JPH035718A - プラスチック液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
プラスチック液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH035718A JPH035718A JP13970989A JP13970989A JPH035718A JP H035718 A JPH035718 A JP H035718A JP 13970989 A JP13970989 A JP 13970989A JP 13970989 A JP13970989 A JP 13970989A JP H035718 A JPH035718 A JP H035718A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチック液晶表示素子の製造方法に関す
る。
る。
従来のプラスチック液晶表示素子の製造方法は、プラス
チック液晶表示素子の基板となるプラスチックフィルム
単体をシート状で流動するか、もしくはロール状で連続
的に流動し加工してプラスチック液晶表示素子を製造し
ていた。
チック液晶表示素子の基板となるプラスチックフィルム
単体をシート状で流動するか、もしくはロール状で連続
的に流動し加工してプラスチック液晶表示素子を製造し
ていた。
しかしながら、上記プラスチック液晶表示素子の製造方
法は、シートあるいはロールで流動する為、取り扱いや
機械的強度の点から、５０μｍ以下のフィルムの流動は
困難であり、厚みに制限があるという問題点を有してい
た。
法は、シートあるいはロールで流動する為、取り扱いや
機械的強度の点から、５０μｍ以下のフィルムの流動は
困難であり、厚みに制限があるという問題点を有してい
た。
そこで本発明は、従来のこのような問題点を解決するた
めになされたものであり、工程流動性が向上し、更に、
極薄プラスチック液晶表示素子が得られるプラスチック
液晶表示素子の製造方法をｈｔｘすることを「ｌ的とす
る。
めになされたものであり、工程流動性が向上し、更に、
極薄プラスチック液晶表示素子が得られるプラスチック
液晶表示素子の製造方法をｈｔｘすることを「ｌ的とす
る。
本発明のプラスチック液晶表示素ｒの製造方法は、液晶
層を電極が形成されたプラスチック基板で挾んだプラス
チック液晶表示素子の製造方法において、離型フィルム
上に前記プラスチック基板となる高分子樹脂を積層する
工程、前記離型フィルムに積層された状態で流動する工
程、離型フィルムを剥がす工程とを有することを特徴と
する。
層を電極が形成されたプラスチック基板で挾んだプラス
チック液晶表示素子の製造方法において、離型フィルム
上に前記プラスチック基板となる高分子樹脂を積層する
工程、前記離型フィルムに積層された状態で流動する工
程、離型フィルムを剥がす工程とを有することを特徴と
する。
〔実 施 例１〕
まず、第１図を用いて説明する。
支持体３となるプラスチックフィルムとして、約１００
μｍのポリカーボネートフィルムを用い、該フィルム上
に離型剤２として、シリコン系の樹脂を塗布する。更に
その上にプラスチック液晶表示素子の基板１となる膜を
均一にコーティングまたはラミネートして形成する。本
実施例では基板１−とじて、フェノキシ樹脂をコーティ
ングして約４０μｍの膜を形成した。次に、支持体３上
に低温スパッタリング法で透明導電膜であるインジウム
錫酸化物を約５００ の厚みに形成しフォトリソグラ
フ法により電極を形成する。更に両側基板に配向剤を塗
布し焼成したものに配向処理をする。
μｍのポリカーボネートフィルムを用い、該フィルム上
に離型剤２として、シリコン系の樹脂を塗布する。更に
その上にプラスチック液晶表示素子の基板１となる膜を
均一にコーティングまたはラミネートして形成する。本
実施例では基板１−とじて、フェノキシ樹脂をコーティ
ングして約４０μｍの膜を形成した。次に、支持体３上
に低温スパッタリング法で透明導電膜であるインジウム
錫酸化物を約５００ の厚みに形成しフォトリソグラ
フ法により電極を形成する。更に両側基板に配向剤を塗
布し焼成したものに配向処理をする。
次にエポキシ系シール剤と上下導通剤をそれぞれスクリ
ーン印刷したのち、グラスファイバーをフィルム表面に
散布し、両基板を組み合せシール剤を加熱硬化させた。
ーン印刷したのち、グラスファイバーをフィルム表面に
散布し、両基板を組み合せシール剤を加熱硬化させた。
この組み立てられた液晶セルをンヤーリングを用いて所
定の大きさに切断してから、液晶を注入する（第２図参
照）。ここまでは、支持体３のポリカーボネートフィル
ムとともに流動して、プラスチック液晶表示素子ができ
上がったこの状態で支持体３のポリカーボネートフィル
ムを剥離した。尚この工程はシールの加熱硬化という加
熱工程を有しているので、それを利用して基板１と支持
体３の熱膨張率を変えておくと支持体３が剥離しやすく
なる。
定の大きさに切断してから、液晶を注入する（第２図参
照）。ここまでは、支持体３のポリカーボネートフィル
ムとともに流動して、プラスチック液晶表示素子ができ
上がったこの状態で支持体３のポリカーボネートフィル
ムを剥離した。尚この工程はシールの加熱硬化という加
熱工程を有しているので、それを利用して基板１と支持
体３の熱膨張率を変えておくと支持体３が剥離しやすく
なる。
〔実 施 例２〕
また、支持体に用いるフィルムをポリカーボネートフィ
ルム以外にポリエチレンテレフタレート等のポリエチレ
ン系のフィルムやポリエーテルサルフォン等のポリサル
フォン系の熱可塑性フィルムに変えても同様の効果が得
られた。
ルム以外にポリエチレンテレフタレート等のポリエチレ
ン系のフィルムやポリエーテルサルフォン等のポリサル
フォン系の熱可塑性フィルムに変えても同様の効果が得
られた。
〔実 施 例３〕
更に約４０μｍのフィルムを離型剤を塗布した支持体の
上にラミネートして、流動しても同様の効果が得られた
。尚コーティングあるいはラミネートする液晶セルの基
板フィルムには、上記のフェノキシ樹脂以外に、ポリエ
チレンテレフタレート等のポリエチレン系樹脂やポリエ
ーテルサルフォン等のポリエチレン系樹脂等が適してい
る。
上にラミネートして、流動しても同様の効果が得られた
。尚コーティングあるいはラミネートする液晶セルの基
板フィルムには、上記のフェノキシ樹脂以外に、ポリエ
チレンテレフタレート等のポリエチレン系樹脂やポリエ
ーテルサルフォン等のポリエチレン系樹脂等が適してい
る。
以上述べたように本発明によれば、プラスチック液晶表
示素子の基板となる膜をプラスチックフィルムの支持体
にラミネートあるいは、コーティングし工程流動し最後
に剥離することにより、５０μｍ以下のフィルム基板で
液晶表示素子を製造することを可能になり極薄軽量のプ
ラスチック液晶表示素子を提供できるといった効果を有
する。
示素子の基板となる膜をプラスチックフィルムの支持体
にラミネートあるいは、コーティングし工程流動し最後
に剥離することにより、５０μｍ以下のフィルム基板で
液晶表示素子を製造することを可能になり極薄軽量のプ
ラスチック液晶表示素子を提供できるといった効果を有
する。
第４図は従来の基板フィルムの断面図。
・基板
・離型剤
・支持体
・透明導電膜
・液晶層
・配向膜
・シール材
・基板フィルム
以上
第１図は本発明に用いた基板フィルムを支持体にコーテ
ィングあるいはラミネートした構成を示す断面図。 第２図は実施例１における液晶注入上りの液晶セルを示
す断面図。 第３図は支持体を剥離した液晶セルの断面図。
ィングあるいはラミネートした構成を示す断面図。 第２図は実施例１における液晶注入上りの液晶セルを示
す断面図。 第３図は支持体を剥離した液晶セルの断面図。
Claims (1)
- 液晶層を電極が形成されたプラスチック基板で挾んだプ
ラスチック液晶表示素子の製造方法において、離型フィ
ルム上に前記プラスチック基板となる高分子樹脂を積層
する工程、前記離型フィルムに積層された状態で流動す
る工程、離型フィルムを剥がす工程とを有することを特
徴とするプラスチック液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13970989A JPH035718A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | プラスチック液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13970989A JPH035718A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | プラスチック液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035718A true JPH035718A (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=15251594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13970989A Pending JPH035718A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | プラスチック液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH035718A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19508502A1 (de) * | 1994-07-18 | 1996-01-25 | Sharp Kk | Substratträger-Spanneinrichtung und Verfahren zum Herstellen eines LCD-Elements unter Verwendung desselben |
| WO2007108659A1 (en) * | 2006-03-23 | 2007-09-27 | Lg Chem, Ltd. | Pressure sensitive adhesive composition for transporting flexible substrate |
| WO2008007622A1 (fr) * | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Asahi Glass Company, Limited | substrat de verre avec verre de protection, processus de fabrication d'UN affichage EN utilisant un SUBSTRAT DE VERRE AVEC VERRE DE PROTECTION, et silicone pour papier détachable |
| WO2008111361A1 (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-18 | Asahi Glass Company, Limited | 保護ガラス付ガラス基板及び保護ガラス付ガラス基板を用いた表示装置の製造方法 |
| US7892385B2 (en) * | 2006-02-02 | 2011-02-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Adhesive member and method of manufacturing display device using the same |
-
1989
- 1989-06-01 JP JP13970989A patent/JPH035718A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5869150A (en) * | 1994-07-18 | 1999-02-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate carrier jig and method of producing liquid crystal display element by using the substrate carrier jig |
| US6037026A (en) * | 1994-07-18 | 2000-03-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate carrier jig and method of producing liquid crystal display element by using the substrate carrier jig |
| DE19508502B4 (de) * | 1994-07-18 | 2007-04-12 | Sharp K.K. | Substratträger-Spanneinrichtung und Verfahren zum Herstellen eines LCD-Elements unter Verwendung derselben |
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| US8303754B2 (en) | 2006-07-12 | 2012-11-06 | Asahi Glass Company, Limited | Glass substrate with protective glass, process for producing display device using glass substrate with protective glass, and silicone for release paper |
| JPWO2008007622A1 (ja) * | 2006-07-12 | 2009-12-10 | 旭硝子株式会社 | 保護ガラス付ガラス基板、保護ガラス付ガラス基板を用いた表示装置の製造方法及び剥離紙用シリコーン |
| WO2008007622A1 (fr) * | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Asahi Glass Company, Limited | substrat de verre avec verre de protection, processus de fabrication d'UN affichage EN utilisant un SUBSTRAT DE VERRE AVEC VERRE DE PROTECTION, et silicone pour papier détachable |
| WO2008111361A1 (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-18 | Asahi Glass Company, Limited | 保護ガラス付ガラス基板及び保護ガラス付ガラス基板を用いた表示装置の製造方法 |
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| JP5532918B2 (ja) * | 2007-03-12 | 2014-06-25 | 旭硝子株式会社 | 保護ガラス付ガラス基板を用いた表示装置の製造方法 |
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