JPH01186854A - 2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の製造法 - Google Patents
2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の製造法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- -1 2-substituted oxyimino-3-oxobutyric acid Chemical class 0.000 title abstract description 30
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 11
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 7
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 abstract description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 abstract description 6
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-N 2-oxobutanoic acid Chemical group CCC(=O)C(O)=O TYEYBOSBBBHJIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229950003476 aminothiazole Drugs 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- PDMXDQQSMYSAKV-XQRVVYSFSA-N (2z)-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CO\N=C(\C(C)=O)C(O)=O PDMXDQQSMYSAKV-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 2
- WORJRXHJTUTINR-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1COCCO1 WORJRXHJTUTINR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWNGESOREPKWTG-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CON=C(C(O)=O)C(=O)CCl QWNGESOREPKWTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGQMPYHAZGBVKN-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methoxyimino-3-oxobutanoate Chemical compound CON=C(C(C)=O)C(=O)OC(C)(C)C NGQMPYHAZGBVKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMTTUPGTZVAKBF-DAXSKMNVSA-N (2z)-4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CO\N=C(/C(O)=O)C(=O)CBr AMTTUPGTZVAKBF-DAXSKMNVSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazol-2-amine Chemical group NC1=NC=CS1 RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMTTUPGTZVAKBF-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CON=C(C(O)=O)C(=O)CBr AMTTUPGTZVAKBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIUUWIMSJBMPCE-UHFFFAOYSA-N 4-iodo-2-methoxyimino-3-oxobutanoic acid Chemical compound CON=C(C(O)=O)C(=O)CI QIUUWIMSJBMPCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 244000236151 Tabebuia pallida Species 0.000 description 1
- 235000013584 Tabebuia pallida Nutrition 0.000 description 1
- 235000008109 Thuja occidentalis Nutrition 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZMECMQTYGSOI-UHFFFAOYSA-N acetic acid;hydron;bromide Chemical compound Br.CC(O)=O MNZMECMQTYGSOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N acetoacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N dbdmh Chemical compound CC1(C)N(Br)C(=O)N(Br)C1=O VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVPKAWVFTPWPDB-UHFFFAOYSA-N dichlorophosphinic acid Chemical compound OP(Cl)(Cl)=O WVPKAWVFTPWPDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000336 imidazol-5-yl group Chemical group [H]N1C([H])=NC([H])=C1[*] 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC(C)(C)C JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012384 transportation and delivery Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C249/00—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C249/04—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of oximes
- C07C249/12—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of oximes by reactions not involving the formation of oxyimino groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/50—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups bound to carbon atoms of substituted hydrocarbon radicals
- C07C251/60—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups bound to carbon atoms of substituted hydrocarbon radicals of hydrocarbon radicals substituted by carboxyl groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、合成中間体特にセファロスポリン化合物の合
成中間体として有用な2−置換オキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸の工業的多量生産に有利な製造法に関する。
成中間体として有用な2−置換オキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸の工業的多量生産に有利な製造法に関する。
[従来の技術]
2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸は、たとえばセ
フメツキシムなどに代表されるアミノチアゾールセファ
ロスポリン類を製造する際の重要な合成中間体である。
フメツキシムなどに代表されるアミノチアゾールセファ
ロスポリン類を製造する際の重要な合成中間体である。
アミノチアゾールセファロスポリン類はきわめて広い抗
菌スペクトルを有する抗生物質として既に数種類が市販
されかつ臨床的にも広く使用されており、その構造、薬
理活性および製造法については“アンゲバンテ ヘミー
:インターナシロナル エディシジン イン イングリ
ッシュ” [Angevandte Chemle、
Internat 1onalEdition In
English] 24 180〜202(198
5)、“ジャーナル オプ アンチバイオチフス”[J
ournal or Antlbloticsl
3B1738〜1751(1985)等に記載されてい
る。そして、これらのアミノチアゾールセファロスポリ
ン類の製造法において、アミノチアゾール部分の合成中
間体として用いられるのが2−置換オキシイミノ−3−
オキソ酪酸である。
菌スペクトルを有する抗生物質として既に数種類が市販
されかつ臨床的にも広く使用されており、その構造、薬
理活性および製造法については“アンゲバンテ ヘミー
:インターナシロナル エディシジン イン イングリ
ッシュ” [Angevandte Chemle、
Internat 1onalEdition In
English] 24 180〜202(198
5)、“ジャーナル オプ アンチバイオチフス”[J
ournal or Antlbloticsl
3B1738〜1751(1985)等に記載されてい
る。そして、これらのアミノチアゾールセファロスポリ
ン類の製造法において、アミノチアゾール部分の合成中
間体として用いられるのが2−置換オキシイミノ−3−
オキソ酪酸である。
2−R換オキシイミノ−3−オキソ酪酸は、従来2−置
換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルを水酸化ナ
トリウム等のアルカリで加水分解する方法[特開昭54
−98795]、あるいは2−i換オキシイミノ−3−
オキソ酪酸の第三ブチルエステルをトリフルオロ酢酸で
加水分解する方法[特開昭58−92894]によって
合成されている。
換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルを水酸化ナ
トリウム等のアルカリで加水分解する方法[特開昭54
−98795]、あるいは2−i換オキシイミノ−3−
オキソ酪酸の第三ブチルエステルをトリフルオロ酢酸で
加水分解する方法[特開昭58−92894]によって
合成されている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、原料の2−置換オキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸エステルをアルカリで加水分解する方法では収率
が悪いという欠点があり、一方トリフルオロ酢酸で加水
分解する方法では高価な試薬であるトリフルオロ酢酸を
過剰量使用す2必要がある等の欠点があり、いずれの方
法も2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の工業的多
量生産の製造法としては有利なものとは言えない。
ソ酪酸エステルをアルカリで加水分解する方法では収率
が悪いという欠点があり、一方トリフルオロ酢酸で加水
分解する方法では高価な試薬であるトリフルオロ酢酸を
過剰量使用す2必要がある等の欠点があり、いずれの方
法も2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の工業的多
量生産の製造法としては有利なものとは言えない。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、2−1!換オキシイミノ−3−オキソ酪
酸の工業的多量生産に有利な製造法を種々検討した結果
、2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチルと
ハロゲン化水素とを・無水有機溶媒中で反応させれば、
高価な原料を用いることなく目的物の2−置換オキシイ
ミノ−3−オキソ酪酸が高純度・高収率で得られ、2−
51換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の低廉な工業的製
造法として従来法よりも有利なものであることを見出し
、これに基づいて本発明を完成した。
酸の工業的多量生産に有利な製造法を種々検討した結果
、2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチルと
ハロゲン化水素とを・無水有機溶媒中で反応させれば、
高価な原料を用いることなく目的物の2−置換オキシイ
ミノ−3−オキソ酪酸が高純度・高収率で得られ、2−
51換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の低廉な工業的製
造法として従来法よりも有利なものであることを見出し
、これに基づいて本発明を完成した。
即ち、本発明は、2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪
酸第三ブチルとハロゲン化水素とを無水有機溶媒中で反
応させることを特徴とする2−置換オキシイミノ−3−
オキソ酪酸の製造法に関するものである。
酸第三ブチルとハロゲン化水素とを無水有機溶媒中で反
応させることを特徴とする2−置換オキシイミノ−3−
オキソ酪酸の製造法に関するものである。
本発明方法における原料の2〜置換オキシイミノ−3−
オキソ酪酸第三ブチルの好ましい例としては、たとえば
式 [式中、Rは水素原子または置換基を有していてもよい
アルキル基を示す。]で表わされる化合物等が用いられ
る。化合物([)中Rは、水素原子または置換基を有し
ていてもよいアルキル基を示す。
オキソ酪酸第三ブチルの好ましい例としては、たとえば
式 [式中、Rは水素原子または置換基を有していてもよい
アルキル基を示す。]で表わされる化合物等が用いられ
る。化合物([)中Rは、水素原子または置換基を有し
ていてもよいアルキル基を示す。
Rで示されるアルキル基としては、たとえばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の炭素数l〜
4の直鎖状または分枝状のアルキル基等が用いられる。
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の炭素数l〜
4の直鎖状または分枝状のアルキル基等が用いられる。
そして、Rで示されるアルキル基は、置換基を有してい
てもよく、たとえばカルボキシル基、炭素数3〜6のシ
クロアルキル基(たとえばシクロプロピル等)、複素環
基(たとえばイミダゾール−5−イル等の5員含窒素複
素環基等)等の置換基を1〜2個有していてもよい。R
で示される「置換基を有していてもよいアルキル基」の
具体例としては、たとえばメチル、エチル、シクロプロ
ピルメチル、イミダゾール−5−イルメチル。
てもよく、たとえばカルボキシル基、炭素数3〜6のシ
クロアルキル基(たとえばシクロプロピル等)、複素環
基(たとえばイミダゾール−5−イル等の5員含窒素複
素環基等)等の置換基を1〜2個有していてもよい。R
で示される「置換基を有していてもよいアルキル基」の
具体例としては、たとえばメチル、エチル、シクロプロ
ピルメチル、イミダゾール−5−イルメチル。
t−ブトキシカルボニルメチル、1−【−ブトキシカル
ボニル−!−メチルエチル等が用いられる。
ボニル−!−メチルエチル等が用いられる。
化合物(1)の代表的具体例としては、たとえば2−メ
ドキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチ゛ル等がある。
ドキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチ゛ル等がある。
また、目的物の2−11!換オキシイミノ−3−オキソ
酪酸の好ましい例としては、たとえば式[式中のRは前
記と同意義を示す。]で表わされる化合物等が用いられ
る。式(II)におけるRとしては、上記式(1)で述
べたごとき水素原子または置換基を有していてもよいア
ルキル基を示す。化合物(■)の代表的具体例としては
、たとえば2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸等があ
る。
酪酸の好ましい例としては、たとえば式[式中のRは前
記と同意義を示す。]で表わされる化合物等が用いられ
る。式(II)におけるRとしては、上記式(1)で述
べたごとき水素原子または置換基を有していてもよいア
ルキル基を示す。化合物(■)の代表的具体例としては
、たとえば2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸等があ
る。
ハロゲン化水素としては、たとえば塩化水素、臭化水素
等が用いられるが、なかでも塩化水素が好ましい なお、上記化合物(1)、(■)は、それぞれシン(a
yn)配位 であることができ、いずれの状部にあっても本発明方法
に含まれる。
等が用いられるが、なかでも塩化水素が好ましい なお、上記化合物(1)、(■)は、それぞれシン(a
yn)配位 であることができ、いずれの状部にあっても本発明方法
に含まれる。
本反応は無水有機溶媒中においておこなわれる。
有機溶媒としては、反応に悪影響を与えなL)ものなら
何でもよく、たとえばアセトニトリルなどのニトリル類
、テトラヒドロフラン、1.2−ジメトキシエタン、ジ
オキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素な
どの7%ロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類、N。
何でもよく、たとえばアセトニトリルなどのニトリル類
、テトラヒドロフラン、1.2−ジメトキシエタン、ジ
オキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素な
どの7%ロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類、N。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類、ベンゼン、トルエン、キシレン、
ヘキサン、ペンタンなどの炭化水素類など、またはこれ
らの混合物などが用いられ、なかでもハロゲン化炭化水
素(とりわけ塩化メチレンなどの塩化炭化水素)などが
好適なものとして繁用される。この様な有機溶媒の使用
量は、通常2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三
ブチル 1モルに対して0.1〜10Q好ましくは0.
5〜212である。また、反応混合物中に水が存在する
と副生成物の生成を促進するので、反応混合物中に含ま
れる水の量を極力少くするのがよく、そのために上記有
機溶媒は含水量をできる限り減らしたもので実質的に無
水のものが望ましい。
ミドなどのアミド類、ベンゼン、トルエン、キシレン、
ヘキサン、ペンタンなどの炭化水素類など、またはこれ
らの混合物などが用いられ、なかでもハロゲン化炭化水
素(とりわけ塩化メチレンなどの塩化炭化水素)などが
好適なものとして繁用される。この様な有機溶媒の使用
量は、通常2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三
ブチル 1モルに対して0.1〜10Q好ましくは0.
5〜212である。また、反応混合物中に水が存在する
と副生成物の生成を促進するので、反応混合物中に含ま
れる水の量を極力少くするのがよく、そのために上記有
機溶媒は含水量をできる限り減らしたもので実質的に無
水のものが望ましい。
本反応は、2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三
ブチルとハロゲン化水素とを無水有機溶媒中で反応させ
ることにより行うことができ、通常無水有機溶媒中で2
−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチルにハロ
ゲン化水素ガスを所望により加圧またはかくはんしなが
らたとえば吹き込む等で触媒させておこなわれる。また
、使用する無水有機溶媒中にあらかじめハロゲン化水素
を所望により加圧またはかくはんすることにより溶解さ
せておき、この中に2−11換オキシイミノ=3−オキ
ソ酪酸第三ブチルを加えて反応させることによりておこ
なわれてもよい。使用されるハロゲン化水素の量は、用
いられる有機溶媒の種類によって異なるが、通常2−9
i!換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチル 1モ
ルに対して1〜lθモル好ましくは1〜6モルである。
ブチルとハロゲン化水素とを無水有機溶媒中で反応させ
ることにより行うことができ、通常無水有機溶媒中で2
−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチルにハロ
ゲン化水素ガスを所望により加圧またはかくはんしなが
らたとえば吹き込む等で触媒させておこなわれる。また
、使用する無水有機溶媒中にあらかじめハロゲン化水素
を所望により加圧またはかくはんすることにより溶解さ
せておき、この中に2−11換オキシイミノ=3−オキ
ソ酪酸第三ブチルを加えて反応させることによりておこ
なわれてもよい。使用されるハロゲン化水素の量は、用
いられる有機溶媒の種類によって異なるが、通常2−9
i!換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチル 1モ
ルに対して1〜lθモル好ましくは1〜6モルである。
とりわけ有機溶媒として好適な塩化メチレン等の塩化ア
ルキレンを使用する場合には通常2−置換オキシイミノ
−3−オキソ酪酸第三ブチル 1モルに対して1〜3モ
ル好ましくは1.2〜2モルのハロゲン化水素が用いら
れる。
ルキレンを使用する場合には通常2−置換オキシイミノ
−3−オキソ酪酸第三ブチル 1モルに対して1〜3モ
ル好ましくは1.2〜2モルのハロゲン化水素が用いら
れる。
反応温度は、反応が進行する限り特に限定されないが、
通常−50℃〜80℃好ましくは0〜30℃である。反
応温度、溶媒、ハロゲン化水素の使用量等によって異な
るが、ハロゲン化水素の吹き込みは通常0.5〜20時
間好ましくは2〜lθ時間かけておこない、続いてかく
はんまたは静置を通常1〜24時間好ましくは2〜15
時間おこなうのがよい。また、あらかじめハロゲン化水
素を吹き込む等で溶解させておく方法の場合には、反応
温度、溶媒、ハロゲン化水素の使用量等によって異なる
が、2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチル
を加えた後かくはんを通常1〜40時間好ましくは2〜
20時間おこなうのがよい。
通常−50℃〜80℃好ましくは0〜30℃である。反
応温度、溶媒、ハロゲン化水素の使用量等によって異な
るが、ハロゲン化水素の吹き込みは通常0.5〜20時
間好ましくは2〜lθ時間かけておこない、続いてかく
はんまたは静置を通常1〜24時間好ましくは2〜15
時間おこなうのがよい。また、あらかじめハロゲン化水
素を吹き込む等で溶解させておく方法の場合には、反応
温度、溶媒、ハロゲン化水素の使用量等によって異なる
が、2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチル
を加えた後かくはんを通常1〜40時間好ましくは2〜
20時間おこなうのがよい。
反応の結果生成した2−R換オキシイミノ−3−オキソ
酪酸は、反応混合物のまま、あるいは反応混合物から公
知の手段たとえば濃縮、液性変換、溶媒抽出、納品化、
再結晶、クロマトグラフィーなどにより単離、精製した
後に合成中間体として提供されることができる。
酪酸は、反応混合物のまま、あるいは反応混合物から公
知の手段たとえば濃縮、液性変換、溶媒抽出、納品化、
再結晶、クロマトグラフィーなどにより単離、精製した
後に合成中間体として提供されることができる。
合成中間体としての利用例としては、たとえば本発明方
法において得られた2−置換オキシイミノ−3−オキソ
酪酸を無水酸触媒の存在下においてハロゲン化剤と反応
させることにより、合成中間体として有用な4−ハロゲ
ノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸(式 [式中、XはC1,Br、1等のハロゲン原子を、Rは
前記と同様にシン、アンチあるいはそれらの混合物であ
ることを示す。]で表わされる化合物等が好ましい。)
を製造することかで゛きる。
法において得られた2−置換オキシイミノ−3−オキソ
酪酸を無水酸触媒の存在下においてハロゲン化剤と反応
させることにより、合成中間体として有用な4−ハロゲ
ノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸(式 [式中、XはC1,Br、1等のハロゲン原子を、Rは
前記と同様にシン、アンチあるいはそれらの混合物であ
ることを示す。]で表わされる化合物等が好ましい。)
を製造することかで゛きる。
このハロゲン化反応におけるハロゲン化剤としては、た
とえばハロゲン(塩素、臭素、ヨウ素など)、ハロゲン
化スルフリル(塩化スルフリルなど)、N−ハロゲノコ
ハク酸イミド(N−ブロモコハク酸イミド、N−クロロ
コハク酸イミドなど)、1.3−ジブロモ−5,5−ジ
メチルヒダントインなどが用いられ、とりわけ臭素、塩
化スルフリル、N−ブロモコハク酸イミド等が繁用され
る。これらのハロゲン化剤は通常2−置換オキシイミノ
−3−オキソ酪酸 」モルに対して0.5〜1.5モル
使用される。このハロゲン化反応は通常溶媒中でおこな
われる。この様な溶媒としては反応に悪影響を与えない
ものなら何でもよいが、たとえばヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、イソプロピルエーテル。
とえばハロゲン(塩素、臭素、ヨウ素など)、ハロゲン
化スルフリル(塩化スルフリルなど)、N−ハロゲノコ
ハク酸イミド(N−ブロモコハク酸イミド、N−クロロ
コハク酸イミドなど)、1.3−ジブロモ−5,5−ジ
メチルヒダントインなどが用いられ、とりわけ臭素、塩
化スルフリル、N−ブロモコハク酸イミド等が繁用され
る。これらのハロゲン化剤は通常2−置換オキシイミノ
−3−オキソ酪酸 」モルに対して0.5〜1.5モル
使用される。このハロゲン化反応は通常溶媒中でおこな
われる。この様な溶媒としては反応に悪影響を与えない
ものなら何でもよいが、たとえばヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、イソプロピルエーテル。
ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類。
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲ
ン化炭化水素類、酢酸エヂルなどのエステル類、アセト
ンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムアミド、N
、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類またはこれ
らの混合物などが用いられる。
ン化炭化水素類、酢酸エヂルなどのエステル類、アセト
ンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムアミド、N
、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類またはこれ
らの混合物などが用いられる。
好ましい溶媒としては、たとえば塩化メチレンなどのハ
ロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル類などが用いられる。反応温度は目的のハロゲン化が
進行する限り特に限定されないが、通常−50〜80℃
好ましくは一20〜30℃である。無水酸触媒としては
、たとえば塩化水素、臭化水素、硫酸、リン酸、ジクロ
ロリン酸等の無機酸類、ぎ酸、酢酸、p−トルエンスル
ホン酸。
ロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル類などが用いられる。反応温度は目的のハロゲン化が
進行する限り特に限定されないが、通常−50〜80℃
好ましくは一20〜30℃である。無水酸触媒としては
、たとえば塩化水素、臭化水素、硫酸、リン酸、ジクロ
ロリン酸等の無機酸類、ぎ酸、酢酸、p−トルエンスル
ホン酸。
メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、フ
ッ化はう素、塩化アルミニウム、四塩化チタン等のルイ
ス酸類などが用いられる。好ましい無水酸触媒はたとえ
ば市販の臭化水素酢酸溶液等である。また、このハロゲ
ン化反応においては、原料として本発明方法で生成した
2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸を反応混合物の
ままで使用することができ、この場合には本発明方法で
使用されたハロゲン化水素の過剰分がこのハロゲン化反
応における無水酸触媒として使用されることができるの
で、本発明方法に続いてこのハロゲン化反応を行うと4
−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸を
工業的に多量生産するのに有利である。反応時間は、用
いられる溶媒、ハロゲン化剤、無水酸触媒、反応温度等
によって異なるが通常0.5〜20時間、好ましくは1
〜6時間である。
ッ化はう素、塩化アルミニウム、四塩化チタン等のルイ
ス酸類などが用いられる。好ましい無水酸触媒はたとえ
ば市販の臭化水素酢酸溶液等である。また、このハロゲ
ン化反応においては、原料として本発明方法で生成した
2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸を反応混合物の
ままで使用することができ、この場合には本発明方法で
使用されたハロゲン化水素の過剰分がこのハロゲン化反
応における無水酸触媒として使用されることができるの
で、本発明方法に続いてこのハロゲン化反応を行うと4
−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸を
工業的に多量生産するのに有利である。反応時間は、用
いられる溶媒、ハロゲン化剤、無水酸触媒、反応温度等
によって異なるが通常0.5〜20時間、好ましくは1
〜6時間である。
かくして得られる4−ハロゲノ−2−l!置換オキシイ
ミノ3−オキソ酪酸は、反応混合物のまま合成中間体と
して用いてもよく、また公知の手段たとえば濃縮、液性
変換、溶媒抽出、結晶化、再納品、クロマトグラフィー
などにより単離、精製した後に合成中間体として提供さ
れることもできる。
ミノ3−オキソ酪酸は、反応混合物のまま合成中間体と
して用いてもよく、また公知の手段たとえば濃縮、液性
変換、溶媒抽出、結晶化、再納品、クロマトグラフィー
などにより単離、精製した後に合成中間体として提供さ
れることもできる。
このようにして得られる4−ハロゲノ−2−置換オキシ
イミノ−3−オキソ酪酸の代表例としては、たとえば次
のもの等がある。
イミノ−3−オキソ酪酸の代表例としては、たとえば次
のもの等がある。
(i) 4−クロロ−2−メトキシイミノ−3−オキソ
酪酸 (ii) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸 (iii) 4−ヨード−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸 なお、本発明において原料として用いられる2−置換オ
キシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチルは、たとえば特
開昭56−92894などに記載されている方法あるい
はそれに準じた方法等によって合成されることができる
。
酪酸 (ii) 4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸 (iii) 4−ヨード−2−メトキシイミノ−3−
オキソ酪酸 なお、本発明において原料として用いられる2−置換オ
キシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチルは、たとえば特
開昭56−92894などに記載されている方法あるい
はそれに準じた方法等によって合成されることができる
。
[作 用]
本発明方法には、2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪
酸の従来の製造法に比べ、 (1) 安価な原料を用いることができる、(2)目
的物が高純度、高収率で得られる、(3)次の工程とし
てハロゲン化反応を連結するのに有利である、 などの優れた点があるので本発明方法は2−置換オキシ
イミノ−3−オキソ酪酸の工業的製法としては極めて有
用である。その結果、2−置換オキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸を合成中間体として使用する最終目的物の工業的
製法において、本発明方法はその合成中間体の有利な製
法となり得る。
酸の従来の製造法に比べ、 (1) 安価な原料を用いることができる、(2)目
的物が高純度、高収率で得られる、(3)次の工程とし
てハロゲン化反応を連結するのに有利である、 などの優れた点があるので本発明方法は2−置換オキシ
イミノ−3−オキソ酪酸の工業的製法としては極めて有
用である。その結果、2−置換オキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸を合成中間体として使用する最終目的物の工業的
製法において、本発明方法はその合成中間体の有利な製
法となり得る。
たとえば、本発明方法で得られる2−11換オキシイミ
ノ−3−オキソ酪酸を館記のごとくハロゲン化して得ら
れる4−ハロゲノ−2−R換オキシイミノ−3−オキソ
酪酸とチオ尿素とを反応させ、得られる(、Z>−2−
置換オキシイミノ−2−(アミノチアゾール−4−イル
)酢酸を必要に応じてそのカルボキシル基の反応性誘導
体に導いた後に7−アミノ−3−無置換または置換−3
−セフェム−4−カルポル酸またはその塩あるいはエス
テルと反応させる、あるいは4−ハロゲノ−2−置換オ
キシイミノ−3−オキソ酪酸を必要に応じてそのカルボ
キシル基の反応性誘導体に導いた後に7−アミノ−3−
無置換または置換−3−セフェム−4−カルボン酸また
はその塩あるいはエステルと反応させ、次いでチオ尿素
と反応させるなどにより、優れた抗菌作用を有するアミ
ノチアゾール系セファロスポリンの7β−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−置換オキ
シイミノアセトアミド]−3−無置換または置換−3−
セフェム−4−カルボン酸またはその塩あるいはエステ
ルなどに導びくことかできる(特開昭51−14929
6.特開昭52−102293゜特開昭52−1251
90.特開昭53−137988、特開昭54−929
6.特開昭53−5193.特開昭54−98795.
特開昭6O−6498G、特開昭6O−248691)
]。
ノ−3−オキソ酪酸を館記のごとくハロゲン化して得ら
れる4−ハロゲノ−2−R換オキシイミノ−3−オキソ
酪酸とチオ尿素とを反応させ、得られる(、Z>−2−
置換オキシイミノ−2−(アミノチアゾール−4−イル
)酢酸を必要に応じてそのカルボキシル基の反応性誘導
体に導いた後に7−アミノ−3−無置換または置換−3
−セフェム−4−カルポル酸またはその塩あるいはエス
テルと反応させる、あるいは4−ハロゲノ−2−置換オ
キシイミノ−3−オキソ酪酸を必要に応じてそのカルボ
キシル基の反応性誘導体に導いた後に7−アミノ−3−
無置換または置換−3−セフェム−4−カルボン酸また
はその塩あるいはエステルと反応させ、次いでチオ尿素
と反応させるなどにより、優れた抗菌作用を有するアミ
ノチアゾール系セファロスポリンの7β−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−置換オキ
シイミノアセトアミド]−3−無置換または置換−3−
セフェム−4−カルボン酸またはその塩あるいはエステ
ルなどに導びくことかできる(特開昭51−14929
6.特開昭52−102293゜特開昭52−1251
90.特開昭53−137988、特開昭54−929
6.特開昭53−5193.特開昭54−98795.
特開昭6O−6498G、特開昭6O−248691)
]。
[実施例]
以下に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが
、これらによって本発明は何ら限定されるものではない
。
、これらによって本発明は何ら限定されるものではない
。
なお、実施例、参考例で用いる記号は次のような意義を
有する。
有する。
S:シングレット、CDCl5:重クロロホルム、%:
重量%、NMII(核磁気共鳴スペクトル)は90MH
zにおいてテトラメチルシランを内部標準に用いて測定
し、化学シフトの値をδ値(ppm)により示した。
重量%、NMII(核磁気共鳴スペクトル)は90MH
zにおいてテトラメチルシランを内部標準に用いて測定
し、化学シフトの値をδ値(ppm)により示した。
実施例1
2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチル805
gを塩化メチレン2.812に溶解した。この溶液中に
3〜6℃で塩化水素210gを8時間かけて吹き込み、
続いて5℃で15時間放置した。
gを塩化メチレン2.812に溶解した。この溶液中に
3〜6℃で塩化水素210gを8時間かけて吹き込み、
続いて5℃で15時間放置した。
上澄液を濃縮乾固して2−メトキレイミノ−3−オキυ
酪酸556gを結晶性の固体として得た。
酪酸556gを結晶性の固体として得た。
収率95゜8%
NMR(CDCIs):δ4.17(3■、s)、2.
44(31,s)ppm実施例2 1.4−ジオキサン150d中に15℃において塩化水
素をほぼ飽和状態になるまで吹き込み、この中に1.4
−ジオキサン172−を加えて希釈して4規定塩化水素
−1,4−ジオキサン溶液363−を得た。
44(31,s)ppm実施例2 1.4−ジオキサン150d中に15℃において塩化水
素をほぼ飽和状態になるまで吹き込み、この中に1.4
−ジオキサン172−を加えて希釈して4規定塩化水素
−1,4−ジオキサン溶液363−を得た。
2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチル35.
Ogにこの4規定塩化水素−1,4−ジオキサン溶液2
00hIlを加えて溶解し、23〜25℃で13時間か
くはんした。上澄液を濃縮し、残留物に塩化メチレン2
00dを加えて溶解し、上澄液に20%塩化ナトリウム
水溶液301fを加えて振り、有機層を分離し無水硫酸
マグネシウム12gを加えて乾燥し、減圧下で濃縮乾固
して2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸21.8gを
結晶性の固体として得た。収率86.4%本品のNMR
スペクトルは実施例1で得られたものと一致した。
Ogにこの4規定塩化水素−1,4−ジオキサン溶液2
00hIlを加えて溶解し、23〜25℃で13時間か
くはんした。上澄液を濃縮し、残留物に塩化メチレン2
00dを加えて溶解し、上澄液に20%塩化ナトリウム
水溶液301fを加えて振り、有機層を分離し無水硫酸
マグネシウム12gを加えて乾燥し、減圧下で濃縮乾固
して2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸21.8gを
結晶性の固体として得た。収率86.4%本品のNMR
スペクトルは実施例1で得られたものと一致した。
参考例
実施例1の方法で得られた2−メトキシイミノ−3−オ
キソ酪酸460gを塩化メチレン3Qに溶解し、この中
に25%臭化水素酢酸溶液46wt1を加えた。この溶
液中に7〜15℃で臭素372gを塩化メチレン372
dに溶解した溶液を2時間かけて滴下した。次に7〜8
℃で窒素を30分間激しく吹き込んで副生じた臭化水素
を除去した。
キソ酪酸460gを塩化メチレン3Qに溶解し、この中
に25%臭化水素酢酸溶液46wt1を加えた。この溶
液中に7〜15℃で臭素372gを塩化メチレン372
dに溶解した溶液を2時間かけて滴下した。次に7〜8
℃で窒素を30分間激しく吹き込んで副生じた臭化水素
を除去した。
上澄液にシリカゲル(キーゼルゲル60.70〜230
メツシユ、メルク社製)80gおよび活性炭(白すギ粗
粒A、武田薬品工業(株)製)30gを加え、10〜1
5℃で30分間かくはんした後、ろ過して不溶物を除去
した。ろ液を減圧濃縮し、残留油状物をキシレン685
−に溶解し、5℃で15時間静置した。晶出した結晶を
ろ取し、l:1(V/V)のキシレン−n−ヘキサン混
液100adおよびn−ヘキサン200−で洗浄し、減
圧乾燥して4−ブロモー2−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸434gを得た。ろ液を減圧濃縮し、残留油状物
に100:15(V/V)+7)キシL/”J n−
ヘキサン混液238−を加えて結晶化をおこない、4−
ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸をさらに
82.3g得た。収率72.7% N M n (CD CIs):δ 4.36(2H,
s)、4.20(311,s)ppm[発明の効果] 本発明は、合成中間体特にセファロスポリン化合物の有
用な合成中間体である2−置換オキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸の工業的多量生産に有利な製造法を提供すること
ができる。
メツシユ、メルク社製)80gおよび活性炭(白すギ粗
粒A、武田薬品工業(株)製)30gを加え、10〜1
5℃で30分間かくはんした後、ろ過して不溶物を除去
した。ろ液を減圧濃縮し、残留油状物をキシレン685
−に溶解し、5℃で15時間静置した。晶出した結晶を
ろ取し、l:1(V/V)のキシレン−n−ヘキサン混
液100adおよびn−ヘキサン200−で洗浄し、減
圧乾燥して4−ブロモー2−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸434gを得た。ろ液を減圧濃縮し、残留油状物
に100:15(V/V)+7)キシL/”J n−
ヘキサン混液238−を加えて結晶化をおこない、4−
ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸をさらに
82.3g得た。収率72.7% N M n (CD CIs):δ 4.36(2H,
s)、4.20(311,s)ppm[発明の効果] 本発明は、合成中間体特にセファロスポリン化合物の有
用な合成中間体である2−置換オキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸の工業的多量生産に有利な製造法を提供すること
ができる。
Claims (1)
- 2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸第三ブチルとハ
ロゲン化水素とを無水有機溶媒中で反応させることを特
徴とする2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の製造
法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63009271A JP2595605B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の製造法 |
US07/295,510 US4927964A (en) | 1988-01-18 | 1989-01-11 | Method for production of 2-oxyimino-3-oxobutyric acids |
EP19890100619 EP0325183A3 (en) | 1988-01-18 | 1989-01-14 | Method for the production of 2-oxyimino-3-oxobutyric acids |
IE890128A IE890128L (en) | 1988-01-18 | 1989-01-17 | Method of producing 2-substituted oximino-3-oxobutyric¹acids. |
CN89100257A CN1038637A (zh) | 1988-01-18 | 1989-01-17 | 2-氧化亚氨基-3-氧代丁酸的制备方法 |
HU89187A HU200998B (en) | 1988-01-18 | 1989-01-18 | Process for producing 2-oxymino-3-oxobutyric acid derivatives |
KR1019890000489A KR890011830A (ko) | 1988-01-18 | 1989-01-18 | 2-옥시이미노 -3- 옥소부티르산의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63009271A JP2595605B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01186854A true JPH01186854A (ja) | 1989-07-26 |
JP2595605B2 JP2595605B2 (ja) | 1997-04-02 |
Family
ID=11715791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63009271A Expired - Fee Related JP2595605B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の製造法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4927964A (ja) |
EP (1) | EP0325183A3 (ja) |
JP (1) | JP2595605B2 (ja) |
KR (1) | KR890011830A (ja) |
CN (1) | CN1038637A (ja) |
HU (1) | HU200998B (ja) |
IE (1) | IE890128L (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0393762A (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-18 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 4‐ハロゲノ‐2‐アルコキシイミノ‐3‐オキソ脂肪酸の製造方法 |
IN192139B (ja) * | 2001-11-26 | 2004-02-21 | Lupin Ltd | |
WO2007037411A1 (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Mitsubishi Materials Corporation | ペルフルオロアルカンスルホン酸カリウムとその製造方法 |
CN111533656A (zh) * | 2020-05-27 | 2020-08-14 | 龙曦宁(上海)医药科技有限公司 | 一种4-甲氧基-3-氧代丁酸叔丁酯的合成方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5692894A (en) * | 1979-11-21 | 1981-07-27 | Hoffmann La Roche | Cephalosporin derivative and its manufacture |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4107380A (en) * | 1976-11-12 | 1978-08-15 | American Can Company | Non-blocking coating composition |
US4191673A (en) * | 1976-11-12 | 1980-03-04 | American Can Company | Non-blocking coating composition |
JPS5498795A (en) * | 1978-01-13 | 1979-08-03 | Takeda Chem Ind Ltd | Cephalosporin derivative and its preparation |
US4458072A (en) * | 1980-10-10 | 1984-07-03 | Hoffmann-La Roche Inc. | Acyl derivatives |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP63009271A patent/JP2595605B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-01-11 US US07/295,510 patent/US4927964A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-14 EP EP19890100619 patent/EP0325183A3/en not_active Withdrawn
- 1989-01-17 IE IE890128A patent/IE890128L/xx unknown
- 1989-01-17 CN CN89100257A patent/CN1038637A/zh active Pending
- 1989-01-18 KR KR1019890000489A patent/KR890011830A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-01-18 HU HU89187A patent/HU200998B/hu not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5692894A (en) * | 1979-11-21 | 1981-07-27 | Hoffmann La Roche | Cephalosporin derivative and its manufacture |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HUT49324A (en) | 1989-09-28 |
KR890011830A (ko) | 1989-08-22 |
JP2595605B2 (ja) | 1997-04-02 |
IE890128L (en) | 1989-07-18 |
HU200998B (en) | 1990-09-28 |
EP0325183A3 (en) | 1990-12-19 |
EP0325183A2 (en) | 1989-07-26 |
US4927964A (en) | 1990-05-22 |
CN1038637A (zh) | 1990-01-10 |
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