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JPH1143764A - Evaporating state detector for evaporating material and vacuum coating forming device using it - Google Patents

Evaporating state detector for evaporating material and vacuum coating forming device using it

Info

Publication number
JPH1143764A
JPH1143764A JP9198294A JP19829497A JPH1143764A JP H1143764 A JPH1143764 A JP H1143764A JP 9198294 A JP9198294 A JP 9198294A JP 19829497 A JP19829497 A JP 19829497A JP H1143764 A JPH1143764 A JP H1143764A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container
vacuum
evaporating
hole
evaporation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9198294A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Ushigami
善博 牛神
Itsushi Iio
逸史 飯尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP9198294A priority Critical patent/JPH1143764A/en
Publication of JPH1143764A publication Critical patent/JPH1143764A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an evaporating state detector capable of executing the detection of the evaporating state over a long period without being influenced by clouding caused by the sticking of an evaporating material. SOLUTION: A CCD camera 10 is allowed to enable the photographing of the upper face of an evaporating material through a hole 21-1 provided in a vacuum vessel 21. On the space between the vacuum vessel and the CCD camera, a shield board housing part 11 communicated with the vacuum vessel through the hole and shielded from the air is formed. The wall of the shield board housing part corresponding to the hole is provided with vacuum shield glass 11-2, and the inside of the shield board housing part is provided with a transparent shield disk 12 in such a manner that only the region corresponding to the hole is exposed toward the vacuum vessel through the hole. The inside of the vacuum vessel is provided with a shuttering mechanism 13 driving a shutter 13-1 so as to be displaceable between the region corresponding to the hole and the region being off therefrom. The shield disk is composed so as to displace in the case of being clouded by the sticking of evaporating components to the part exposed to the vacuum vessel.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大気とは遮断され
た容器内に置かれて加熱により発光しながら蒸発する蒸
発材料の蒸発状態を検出する装置に関し、特にプラズマ
を利用したイオンプレーティング装置に適した蒸発材料
の蒸発状態検出装置及びこれを用いた真空成膜装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for detecting an evaporation state of an evaporating material which is placed in a container shielded from the atmosphere and emits light by heating to evaporate. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a device for detecting an evaporation state of an evaporation material and a vacuum film forming apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、真空成膜装置として真空蒸着装
置やイオンプレーティング装置が知られている。このよ
うな真空成膜装置では、ハース上に載置された蒸発材料
に熱を加えて蒸発させ、基板上に膜を形成させている。
そして、蒸発材料の加熱源として、誘導加熱装置、電子
銃、プラズマ銃が知られている。
2. Description of the Related Art Generally, a vacuum deposition apparatus and an ion plating apparatus are known as vacuum film forming apparatuses. In such a vacuum film forming apparatus, heat is applied to an evaporation material placed on a hearth to evaporate the material, thereby forming a film on a substrate.
As a heating source of the evaporation material, an induction heating device, an electron gun, and a plasma gun are known.

【0003】そして、イオンプレーティング装置の加熱
源としては、例えば、圧力勾配型プラズマ源あるいはH
CDプラズマ源又は電子銃を使用している。このような
イオンプレーティング装置でプラズマビーム発生器(プ
ラズマ源)を備えたものでは、真空容器中に配置された
ハース(陽極)とプラズマビーム発生器との間でプラズ
マビームを生成して、ハース上に載置された蒸発材料を
加熱蒸発させている。そして、蒸発材料からの蒸発金属
粒子はプラズマビームによってイオン化され、このイオ
ン粒子が負電圧の基板表面に付着して、基板上に膜が形
成される。
As a heating source of the ion plating apparatus, for example, a pressure gradient plasma source or H
A CD plasma source or electron gun is used. In such an ion plating apparatus having a plasma beam generator (plasma source), a plasma beam is generated between a hearth (anode) placed in a vacuum vessel and the plasma beam generator, and the The evaporating material placed thereon is heated and evaporated. Then, the evaporated metal particles from the evaporated material are ionized by the plasma beam, and the ion particles adhere to the substrate surface of the negative voltage, and a film is formed on the substrate.

【0004】このようなイオンプレーティング装置にお
いて、連続的にイオンプレーティングを行う場合、蒸発
材料を連続的にハースに供給する必要がある。このよう
な連続供給型のイオンプレーティング装置として、例え
ば、特開昭62−247067号公報に記載されたイオ
ンプレーティング装置が知られている。そして、このイ
オンプレーティング装置では、中空状のるつぼに下方か
ら蒸発材料を連続的に供給することが示されている。
In such an ion plating apparatus, when performing ion plating continuously, it is necessary to continuously supply the evaporation material to the hearth. As such a continuous supply type ion plating apparatus, for example, an ion plating apparatus described in JP-A-62-247067 is known. In this ion plating apparatus, it is shown that the evaporation material is continuously supplied to the hollow crucible from below.

【0005】ここで、図7を参照して、特願平6−27
0972号に開示されたイオンプレーティング装置につ
いて概略説明を行う。このイオンプレーティング装置
は、気密性の真空容器21を備えており、この真空容器
21にはガイド部21aを介してプラズマビーム発生器
(例えば、圧力勾配型プラズマ銃)22が取り付けられ
ている。ガイド部21aの外側にはプラズマビームガイ
ド用のステアリングコイル23が配設されている。プラ
ズマビーム発生器22には、プラズマビーム収束用の第
1中間電極24及び第2中間電極25が同心的に配置さ
れている。第1中間電極24には磁極軸がプラズマビー
ム発生器22の中心軸と平行になるようにして永久磁石
24aが内蔵され、第2中間電極25にはコイル25a
が内蔵されている。
[0005] Here, referring to FIG.
The ion plating apparatus disclosed in Japanese Patent No. 0972 will be briefly described. The ion plating apparatus includes an airtight vacuum vessel 21. A plasma beam generator (for example, a pressure gradient plasma gun) 22 is attached to the vacuum vessel 21 via a guide portion 21a. A steering coil 23 for guiding a plasma beam is disposed outside the guide portion 21a. In the plasma beam generator 22, a first intermediate electrode 24 and a second intermediate electrode 25 for converging a plasma beam are arranged concentrically. The first intermediate electrode 24 incorporates a permanent magnet 24 a so that the magnetic pole axis is parallel to the central axis of the plasma beam generator 22, and the second intermediate electrode 25 includes a coil 25 a
Is built-in.

【0006】プラズマビーム発生器22には、第1及び
第2中間電極24及び25で規定される通路に繋がる絶
縁管(例えば、ガラス管)26が備えられており、この
ガラス管26内にはMo筒26aが配置されている。そ
して、このMo筒26a内にはTaパイプ26bが配置
されている。Mo筒26aとTaパイプ26bで規定さ
れる空間はLaB6 製の環状板26cで隔離されてい
る。上述の絶縁管26、Mo筒26a、及びTaパイプ
26bの一端は導体板部26dに取り付けられている。
この導体板部26dに形成されたキャリアガス導入口2
6eからキャリアガスが導入され、このキャリアガスは
Taパイプ26bを通過する。
[0006] The plasma beam generator 22 is provided with an insulating tube (eg, a glass tube) 26 connected to a passage defined by the first and second intermediate electrodes 24 and 25. The Mo cylinder 26a is arranged. Then, a Ta pipe 26b is arranged in the Mo cylinder 26a. Space defined by Mo tube 26a and Ta pipe 26b is isolated by the LaB 6 made of an annular plate 26c. One ends of the insulating tube 26, the Mo cylinder 26a, and the Ta pipe 26b are attached to the conductor plate 26d.
Carrier gas inlet 2 formed in conductor plate portion 26d
A carrier gas is introduced from 6e, and the carrier gas passes through the Ta pipe 26b.

【0007】真空容器21内には被処理物体としての基
板27が搬送装置28に支持されて配置されており、基
板27には負バイアス用の直流電源が接続される。基板
27に対向して真空容器21の底面にはハース(陽極
部)29が配置される。
A substrate 27 as an object to be processed is placed in a vacuum vessel 21 and supported by a transfer device 28, and a DC power supply for negative bias is connected to the substrate 27. A hearth (anode) 29 is arranged on the bottom surface of the vacuum vessel 21 so as to face the substrate 27.

【0008】ここで、図8も参照して、ハース29は略
円柱形状であり、ハース29の上面は凹形状となってい
る。ハース29の中心部には図中上下方向に延びる貫通
孔29cが形成されている。ハース29はその下部に径
方向に延びるフランジ部29aを有している。ハース2
9内には通路29bが形成されており、この通路29b
は冷却水管30に接続されている。
Here, referring also to FIG. 8, the hearth 29 has a substantially cylindrical shape, and the upper surface of the hearth 29 is concave. At the center of the hearth 29, a through-hole 29c extending vertically in the figure is formed. The hearth 29 has a flange portion 29a extending in a radial direction at a lower portion thereof. Hearth 2
9, a passage 29b is formed.
Is connected to the cooling water pipe 30.

【0009】ハース29の外周には、図示のように、補
助陽極を構成するための磁石ケース31が配置されてい
る。この磁石ケース31は中空リング状の磁石上ケース
31aと、ドーナツ状の磁石下ケース31bと、上ケー
ス31a及び下ケース31bの間に配置された環状の永
久磁石31cとを備えている。永久磁石31cは図中上
下方向に着磁されている。図示の例では、上側がN極、
下側がS極となっている。そして、磁石上ケース31a
の中空部には冷却水管32が接続されている。
A magnet case 31 for forming an auxiliary anode is arranged on the outer periphery of the hearth 29, as shown in the figure. The magnet case 31 includes a hollow ring-shaped magnet upper case 31a, a donut-shaped magnet lower case 31b, and an annular permanent magnet 31c arranged between the upper case 31a and the lower case 31b. The permanent magnet 31c is vertically magnetized in the figure. In the example shown, the upper side is the north pole,
The lower side is the S pole. Then, the magnet upper case 31a
A cooling water pipe 32 is connected to the hollow portion of the cooling water pipe 32.

【0010】上述の磁石ケース31は絶縁板33を介し
てハース29のフランジ部29aと接合されている。こ
の際、磁石ケース31とハース29の側面との間には僅
かの間隙が形成されている。そして、磁石ケース31は
支持部材34によって真空容器21の底面に支持され
る。
The above-described magnet case 31 is joined to the flange portion 29a of the hearth 29 via an insulating plate 33. At this time, a slight gap is formed between the magnet case 31 and the side surface of the hearth 29. The magnet case 31 is supported on the bottom surface of the vacuum vessel 21 by the support member 34.

【0011】再び、図7を参照して、導体板部26dに
は可変電源40のマイナス端が接続され、そのプラス端
はそれぞれ抵抗器R1及びR2を介して第1及び第2の
中間電極24及び25に接続されている。
Referring again to FIG. 7, the negative end of the variable power supply 40 is connected to the conductor plate portion 26d, and the positive end thereof is connected to the first and second intermediate electrodes 24 via resistors R1 and R2, respectively. And 25.

【0012】一方、ハース29には電流計41が接続さ
れ、この電流計41は可変電源40、及び抵抗器R1及
びR2に接続される。さらに、電流計41は抵抗器R3
及びR4を介して接地されるとともに真空容器21に接
続されている。また、抵抗器R3に並列に電圧計42が
接続されている(なお、抵抗器R3は電圧計測用の標準
抵抗器として用いられ、1Mオーム以上の抵抗を有して
いる)。
On the other hand, an ammeter 41 is connected to the hearth 29, and the ammeter 41 is connected to the variable power supply 40 and the resistors R1 and R2. Further, the ammeter 41 has a resistor R3
And R4, and is connected to the vacuum vessel 21. A voltmeter 42 is connected in parallel with the resistor R3 (the resistor R3 is used as a standard resistor for voltage measurement and has a resistance of 1 M ohm or more).

【0013】さらに、基板27の近傍において、基板2
7の外側には、支持板部材43が配置され、この支持板
部材43には膜厚計44が配置されている。また、真空
容器21の側壁にはArガス等のキャリアガスを導入す
るためのガス導入口21bが形成されると共に、真空容
器21内を排気するための排気口21cが形成されてい
る。
Further, in the vicinity of the substrate 27, the substrate 2
A support plate member 43 is disposed outside the support 7, and a film thickness gauge 44 is disposed on the support plate member 43. In addition, a gas inlet 21b for introducing a carrier gas such as Ar gas is formed on a side wall of the vacuum vessel 21 and an exhaust port 21c for exhausting the inside of the vacuum vessel 21 is formed.

【0014】上述のイオンプレーティング装置では、キ
ャリアガス導入口26eからキャリアガスが導入される
と、第1中間電極24とMo筒26aとの間で放電が始
まる。これによって、プラズマビーム45が生成され
る。このプラズマビーム45はステアリングコイル23
と磁石ケース31内の永久磁石31cにガイドされて、
陽極として用いられるハース29及び磁石ケース31に
到達する。
In the above-described ion plating apparatus, when a carrier gas is introduced from the carrier gas inlet 26e, a discharge starts between the first intermediate electrode 24 and the Mo cylinder 26a. As a result, a plasma beam 45 is generated. This plasma beam 45 is applied to the steering coil 23
And guided by the permanent magnet 31c in the magnet case 31,
It reaches the hearth 29 and the magnet case 31 used as an anode.

【0015】ハース29にプラズマビームが与えられる
と、ハース29を貫通してハース29の上面に達してい
る蒸発材料39がジュール加熱されて蒸発する。この蒸
発金属粒子はプラズマビーム45によってイオン化され
て、負電圧が印加された基板27の表面に付着し、基板
27上に膜が形成される。
When a plasma beam is applied to the hearth 29, the evaporating material 39 that has penetrated the hearth 29 and has reached the upper surface of the hearth 29 is heated by Joule and evaporated. The evaporated metal particles are ionized by the plasma beam 45 and adhere to the surface of the substrate 27 to which the negative voltage is applied, and a film is formed on the substrate 27.

【0016】なお、蒸発材料39は、その支持部として
作用する押し上げ棒35に搭載され、この押し上げ棒3
5は駆動機構36により図中上下方向に駆動される。駆
動機構36は、図示しない制御装置により電流計41、
電圧計42、膜厚計44の測定結果及びその他のあらか
じめ定められた成膜条件に基づいて制御され、蒸発材料
39が減少してもプラズマビーム発生器22との間の距
離が一定になるようにしている。その結果、基板27に
は均一な厚さで膜が形成される。
The evaporating material 39 is mounted on a push-up bar 35 acting as a support for the push-up bar 3.
5 is driven vertically by a drive mechanism 36 in the figure. The drive mechanism 36 includes an ammeter 41,
It is controlled based on the measurement results of the voltmeter 42 and the film thickness meter 44 and other predetermined film forming conditions so that the distance from the plasma beam generator 22 becomes constant even when the amount of the evaporated material 39 decreases. I have to. As a result, a film is formed on the substrate 27 with a uniform thickness.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
装置では、蒸発材料39の上面の位置を直接検出してい
るわけでは無いので、蒸発材料39とプラズマビーム発
生器22との間の距離が一定になるように制御するのは
非常に難しい。
However, in the above-mentioned apparatus, the distance between the evaporating material 39 and the plasma beam generator 22 is constant because the position of the upper surface of the evaporating material 39 is not directly detected. Is very difficult to control.

【0018】そこで、蒸発材料39の蒸発状態を直接検
出して押し上げ棒35の駆動制御に利用するための蒸発
状態検出装置の提供が望まれている。このような蒸発状
態検出装置は、蒸発材料39の上面が強力な発光部とな
っていることを考慮して、例えばCCDカメラを用いて
蒸発材料39の蒸発部を撮像し、得られた画像を画像処
理して蒸発状態の検出を行うことが容易に考えられる。
このためには、真空容器の壁に穴を設けて透明部材で塞
ぎ、この透明部材を通してCCDカメラにより蒸発材料
39の蒸発部を撮像し、発光部の輪郭のずれから蒸発材
料39の蒸発状態を検出する必要がある。
Therefore, it is desired to provide an evaporating state detecting device for directly detecting the evaporating state of the evaporating material 39 and using the detected state for driving the push-up bar 35. In consideration of the fact that the upper surface of the evaporation material 39 is a strong light-emitting portion, such an evaporation state detection device captures an image of the evaporation portion of the evaporation material 39 using, for example, a CCD camera, and obtains an image. It is easily conceivable to detect the evaporation state by performing image processing.
To this end, a hole is provided in the wall of the vacuum vessel and closed with a transparent member, an evaporating portion of the evaporating material 39 is imaged by a CCD camera through the transparent member, and the evaporating state of the evaporating material 39 is determined from a shift in the contour of the light emitting portion. Need to detect.

【0019】しかしながら、この場合、透明部材には真
空容器の内側面に蒸発金属粒子が付着してすぐに曇って
しまい、良好な画像や正常な色光信号が得られなくなっ
てしまうという問題点がある。
However, in this case, there is a problem that the evaporated metal particles adhere to the inner surface of the vacuum vessel and become cloudy immediately on the transparent member, so that a good image and a normal color light signal cannot be obtained. .

【0020】そこで、本発明の課題は、CCDカメラを
使用した場合であっても蒸発材料の付着による曇りの影
響を受けることなく、長期間にわたって蒸発状態検出を
行うことのできる蒸発状態検出装置を提供することにあ
る。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an evaporating state detecting device capable of detecting an evaporating state for a long period of time without being affected by fogging due to the adhesion of evaporating material even when a CCD camera is used. To provide.

【0021】本発明はまた、上記の蒸発状態検出装置を
備えた真空成膜装置を提供しようとするものである。
Another object of the present invention is to provide a vacuum film forming apparatus provided with the above-mentioned evaporation state detecting device.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、大気と
は遮断された容器内に置かれて加熱により発光しながら
蒸発する蒸発材料を、前記容器外に設置された撮像手段
により前記蒸発材料の斜め上方から撮像し、該撮像手段
から得られた画像を処理して前記蒸発材料の蒸発状態を
検出する装置であって、前記撮像手段は、その撮像域に
対応させて前記容器に設けられた穴を通して前記蒸発材
料の蒸発部を撮像可能にされており、しかも前記容器と
前記撮像手段との間には前記穴を通して前記容器と連通
し大気とは遮断された室が形成され、前記撮像域に対応
する前記室の撮像手段側の壁には光を透過可能な透明部
材が設けられ、前記室の中には前記透明部材と前記穴と
の間に一部が常に介在する透明な可動板が設けられてお
り、前記可動板は前記容器に向けて露出されている部分
への前記蒸発材料の蒸発成分の付着により曇ると変位す
るように構成されていることを特徴とする蒸発材料の蒸
発状態検出装置が得られる。
According to the present invention, an evaporating material, which is placed in a container shielded from the atmosphere and evaporates while emitting light by heating, is evaporated by an imaging means provided outside the container. An apparatus for capturing an image from obliquely above a material and processing an image obtained from the imaging unit to detect an evaporation state of the evaporating material, wherein the imaging unit is provided in the container in accordance with the imaging area. The evaporating part of the evaporating material can be imaged through the hole provided, and a chamber is formed between the container and the imaging means, communicates with the container through the hole and is isolated from the atmosphere, A transparent member capable of transmitting light is provided on a wall on the imaging means side of the room corresponding to an imaging area, and a transparent member that is always partially interposed between the transparent member and the hole is provided in the chamber. A movable plate is provided, and the movable plate is Evaporating state detection device of the evaporation material, characterized by being configured to cloudy and displacement due to the adhesion of the volatile components of the evaporation material to the portion which is exposed toward the serial container is obtained.

【0023】本発明によればまた、加熱源と、真空容器
内に配置されて陽極として作用するハースとを有し、前
記加熱源により前記ハースに収納された柱状の蒸発材料
を蒸発させ、蒸発した物質を基板の表面に付着させるこ
とにより前記基板上に膜を形成する真空成膜装置におい
て、前記真空容器外に設置された撮像手段により前記蒸
発材料の蒸発部をその斜め上方から撮像し、該撮像手段
から得られた画像を処理して前記蒸発材料の蒸発状態を
検出する装置を設けて成り、前記撮像手段は、その撮像
域に対応させて前記真空容器に設けられた穴を通して前
記蒸発材料の上面を撮像可能にされており、しかも前記
真空容器と前記撮像手段との間には前記穴を通して前記
真空容器と連通し大気とは遮断された室が形成され、前
記撮像域に対応する前記室の撮像手段側の壁には光を透
過可能な透明部材が設けられ、前記室の中には透明部材
と前記穴との間に一部が常に介在する透明な可動板が設
けられており、前記可動板は前記真空容器に向けて露出
されている部分への前記蒸発材料の蒸発成分の付着によ
り曇ると変位するように構成されていることを特徴とす
る真空成膜装置が得られる。
According to the present invention, there is further provided a heating source, and a hearth disposed in the vacuum vessel and acting as an anode, and the heating source evaporates the columnar evaporation material stored in the hearth, and In a vacuum film forming apparatus for forming a film on the substrate by attaching the material to the surface of the substrate, an image of the evaporating portion of the evaporating material is imaged from obliquely above by an imaging means installed outside the vacuum vessel, A device for processing an image obtained from the imaging means to detect an evaporation state of the evaporation material, wherein the imaging means performs the evaporation through a hole provided in the vacuum vessel corresponding to the imaging area. An upper surface of the material can be imaged, and a chamber is formed between the vacuum container and the imaging means, communicates with the vacuum container through the hole, and is isolated from the atmosphere, and corresponds to the imaging region. A transparent member capable of transmitting light is provided on a wall on the imaging means side of the chamber, and a transparent movable plate is provided in the chamber, a part of which is always interposed between the transparent member and the hole. The movable plate is configured to be displaced when it becomes cloudy due to adhesion of the evaporation component of the evaporation material to a portion exposed toward the vacuum container, thereby obtaining a vacuum film forming apparatus. .

【0024】なお、前記可動板は、ガラス製の回転可能
な円板であり、前記真空容器へ向けて露出される部分が
回転軸を中心とする同一円周上に位置するように回転駆
動されることを特徴とする。
The movable plate is a rotatable disk made of glass, and is rotatably driven so that a portion exposed to the vacuum vessel is located on the same circumference around a rotation axis. It is characterized by that.

【0025】前記可動板は、ガラス製の長方形の板であ
って、前記容器へ向けて露出される部分が直線的に移動
されるようにしても良い。
The movable plate may be a rectangular plate made of glass, and a portion exposed to the container may be moved linearly.

【0026】また、前記室には、前記可動板の前記真空
容器へ向けて露出される部分と前記真空容器の前記穴と
の間及び前記真空容器へ向けて露出される部分と前記透
明部材との間にそれぞれ、前記撮像手段の前記撮像域を
画定するための筒状部材が設けられていることを特徴と
する。
In the chamber, a portion of the movable plate exposed to the vacuum container and the hole of the vacuum container and a portion exposed to the vacuum container and the transparent member And a cylindrical member for defining the imaging area of the imaging means.

【0027】更に、前記容器内には、前記穴に対応する
第1の領域とそこから外れた第2の領域との間を変位可
能にシャッタを駆動するシャッタ機構が設けられてお
り、該シャッタ機構は、前記撮像手段による撮像時のみ
前記シャッタを前記第2の領域におくように駆動制御さ
れる。
Further, a shutter mechanism for driving a shutter so as to be displaceable between a first area corresponding to the hole and a second area deviating therefrom is provided in the container, The mechanism is drive-controlled so that the shutter is kept in the second area only when the image is taken by the image pickup means.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】図1〜図4を参照して、本発明を
図7で説明したようなイオンプレーティング装置に適用
した実施の形態について説明する。それ故、図8と同じ
部分については同一番号を付して説明は省略する。図1
〜図3において、本実施の形態における蒸発状態検出装
置は、真空容器21外に設置されたCCDカメラ10に
より蒸発材料39の蒸発部をその斜め上方から撮像し、
CCDカメラ10から得られた画像を処理して蒸発材料
39の蒸発状態を検出する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the present invention is applied to an ion plating apparatus as described in FIG. 7 will be described with reference to FIGS. Therefore, the same parts as those in FIG. FIG.
3 to 3, the evaporating state detecting device according to the present embodiment captures an image of the evaporating portion of the evaporating material 39 from obliquely above by the CCD camera 10 installed outside the vacuum vessel 21,
The image obtained from the CCD camera 10 is processed to detect the evaporation state of the evaporation material 39.

【0029】CCDカメラ10は、真空容器21のプラ
ズマ発生器22側の上部側方に取り付けられている。そ
の理由として、蒸発材料39が蒸発する際、プラズマビ
ーム45の入射方向の反対側のハース凹形状部に蒸発し
た物質が堆積するので、その堆積物側よりCCDカメラ
で蒸発部を撮像すると、前記堆積物により撮像の障害に
なる。プラズマビーム45の入射側では、蒸発材料39
が堆積しようとしてもプラズマビーム45により溶解さ
れるので堆積量が少ない。したがって、蒸発部の撮像が
可能になる。
The CCD camera 10 is mounted on the upper side of the vacuum vessel 21 on the side of the plasma generator 22. The reason is that when the evaporating material 39 evaporates, the evaporated material is deposited on the Haas concave portion on the opposite side of the incident direction of the plasma beam 45. Deposits can interfere with imaging. On the incident side of the plasma beam 45, the evaporation material 39
Is dissolved by the plasma beam 45 even if it is to be deposited, so that the deposition amount is small. Therefore, an image of the evaporator can be obtained.

【0030】CCDカメラ10は、その撮像域、すなわ
ち受光通路に対応させて真空容器21に設けられた穴2
1−1を通して蒸発材料39の上面を撮像可能にされて
いる。真空容器21とCCDカメラ10との間には穴2
1−1を通して真空容器21と連通し大気とは遮断され
たシールド板収納部11が形成され、このシールド板収
納部11はその中心から外れた部位において筒状体11
−1で真空容器21と連結されている。筒状体11−1
は、CCDカメラ10の撮像域を確保するためのもので
あり、この撮像域に対応するシールド板収納部11の外
壁には光を透過可能な真空遮断ガラス11−2が設けら
れている。このようにして、CCDカメラ10は真空遮
断ガラス11−2、シールド板収納部11内の空間及び
筒状体11−1を通して真空容器21内の蒸発材料39
の蒸発部を撮像する。
The CCD camera 10 has a hole 2 provided in the vacuum vessel 21 corresponding to the imaging area, that is, the light receiving path.
The upper surface of the evaporation material 39 can be imaged through 1-1. A hole 2 is provided between the vacuum vessel 21 and the CCD camera 10.
1-1, a shield plate storage part 11 is formed which is in communication with the vacuum vessel 21 and is shielded from the atmosphere.
-1 is connected to the vacuum vessel 21. Tubular body 11-1
Is for securing an imaging area of the CCD camera 10, and a vacuum blocking glass 11-2 capable of transmitting light is provided on an outer wall of the shield plate housing portion 11 corresponding to the imaging area. Thus, the CCD camera 10 passes through the vacuum blocking glass 11-2, the space in the shield plate housing 11 and the cylindrical body 11-1 to evaporate the material 39 in the vacuum vessel 21.
Is imaged.

【0031】筒状体11−1は、真空容器21の穴21
−1に対応させてシールド板収納部11に設けられた穴
11−3の周囲を囲むようにシールド板収納部11に取
り付けられている。シールド板収納部11の中には透明
ガラス製のシールド円板12が回転可能に配置されてい
る。後述するように、このシールド円板12は、前記撮
像域に対応する領域のみが穴21−1を通して真空容器
21に向けて露出されるように構成される。そして、真
空容器21に向けて露出される部分へ蒸発材料の蒸発成
分が付着することにより曇ると変位するように構成され
る。
The cylindrical body 11-1 is provided with a hole 21 of the vacuum vessel 21.
It is attached to the shield plate storage part 11 so as to surround the hole 11-3 provided in the shield plate storage part 11 corresponding to -1. A shield disk 12 made of transparent glass is rotatably arranged in the shield plate storage 11. As will be described later, the shield disk 12 is configured such that only an area corresponding to the imaging area is exposed to the vacuum vessel 21 through the hole 21-1. Then, it is configured to be displaced when it becomes cloudy due to the evaporation component of the evaporation material adhering to a portion exposed toward the vacuum container 21.

【0032】すなわち、シールド円板12は、回転駆動
機構14により真空容器21へ向けて露出される部分が
回転軸12−1を中心とする同一円周上に位置するよう
に回転駆動される。シールド板収納部11の中には、シ
ールド円板12の真空容器21へ向けて露出される部分
とシールド板収納部11の穴11−3との間及びシール
ド円板12の真空容器21へ向けて露出される部分と真
空遮断ガラス11−2との間にそれぞれ、CCDカメラ
10の前記撮像域を画定すると共に、シールド板収納部
11内への蒸発材料の蒸発成分の侵入をできるだけ少な
くするための筒状部材11−5、11−6が設けられて
いる。なお、これらの筒状部材11−5、11−6は、
これらの径よりも小さな径の穴を有する支持板11−
7、11−8を介してシールド板収納部11の内壁に取
り付けられている。シールド円板12は、その回転の
際、これらの筒状部材11−5と11−6との間の空間
をスライドする。
That is, the shield disk 12 is rotationally driven by the rotary drive mechanism 14 so that the portion exposed toward the vacuum vessel 21 is located on the same circumference around the rotary shaft 12-1. In the shield plate storage portion 11, between the portion of the shield disk 12 exposed toward the vacuum vessel 21 and the hole 11-3 of the shield plate storage portion 11 and toward the vacuum container 21 of the shield disk 12. In order to define the imaging area of the CCD camera 10 between the exposed portion and the vacuum blocking glass 11-2, and to minimize the invasion of the evaporation component of the evaporation material into the shield plate storage portion 11. Cylindrical members 11-5 and 11-6 are provided. In addition, these cylindrical members 11-5 and 11-6 are
Support plate 11- having holes smaller in diameter than these
It is attached to the inner wall of the shield plate storage section 11 via 7, 11-8. The shield disk 12 slides in the space between these cylindrical members 11-5 and 11-6 during its rotation.

【0033】このようにして、シールド板収納部11内
への蒸発材料の蒸発成分の侵入を、シールド円板12の
真空容器21へ向けて露出される部分領域のみにとどめ
ている。そして、この部分領域に蒸発材料の蒸発成分が
付着して曇り、CCDカメラ10から得られる画像信号
のレベルが低下してきたらシールド円板12を所定角度
回動させて透明状態の部分領域が筒状部材11−5と1
1−6との間の空間に位置するようにされる。また、シ
ールド円板12の回動送りは、シャッタ13−1の開放
時間Sの累積回数nとして、S×nが一定値以上になる
と回動させるようにしても良い。そして、シールド円板
12が一周する回動数をmとした場合、S×n×mが一
定値以上になるとシールド円板12の交換時期となる。
なお、真空遮断ガラス11−2とCCDカメラ10との
間には、受光量を適切にするための減光ガラス15を設
けることが好ましい。また、シールド板収納部11は、
下ケース11aと上ケース11bとに分割可能であり、
下ケース11aは真空容器21へ固定状態に置かれ、上
ケース11bは必要に応じて下ケース11aから外すこ
とが可能である。これは、シールド円板12の交換に必
要である。
In this way, the invasion of the evaporation component of the evaporation material into the shield plate storage portion 11 is limited to only the partial region of the shield disk 12 exposed toward the vacuum vessel 21. Then, when the evaporation component of the evaporation material adheres to this partial area and becomes cloudy, and the level of the image signal obtained from the CCD camera 10 decreases, the shield disk 12 is rotated by a predetermined angle to make the transparent partial area cylindrical. Members 11-5 and 1
1-6. In addition, the rotation of the shield disk 12 may be rotated when S × n is equal to or more than a certain value as the cumulative number n of the open time S of the shutter 13-1. When the number of rotations of the shield disk 12 making one rotation is m, when S × n × m becomes a certain value or more, it is time to replace the shield disk 12.
In addition, it is preferable to provide a dimming glass 15 between the vacuum blocking glass 11-2 and the CCD camera 10 in order to appropriately receive light. In addition, the shield plate storage unit 11
It can be divided into a lower case 11a and an upper case 11b,
The lower case 11a is fixed to the vacuum vessel 21 and the upper case 11b can be removed from the lower case 11a as needed. This is necessary for replacing the shield disk 12.

【0034】更に、シールド板収納部11内への蒸発材
料の蒸発成分の侵入をできるだけ少なくするために、真
空容器21内には、筒状体11−1の先端に対応する第
1の領域とそこから外れた第2の領域との間を変位可能
にシャッタ13−1を駆動するシャッタ機構13が設け
られている。このシャッタ機構13はCCDカメラ10
による撮像時のみシャッタ13−1を前記第2の領域に
おくように駆動制御される。
Further, in order to minimize the invasion of the evaporation component of the evaporation material into the shield plate storage section 11, the first region corresponding to the tip of the cylindrical body 11-1 is provided in the vacuum vessel 21. A shutter mechanism 13 is provided to drive the shutter 13-1 so as to be displaceable between a second area deviating therefrom. The shutter mechanism 13 is a CCD camera 10
Is controlled so that the shutter 13-1 is kept in the second area only at the time of imaging by the camera.

【0035】図4はシールド円板12が回転してシール
ド円板12上のCCDカメラ10の受光通路が変位して
いった時の軌跡を示している。このように、シールド円
板12上のCCDカメラ10の受光通路が曇ったら随時
シールド円板12を回動させることを繰り返すことによ
り、CCDカメラ10の受光通路を数十回にわたってク
リーンな状態で確保することができる。このシールド円
板12は、その全円周が曇ったら交換される。なお、図
4の例ではシールド円板12を間欠的に回動させたが、
連続的に回動させても良い。
FIG. 4 shows a locus when the shield disk 12 rotates and the light receiving path of the CCD camera 10 on the shield disk 12 is displaced. As described above, if the light receiving path of the CCD camera 10 on the shield disk 12 becomes cloudy, by repeatedly rotating the shield disk 12 as needed, the light receiving path of the CCD camera 10 is secured in a clean state several tens of times. can do. The shield disk 12 is replaced when the entire circumference becomes cloudy. In the example of FIG. 4, the shield disk 12 is intermittently rotated.
It may be rotated continuously.

【0036】次に、この蒸発状態検出装置の作用を説明
する。この蒸発状態検出装置は、円柱状の蒸発材料39
の先端にプラズマビームを衝突させて加熱すると、蒸発
材料39の先端が強度の発光を呈することを利用してい
る。この発光している蒸発材料39の先端をCCDカメ
ラ10で撮像し、発光部分と非発光部分(ハース29の
凹形状部)とを画像信号の濃淡差によって識別し、発光
部分の外周を蒸発材料39の先端外周として認識するこ
とができる。CCDカメラ10の視線の基準点は、プラ
ズマビーム発生器22に対して一定位置に設置される。
したがって、認識された先端外周の一点はプラズマビー
ム発生器22に対しての相対位置として検出することが
できる。すなわち、認識された先端外周の一点は、蒸発
材料の減少とともに位置、すなわちレベルが降下する。
これを検出して押し上げ棒35の駆動機構36(図4参
照)をフィードバック制御することにより、蒸発材料3
9の先端を常に一定レベルに維持することができる。な
お、蒸発材料39の先端外周の認識は、発光部分と非発
光部分とを画像信号の濃淡差と色調差によって識別する
ことで行うようにしても良い。あるいは、CCDカメラ
10の視野内に、プラズマビーム発生器22と相対的に
固定された非発光体を設置し、この非発光体と認識され
た先端外周の一点の間の距離を計測して蒸発材料39の
先端位置を検出することができる。
Next, the operation of the evaporation state detecting device will be described. This evaporating state detecting device is composed of a cylindrical evaporating material 39.
This is based on the fact that the tip of the evaporation material 39 emits strong light when heated by colliding a plasma beam with the tip of the material. The tip of the light-emitting evaporation material 39 is imaged by the CCD camera 10, the light-emitting portion and the non-light-emitting portion (the concave portion of the hearth 29) are identified based on the difference in image signal density, and the outer periphery of the light-emitting portion is evaporated material. 39 can be recognized as the outer periphery of the tip. The reference point of the line of sight of the CCD camera 10 is set at a fixed position with respect to the plasma beam generator 22.
Therefore, one point of the recognized outer periphery of the tip can be detected as a relative position with respect to the plasma beam generator 22. That is, one point of the recognized outer periphery of the tip lowers its position, that is, the level, with the decrease of the evaporation material.
By detecting this and performing feedback control of the drive mechanism 36 (see FIG. 4) of the push-up bar 35, the evaporation material 3
9 can always be maintained at a constant level. The outer periphery of the tip of the evaporation material 39 may be recognized by identifying a light emitting portion and a non-light emitting portion based on a difference in gray level and a difference in color tone of an image signal. Alternatively, a non-light-emitting body fixed relative to the plasma beam generator 22 is installed in the field of view of the CCD camera 10, and the distance between the non-light-emitting body and one point on the outer periphery of the recognized end is measured. The tip position of the material 39 can be detected.

【0037】次に、図5及び図6を参照して、本発明の
他の実施の形態について説明する。図1〜図4と同じ部
分については同一番号を付して説明は省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0038】シールド板収納部11´は、下ケース11
a´と上ケース11b´とに分割可能になっており、上
ケース11b´を下ケース11a´から外すことにより
必要に応じて筒状部材11−5、11−6を取り替える
ことができる。また、シールド板収納部11´の両端
は、少なくとも一方が下ケース11a´から取り外しで
きるように側板11cが取り付けられ、シールド板12
´の取替えができるようになっている。
The shield plate housing 11 'is provided with the lower case 11
a 'and the upper case 11b' can be divided, and the tubular members 11-5 and 11-6 can be replaced as needed by removing the upper case 11b 'from the lower case 11a'. Side plates 11c are attached to both ends of the shield plate storage portion 11 'so that at least one of them can be removed from the lower case 11a'.
'Can be replaced.

【0039】シールド板12´は、長方形をしており、
長手方向の一辺にはラック12aが取り付けられ、下ケ
ース11a´の側壁に形成されたガイドレール11a´
−1に案内されてシールド板収納部11´の長手方向に
摺動可能に取り付けられている。また、下ケース11a
´の側壁には、モータ14´が設けられ、そのモータ軸
に前記ラック12aと係合するピニオン14a´が取り
付けられている。
The shield plate 12 'has a rectangular shape.
A rack 12a is attached to one side in the longitudinal direction, and a guide rail 11a 'formed on a side wall of the lower case 11a'.
-1 so as to be slidable in the longitudinal direction of the shield plate storage portion 11 '. Also, the lower case 11a
A motor 14 ′ is provided on the side wall of ′, and a pinion 14 a ′ that engages with the rack 12 a is attached to the motor shaft.

【0040】そして、シールド板12´に蒸発材料の蒸
発成分が付着して曇り、CCDカメラ10から得られる
画像信号のレベルが低下してきたら、シールド板12´
を所定の距離だけ移動させて透明状態の部分領域が筒状
部材11−5と11−6との間の空間に位置するように
する。
When the evaporation component of the evaporation material adheres to the shield plate 12 'and becomes cloudy, and the level of the image signal obtained from the CCD camera 10 decreases, the shield plate 12'
Is moved by a predetermined distance so that the transparent partial region is located in the space between the tubular members 11-5 and 11-6.

【0041】なお、上記の形態では、撮像手段としてC
CDカメラを用いたが、画像処理の可能な撮像系、例え
ばITVカメラでも良い。
In the above embodiment, the image pickup means is C
Although a CD camera is used, an imaging system capable of image processing, for example, an ITV camera may be used.

【0042】また、上記の形態では、加熱源として圧力
勾配型プラズマ源を利用したイオンプレーティング装置
について説明したが、HCDプラズマ源又は電子銃を使
用したイオンプレーティング装置であっても良い。更
に、イオンプレーティング装置とは別に真空蒸着装置で
あっても良い。要するに、ハース上に蒸着金属を連続的
に供給しつつその蒸着金属を加熱蒸発させて基板に膜を
形成する真空成膜装置に利用することができる。
In the above embodiment, an ion plating apparatus using a pressure gradient plasma source as a heating source has been described. However, an ion plating apparatus using an HCD plasma source or an electron gun may be used. Further, a vacuum deposition apparatus may be used separately from the ion plating apparatus. In short, the present invention can be applied to a vacuum film forming apparatus that forms a film on a substrate by heating and evaporating the deposited metal while continuously supplying the deposited metal onto the hearth.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば撮像手段を使用した場合であっても蒸発材料の付着に
よる曇りの影響を受けることなく、長期間にわたってレ
ベル検出を行うことができる。それ故、このような装置
は、真空容器の中で常に蒸発材料の上端を一定のレベル
に維持する必要のある真空成膜装置に最適である。
As described above, according to the present invention, even when the imaging means is used, the level can be detected for a long period of time without being affected by fogging due to the adhesion of the evaporation material. . Therefore, such an apparatus is most suitable for a vacuum film forming apparatus in which the upper end of the evaporating material needs to be constantly maintained at a constant level in a vacuum vessel.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の好ましい実施の形態を示す縦断面図で
ある。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a preferred embodiment of the present invention.

【図2】本発明の好ましい実施の形態を示す平断面図で
ある。
FIG. 2 is a plan sectional view showing a preferred embodiment of the present invention.

【図3】図1における要部を拡大して示した縦断面図で
ある。
FIG. 3 is an enlarged longitudinal sectional view showing a main part in FIG. 1;

【図4】図3におけるシールド円板の動きを説明するた
めの側面図である。
FIG. 4 is a side view for explaining the movement of the shield disk in FIG. 3;

【図5】本発明の他の実施の形態を示す縦断面図であ
る。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing another embodiment of the present invention.

【図6】図5の平断面図である。FIG. 6 is a plan sectional view of FIG. 5;

【図7】本発明が適用されるイオンプレーティング装置
の構造を示す縦断面図である。
FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a structure of an ion plating apparatus to which the present invention is applied.

【図8】図7におけるハース周辺の構造を示す拡大断面
図である。
8 is an enlarged sectional view showing a structure around a hearth in FIG. 7;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 CCDカメラ 11 シールド板収納部 11−2 真空遮断ガラス 11−3 筒状体 12 シールド円板 13 シャッタ機構 13−1 シャッタ 14 回転駆動機構 15 減光ガラス 29 ハース 35 押し上げ棒 36 駆動機構 39 蒸発材料 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 CCD camera 11 Shield plate storage part 11-2 Vacuum cutoff glass 11-3 Tubular body 12 Shield disk 13 Shutter mechanism 13-1 Shutter 14 Rotation drive mechanism 15 Darkening glass 29 Hearth 35 Push-up rod 36 Drive mechanism 39 Evaporation material

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 大気とは遮断された容器内に置かれて加
熱により発光しながら蒸発する蒸発材料を、前記容器外
に設置された撮像手段により前記蒸発材料の斜め上方か
ら撮像し、該撮像手段から得られた画像を処理して前記
蒸発材料の蒸発状態を検出する装置であって、 前記撮像手段は、その撮像域に対応させて前記容器に設
けられた穴を通して前記蒸発材料の蒸発部を撮像可能に
されており、 しかも前記容器と前記撮像手段との間には前記穴を通し
て前記容器と連通し大気とは遮断された室が形成され、 前記撮像域に対応する前記室の撮像手段側の壁には光を
透過可能な透明部材が設けられ、 前記室の中には前記透明部材と前記穴との間に一部が常
に介在する透明な可動板が設けられており、 前記可動板は前記容器に向けて露出されている部分への
前記蒸発材料の蒸発成分の付着により曇ると変位するよ
うに構成されていることを特徴とする蒸発材料の蒸発状
態検出装置。
1. An evaporating material which is placed in a container which is shielded from the atmosphere and which evaporates while emitting light by heating is imaged from obliquely above the evaporating material by an image pickup means provided outside the container. An apparatus for processing an image obtained from the means to detect an evaporation state of the evaporation material, wherein the imaging means is configured to evaporate the evaporation material through a hole provided in the container in accordance with the imaging area. And a chamber is formed between the container and the imaging means and communicates with the container through the hole and is isolated from the atmosphere. The imaging means of the chamber corresponding to the imaging area A transparent member capable of transmitting light is provided on the side wall, and a transparent movable plate that is always partially interposed between the transparent member and the hole is provided in the chamber. The board is exposed towards the container Evaporating state detection device of the evaporation material, characterized by being configured to cloudy and displacement due to the adhesion of the volatile components of the evaporation material to the portion.
【請求項2】 請求項1記載の蒸発状態検出装置におい
て、前記可動板は、ガラス製の回転可能な円板であり、
前記容器へ向けて露出される部分が回転軸を中心とする
同一円周上に位置するように回転駆動されることを特徴
とする蒸発材料の蒸発状態検出装置。
2. The evaporation state detecting device according to claim 1, wherein the movable plate is a rotatable disk made of glass.
An apparatus for detecting an evaporation state of an evaporating material, wherein the apparatus is rotatably driven such that a portion exposed to the container is located on the same circumference around a rotation axis.
【請求項3】 請求項1記載の蒸発状態検出装置におい
て、前記可動板は、ガラス製の長方形の板であり、前記
容器へ向けて露出される部分が直線的に移動されること
を特徴とする蒸発材料の蒸発状態検出装置。
3. The evaporating state detecting device according to claim 1, wherein the movable plate is a rectangular plate made of glass, and a portion exposed to the container is moved linearly. Detecting device for evaporating material.
【請求項4】 請求項1記載の蒸発状態検出装置におい
て、前記室には、前記可動板の前記容器へ向けて露出さ
れる部分と前記容器の前記穴との間及び前記容器へ向け
て露出される部分と前記透明部材との間にそれぞれ、前
記撮像手段の前記撮像域を画定するための筒状部材が設
けられていることを特徴とする蒸発材料の蒸発状態検出
装置。
4. The evaporation state detecting device according to claim 1, wherein the chamber is exposed between a portion of the movable plate exposed toward the container and the hole of the container and toward the container. A cylindrical member for defining the imaging area of the imaging means is provided between the portion to be formed and the transparent member.
【請求項5】 請求項1記載の蒸発状態検出装置におい
て、前記容器内には、前記穴に対応する第1の領域とそ
こから外れた第2の領域との間を変位可能にシャッタを
駆動するシャッタ機構が設けられており、該シャッタ機
構は、前記撮像手段による撮像時のみ前記シャッタを前
記第2の領域におくように駆動制御されることを特徴と
する蒸発材料の蒸発状態検出装置。
5. The evaporation state detecting device according to claim 1, wherein a shutter is driven in the container so as to be displaceable between a first region corresponding to the hole and a second region outside the first region. An evaporating state detecting device, wherein the shutter mechanism is controlled to drive the shutter in the second area only at the time of imaging by the imaging means.
【請求項6】 加熱源と、真空容器内に配置されて陽極
として作用するハースとを有し、前記加熱源により前記
ハースに収納された柱状の蒸発材料を蒸発させ、蒸発し
た物質を基板の表面に付着させることにより前記基板上
に膜を形成する真空成膜装置において、 前記真空容器外に設置された撮像手段により前記蒸発材
料の蒸発部をその斜め上方から撮像し、該撮像手段から
得られた画像を処理して前記蒸発材料の蒸発状態を検出
する装置を設けて成り、 前記撮像手段は、その撮像域に対応させて前記真空容器
に設けられた穴を通して前記蒸発材料の上面を撮像可能
にされており、 しかも前記真空容器と前記撮像手段との間には前記穴を
通して前記真空容器と連通し大気とは遮断された室が形
成され、 前記撮像域に対応する前記室の撮像手段側の壁には光を
透過可能な透明部材が設けられ、 前記室の中には透明部材と前記穴との間に一部が常に介
在する透明な可動板が設けられており、 前記可動板は前記真空容器に向けて露出されている部分
への前記蒸発材料の蒸発成分の付着により曇ると変位す
るように構成されていることを特徴とする真空成膜装
置。
6. A heating source, and a hearth disposed in a vacuum vessel and acting as an anode, wherein the heating source evaporates a columnar evaporating material stored in the hearth, and evaporates the evaporated substance to a substrate. In a vacuum film forming apparatus for forming a film on the substrate by adhering to a surface, an image of the evaporating portion of the evaporation material is imaged from obliquely above by an imaging means installed outside the vacuum vessel, and obtained from the imaging means. A device for processing the obtained image to detect an evaporation state of the evaporation material, wherein the imaging means captures an upper surface of the evaporation material through a hole provided in the vacuum container corresponding to the imaging area. A chamber is formed between the vacuum vessel and the imaging means and communicates with the vacuum vessel through the hole and is isolated from the atmosphere, and an imaging device corresponding to the imaging area is provided between the vacuum vessel and the imaging means. A transparent member capable of transmitting light is provided on the side wall, and a transparent movable plate that is always partially interposed between the transparent member and the hole is provided in the chamber. A vacuum film forming apparatus, which is configured to be displaced when it becomes cloudy due to attachment of an evaporation component of the evaporation material to a portion exposed toward the vacuum container.
【請求項7】 請求項6記載の真空成膜装置において、
前記可動板は、ガラス製の回転可能な円板であり、前記
真空容器へ向けて露出される部分が回転軸を中心とする
同一円周上に位置するように回転駆動されることを特徴
とする真空成膜装置。
7. The vacuum film forming apparatus according to claim 6, wherein
The movable plate is a rotatable disk made of glass, and is rotatably driven such that a portion exposed toward the vacuum vessel is located on the same circumference around a rotation axis. Vacuum film forming equipment.
【請求項8】 請求項6記載の真空成膜装置において、
前記可動板は、ガラス製の長方形の板であり、前記容器
へ向けて露出される部分が直線的に移動されることを特
徴とする真空成膜装置。
8. The vacuum film forming apparatus according to claim 6, wherein
The movable plate is a rectangular plate made of glass, and a portion exposed to the container is moved linearly.
【請求項9】 請求項6記載の真空成膜装置において、
前記室には、前記可動板の前記真空容器へ向けて露出さ
れる部分と前記真空容器の前記穴との間及び前記真空容
器へ向けて露出される部分と前記透明部材との間にそれ
ぞれ、前記撮像手段の前記撮像域を画定するための筒状
部材が設けられていることを特徴とする真空成膜装置。
9. The vacuum film forming apparatus according to claim 6, wherein
In the chamber, between the portion of the movable plate exposed toward the vacuum container and the hole of the vacuum container and between the portion exposed toward the vacuum container and the transparent member, A vacuum film forming apparatus, wherein a cylindrical member for defining the imaging area of the imaging means is provided.
【請求項10】 請求項6記載の真空成膜装置におい
て、前記容器内には、前記穴に対応する第1の領域とそ
こから外れた第2の領域との間を変位可能にシャッタを
駆動するシャッタ機構が設けられており、該シャッタ機
構は、前記撮像手段による撮像時のみ前記シャッタを前
記第2の領域におくように駆動制御されることを特徴と
する真空成膜装置。
10. The vacuum film forming apparatus according to claim 6, wherein a shutter is driven in the container so as to be displaceable between a first region corresponding to the hole and a second region outside the first region. A vacuum mechanism, wherein the shutter mechanism is driven and controlled so that the shutter is kept in the second area only when the image is taken by the imaging means.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013253271A (en) * 2012-06-05 2013-12-19 Sumitomo Heavy Ind Ltd Film deposition apparatus
CN110923634A (en) * 2019-12-23 2020-03-27 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 Monitoring device, evaporator and monitoring method in evaporation chamber

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