JPH11228452A - ハロゲン化剤及び水酸基のハロゲン化方法 - Google Patents
ハロゲン化剤及び水酸基のハロゲン化方法Info
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- JPH11228452A JPH11228452A JP10052734A JP5273498A JPH11228452A JP H11228452 A JPH11228452 A JP H11228452A JP 10052734 A JP10052734 A JP 10052734A JP 5273498 A JP5273498 A JP 5273498A JP H11228452 A JPH11228452 A JP H11228452A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C257/00—Compounds containing carboxyl groups, the doubly-bound oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a doubly-bound nitrogen atom, this nitrogen atom not being further bound to an oxygen atom, e.g. imino-ethers, amidines
- C07C257/02—Compounds containing carboxyl groups, the doubly-bound oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a doubly-bound nitrogen atom, this nitrogen atom not being further bound to an oxygen atom, e.g. imino-ethers, amidines with replacement of the other oxygen atom of the carboxyl group by halogen atoms, e.g. imino-halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B39/00—Halogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/16—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydroxyl groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 現在、ジメチルハロイミニウム化合物やジフ
ェニルハロイミニウム化合物による水酸基のハロゲン化
方法が共通して持つ欠点、即ち反応時間の長さ、収率の
不安定性、純度の低さ、目的の水酸基以外の部分がハロ
ゲン化された副生成物の生成等を解消する。 【解決手段】 本発明は一般式（１）で表されるハロゲ
ン化剤及び水酸基のハロゲン化方法に係る。 【化１】 〔式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はアリルを
示す。Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す。Ｙは塩素イオ
ン、臭素イオン、ジクロロホスフェートイオン、ジブロ
モホスフェートイオン、クロロスルホネートイオン、ブ
ロモスルホネートイオン、クロロオキサレートイオン又
はブロモオキサレートイオンを示す。〕
ェニルハロイミニウム化合物による水酸基のハロゲン化
方法が共通して持つ欠点、即ち反応時間の長さ、収率の
不安定性、純度の低さ、目的の水酸基以外の部分がハロ
ゲン化された副生成物の生成等を解消する。 【解決手段】 本発明は一般式（１）で表されるハロゲ
ン化剤及び水酸基のハロゲン化方法に係る。 【化１】 〔式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はアリルを
示す。Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す。Ｙは塩素イオ
ン、臭素イオン、ジクロロホスフェートイオン、ジブロ
モホスフェートイオン、クロロスルホネートイオン、ブ
ロモスルホネートイオン、クロロオキサレートイオン又
はブロモオキサレートイオンを示す。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規ハロゲン化剤
及び水酸基のハロゲン化方法に関する。本発明の新規ハ
ロゲン化剤及びハロゲン化方法によれば、例えば、医薬
・農薬中間体として有用なハロゲン化芳香族化合物、ハ
ロゲン化複素環化合物、ハロゲン化コレステロール誘導
体等や、汎用経口型セフェム系抗生物質として有用な７
−アシルアミド−３−ハロセフェム誘導体等を、高純度
且つ高収率で製造することができる。
及び水酸基のハロゲン化方法に関する。本発明の新規ハ
ロゲン化剤及びハロゲン化方法によれば、例えば、医薬
・農薬中間体として有用なハロゲン化芳香族化合物、ハ
ロゲン化複素環化合物、ハロゲン化コレステロール誘導
体等や、汎用経口型セフェム系抗生物質として有用な７
−アシルアミド−３−ハロセフェム誘導体等を、高純度
且つ高収率で製造することができる。
【０００２】
【従来の技術】従来、水酸基のハロゲン化法としては、
例えば、ジメチルハロイミニウム化合物、ジフェニルハ
ロイミニウム化合物等を、ハロゲン化剤として用いるこ
とが提案されている。
例えば、ジメチルハロイミニウム化合物、ジフェニルハ
ロイミニウム化合物等を、ハロゲン化剤として用いるこ
とが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】より具体的には、例え
ば、Ｓynthesis，１９８０，７４６はジメチルホルムア
ミドに二塩化オキサリルを作用させてジメチルクロロイ
ミニウム化合物を合成し、該化合物を用いて直鎖のアル
キル基に置換した水酸基をクロル化する方法が開示す
る。この方法によれば、９０％の収率が達成されている
が、常にこのような高収率が得られるわけではなく、し
かも得られるハロゲン化物の純度は最高でも８０％程度
であり、更に反応時間が２４時間と非常に長い。薬学雑
誌，８５（６）， ５４４〜５４６（１９６５）には、
ジメチルホルムアミドにチオニルクロライドを作用させ
てジメチルクロロイミニウム化合物を生成させ、これを
用いてフェノール性水酸基をクロル化する方法が記載さ
れている。しかしながら、この方法は、ベンゼン環上に
水酸基以外にクロル化されやすい置換基を有する化合物
には適用できないという欠点、反応系が強酸性になるた
め、反応終了後直ちに結晶として系外へ分離できるもの
にしか適用できず、実用的ではないという欠点等を有し
ている。
ば、Ｓynthesis，１９８０，７４６はジメチルホルムア
ミドに二塩化オキサリルを作用させてジメチルクロロイ
ミニウム化合物を合成し、該化合物を用いて直鎖のアル
キル基に置換した水酸基をクロル化する方法が開示す
る。この方法によれば、９０％の収率が達成されている
が、常にこのような高収率が得られるわけではなく、し
かも得られるハロゲン化物の純度は最高でも８０％程度
であり、更に反応時間が２４時間と非常に長い。薬学雑
誌，８５（６）， ５４４〜５４６（１９６５）には、
ジメチルホルムアミドにチオニルクロライドを作用させ
てジメチルクロロイミニウム化合物を生成させ、これを
用いてフェノール性水酸基をクロル化する方法が記載さ
れている。しかしながら、この方法は、ベンゼン環上に
水酸基以外にクロル化されやすい置換基を有する化合物
には適用できないという欠点、反応系が強酸性になるた
め、反応終了後直ちに結晶として系外へ分離できるもの
にしか適用できず、実用的ではないという欠点等を有し
ている。
【０００４】アルカロイド中間体であるＮ−アシル−４
−クロロ−１,２−ジヒドロピリジンの合成にも、ジメ
チルハロイミニウム化合物が使用されている［Ｊ．Ｏr
g．Ｃhem．（１９９３）５８，７７３２〜７７３９］。
しかしながら、この方法においても、反応時間が３日間
と著しく長いため、実用的ではない。更に、経口セファ
ロスポリン抗生物質中間体である３−ハロゲン化セフェ
ム誘導体の製造にも、ジメチルハロイミニウム化合物の
使用が提案されている（特開昭４９−１１６０９５号公
報）。しかしながら、この方法では、目的の３位水酸基
以外に７位アシル基までクロル化されるため、収率が６
０％程度と低い。また、ジフェニルクロロイミニウムク
ロライドを用いて、直鎖のアルキル基に置換した水酸
基、直鎖のアルケニル基に置換した水酸基及びコレステ
ロールの水酸基をクロル化する方法が知られている［Ｃ
hemistry Ｌetters，ｐｐ１１７３−１１７４ （１９
８４）］。しかしながら、この方法においても、反応時
間が長いとか得られるハロゲン化物の純度が低いとか収
率が高水準で安定しないという欠点は解消されていな
い。更に、直鎖の分子内に二重結合やエ−テル結合を含
む分子やコレステロールのクロル化では、収率が９０％
を越えることはなく、工業的に満足できる方法ではな
い。
−クロロ−１,２−ジヒドロピリジンの合成にも、ジメ
チルハロイミニウム化合物が使用されている［Ｊ．Ｏr
g．Ｃhem．（１９９３）５８，７７３２〜７７３９］。
しかしながら、この方法においても、反応時間が３日間
と著しく長いため、実用的ではない。更に、経口セファ
ロスポリン抗生物質中間体である３−ハロゲン化セフェ
ム誘導体の製造にも、ジメチルハロイミニウム化合物の
使用が提案されている（特開昭４９−１１６０９５号公
報）。しかしながら、この方法では、目的の３位水酸基
以外に７位アシル基までクロル化されるため、収率が６
０％程度と低い。また、ジフェニルクロロイミニウムク
ロライドを用いて、直鎖のアルキル基に置換した水酸
基、直鎖のアルケニル基に置換した水酸基及びコレステ
ロールの水酸基をクロル化する方法が知られている［Ｃ
hemistry Ｌetters，ｐｐ１１７３−１１７４ （１９
８４）］。しかしながら、この方法においても、反応時
間が長いとか得られるハロゲン化物の純度が低いとか収
率が高水準で安定しないという欠点は解消されていな
い。更に、直鎖の分子内に二重結合やエ−テル結合を含
む分子やコレステロールのクロル化では、収率が９０％
を越えることはなく、工業的に満足できる方法ではな
い。
【０００５】本発明の課題は現在、ジメチルハロイミニ
ウム化合物やジフェニルハロイミニウム化合物による水
酸基のハロゲン化方法が共通して持つ欠点、即ち反応時
間の長さ、収率の不安定性、純度の低さ、目的の水酸基
以外の部分がハロゲン化された副生成物の生成等を解消
することにある。
ウム化合物やジフェニルハロイミニウム化合物による水
酸基のハロゲン化方法が共通して持つ欠点、即ち反応時
間の長さ、収率の不安定性、純度の低さ、目的の水酸基
以外の部分がハロゲン化された副生成物の生成等を解消
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式（１）で
表されるハロゲン化剤及び水酸基のハロゲン化方法に係
る。
表されるハロゲン化剤及び水酸基のハロゲン化方法に係
る。
【０００７】
【化７】 〔式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はアリルを
示す。Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す。Ｙは塩素イオ
ン、臭素イオン、ジクロロホスフェートイオン、ジブロ
モホスフェートイオン、クロロスルホネートイオン、ブ
ロモスルホネートイオン、クロロオキサレートイオン又
はブロモオキサレートイオンを示す。〕
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はアリルを
示す。Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す。Ｙは塩素イオ
ン、臭素イオン、ジクロロホスフェートイオン、ジブロ
モホスフェートイオン、クロロスルホネートイオン、ブ
ロモスルホネートイオン、クロロオキサレートイオン又
はブロモオキサレートイオンを示す。〕
【０００８】本発明によれば、水酸基部分がハロゲン化
された化合物を、高収率且つ高純度で、短時間のうちに
製造することができる。本発明者は、従来技術の課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のジアルキルハ
ロイミニウム化合物、即ちアルキル部分の炭素数が２〜
４である化合物を用いて水酸基のハロゲン化を行うと、
ジメチルハロイミニウム化合物を用いた場合に認められ
た種々の欠点が解消され、目的とするハロゲン化物を短
時間のうちに高収率及び高純度で製造できることを見い
出した。より具体的には、本発明のハロゲン化剤を用い
れば、水酸基含有化合物の構造や水酸基以外の置換基の
種類等に関係なく、水酸基のみが選択的にハロゲン化さ
れる。例えば特開昭４９−１１６０９５号公報に記載の
３−ヒドロキシセフェム化合物との反応においても、７
位のアシル基やラクタム部分がハロゲン化されることが
なく、３位の水酸基だけが選択的にハロゲン化される。
このため、目的とするハロゲン化物を高収率及び高純度
で製造でき、しかも反応時間も短い。更に本発明者は、
ジメチルハロイミニウム化合物と特定の有機硫黄化合物
とを併用する場合においても、ジメチルハロイミニウム
化合物の欠点が解消され、水酸基のみを選択的にハロゲ
ン化することができ、目的とするハロゲン化物を短時間
のうちに高収率及び高純度で製造できることを見い出し
た。
された化合物を、高収率且つ高純度で、短時間のうちに
製造することができる。本発明者は、従来技術の課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のジアルキルハ
ロイミニウム化合物、即ちアルキル部分の炭素数が２〜
４である化合物を用いて水酸基のハロゲン化を行うと、
ジメチルハロイミニウム化合物を用いた場合に認められ
た種々の欠点が解消され、目的とするハロゲン化物を短
時間のうちに高収率及び高純度で製造できることを見い
出した。より具体的には、本発明のハロゲン化剤を用い
れば、水酸基含有化合物の構造や水酸基以外の置換基の
種類等に関係なく、水酸基のみが選択的にハロゲン化さ
れる。例えば特開昭４９−１１６０９５号公報に記載の
３−ヒドロキシセフェム化合物との反応においても、７
位のアシル基やラクタム部分がハロゲン化されることが
なく、３位の水酸基だけが選択的にハロゲン化される。
このため、目的とするハロゲン化物を高収率及び高純度
で製造でき、しかも反応時間も短い。更に本発明者は、
ジメチルハロイミニウム化合物と特定の有機硫黄化合物
とを併用する場合においても、ジメチルハロイミニウム
化合物の欠点が解消され、水酸基のみを選択的にハロゲ
ン化することができ、目的とするハロゲン化物を短時間
のうちに高収率及び高純度で製造できることを見い出し
た。
【０００９】
【発明の実施の形態】本明細書において示される各基
は、より具体的にはそれぞれ次の通りである。ハロゲン
原子とは、例えば、塩素原子、臭素原子等を例示でき
る。Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基としては、例えば、メチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の直鎖
又は分岐鎖状のアルキル基を例示できる。Ｃ2〜Ｃ8のア
ルケニル基としては、例えば、ビニル、プロペニル、ブ
テニル、ペンテニル、ヘキセニル、イソプロペニル、イ
ソブテニル、イソペンテニル、オクテニル、イソプレニ
ルなどの直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を例示でき
る。
は、より具体的にはそれぞれ次の通りである。ハロゲン
原子とは、例えば、塩素原子、臭素原子等を例示でき
る。Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基としては、例えば、メチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の直鎖
又は分岐鎖状のアルキル基を例示できる。Ｃ2〜Ｃ8のア
ルケニル基としては、例えば、ビニル、プロペニル、ブ
テニル、ペンテニル、ヘキセニル、イソプロペニル、イ
ソブテニル、イソペンテニル、オクテニル、イソプレニ
ルなどの直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を例示でき
る。
【００１０】単環性または多環性の芳香族炭化水素基と
しては、フェニル基、ナフタレン基、アントラセン基な
どが例示でき、単環性または多環性の複素環式炭化水素
基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、オキ
サゾリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、ピリジル
基、ピラジル基、ピリダジル基、モルホリル基、キノリ
ル基、イソキノリル基、インドール基、インドリジル
基、ペニシリン残基、セファロスポリン残基などが例示
できる。ステロイド残基としてはアンドロステロン残
基、テストステロン残基、コレステロール残基などが例
示できる。
しては、フェニル基、ナフタレン基、アントラセン基な
どが例示でき、単環性または多環性の複素環式炭化水素
基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、オキ
サゾリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、ピリジル
基、ピラジル基、ピリダジル基、モルホリル基、キノリ
ル基、イソキノリル基、インドール基、インドリジル
基、ペニシリン残基、セファロスポリン残基などが例示
できる。ステロイド残基としてはアンドロステロン残
基、テストステロン残基、コレステロール残基などが例
示できる。
【００１１】Ｃ1〜Ｃ15のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、
ペンタデカニルなどの直鎖、分岐状または環状のアルキ
ル基を例示できる。アルコキシカルボニル基としては、
ブロモブトキシカルボニル、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニルなどを例示できる。アシル基としてはホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ベンゾ
イル、トルオイル、ナフトイルなどを例示できる。
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、
ペンタデカニルなどの直鎖、分岐状または環状のアルキ
ル基を例示できる。アルコキシカルボニル基としては、
ブロモブトキシカルボニル、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニルなどを例示できる。アシル基としてはホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ベンゾ
イル、トルオイル、ナフトイルなどを例示できる。
【００１２】保護されたアミノ基とは、プロテクティブ
グループインオーガニックシンセシス（Ｐrotective
Ｇroups in Ｏrganic Ｓynthesis，Ｔheodora Ｗ．
Ｇreene著、１９８１年、以下単に「文献」という）の
第７章（第２１８〜２８７頁）に記載されている各種の
基の他、フェノキシアセトアミド、ｐ−メチルフェノキ
シアセトアミド、ｐ−メトキシフェノキシアセトアミ
ド、ｐ−クロロフェノキシアセトアミド、ｐ−ブロモフ
ェノキシアセトアミド、フェニルアセトアミド、ｐ−メ
チルフェニルアセトアミド、ｐ−メトキシフェニルアセ
トアミド、ｐ−クロロフェニルアセトアミド、ｐ−ブロ
モフェニルアセトアミド、フェニルモノクロロアセトア
ミド、フェニルジクロロアセトアミド、フェニルヒドロ
キシアセトアミド、チエニルアセトアミド、フェニルア
セトキシアセトアミド、α−オキソフェニルアセトアミ
ド、ベンズアミド、ｐ−メチルベンズアミド、ｐ−メト
キシベンズアミド、ｐ−クロロベンズアミド、ｐ−ブロ
モベンズアミド、フェニルグリシルアミドやアミノ基の
保護されたフェニルグリシルアミド、ｐ−ヒドロキシフ
ェニルグリシルアミドやアミノ基及び水酸基の一方又は
両方が保護されたｐ−ヒドロキシフェニルグリシルアミ
ド等のアミド類、フタルイミド、ニトロフタルイミド等
のイミド類を意味する。フェニルグリシルアミド及びｐ
−ヒドロキシフェニルグリシルアミドのアミノ基の保護
基とは、上記文献の第７章（第２１８〜２８７頁）に記
載されている各種基を意味する。また、ｐ−ヒドロキシ
フェニルグリシルアミドの水酸基の保護基としては、上
記文献の第２章（第１０〜７２頁）に記載されている各
種基を意味する。更に式（Ａ）で表される基でもよい。
グループインオーガニックシンセシス（Ｐrotective
Ｇroups in Ｏrganic Ｓynthesis，Ｔheodora Ｗ．
Ｇreene著、１９８１年、以下単に「文献」という）の
第７章（第２１８〜２８７頁）に記載されている各種の
基の他、フェノキシアセトアミド、ｐ−メチルフェノキ
シアセトアミド、ｐ−メトキシフェノキシアセトアミ
ド、ｐ−クロロフェノキシアセトアミド、ｐ−ブロモフ
ェノキシアセトアミド、フェニルアセトアミド、ｐ−メ
チルフェニルアセトアミド、ｐ−メトキシフェニルアセ
トアミド、ｐ−クロロフェニルアセトアミド、ｐ−ブロ
モフェニルアセトアミド、フェニルモノクロロアセトア
ミド、フェニルジクロロアセトアミド、フェニルヒドロ
キシアセトアミド、チエニルアセトアミド、フェニルア
セトキシアセトアミド、α−オキソフェニルアセトアミ
ド、ベンズアミド、ｐ−メチルベンズアミド、ｐ−メト
キシベンズアミド、ｐ−クロロベンズアミド、ｐ−ブロ
モベンズアミド、フェニルグリシルアミドやアミノ基の
保護されたフェニルグリシルアミド、ｐ−ヒドロキシフ
ェニルグリシルアミドやアミノ基及び水酸基の一方又は
両方が保護されたｐ−ヒドロキシフェニルグリシルアミ
ド等のアミド類、フタルイミド、ニトロフタルイミド等
のイミド類を意味する。フェニルグリシルアミド及びｐ
−ヒドロキシフェニルグリシルアミドのアミノ基の保護
基とは、上記文献の第７章（第２１８〜２８７頁）に記
載されている各種基を意味する。また、ｐ−ヒドロキシ
フェニルグリシルアミドの水酸基の保護基としては、上
記文献の第２章（第１０〜７２頁）に記載されている各
種基を意味する。更に式（Ａ）で表される基でもよい。
【００１３】
【化８】 〔式中Ｒｉ及びＲｊは、同一又は異なって、水素原子、
Ｃ1〜Ｃ15のアルキル基、芳香族炭化水素基又は複素環
式炭化水素基を示す。或いはＲｉとＲｊは互いに結合し
て環状基となってもよい。〕 Ｃ1〜Ｃ15のアルキル基、芳香族炭化水素基、複素環式
炭化水素基としては上記と同じものを挙げることができ
る。上記環状基としてはＮに結合する炭素を含んでＣ4
〜Ｃ8のシクロアルキル基（シクロブチル、シクロヘキ
シル、シクロオクチル等）、芳香族基（フェニル、トリ
ル、ナフチル等）を例示できる。
Ｃ1〜Ｃ15のアルキル基、芳香族炭化水素基又は複素環
式炭化水素基を示す。或いはＲｉとＲｊは互いに結合し
て環状基となってもよい。〕 Ｃ1〜Ｃ15のアルキル基、芳香族炭化水素基、複素環式
炭化水素基としては上記と同じものを挙げることができ
る。上記環状基としてはＮに結合する炭素を含んでＣ4
〜Ｃ8のシクロアルキル基（シクロブチル、シクロヘキ
シル、シクロオクチル等）、芳香族基（フェニル、トリ
ル、ナフチル等）を例示できる。
【００１４】低級アルコキシ基とは、メトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等の直鎖又は分岐鎖状のＣ1〜
Ｃ4のアルコキシ基を例示できる。環状のアミノ保護基
としてはフタロイル基、ニトロフタロイル基などを例示
できる。カルボン酸の保護基とは、上記文献の第５章
（第１５２〜１９２頁）に示されている各種基の他、ア
リル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニ
トロベンジル基、ジフェニルメチル基、トリクロロメチ
ル基、トリクロロエチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等を例
示できる。本発明においては、水酸基のハロゲン化剤と
して、上記一般式（１）のジアルキルハロイミニウム化
合物を用いる。該ジアルキルハロイミニウム化合物の具
体例としては、例えば、ジエチルハロイミニウム化合
物、ジイソプロピルハロイミニウム化合物、ジブチルハ
ロイミニウム化合物、ジアリルハロイミニウム化合物、
メチルエチルハロイミニウム化合物、エチルプロピルハ
ロイミニウム化合物、エチルブチルハロイミニウム化合
物、エチルペンチルハロイミニウム化合物等を挙げるこ
とができ、これらの中でも、Ｒ1とＲ2が同じ基であるジ
アルキルハロイミニウム化合物が好ましく、ジエチルハ
ロイミニウム化合物が特に好ましい。ジアルキルハロイ
ミニウム化合物は１種を単独で使用でき又は２種以上を
併用できる。
シ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等の直鎖又は分岐鎖状のＣ1〜
Ｃ4のアルコキシ基を例示できる。環状のアミノ保護基
としてはフタロイル基、ニトロフタロイル基などを例示
できる。カルボン酸の保護基とは、上記文献の第５章
（第１５２〜１９２頁）に示されている各種基の他、ア
リル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニ
トロベンジル基、ジフェニルメチル基、トリクロロメチ
ル基、トリクロロエチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等を例
示できる。本発明においては、水酸基のハロゲン化剤と
して、上記一般式（１）のジアルキルハロイミニウム化
合物を用いる。該ジアルキルハロイミニウム化合物の具
体例としては、例えば、ジエチルハロイミニウム化合
物、ジイソプロピルハロイミニウム化合物、ジブチルハ
ロイミニウム化合物、ジアリルハロイミニウム化合物、
メチルエチルハロイミニウム化合物、エチルプロピルハ
ロイミニウム化合物、エチルブチルハロイミニウム化合
物、エチルペンチルハロイミニウム化合物等を挙げるこ
とができ、これらの中でも、Ｒ1とＲ2が同じ基であるジ
アルキルハロイミニウム化合物が好ましく、ジエチルハ
ロイミニウム化合物が特に好ましい。ジアルキルハロイ
ミニウム化合物は１種を単独で使用でき又は２種以上を
併用できる。
【００１５】一般式（１）で表されるジアルキルハロイ
ミニウム化合物もしくはジアリルハロイミニウム化合物
（以下、両者を合わせて単にジアルキルハロイミニウム
化合物という）は、例えば、有機溶媒中にて、下記一般
式で表されるジアルキルホルムアミドもしくはジアリル
ホルムアミドとハロゲン化剤とを反応させることにより
製造できる。
ミニウム化合物もしくはジアリルハロイミニウム化合物
（以下、両者を合わせて単にジアルキルハロイミニウム
化合物という）は、例えば、有機溶媒中にて、下記一般
式で表されるジアルキルホルムアミドもしくはジアリル
ホルムアミドとハロゲン化剤とを反応させることにより
製造できる。
【００１６】
【化９】 〔式中Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって上記に同じ。〕
【００１７】ここで使用する有機溶媒としては、ジアル
キルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミドとハロ
ゲン化剤との反応に影響を及ぼさないものであれば特に
制限されないが、例えば蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸
プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチ
ルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等
の環状エーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニト
リル等のニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン、アニソール等の芳香族炭化水素類、ジ
クロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリク
ロロエタン、ジブロモエタン、プロピレンジクロライ
ド、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シ
クロオクタン等のシクロアルカン類等を挙げることがで
きる。これらは１種単独で使用でき又は２種以上を併用
できる。これらの有機溶媒は、必要に応じてモレキュラ
ーシーブス等で予め脱水して用いるのが好ましい。有機
溶媒の使用量は特に制限されないが、通常ジアルキルホ
ルムアミドもしくはジアリルホルムアミド１kg当たり１
〜１００リットル程度、好ましくは５〜５０リットル程
度とすればよい。
キルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミドとハロ
ゲン化剤との反応に影響を及ぼさないものであれば特に
制限されないが、例えば蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸
プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチ
ルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等
の環状エーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニト
リル等のニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン、アニソール等の芳香族炭化水素類、ジ
クロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリク
ロロエタン、ジブロモエタン、プロピレンジクロライ
ド、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シ
クロオクタン等のシクロアルカン類等を挙げることがで
きる。これらは１種単独で使用でき又は２種以上を併用
できる。これらの有機溶媒は、必要に応じてモレキュラ
ーシーブス等で予め脱水して用いるのが好ましい。有機
溶媒の使用量は特に制限されないが、通常ジアルキルホ
ルムアミドもしくはジアリルホルムアミド１kg当たり１
〜１００リットル程度、好ましくは５〜５０リットル程
度とすればよい。
【００１８】ハロゲン化剤としては公知のものを使用で
き、例えば、ホスゲン、二塩化オキサリル、チオニルク
ロライド、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リン、
カルボニルジブロマイド、オキサリルブロマイド、チオ
ニルブロマイド、ホスホラスブロマイド、ホスホラスオ
キシブロマイド等を挙げることができる。ハロゲン化剤
は１種を単独で使用でき又は２種以上を併用できる。ハ
ロゲン化剤の使用量は特に制限はないが、通常ジアルキ
ルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミドに対して
０.５〜１０当量とすればよい。必要ならば更にジアル
キルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミドがなく
なるまでハロゲン化剤を追加してもよい。上記反応は、
通常−７８〜６０℃程度、好ましくは０〜３０℃程度の
温度下に行われ、通常０.５〜２０時間程度、好ましく
は０.５〜８時間程度で終了する。反応終了後、反応混
合物を濃縮等の通常の手段に従って精製することによ
り、本発明のハロゲン化剤（ジアルキルハロイミニウム
化合物）を単離できる。或いは、本発明のハロゲン化剤
を含む反応混合物を、精製することなく、そのまま水酸
基のハロゲン化反応に供することもできる。
き、例えば、ホスゲン、二塩化オキサリル、チオニルク
ロライド、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リン、
カルボニルジブロマイド、オキサリルブロマイド、チオ
ニルブロマイド、ホスホラスブロマイド、ホスホラスオ
キシブロマイド等を挙げることができる。ハロゲン化剤
は１種を単独で使用でき又は２種以上を併用できる。ハ
ロゲン化剤の使用量は特に制限はないが、通常ジアルキ
ルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミドに対して
０.５〜１０当量とすればよい。必要ならば更にジアル
キルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミドがなく
なるまでハロゲン化剤を追加してもよい。上記反応は、
通常−７８〜６０℃程度、好ましくは０〜３０℃程度の
温度下に行われ、通常０.５〜２０時間程度、好ましく
は０.５〜８時間程度で終了する。反応終了後、反応混
合物を濃縮等の通常の手段に従って精製することによ
り、本発明のハロゲン化剤（ジアルキルハロイミニウム
化合物）を単離できる。或いは、本発明のハロゲン化剤
を含む反応混合物を、精製することなく、そのまま水酸
基のハロゲン化反応に供することもできる。
【００１９】次いで、本発明の水酸基のハロゲン化法に
ついて説明する。即ち本発明によれば、一般式（２）で
表される水酸基含有化合物（以下「水酸基含有化合物
（２）」という）に、有機溶媒中、上記一般式（１）の
本発明ハロゲン化剤（以下「ハロゲン化剤（１）」とい
う）の少なくとも１種を作用させることにより、一般式
（３）で表されるハロゲン化物（以下「ハロゲン化物
（３）」という）を製造することができる。 Ａ−ＯＨ （２） 〔式中Ａは直鎖若しくは分枝鎖状アルキル基、直鎖若し
くは分岐鎖状アルケニル基、置換されていても良い単環
性若しくは多環性の芳香族残基、ステロイド残基又は置
換されていても良い単環性若しくは多環性の複素環残基
を示す。〕 Ａ−Ｘ （３） 〔式中Ａ及びＸは上記に同じ。〕
ついて説明する。即ち本発明によれば、一般式（２）で
表される水酸基含有化合物（以下「水酸基含有化合物
（２）」という）に、有機溶媒中、上記一般式（１）の
本発明ハロゲン化剤（以下「ハロゲン化剤（１）」とい
う）の少なくとも１種を作用させることにより、一般式
（３）で表されるハロゲン化物（以下「ハロゲン化物
（３）」という）を製造することができる。 Ａ−ＯＨ （２） 〔式中Ａは直鎖若しくは分枝鎖状アルキル基、直鎖若し
くは分岐鎖状アルケニル基、置換されていても良い単環
性若しくは多環性の芳香族残基、ステロイド残基又は置
換されていても良い単環性若しくは多環性の複素環残基
を示す。〕 Ａ−Ｘ （３） 〔式中Ａ及びＸは上記に同じ。〕
【００２０】ここで、水酸基含有化合物としては特に制
限されず、その分子内に水酸基を有する有機化合物をい
ずれも使用できるが、その具体例としては、例えば、下
記化合物（５）ないし化合物（１１）を挙げることがで
きる。 化合物（５）：アルキル部分が炭素数１〜１５であり且
つ直鎖又は分岐鎖状であるアルキルアルコール 化合物（６）：アルケニル部分が炭素数２〜８であり且
つ直鎖又は分岐鎖状であるアルケニルアルコール 化合物（７）：３−β−コレステロール 化合物（８）：一般式（８）で表される化合物
限されず、その分子内に水酸基を有する有機化合物をい
ずれも使用できるが、その具体例としては、例えば、下
記化合物（５）ないし化合物（１１）を挙げることがで
きる。 化合物（５）：アルキル部分が炭素数１〜１５であり且
つ直鎖又は分岐鎖状であるアルキルアルコール 化合物（６）：アルケニル部分が炭素数２〜８であり且
つ直鎖又は分岐鎖状であるアルケニルアルコール 化合物（７）：３−β−コレステロール 化合物（８）：一般式（８）で表される化合物
【００２１】
【化１０】 〔式中、Ｒ5〜Ｒ8は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ
1〜Ｃ4の低級アルキル基、ニトロ基、水酸基、カルボキ
シル基又はアルコキシカルボニル基を示す。〕 化合物（９）：一般式（９ａ）〜（９ｃ）で表される化
合物
1〜Ｃ4の低級アルキル基、ニトロ基、水酸基、カルボキ
シル基又はアルコキシカルボニル基を示す。〕 化合物（９）：一般式（９ａ）〜（９ｃ）で表される化
合物
【００２２】
【化１１】 〔式中、Ｒ9は直鎖若しくは分枝鎖状のＣ1〜Ｃ15のアル
キル基、直鎖若しくは分枝のＣ2〜Ｃ8アルケニル基、シ
クロヘキシル基又はフェニル基を示す。Ｒaは水素原子
又はアシル基を示す。〕 化合物（１０）：一般式（１０）で表される化合物
キル基、直鎖若しくは分枝のＣ2〜Ｃ8アルケニル基、シ
クロヘキシル基又はフェニル基を示す。Ｒaは水素原子
又はアシル基を示す。〕 化合物（１０）：一般式（１０）で表される化合物
【００２３】
【化１２】 〔式中Ｒ10は水素原子、アミノ基又は保護されたアミノ
基を示す。Ｒ11は水素原子又は低級アルコキシ基を示
す。或いはＲ10とＲ11とが互いに結合して環状のアミノ
保護基となっていても良い。Ｒ12は水素原子又はカルボ
ン酸保護基を示す。〕 化合物（１１）：一般式（１１）で表される化合物
基を示す。Ｒ11は水素原子又は低級アルコキシ基を示
す。或いはＲ10とＲ11とが互いに結合して環状のアミノ
保護基となっていても良い。Ｒ12は水素原子又はカルボ
ン酸保護基を示す。〕 化合物（１１）：一般式（１１）で表される化合物
【００２４】
【化１３】 〔式中、Ｒ13〜Ｒ16は同一又は異なって、水素原子、Ｃ
1〜Ｃ4の低級アルキル基、ニトロ基、水酸基、カルボキ
シル基又はアルコキシカルボニル基を示す。ｎは１又は
２を示す。〕
1〜Ｃ4の低級アルキル基、ニトロ基、水酸基、カルボキ
シル基又はアルコキシカルボニル基を示す。ｎは１又は
２を示す。〕
【００２５】これらの中でも、化合物（５）ないし化合
物（１０）が好ましく、化合物（７）ないし化合物（１
０）がより好ましく、化合物（９）及び化合物（１０）
が更に好ましく、化合物（１０）が特に好ましい。有機
溶媒としては、本発明のハロゲン化剤（１）を製造する
際に用いるものと同様のもの（上記に例示のもの）が使
用でき、その他にジメチルアセトアミド、ジメチルイミ
ダゾリジノン及びＮ−メチル−２−ピロリドン等の環状
アミドを含むアミド類等も使用することができる。これ
らは１種を単独で使用でき又は２種以上を併用できる。
有機溶媒の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜
選択できるが、通常水酸基含有化合物（２）１kg当たり
１〜２００リットル程度、好ましくは５〜２０リットル
程度とすればよい。ハロゲン化剤（１）の使用量は特に
制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常水酸
基含有化合物（２）に対し０.１〜１０当量程度、好ま
しくは０.５〜２.０当量程度とすればよい。必要に応じ
て、反応系内の水酸基含有化合物（２）がなくなるまで
追加してもよい。
物（１０）が好ましく、化合物（７）ないし化合物（１
０）がより好ましく、化合物（９）及び化合物（１０）
が更に好ましく、化合物（１０）が特に好ましい。有機
溶媒としては、本発明のハロゲン化剤（１）を製造する
際に用いるものと同様のもの（上記に例示のもの）が使
用でき、その他にジメチルアセトアミド、ジメチルイミ
ダゾリジノン及びＮ−メチル−２−ピロリドン等の環状
アミドを含むアミド類等も使用することができる。これ
らは１種を単独で使用でき又は２種以上を併用できる。
有機溶媒の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜
選択できるが、通常水酸基含有化合物（２）１kg当たり
１〜２００リットル程度、好ましくは５〜２０リットル
程度とすればよい。ハロゲン化剤（１）の使用量は特に
制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常水酸
基含有化合物（２）に対し０.１〜１０当量程度、好ま
しくは０.５〜２.０当量程度とすればよい。必要に応じ
て、反応系内の水酸基含有化合物（２）がなくなるまで
追加してもよい。
【００２６】本反応は、撹拌下又は無撹拌下、通常−７
８〜６０℃程度、好ましくは０〜３０℃程度の温度下に
行われ、通常０.５〜２０時間程度、好ましくは０.５〜
８時間程度で終了する。また本反応は、必要に応じて密
封容器中又は窒素ガス等の不活性ガス中で行なうことも
できる。得られるハロゲン化物（３）は濃縮、蒸留、ク
ロマトグラフィー、結晶化等の通常の精製操作により容
易に単離することができる。更に本発明によれば、水酸
基含有化合物（２）に、有機溶媒中、ハロゲン化剤
（１）及び一般式（４）で表されるハロゲン化剤（以下
「ハロゲン化剤（４）」という）よりなる群から選ばれ
る少なくとも１種と、低級アルキルスルホン、低級アル
ケニルスルホン、アリールスルホン及び複素環スルホン
から選ばれる少なくとも１種とを同時に作用させること
により、ハロゲン化物（３）を製造することができる。
８〜６０℃程度、好ましくは０〜３０℃程度の温度下に
行われ、通常０.５〜２０時間程度、好ましくは０.５〜
８時間程度で終了する。また本反応は、必要に応じて密
封容器中又は窒素ガス等の不活性ガス中で行なうことも
できる。得られるハロゲン化物（３）は濃縮、蒸留、ク
ロマトグラフィー、結晶化等の通常の精製操作により容
易に単離することができる。更に本発明によれば、水酸
基含有化合物（２）に、有機溶媒中、ハロゲン化剤
（１）及び一般式（４）で表されるハロゲン化剤（以下
「ハロゲン化剤（４）」という）よりなる群から選ばれ
る少なくとも１種と、低級アルキルスルホン、低級アル
ケニルスルホン、アリールスルホン及び複素環スルホン
から選ばれる少なくとも１種とを同時に作用させること
により、ハロゲン化物（３）を製造することができる。
【００２７】
【化１４】 〔式中、Ｒ3、Ｒ5はメチル又はフェニルを示す。Ｘ及び
Ｙは前記に同じ。〕
Ｙは前記に同じ。〕
【００２８】本反応は、化合物（１０）のハロゲン化に
特に有効である。ここで使用する有機溶媒の種類及び使
用量、ハロゲン化剤の使用量、反応温度や時間等の反応
条件は、上記のハロゲン化剤（１）のみを用いてハロゲ
ン化物（３）を製造する場合と同様でよい。本反応に添
加される低級アルキルスルホン、低級アルケニルスルホ
ン、アリールスルホン及び複素環スルホン（以下特記し
ない限り「スルホン類」と総称する）の具体例として
は、例えば、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジ
プロピルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジブチル
スルホン、ジイソブチルスルホン、メチルエチルスルホ
ン、メチルプロピルスルホン、メチルブチルスルホン、
エチルプロピルスルホン、エチルブチルスルホン、ジビ
ニルスルホン、ジプロペニルスルホン、ビニルプロペニ
ルスルホン、ジフェニルスルホン、ジトルイルスルホ
ン、ジピリジルスルホン等を挙げることができる。スル
ホン類は１種を単独で使用でき又は２種以上を併用でき
る。スルホン類の使用量は特に制限されず、広い範囲か
ら適宜選択できるが、通常水酸基含有化合物（２）に対
して０.１〜２０モル％程度、好ましくは３〜１０モル
％程度とすればよい。
特に有効である。ここで使用する有機溶媒の種類及び使
用量、ハロゲン化剤の使用量、反応温度や時間等の反応
条件は、上記のハロゲン化剤（１）のみを用いてハロゲ
ン化物（３）を製造する場合と同様でよい。本反応に添
加される低級アルキルスルホン、低級アルケニルスルホ
ン、アリールスルホン及び複素環スルホン（以下特記し
ない限り「スルホン類」と総称する）の具体例として
は、例えば、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジ
プロピルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジブチル
スルホン、ジイソブチルスルホン、メチルエチルスルホ
ン、メチルプロピルスルホン、メチルブチルスルホン、
エチルプロピルスルホン、エチルブチルスルホン、ジビ
ニルスルホン、ジプロペニルスルホン、ビニルプロペニ
ルスルホン、ジフェニルスルホン、ジトルイルスルホ
ン、ジピリジルスルホン等を挙げることができる。スル
ホン類は１種を単独で使用でき又は２種以上を併用でき
る。スルホン類の使用量は特に制限されず、広い範囲か
ら適宜選択できるが、通常水酸基含有化合物（２）に対
して０.１〜２０モル％程度、好ましくは３〜１０モル
％程度とすればよい。
【００２９】また本発明においては、有機溶媒としてジ
アルキルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミド自
体を用い、これに公知のハロゲン化剤を作用させて反応
系内で本発明のハロゲン化剤（１）及び／又はハロゲン
化剤（４）を発生させ、次いで水酸基含有化合物（２）
を反応系内に加えることにより、ハロゲン化物を製造す
ることもできる。尚、反応系内にハロゲン化剤（４）の
みが発生する場合は、スルホン類を添加することが必要
である。この際の反応条件、例えば、ジアルキルホルム
アミドもしくはジアリルホルムアミドの使用量、ハロゲ
ン化剤（１）及び／又はハロゲン化剤（４）の使用量、
スルホン類の種類や使用量、反応温度や時間等は上記と
同様でよい。また本反応は、必要に応じて密封容器中又
は窒素ガス等の不活性ガス中で行なうこともできる。得
られるハロゲン化物（３）は濃縮、蒸留、クロマトグラ
フィー、結晶化等の通常の精製操作により容易に単離す
ることができる。
アルキルホルムアミドもしくはジアリルホルムアミド自
体を用い、これに公知のハロゲン化剤を作用させて反応
系内で本発明のハロゲン化剤（１）及び／又はハロゲン
化剤（４）を発生させ、次いで水酸基含有化合物（２）
を反応系内に加えることにより、ハロゲン化物を製造す
ることもできる。尚、反応系内にハロゲン化剤（４）の
みが発生する場合は、スルホン類を添加することが必要
である。この際の反応条件、例えば、ジアルキルホルム
アミドもしくはジアリルホルムアミドの使用量、ハロゲ
ン化剤（１）及び／又はハロゲン化剤（４）の使用量、
スルホン類の種類や使用量、反応温度や時間等は上記と
同様でよい。また本反応は、必要に応じて密封容器中又
は窒素ガス等の不活性ガス中で行なうこともできる。得
られるハロゲン化物（３）は濃縮、蒸留、クロマトグラ
フィー、結晶化等の通常の精製操作により容易に単離す
ることができる。
【００３０】
【実施例】以下に、合成例〔ハロゲン化剤（１）又はハ
ロゲン化剤（４）の合成〕、実施例及び比較例を挙げ、
本発明を具体的に説明する。
ロゲン化剤（４）の合成〕、実施例及び比較例を挙げ、
本発明を具体的に説明する。
【００３１】合成例１ 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコをアルゴンガス置換した後、塩化メチ
レン ５０mlとＮ,Ｎ−ジエチルホルムアミド４.３gを入
れて、氷冷下撹拌した。次に塩化オキサリル ５.２３ml
をシリンジで注入して、氷冷下で更に１時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮し、５０mlのエチルエーテルで結晶化
させることにより、Ｎ,Ｎ−ジエチルクロロイミニウム
クロライド（１ａ）６.４gを製造した。1Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣ13）δ １.４５（ｔ，Ｊ＝７.４Ｈｚ，６
Ｈ），４.２３（ｂｒｓ，４Ｈ），１０.９４（ｓ，１
Ｈ）
の四つ口フラスコをアルゴンガス置換した後、塩化メチ
レン ５０mlとＮ,Ｎ−ジエチルホルムアミド４.３gを入
れて、氷冷下撹拌した。次に塩化オキサリル ５.２３ml
をシリンジで注入して、氷冷下で更に１時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮し、５０mlのエチルエーテルで結晶化
させることにより、Ｎ,Ｎ−ジエチルクロロイミニウム
クロライド（１ａ）６.４gを製造した。1Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣ13）δ １.４５（ｔ，Ｊ＝７.４Ｈｚ，６
Ｈ），４.２３（ｂｒｓ，４Ｈ），１０.９４（ｓ，１
Ｈ）
【００３２】合成例２ Ｎ,Ｎ−ジエチルホルムアミド ４.３gに代えてＮ,Ｎ−
ジ−ｎ−プロピルホルムアミド ６.０gを使用する以外
は合成例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジ−ｎ−プロピル
クロロイミニウムクロライド（１ｂ）８.８gを製造し
た。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ １.３９（ｔ，Ｊ＝７.４
Ｈｚ，６Ｈ），３.７５（ｍ，２Ｈ），３.９５（ｍ，２
Ｈ），４.２３（ｔ，Ｊ＝７.４Ｈｚ，２Ｈ），４.４４
（ｔ，Ｊ＝７.４Ｈｚ，２Ｈ），１０.７１（ｓ，１Ｈ）
ジ−ｎ−プロピルホルムアミド ６.０gを使用する以外
は合成例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジ−ｎ−プロピル
クロロイミニウムクロライド（１ｂ）８.８gを製造し
た。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ １.３９（ｔ，Ｊ＝７.４
Ｈｚ，６Ｈ），３.７５（ｍ，２Ｈ），３.９５（ｍ，２
Ｈ），４.２３（ｔ，Ｊ＝７.４Ｈｚ，２Ｈ），４.４４
（ｔ，Ｊ＝７.４Ｈｚ，２Ｈ），１０.７１（ｓ，１Ｈ）
【００３３】合成例３ Ｎ,Ｎ−ジエチルホルムアミド ４.３gに代えてＮ,Ｎ−
ジイソプロピルホルムアミド ６.１gを使用する以外は
合成例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルクロ
ロイミニウムクロライド（１ｃ）８.７gを製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ １.４１（ｍ，１２Ｈ），
３.８１（ｍ，１Ｈ），４.２０（ｍ，１Ｈ），１０.９
３（ｓ，１Ｈ）
ジイソプロピルホルムアミド ６.１gを使用する以外は
合成例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルクロ
ロイミニウムクロライド（１ｃ）８.７gを製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ １.４１（ｍ，１２Ｈ），
３.８１（ｍ，１Ｈ），４.２０（ｍ，１Ｈ），１０.９
３（ｓ，１Ｈ）
【００３４】合成例４ Ｎ,Ｎ−ジエチルホルムアミド ４.３gに代えてＮ,Ｎ−
ジ−ｎ−ブチルホルムアミド ７.６gを使用する以外は
合成例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジ−ｎ−ブチルクロ
ロイミニウムクロライド（１ｄ）１１.３gを製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ １.３７（ｔ，Ｊ＝７.４
Ｈｚ，６Ｈ），３.８９（ｍ，８Ｈ），４.１４（ｔ，Ｊ
＝７.４Ｈｚ，４Ｈ），１０.７５（ｓ，１Ｈ）
ジ−ｎ−ブチルホルムアミド ７.６gを使用する以外は
合成例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジ−ｎ−ブチルクロ
ロイミニウムクロライド（１ｄ）１１.３gを製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ １.３７（ｔ，Ｊ＝７.４
Ｈｚ，６Ｈ），３.８９（ｍ，８Ｈ），４.１４（ｔ，Ｊ
＝７.４Ｈｚ，４Ｈ），１０.７５（ｓ，１Ｈ）
【００３５】合成例５ Ｎ,Ｎ−ジエチルホルムアミド ４.３gに代えてＮ,Ｎ−
ジ−アリルホルムアミド ５.７gを使用する以外は合成
例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジ−アリルクロロイミニ
ウムクロライド（１ｅ）８.５g製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ ３.５６（ｄ，Ｊ＝７.５
Ｈｚ，４Ｈ），５.３５（ｍ，４Ｈ），６.１０（ｍ，２
Ｈ），１０.９４（ｓ，１Ｈ）
ジ−アリルホルムアミド ５.７gを使用する以外は合成
例１と同様に操作し、Ｎ,Ｎ−ジ−アリルクロロイミニ
ウムクロライド（１ｅ）８.５g製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ ３.５６（ｄ，Ｊ＝７.５
Ｈｚ，４Ｈ），５.３５（ｍ，４Ｈ），６.１０（ｍ，２
Ｈ），１０.９４（ｓ，１Ｈ）
【００３６】合成例６ 乾燥した５０mlナス型フラスコ中に脱水ジエチルホルム
アミド ３５mlを入れ、室温でオキシ塩化リン ４.２gを
加え３０℃で１時間撹拌し、ジエチルクロロイミニウム
クロライド化合物のジエチルホルムアミド溶液を製造し
た。
アミド ３５mlを入れ、室温でオキシ塩化リン ４.２gを
加え３０℃で１時間撹拌し、ジエチルクロロイミニウム
クロライド化合物のジエチルホルムアミド溶液を製造し
た。
【００３７】合成例７ 脱水ジエチルホルムアミドに代えて脱水ジメチルホルム
アミドを使用する以外は合成例６と同様にして、ジメチ
ルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホルム
アミド溶液を製造した。
アミドを使用する以外は合成例６と同様にして、ジメチ
ルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホルム
アミド溶液を製造した。
【００３８】実施例１ ジフェニルメチル（６Ｒ，７Ｒ）−７−フェニルアセト
アミド−３−クロロ−８−オキソ−５−チア−１−アザ
ビシクロ［４.２.０］オクト−２−エン−２−カルボキ
シレート（３ａ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにジフェニルメチル（６Ｒ，７Ｒ）−
７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシ−８−オキ
ソ−５−チア−１−アザビシクロ［４.２.０］オクト−
２−エン−２−カルボキシレート（２ａ）１２.５g（純
度９０％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジエチル
ホルムアミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。こ
の溶液に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロラ
イド化合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加
した。反応液を室温で更に６時間撹拌した後、氷水１リ
ットル中に注ぎ、析出した結晶を濾取して少量の水で洗
浄して真空乾燥し、目的とする化合物（３ａ）１１.９g
（純度９４％，収率９６％）を製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ ｐｐｍ ３.５２（ＡＢ
ｑ.，２Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ），３.９６（ＡＢｑ.，２
Ｈ，Ｊ＝１５Ｈｚ），５.２１（ｄ，１Ｈ，５.５Ｈ
ｚ），５.７８（ｄｄ，１Ｈ，７.５Ｈｚ，５.５Ｈ
ｚ），６.９７（ｓ，１Ｈ），７.１８〜７.４９（ｍ，
１５Ｈ），９.２０（ｄ，１Ｈ，７.５Ｈｚ）
アミド−３−クロロ−８−オキソ−５−チア−１−アザ
ビシクロ［４.２.０］オクト−２−エン−２−カルボキ
シレート（３ａ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにジフェニルメチル（６Ｒ，７Ｒ）−
７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシ−８−オキ
ソ−５−チア−１−アザビシクロ［４.２.０］オクト−
２−エン−２−カルボキシレート（２ａ）１２.５g（純
度９０％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジエチル
ホルムアミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。こ
の溶液に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロラ
イド化合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加
した。反応液を室温で更に６時間撹拌した後、氷水１リ
ットル中に注ぎ、析出した結晶を濾取して少量の水で洗
浄して真空乾燥し、目的とする化合物（３ａ）１１.９g
（純度９４％，収率９６％）を製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ ｐｐｍ ３.５２（ＡＢ
ｑ.，２Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ），３.９６（ＡＢｑ.，２
Ｈ，Ｊ＝１５Ｈｚ），５.２１（ｄ，１Ｈ，５.５Ｈ
ｚ），５.７８（ｄｄ，１Ｈ，７.５Ｈｚ，５.５Ｈ
ｚ），６.９７（ｓ，１Ｈ），７.１８〜７.４９（ｍ，
１５Ｈ），９.２０（ｄ，１Ｈ，７.５Ｈｚ）
【００３９】実施例２ 化合物（３ａ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液を、ジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）と共に氷冷下で添加した。反応
液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３
ａ）１１.５g（純度９５％，収率９４％）を製造した。
このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは、実
施例１のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液を、ジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）と共に氷冷下で添加した。反応
液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３
ａ）１１.５g（純度９５％，収率９４％）を製造した。
このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは、実
施例１のそれと一致した。
【００４０】実施例３ ｐ−メトキシベンジル（６Ｒ，７Ｒ）−７−フェニルア
セトアミド−３−クロロ−８−オキソ−５−チア−１−
アザビシクロ［４.２.０］オクト−２−エン−２−カル
ボキシレート（３ｂ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにｐ−メトキシベンジル（６Ｒ，７
Ｒ）−７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシ−８
−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ［４.２.０］オ
クト−２−エン−２−カルボキシレート（２ｂ）１１.
４g（純度９２％，２３.１ミリモル）を仕込み、脱水ジ
エチルホルムアミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解し
た。この溶液に合成例６のジエチルクロロイミニウムク
ロライド化合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷下で
添加した。反応液を実施例１と同様に処理し、目的とす
る化合物（３ｂ）１１.０g（純度９６％，収率９７％）
を製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ ｐｐｍ ３.４２（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝１７.８Ｈｚ），３.７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
７.８Ｈｚ），３.５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６.４Ｈ
ｚ），３.６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６.４Ｈｚ），３.７
９（ｓ，３Ｈ），４.９６（ｄ，１Ｈ，５.１Ｈｚ），
５.２１（ｓ，２Ｈ），５.７９（ｄｄ，１Ｈ，９.２Ｈ
ｚ，５.１Ｈｚ），６.３９（ｄ，１Ｈ，９.２Ｈｚ），
６.８２〜７.４０（ｍ，９Ｈ）
セトアミド−３−クロロ−８−オキソ−５−チア−１−
アザビシクロ［４.２.０］オクト−２−エン−２−カル
ボキシレート（３ｂ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにｐ−メトキシベンジル（６Ｒ，７
Ｒ）−７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシ−８
−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ［４.２.０］オ
クト−２−エン−２−カルボキシレート（２ｂ）１１.
４g（純度９２％，２３.１ミリモル）を仕込み、脱水ジ
エチルホルムアミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解し
た。この溶液に合成例６のジエチルクロロイミニウムク
ロライド化合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷下で
添加した。反応液を実施例１と同様に処理し、目的とす
る化合物（３ｂ）１１.０g（純度９６％，収率９７％）
を製造した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ ｐｐｍ ３.４２（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝１７.８Ｈｚ），３.７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
７.８Ｈｚ），３.５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６.４Ｈ
ｚ），３.６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６.４Ｈｚ），３.７
９（ｓ，３Ｈ），４.９６（ｄ，１Ｈ，５.１Ｈｚ），
５.２１（ｓ，２Ｈ），５.７９（ｄｄ，１Ｈ，９.２Ｈ
ｚ，５.１Ｈｚ），６.３９（ｄ，１Ｈ，９.２Ｈｚ），
６.８２〜７.４０（ｍ，９Ｈ）
【００４１】実施例４ 化合物（３ｂ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を着けた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ｂ）１１.４g（純度９２
％，２３.１ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液とジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）を共に氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ｂ）
１０.８g（純度９６％，収率９５％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは実施例３
のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ｂ）１１.４g（純度９２
％，２３.１ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液とジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）を共に氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ｂ）
１０.８g（純度９６％，収率９５％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは実施例３
のそれと一致した。
【００４２】実施例５ ジフェニルメチル（６Ｒ，７Ｒ）−７−フタルイミド−
３−クロロ−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ
［４.２.０］オクト−２−エン−２−カルボキシレート
（３ｃ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにジフェニルメチル（６Ｒ，７Ｒ）−
７−フタルイミド−３−ヒドロキシ−８−オキソ−５−
チア−１−アザビシクロ［４.２.０］オクト−２−エン
−２−カルボキシレート（２ｃ）１２.７g（純度９５
％，２３.８ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジエチルホルムアミド溶液を、氷冷下で添加し
た。反応液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合
物（３ｃ）１２.５g（純度９３％，収率９２％）を製造
した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ ４.１９〜４.９０（ｍ，
２Ｈ），４.６２５（ＡＢｑ.，２Ｈ，Ｊ＝５.５Ｈ
ｚ），５.９７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４.８Ｈｚ），６.９
７０（ｓ，１Ｈ），７.２１〜７.６２（ｍ，１０Ｈ），
７.７６〜７.９４（ｍ，４Ｈ）
３−クロロ−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ
［４.２.０］オクト−２−エン−２−カルボキシレート
（３ｃ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにジフェニルメチル（６Ｒ，７Ｒ）−
７−フタルイミド−３−ヒドロキシ−８−オキソ−５−
チア−１−アザビシクロ［４.２.０］オクト−２−エン
−２−カルボキシレート（２ｃ）１２.７g（純度９５
％，２３.８ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジエチルホルムアミド溶液を、氷冷下で添加し
た。反応液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合
物（３ｃ）１２.５g（純度９３％，収率９２％）を製造
した。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）δ ４.１９〜４.９０（ｍ，
２Ｈ），４.６２５（ＡＢｑ.，２Ｈ，Ｊ＝５.５Ｈ
ｚ），５.９７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４.８Ｈｚ），６.９
７０（ｓ，１Ｈ），７.２１〜７.６２（ｍ，１０Ｈ），
７.７６〜７.９４（ｍ，４Ｈ）
【００４３】実施例６ 化合物（３ｃ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ｃ）１２.７g（純度９５
％，２３.８ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液とジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）を共に氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ｃ）
１３.１g（純度９０％，収率９３％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣl3）スペクトルは実施例５
のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ｃ）１２.７g（純度９５
％，２３.８ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液とジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）を共に氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ｃ）
１３.１g（純度９０％，収率９３％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣl3）スペクトルは実施例５
のそれと一致した。
【００４４】実施例７ 化合物（３ａ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジエチルホルムアミド溶液とジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）を共に氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ａ）
１２.２g（純度９２％，収率９６％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施例１
のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジエチルホルムアミド溶液とジメチルスルホン
１１８mg（５モル％）を共に氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ａ）
１２.２g（純度９２％，収率９６％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施例１
のそれと一致した。
【００４５】実施例８ 化合物（３ａ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウクロライド化合
物のジメチルホルムアミド溶液とジエチルスルホン １
５４mg（５ミリモル％）を共に氷冷下で添加した。反応
液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３
ａ）１１.６g（純度９５％，収率９５％）を製造した。
このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施
例１のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウクロライド化合
物のジメチルホルムアミド溶液とジエチルスルホン １
５４mg（５ミリモル％）を共に氷冷下で添加した。反応
液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３
ａ）１１.６g（純度９５％，収率９５％）を製造した。
このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施
例１のそれと一致した。
【００４６】実施例９ 化合物（３ａ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液とジフェニルスルホン
２７４mg（５モル％）とを氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ａ）
１１.８g（純度９０％，収率９１％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施例１
のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液とジフェニルスルホン
２７４mg（５モル％）とを氷冷下で添加した。反応液
を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物（３ａ）
１１.８g（純度９０％，収率９１％）を製造した。この
ものの1Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施例１
のそれと一致した。
【００４７】実施例１０ Ｎ−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−４−クロロ−
２−シクロヘキシル−１,２−ジヒドロピリジン（３
ｄ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにＮ−［（ベンジルオキシ）カルボニ
ル］−２−シクロヘキシル−２,３−ジヒドロ−４−ピ
リドン（２ｄ）７.２g（２３ミリモル）を仕込み、脱水
ジエチルホルムアミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解
した。この溶液に、合成例６のジエチルクロロイミニウ
ムクロライド化合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷
下で添加した。反応液を室温で更に６時間撹拌した後、
氷水１リットル中に注ぎ、酢酸エチル ５０mlで抽出し
て、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮してシリ
カゲルカラムクロマトで精製し、無色透明の油状物とし
て目的とする化合物（３ｄ）７.７g（純度９７％，収率
９８％）を製造した。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ1
3）スペクトルは標品のそれと一致した。
２−シクロヘキシル−１,２−ジヒドロピリジン（３
ｄ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコにＮ−［（ベンジルオキシ）カルボニ
ル］−２−シクロヘキシル−２,３−ジヒドロ−４−ピ
リドン（２ｄ）７.２g（２３ミリモル）を仕込み、脱水
ジエチルホルムアミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解
した。この溶液に、合成例６のジエチルクロロイミニウ
ムクロライド化合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷
下で添加した。反応液を室温で更に６時間撹拌した後、
氷水１リットル中に注ぎ、酢酸エチル ５０mlで抽出し
て、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮してシリ
カゲルカラムクロマトで精製し、無色透明の油状物とし
て目的とする化合物（３ｄ）７.７g（純度９７％，収率
９８％）を製造した。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ1
3）スペクトルは標品のそれと一致した。
【００４８】実施例１１ 化合物（３ｄ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ｄ）７.２g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１０と同様
に処理し、無色透明の油状物として目的とする（３ｄ）
の化合物 ７.６g（純度９６％，収率９６％）を製造し
た。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは
標品のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ｄ）７.２g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１０と同様
に処理し、無色透明の油状物として目的とする（３ｄ）
の化合物 ７.６g（純度９６％，収率９６％）を製造し
た。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは
標品のそれと一致した。
【００４９】実施例１２ ２−クロロ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１,３−ジニトロ
ベンゼン（３ｅ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに４−ｔｅｒｔ−ブチル−２,６−ジ
ニトロフェノール（２ｅ）５.５g（２３ミリモル）を仕
込み、脱水ジエチルホルムアミド ７０mlを加えて室温
で撹拌溶解した。この溶液に、合成例６のジエチルクロ
ロイミニウムクロライド化合物のジエチルホルムアミド
溶液を氷冷下で添加した。反応液を室温で更に６時間撹
拌した後、冷メタノール１リットル中に注ぎ、析出した
結晶を濾取して少量の冷メタノ−ルで洗浄して真空乾燥
し、目的とする化合物（３ｅ）６.１g（純度９５％，収
率９７％）を製造した。このものの融点（１１３〜１１
５℃）は標品のそれ（１１５℃）と一致した。
ベンゼン（３ｅ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに４−ｔｅｒｔ−ブチル−２,６−ジ
ニトロフェノール（２ｅ）５.５g（２３ミリモル）を仕
込み、脱水ジエチルホルムアミド ７０mlを加えて室温
で撹拌溶解した。この溶液に、合成例６のジエチルクロ
ロイミニウムクロライド化合物のジエチルホルムアミド
溶液を氷冷下で添加した。反応液を室温で更に６時間撹
拌した後、冷メタノール１リットル中に注ぎ、析出した
結晶を濾取して少量の冷メタノ−ルで洗浄して真空乾燥
し、目的とする化合物（３ｅ）６.１g（純度９５％，収
率９７％）を製造した。このものの融点（１１３〜１１
５℃）は標品のそれ（１１５℃）と一致した。
【００５０】実施例１３ 化合物（３ｅ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ｅ）５.５g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１２と同様
に処理し、目的とする化合物（３ｅ）６.０g（純度９２
％，収率９２％）を製造した。このものの融点及び元素
分析値は標品のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ｅ）５.５g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１２と同様
に処理し、目的とする化合物（３ｅ）６.０g（純度９２
％，収率９２％）を製造した。このものの融点及び元素
分析値は標品のそれと一致した。
【００５１】実施例１４ ３−α−クロロコレスタン（３ｆ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに３−β−コレスタノール（２ｆ）
８.９g（２３ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加した。
反応液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物
（３ｆ）９.５g（純度９０％，収率９１％）を製造し
た。このものの融点（１０５〜１０６℃）は標品のそれ
（１０４℃）と一致した。
の四つ口フラスコに３−β−コレスタノール（２ｆ）
８.９g（２３ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例６のジエチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジエチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加した。
反応液を実施例１と同様に処理し、目的とする化合物
（３ｆ）９.５g（純度９０％，収率９１％）を製造し
た。このものの融点（１０５〜１０６℃）は標品のそれ
（１０４℃）と一致した。
【００５２】実施例１５ 化合物（３ｆ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ｆ）８.９g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１と同様に
処理し、目的とする化合物（３ｆ）９.６g（純度９３
％，収率９５％）を製造した。このものの融点及び元素
分析値は標品のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ｆ）８.９g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１と同様に
処理し、目的とする化合物（３ｆ）９.６g（純度９３
％，収率９５％）を製造した。このものの融点及び元素
分析値は標品のそれと一致した。
【００５３】実施例１６ ４,４−エチレンジオキシペンタン−１−クロライド
（３g）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに４,４−エチレンジオキシペンタン
−１−オール（２g）３.４g（２３ミリモル）を仕込
み、脱水ジエチルホルムアミド ７０mlを加えて室温で
撹拌溶解した。この溶液に、合成例６のジエチルクロロ
イミニウムクロライド化合物のジエチルホルムアミド溶
液を氷冷下で添加した。反応液を実施例１０と同様に処
理し、無色透明の油状物として目的とする化合物（３
g）３.９g（純度９６％，収率９８％）を製造した。こ
のものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは標品の
それと一致した。
（３g）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに４,４−エチレンジオキシペンタン
−１−オール（２g）３.４g（２３ミリモル）を仕込
み、脱水ジエチルホルムアミド ７０mlを加えて室温で
撹拌溶解した。この溶液に、合成例６のジエチルクロロ
イミニウムクロライド化合物のジエチルホルムアミド溶
液を氷冷下で添加した。反応液を実施例１０と同様に処
理し、無色透明の油状物として目的とする化合物（３
g）３.９g（純度９６％，収率９８％）を製造した。こ
のものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは標品の
それと一致した。
【００５４】実施例１７ 化合物（３g）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２g）３.４g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１０と同様
に処理し、無色透明の油状物として目的とする化合物
（３g）３.８g（純度９４％，収率９５％）を製造し
た。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは
標品のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２g）３.４g（２３ミリモ
ル）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド ７０mlを加
えて室温で撹拌溶解した。この溶液に、合成例７のジメ
チルクロロイミニウムクロライド化合物のジメチルホル
ムアミド溶液とジメチルスルホン １１８mg（５モル
％）とを氷冷下で添加した。反応液を実施例１０と同様
に処理し、無色透明の油状物として目的とする化合物
（３g）３.８g（純度９４％，収率９５％）を製造し
た。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトルは
標品のそれと一致した。
【００５５】実施例１８〜３０ 下記に示す出発物質と表１に示すクロル化剤とを用い、
且つ表２に示す反応条件を採用する以外は実施例１と同
様にしてハロゲン化反応を実施し、目的物であるハロゲ
ン化物を製造した。
且つ表２に示す反応条件を採用する以外は実施例１と同
様にしてハロゲン化反応を実施し、目的物であるハロゲ
ン化物を製造した。
【００５６】
【化１５】
【００５７】
【化１６】
【００５８】
【表１】
【００５９】
【表２】
【００６０】
【化１８】
【００６１】
【化１９】
【００６２】比較例１ 化合物（３ａ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加した。
反応液を室温で更に２４時間撹拌した後、氷水１リット
ル中に注ぎ、析出した結晶を濾取して少量の水で洗浄し
て真空乾燥し、目的とする化合物（３ａ）１２.１g（純
度８０％，収率８３％）を製造した。このものの1Ｈ
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施例１のそれと一致
した。
の四つ口フラスコに化合物（２ａ）１２.５g（純度９０
％，２２.５ミリモル）を仕込み、脱水ジメチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加した。
反応液を室温で更に２４時間撹拌した後、氷水１リット
ル中に注ぎ、析出した結晶を濾取して少量の水で洗浄し
て真空乾燥し、目的とする化合物（３ａ）１２.１g（純
度８０％，収率８３％）を製造した。このものの1Ｈ
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）スペクトルは実施例１のそれと一致
した。
【００６３】比較例２ 化合物（３ｂ）の製造 温度計、塩化カルシウム管及び撹拌機を備えた３００ml
の四つ口フラスコに化合物（２ｂ）１１.４g（純度９２
％，２３.１ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加した。
反応液を比較例２と同様に処理し、目的とする化合物
（３ｂ）の１０.７g（純度８１％，収率８０％）を製造
した。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトル
は実施例３のそれと一致した。
の四つ口フラスコに化合物（２ｂ）１１.４g（純度９２
％，２３.１ミリモル）を仕込み、脱水ジエチルホルム
アミド ７０mlを加えて室温で撹拌溶解した。この溶液
に、合成例７のジメチルクロロイミニウムクロライド化
合物のジメチルホルムアミド溶液を氷冷下で添加した。
反応液を比較例２と同様に処理し、目的とする化合物
（３ｂ）の１０.７g（純度８１％，収率８０％）を製造
した。このものの1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ13）スペクトル
は実施例３のそれと一致した。
【００６４】
【発明の効果】本発明によれば現在、ジメチルハロイミ
ニウム化合物やジフェニルハロイミニウム化合物による
水酸基のハロゲン化方法が共通して持つ欠点、即ち反応
時間の長さ、収率の不安定性、純度の低さ、目的の水酸
基以外の部分がハロゲン化された副生成物の生成等を解
消することができる。
ニウム化合物やジフェニルハロイミニウム化合物による
水酸基のハロゲン化方法が共通して持つ欠点、即ち反応
時間の長さ、収率の不安定性、純度の低さ、目的の水酸
基以外の部分がハロゲン化された副生成物の生成等を解
消することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年３月１１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】 より具体的には、例
えば、Ｊournal of Ｓynthetic Ｏrganic Ｃhemistry,
１９８０，７４６はジメチルホルムアミドに二塩化オ
キサリルを作用させてジメチルクロロイミニウム化合物
を合成し、該化合物を用いて直鎖のアルキル基に置換し
た水酸基をクロル化する方法が開示する。この方法によ
れば、９０％の収率が達成されているが、常にこのよう
な高収率が得られるわけではなく、しかも得られるハロ
ゲン化物の純度は最高でも８０％程度であり、更に反応
時間が２４時間と非常に長い。Ｊournal of the Ｐharm
aceutical Ｓociety of Ｊapan，８５（６）， ５４４
〜５４６（１９６５）には、ジメチルホルムアミドにチ
オニルクロライドを作用させてジメチルクロロイミニウ
ム化合物を生成させ、これを用いてフェノール性水酸基
をクロル化する方法が記載されている。しかしながら、
この方法は、ベンゼン環上に水酸基以外にクロル化され
やすい置換基を有する化合物には適用できないという欠
点、反応系が強酸性になるため、反応終了後直ちに結晶
として系外へ分離できるものにしか適用できず、実用的
ではないという欠点等を有している。
えば、Ｊournal of Ｓynthetic Ｏrganic Ｃhemistry,
１９８０，７４６はジメチルホルムアミドに二塩化オ
キサリルを作用させてジメチルクロロイミニウム化合物
を合成し、該化合物を用いて直鎖のアルキル基に置換し
た水酸基をクロル化する方法が開示する。この方法によ
れば、９０％の収率が達成されているが、常にこのよう
な高収率が得られるわけではなく、しかも得られるハロ
ゲン化物の純度は最高でも８０％程度であり、更に反応
時間が２４時間と非常に長い。Ｊournal of the Ｐharm
aceutical Ｓociety of Ｊapan，８５（６）， ５４４
〜５４６（１９６５）には、ジメチルホルムアミドにチ
オニルクロライドを作用させてジメチルクロロイミニウ
ム化合物を生成させ、これを用いてフェノール性水酸基
をクロル化する方法が記載されている。しかしながら、
この方法は、ベンゼン環上に水酸基以外にクロル化され
やすい置換基を有する化合物には適用できないという欠
点、反応系が強酸性になるため、反応終了後直ちに結晶
として系外へ分離できるものにしか適用できず、実用的
ではないという欠点等を有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】 アルカロイド中間体であるＮ−アシル−
４−クロロ−１,２−ジヒドロピリジンの合成にも、ジ
メチルハロイミニウム化合物が使用されている［Ｊ．Ｏ
rg．Ｃhem．（１９９３）５８，７７３２〜７７３
９］。しかしながら、この方法においても、反応時間が
３日間と著しく長いため、実用的ではない。更に、経口
セファロスポリン抗生物質中間体である３−ハロゲン化
セフェム誘導体の製造にも、ジメチルハロイミニウム化
合物の使用が提案されている（特開昭４９−１１６０９
５号公報）。しかしながら、この方法では、目的の３位
水酸基以外に７位アシル基までクロル化されるため、収
率が６０％程度と低い。また、ジフェニルクロロイミニ
ウムクロライドを用いて、直鎖のアルキル基に置換した
水酸基、直鎖のアルケニル基に置換した水酸基及びコレ
ステロールの水酸基をクロル化する方法が知られている
［Ｃhemistry Ｌetters，ｐｐ１１７３−１１７４
（１９８４）］。しかしながら、この方法においても、
反応時間が長いとか得られるハロゲン化物の純度が低い
とか収率が高水準で安定しないという欠点は解消されて
いない。更に、直鎖の分子内に二重結合やエーテル結合
を含む化合物やコレステロールのクロル化では、収率が
９０％を越えることはなく、工業的に満足できる方法で
はない。
４−クロロ−１,２−ジヒドロピリジンの合成にも、ジ
メチルハロイミニウム化合物が使用されている［Ｊ．Ｏ
rg．Ｃhem．（１９９３）５８，７７３２〜７７３
９］。しかしながら、この方法においても、反応時間が
３日間と著しく長いため、実用的ではない。更に、経口
セファロスポリン抗生物質中間体である３−ハロゲン化
セフェム誘導体の製造にも、ジメチルハロイミニウム化
合物の使用が提案されている（特開昭４９−１１６０９
５号公報）。しかしながら、この方法では、目的の３位
水酸基以外に７位アシル基までクロル化されるため、収
率が６０％程度と低い。また、ジフェニルクロロイミニ
ウムクロライドを用いて、直鎖のアルキル基に置換した
水酸基、直鎖のアルケニル基に置換した水酸基及びコレ
ステロールの水酸基をクロル化する方法が知られている
［Ｃhemistry Ｌetters，ｐｐ１１７３−１１７４
（１９８４）］。しかしながら、この方法においても、
反応時間が長いとか得られるハロゲン化物の純度が低い
とか収率が高水準で安定しないという欠点は解消されて
いない。更に、直鎖の分子内に二重結合やエーテル結合
を含む化合物やコレステロールのクロル化では、収率が
９０％を越えることはなく、工業的に満足できる方法で
はない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】Ｃ１〜Ｃ１５のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、
ペンタデカニルなどの直鎖、分岐状または環状のアルキ
ル基を例示できる。置換オキシカルボニル基としては、
ブロモブトキシカルボニル、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニルなどを例示できる。アシル基としてはホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ベンゾ
イル、トルオイル、ナフトイルなどを例示できる。
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、
ペンタデカニルなどの直鎖、分岐状または環状のアルキ
ル基を例示できる。置換オキシカルボニル基としては、
ブロモブトキシカルボニル、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニルなどを例示できる。アシル基としてはホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ベンゾ
イル、トルオイル、ナフトイルなどを例示できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５８】
【表１】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５９】
【表２】
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式（１）で表されるハロゲン化剤。 【化１】 〔式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又はアリルを
示す。Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す。Ｙは塩素イオ
ン、臭素イオン、ジクロロホスフェートイオン、ジブロ
モホスフェートイオン、クロロスルホネートイオン、ブ
ロモスルホネートイオン、クロロオキサレートイオン又
はブロモオキサレートイオンを示す。〕 - 【請求項２】 一般式（２）で表される水酸基含有化合
物に、有機溶媒中、一般式（１）のハロゲン化剤の少な
くとも１種を作用させて、一般式（３）で表されるハロ
ゲン化物を得ることを特徴とする、水酸基のハロゲン化
方法。 Ａ−ＯＨ （２） 〔式中Ａは直鎖若しくは分枝鎖状のＣ1〜Ｃ4アルキル
基、直鎖若しくは分岐鎖状のＣ2〜Ｃ8アルケニル基、置
換されていても良い単環性若しくは多環性の芳香族炭化
水素基、ステロイド残基又は置換されていても良い単環
性若しくは多環性の複素環炭化水素基を示す。〕 Ａ−Ｘ （３） 〔式中Ａ及びＸは上記に同じ。〕 - 【請求項３】 一般式（２）で表される水酸基含有化合
物に、有機溶媒中、一般式（１）のハロゲン化剤及び一
般式（４）で表されるハロゲン化剤よりなる群から選ば
れる少なくとも１種と、低級アルキルスルホン、低級ア
ルケニルスルホン、アリールスルホン及び複素環スルホ
ンよりなる群から選ばれる少なくとも１種とを同時に作
用させ、一般式（３）で表されるハロゲン化物を得るこ
とを特徴とする、水酸基のハロゲン化方法。 【化２】 〔式中、Ｒ3、Ｒ4はメチル又はフェニルを示す。Ｘ及び
Ｙは前記に同じ。〕 - 【請求項４】 一般式（２）で表される水酸基含有化合
物が、下記の化合物（５）ないし化合物（１１）よりな
る群から選ばれる少なくとも１種である請求項２又は３
記載の水酸基のハロゲン化方法。 化合物（５）：アルキル部分が炭素数１〜１５であり且
つ直鎖又は分岐鎖状であるアルキルアルコール 化合物（６）：アルケニル部分が炭素数２〜８であり且
つ直鎖又は分岐鎖状であるアルケニルアルコール 化合物（７）：３−β−コレステロール 化合物（８）：一般式（８）で表される化合物 【化３】 〔式中、Ｒ5〜Ｒ8は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ
1〜Ｃ4のアルキル基、ニトロ基、水酸基、カルボキシル
基又はアルコキシカルボニル基を示す。〕 化合物（９）：一般式（９ａ）〜（９ｃ）で表される化
合物 【化４】 〔式中、Ｒ9は直鎖若しくは分枝鎖状のＣ1〜Ｃ15のアル
キル基、直鎖若しくは分枝のＣ2〜Ｃ8アルケニル基、シ
クロヘキシル基又はフェニル基を示す。Ｒaは水素原子
又はアシル基を示す。〕 化合物（１０）：一般式（１０）で表される化合物 【化５】 〔式中Ｒ10は水素原子、アミノ基又は保護されたアミノ
基を示す。Ｒ11は水素原子又は低級アルコキシ基を示
す。或いはＲ10とＲ11とが互いに結合して環状のアミノ
保護基となっていても良い。Ｒ12は水素原子又はカルボ
ン酸保護基を示す。〕 化合物（１１）：一般式（１１）で表される化合物 【化６】 〔式中、Ｒ13〜Ｒ16は同一又は異なって、水素原子、Ｃ
1〜Ｃ4のアルキル基、ニトロ基、水酸基、カルボキシル
基又はアルコキシカルボニル基を示す。ｎは１又は２を
示す。〕 - 【請求項５】 一般式（２）で表される水酸基含有化合
物が、化合物（５）ないし化合物（１０）よりなる群か
ら選ばれる少なくとも１種である請求項４に記載の水酸
基のハロゲン化方法。 - 【請求項６】 一般式（２）で表される水酸基含有化合
物が、化合物（７）ないし化合物（１０）よりなる群か
ら選ばれる少なくとも１種である請求項５に記載の水酸
基のハロゲン化方法。 - 【請求項７】 一般式（２）で表される水酸基含有化合
物が、化合物（９）及び化合物（１０）から選ばれる少
なくとも１種である請求項６に記載の水酸基のハロゲン
化方法。 - 【請求項８】 一般式（２）で表される水酸基含有化合
物が、化合物（１０）である請求項７に記載の水酸基の
ハロゲン化方法。
Priority Applications (16)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05273498A JP3202960B2 (ja) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | ハロゲン化剤及び水酸基のハロゲン化方法 |
| PCT/JP1998/005579 WO1999041214A1 (fr) | 1998-02-17 | 1998-12-10 | Agent d'halogenation et procede d'halogenation de groupe hydroxyle |
| EP98959149A EP0976700B1 (en) | 1998-02-17 | 1998-12-10 | Process for halogenating hydroxyl group |
| KR1019997009323A KR100317425B1 (ko) | 1998-02-17 | 1998-12-10 | 할로겐화제 및 수산기의 할로겐화 방법 |
| AT98959149T ATE272050T1 (de) | 1998-02-17 | 1998-12-10 | Verfahren zur halogenierung einer hydroxylgruppe |
| ES03003782T ES2303874T3 (es) | 1998-02-17 | 1998-12-10 | Procedimiento de preparacion de una composicion halogena. |
| ES98959149T ES2224452T3 (es) | 1998-02-17 | 1998-12-10 | Procedimiento de halogenacion de grupo hidroxilo. |
| AU15053/99A AU1505399A (en) | 1998-02-17 | 1998-12-10 | Halogenating agent and process for halogenating hydroxyl group |
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