーケーデ ィ株式会社春日井事業所内
Claims (14)
- 【請求項１】 プロセスガス供給に使用されるコンポー
ネント部品の１つ又は２つ以上がボルト止めされるモジ
ュールブロックと、 前記モジュールブロックがボルト止めされるベースプレ
ートと、 前記ベースプレートがボルト止めされる取付パネルとを
有することを特徴とするプロセスガス供給ユニット。 - 【請求項２】 請求項１に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記モジュールブロックと前記ベースプレートとが面接
触した状態で前記ボルト止めにより接合されていること
を特徴とするプロセスガス供給ユニット。 - 【請求項３】 請求項１に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記コンポーネント部品、モジュールブロック、及び前
記ベースプレートが、いずれも同じ所定方向からボルト
止めされていることを特徴とするプロセスガス供給ユニ
ット。 - 【請求項４】 請求項３に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記コンポーネント部品が、マスフローコントローラ、
供給弁、パージ弁、真空弁、逆止弁、レギュレータ、フ
ィルタのうちの１つ又は２つ以上の機器であることを特
徴とするプロセスガス供給ユニット。 - 【請求項５】 請求項１に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記ベースプレートに略Ｖ字形の流路が形成されている
ことを特徴とするプロセスガス供給ユニット。 - 【請求項６】 請求項３に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記ベースプレートに略Ｖ字形の流路が形成されている
ことを特徴とするプロセスガス供給ユニット。 - 【請求項７】 請求項１に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記供給するプロセスガスの種類が２以上であって、 前記モジュールブロックの２つ以上が一直線上に配置さ
れて構成されるモジュールブロック列の２以上が並列に
配置されているとき、 前記ベースプレートが、前記モジュールブロック列に交
差して配置され、２つ以上の前記モジュールブロックと
接続されることを特徴とするプロセスガス供給ユニッ
ト。 - 【請求項８】 請求項３に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記供給するプロセスガスの種類が２以上であって、 前記モジュールブロックの２つ以上が一直線上に配置さ
れて構成されるモジュールブロック列の２以上が並列に
配置されているとき、 前記ベースプレートが、前記モジュールブロック列に交
差して配置され、２つ以上の前記モジュールブロックと
接続されることを特徴とするプロセスガス供給ユニッ
ト。 - 【請求項９】 請求項１に記載するプロセスガス供給ユ
ニットにおいて、 前記ベースプレート及び前記取付パネルが、相互に位置
決め手段を有することを特徴とするプロセスガス供給ユ
ニット。 - 【請求項１０】 請求項９に記載するプロセスガス供給
ユニットにおいて、 前記位置決め手段が、位置決めピン及び位置決め孔の組
合せであることを特徴とするプロセスガス供給ユニッ
ト。 - 【請求項１１】 請求項３に記載するプロセスガス供給
ユニットにおいて、 前記ベースプレート及び前記取付パネルが、相互に位置
決め手段を有することを特徴とするプロセスガス供給ユ
ニット。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載するプロセスガス供
給ユニットにおいて、 前記位置決め手段が、位置決めピン及び位置決め孔の組
合せであることを特徴とするプロセスガス供給ユニッ
ト。 - 【請求項１３】 請求項１に記載するプロセスガス供給
ユニットにおいて、 前記ベースプレートを前記取付パネルに連結するための
ボルト頭が、前記ベースプレートに形成された座ぐり孔
に入り、前記モジュールブロックの上面からは見えない
ことを特徴とするプロセスガス供給ユニット。 - 【請求項１４】 請求項３に記載するプロセスガス供給
ユニットにおいて、 前記ベースプレートを前記取付パネルに連結するための
ボルト頭が、前記ベースプレートに形成された座ぐり孔
に入り、前記モジュールブロックの上面からは見えない
ことを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13021098A JP3871438B2 (ja) | 1997-06-06 | 1998-05-13 | プロセスガス供給ユニット |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14882097 | 1997-06-06 | ||
| JP9-148820 | 1997-06-06 | ||
| JP13021098A JP3871438B2 (ja) | 1997-06-06 | 1998-05-13 | プロセスガス供給ユニット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1151226A true JPH1151226A (ja) | 1999-02-26 |
| JP3871438B2 JP3871438B2 (ja) | 2007-01-24 |
Family
ID=26465404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13021098A Expired - Lifetime JP3871438B2 (ja) | 1997-06-06 | 1998-05-13 | プロセスガス供給ユニット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3871438B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001129386A (ja) * | 1999-08-24 | 2001-05-15 | Tokyo Electron Ltd | ガス処理装置およびそれに用いられる集合バルブ |
| EP1132669A1 (en) * | 2000-03-10 | 2001-09-12 | Tokyo Electron Limited | Fluid control apparatus |
| WO2001042694A3 (en) * | 1999-12-06 | 2002-03-14 | Insync Systems Inc | Distribution system of modular process lines |
| JP2006009969A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Kitz Sct:Kk | 集積化ガス制御装置用流路ブロックとその製造方法並びに集積化ガス制御装置 |
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| US7357368B2 (en) | 2003-10-16 | 2008-04-15 | Ckd Corporation | Combined valve |
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| WO2023076145A1 (en) * | 2021-10-29 | 2023-05-04 | Lam Research Corporation | Valve for semiconductor equipment |
-
1998
- 1998-05-13 JP JP13021098A patent/JP3871438B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (18)
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| JP2011166167A (ja) * | 2011-05-16 | 2011-08-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 |
| WO2013129205A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 株式会社フジキン | パージライン変更用ブロック継手および流体制御装置 |
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| US9169940B2 (en) | 2012-02-29 | 2015-10-27 | Fujikin Incorporated | Purge line changing block joint and fluid control apparatus |
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| JP2016205409A (ja) * | 2015-04-15 | 2016-12-08 | 株式会社フジキン | 遮断開放器 |
| WO2023076145A1 (en) * | 2021-10-29 | 2023-05-04 | Lam Research Corporation | Valve for semiconductor equipment |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3871438B2 (ja) | 2007-01-24 |
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