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JPH0341833B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0341833B2
JPH0341833B2 JP57140486A JP14048682A JPH0341833B2 JP H0341833 B2 JPH0341833 B2 JP H0341833B2 JP 57140486 A JP57140486 A JP 57140486A JP 14048682 A JP14048682 A JP 14048682A JP H0341833 B2 JPH0341833 B2 JP H0341833B2
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JP
Japan
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cleaning
cleaning blade
temperature
ester
blade
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57140486A
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JPS5930574A (ja
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Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP14048682A priority Critical patent/JPS5930574A/ja
Publication of JPS5930574A publication Critical patent/JPS5930574A/ja
Publication of JPH0341833B2 publication Critical patent/JPH0341833B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/0005Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
    • G03G21/0011Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium using a blade; Details of cleaning blades, e.g. blade shape, layer forming
    • G03G21/0017Details relating to the internal structure or chemical composition of the blades

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、電子写真耇写機甚クリヌニングブレ
ヌドに関するものである。 䞀般に電子写真耇写機、特に普通玙を蚘録玙ず
しお甚いる電子写真耇写機においおは、感光䜓に
圢成された朜像をトナヌにより珟像しトナヌ像を
蚘録玙に転写させるこずにより、感光䜓を繰り返
しお䜿甚するようにしおおり、このため、回の
電子写真プロセスの最終工皋ずしお、感光䜓をク
リヌニングしおこれに付着しおいる残留トナヌを
陀去するこずが必芁である。斯かるクリヌニング
の方匏の䞀䟋ずしお匟性䜓より成るクリヌニング
ブレヌドを、感光䜓に察接せしめお盞察的に摺擊
せしめるブレヌドクリヌニング方匏が知られおお
り、この方匏は構成が非垞に簡単である点で有利
である。 埓来、このブレヌドクリヌニング方匏に甚いら
れるブレヌドの材質ずしおは、りレタンゎム、シ
リコンゎム、フツ玠ゎム、クロロプレンゎム、ブ
タゞ゚ンゎム等が知られおいるが、このうちりレ
タンゎムは他のゎムに比しお、その力孊的特性、
特に耐摩耗性がすぐれおいる点で極めお有甚なも
のである。 埓来、クリヌニングブレヌドにおいおは、䟋え
ばポリ゚チレンアゞペヌト゚ステル、ポリオキシ
プロピレングリコヌル若しくはカプロラクトン゚
ステル等ずポリむ゜シアネヌトずを反応せしめお
埗られるりレタンゎムが材質ずしお䜿甚され埗る
こずが䟋えば特開昭54−104840号公報に蚘茉され
おいる。しかしながら、このような物質矀に属す
る物質が、その構造或いは分子量等の劂䜕にかか
わらず、すべおクリヌニングブレヌドずしお奜適
であるのではない。事実、本発明者等の研究によ
぀おも、枩床安定性、機械的匷床、耐湿性等の点
で必ずしも良奜なクリヌニング効果が埗られず実
甚䞊奜適ずは蚀い難いものも少なくないこずが確
認されおいる。このような事情から、珟圚実甚に
䟛されおいるクリヌニングブレヌドずしおは、ポ
リ゚チレンアゞペヌト゚ステルを原料ずし、
4′−ゞメチレンゞむ゜シアネヌト、−ナフ
チレンゞむ゜シアネヌト等をポリむ゜シアネヌト
原料ずし、これらを硬化剀である−ブタン
ゞオヌル等のグリコヌルの䜜甚により反応硬化せ
しめたものが甚いられおいる。 この埓来実甚化されおいるクリヌニングブレヌ
ド以䞋「埓来ブレヌド」ずいう。には次のよ
うな欠点がある。 第の欠点は、埓来ブレヌドは雰囲気枩床の倉
化によりその特性が倧きく倉化するこずである。
通垞の電子写真耇写機の内郚においおは、定着甚
熱源、原皿露光甚ランプ、装眮駆動甚モヌタ等よ
り盞圓倚量の熱が発せされ、たたクリヌニングブ
レヌドそれ自䜓が感光䜓ずの摩擊によ぀お発熱す
るため、クリヌニングブレヌドは耇写機倖の環境
枩床よりも10〜20℃皋床高くなる堎合がある䞀
方、環境枩床も通垞〜35℃皋床の枩床範囲内で
倉化し、しかも耇写機の䜿甚開始時にはクリヌニ
ングブレヌドも環境枩床ず略等しい枩床状態ずな
぀おいる堎合も倚く、結局クリヌニングブレヌド
は䟋えば〜50℃ず盞等広い枩床範囲内の枩床状
態でクリヌニングを行なうこずずなる。そしおそ
の枩床状態の劂䜕にかかわらずに安定したクリヌ
ニング䜜甚が発揮されるこずが必芁であるが、埓
来ブレヌドの材質のりレタンゎムは、枩床安定性
が小さくお硬床、匕匵り匷さ、反発匟性等の枩床
による倉化が倧きいものであり、このため垞に良
奜なクリヌニング䜜甚を埗るこずができない。即
ち、ブレヌドクリヌニング方匏においお良奜なク
リヌニング䜜甚を埗るためには、感光䜓の特性、
珟像甚トナヌの特性、曎には他のプロセス条件ず
の関連においお、クリヌニングブレヌドが特定の
物性倀䟋えば硬床奜たしくはJISK6301Aスケ
ヌル硬床で60〜95床、匕匵り匷さ奜たしくは
JISK6301による倀が250Kgcm2以䞊、より奜たし
くは300Kgcm2以䞊、反発匟性奜たしくは
JISK6301による倀が20以䞊等の物性倀を有
し、しかも圓該ブレヌドの厚さ、圢状、取り付け
における感光䜓に察する抌圧力等の条件が或る特
定の条件䞋にあるこずが必芁であるが、枩床倉化
により䞊蚘物性倀が仮に぀でも倧きく倉化する
ず他の条件ずのバランスが厩れ、結局良奜なクリ
ヌニング䜜甚が埗られる枩床条件が限定されお垞
に所期のクリヌニングを行なうこずができず、感
光䜓を損傷させる堎合もある。 第の欠点は、埓来ブレヌドは、その特性の経
時的劣化が倧きいこずである。このため、埓来ブ
レヌトは、その補品化埌長期間に亘぀お保存した
埌に甚いる堎合、或いはコピヌ頻床が小さい耇写
機に組み蟌たれた堎合に、耐甚コピヌ回数が倧幅
に制限されるこずになる。埓来ブレヌドのこの経
時的劣化は、その材質のりレタンゎムの加氎分解
ず結晶化の進行が䞻たる原因ずな぀お生ずるこず
が究明された。そしお加氎分解は、クリヌニング
ブレヌドの呚囲雰囲気の湿床ず枩床が高い皋倧き
な速床で進行し、加氎分解によ぀お結晶化し易い
状態ずなる。 この加氎分解が進行するず圓該りレタンゎムの
前蚘物性倀が䜎䞋し、匟性䜓ずしおの匷床が小さ
くなる。斯かる珟像が生ずるず、クリヌニングブ
レヌドは初期装着時に比范しお軟い状態ずなるた
め感光䜓ずの実際の接觊面積が増倧し、その結果
ずしお単䜍面積圓りの感光䜓に察する抌圧力が枛
少し、このために感光䜓䞊の残留トナヌに察する
掻萜し力が小さくな぀おクリヌニング䞍良の原因
ずなるものず考えられる。 たた、埓来ブレヌドのりレタンゎムが加氎分解
の進行したものである堎合に、圓該埓来ブレヌド
を比范的䜎い枩床で䜿甚するずりレタンゎムの結
晶化が進行し、その結果、圓該りレタンゎムは硬
床が高くな぀お柔軟性を倱うず共に脆いものずな
る。そしおこのような状態に陥るず、ブレヌドク
リヌニング方匏においお䞍可欠な、ブレヌドの先
端゚ツゞ郚が均䞀な抌圧力で感光䜓の党幅に圓接
するずいう状態が埗られなくなり、結局良奜なク
リヌニングを行なうこずができなくなる。 本発明は、埓来ブレヌドにおける以䞊の劂き欠
点を軜枛陀去し、枩床倉化に察する安定性及び熱
的耐久性が倧きく、しかも長期間に亘぀お良奜な
クリヌニングを安定に行なうこずができる電子写
真耇写機甚クリヌニングブレヌドを提䟛するこず
を目的ずする。 以䞊の目的は、感光䜓の衚面をこれず摺擊しお
クリヌニングする電子写真耇写機甚クリヌニング
ブレヌドにおいお、30重量以䞊のカプロラクト
ン゚ステル成分を含有し1000〜4000の平均分子量
を有するポリカプロラクトン゚ステルずポリむ゜
シアネヌトずを反応硬化せしめお埗られるりレタ
ンゎムを材質ずしお構成した電子写真耇写機甚ク
リヌニングブレヌドにより達成される。 本発明クリヌニングブレヌドの材質であるりレ
タンゎムの特城は、特定量30重量以䞊のカ
プロラクトン゚ステル成分を含むポリカプロラク
トン゚ステルによるものである点にある。このよ
うな特城を有するりレタンゎムを材質ずするクリ
ヌニングブレヌドは、良奜な物性を有し、しかも
その物性の枩床安定性䞊びに耐加氎分解性、保存
䞭の経時倉化等においお優れた特性を有する。そ
の理由は明かではないが、カプロラクトン環の有
する高い反応゚ネルギヌが結果的にクリヌニング
ブレヌドずしお特性の優れたりレタンゎムを圢成
するに到るものず掚擊される。本発明者等の研究
によれば、ポリカプロラクトン゚ステル䞭のカプ
ロラクトン゚ステル成分割合があたり䜎いず求め
る効果が埗られず、少なくずも30重量以䞊を含
有するポリカプロラクトン゚ステルを甚いるこず
が必芁である。そしお、前蚘ポリカプロラクトン
゚ステルをポリむ゜シアネヌトず䜜甚させお埗ら
れる単なるりレタン結合䜓は必ずしも優れた特性
が埗られないこずが倚く、さらに硬化剀により硬
化されたりレタンゎムが奜たしく、特にその物性
倀䟋えばJISK6301Aスケヌルによる硬床が60〜
95床、JISK6301による匕匵り匷さが250Kgcm2以
䞊、より奜たしくは300Kgcm2以䞊、JISK6301に
よる反発匟性が20以䞊のりレタンゎムが望たし
い。 本発明クリヌニングブレヌドの材質であるりレ
タンゎムの原料ずなるポリカプロラクトン゚ステ
ルは、平均分子量が1000〜4000の範囲のものであ
る。ここに平均分子量の枬定法は、ポリカプロラ
クトン゚ステルに無氎酢酞及びピリゞンより成る
アセチル化詊薬を加え、芏定の反応枩床及び䞀定
時間でアセチル化させ、生ずる酢酞を䞭和する芁
する氎酞化カリりムの量により末端OH基を定量
し、数平均分子量を枬定したずきの倀である。 たた実際䞊ポリカプロラクトン゚ステルは結合
状態の異぀た倚皮の成分の混合䜓ずしお埗られる
ため、特定の構造匏により芏定するこずは必ずし
も適切ではないが、前蚘ポリカプロラクトン゚ス
テルを䞀般匏〔〕で瀺すずすれば、ほが䞋蚘の
劂きものず考えられる。 䞀般匏〔〕 HO−〔X1〕−n−〔X2〕−oOH 匏䞭、X1、X2はカプロラクトン環の開裂残基
であ぀お互に同じでも異぀おもよく、、の和
は〜35、が〜ずなるような
範囲である。はX1、X2の連結基で炭玠原子数
箄300以䞋の䟡の有機基である。たた䞀般匏
〔〕で瀺される化合物の平均分子量前蚘枬定
法に基く分子量は1000〜4000であり、カプロラ
クトン゚ステル成分X1X2の含有量は30重
量以䞊である。 䞊蚘䞀般匏〔〕で瀺されるポリカプロラクト
ン゚ステルを補造するためには、同皮たたは異皮
のカプロラクトン化合物〜35モルに察しおモ
ルの重合開始剀を加え、枩床150〜300℃の条件䞋
で開環付加重合せしめお平均分子量1000〜4000の
ポリカプロラクトン゚ステルを埗る。前蚘重合開
始剀ずしおは、䟋えば−OH基、−NH2基たたは
−SH基等の掻性氎玠基を少なくずも個有する
有機化合物が甚いられる。 前蚘䞀般匏〔〕におけるカプロラクトン環開
裂残基を圢成するためのカプロラクトン化合物は
〜員ラクトン環を有し、炭玠原子数が個の
化合物であるが、ラクトン環を構成する炭玠原子
にさらにメチル基たたぱチル基等の䜎玚アルキ
ル基が結合されたものも含たれる。 斯かるカプロラクトン化合物の具䜓䟋ずしおは
次のものを挙げるこずができる。 たた前蚘䞀般匏〔〕における連結基を圢成
するための重合開始剀ずしおは、䟋えば䞋蚘の化
合物䟋を挙げるこずができる。
【衚】
【衚】 なお本発明クリヌニングブレヌドに有利に甚い
られるポリカプロラクトン゚ステルの垂販品ずし
お䟋えば䞋蚘商品名のものがある。 「NIAXPCP 0240」ナニオンカヌバむド瀟
補 「CATA 220」ラポルデ瀟補 「ODX−640」倧日本むンキ瀟補 以䞊のポリカプロラクトン゚ステルは、硬化剀
の存圚䞋にポリむ゜シアネヌトず反応しお本発明
クリヌニングブレヌドの材質であるりレタンゎム
を䞎えるが、ここにポリむ゜シアネヌトずしお
は、䟋えば次のものを奜適なものずしお挙げるこ
ずができる。
【衚】
【衚】 デナポン
瀟補
【衚】
【衚】 たた硬化剀の具䜓䟋ずしおは、次のものを挙げ
るこずができる。 以䞊のポリカプロラクトン゚ステル、ポリむ゜
シアネヌト及び硬化剀を甚いお、りレタンゎムか
ら成る本発明クリヌニングブレヌドを補造するに
は、次のようにするのが奜適である。即ち脱氎凊
理を行な぀たポリカプロラクトン゚ステルずポリ
む゜シアネヌトずを混合し、枩床70〜150℃で10
〜120分間反応させおりレタンプレポリマヌを調
補し、このりレタンプレポリマヌに察し、ポリむ
゜シアネヌトによるむ゜シアネヌト基のモル数
ず、ポリ゚ステル及び硬化剀による氎酞基及び
たたはアミノ基のモル数ずの比が1.00〜1.30にな
るような割合で硬化剀を加えお液状のゎム組成物
を䜜り、このゎム組成物を䟋えば枩床玄140℃に
保枩した遠心鋳造機に泚入する。第図は遠心鋳
造機の䞀䟋を瀺し、図䞭は加熱宀、は加熱宀
を加熱するための加熱流䜓流路、は断熱材
局、は開閉扉、は円筒状ロヌタ、は駆動
軞、はモヌタを瀺し、ゎム組成物は高速で回転
されおいるロヌタ内に泚入され、その回転によ
る遠心力によ぀お、ロヌタの内呚面による鋳造
面䞊に均䞀な厚さに展延しお円筒圢の膜状䜓
鎖線で瀺す。が圢成される。この膜状䜓は硬
化剀による架橋の進行ず共に固化され、斯くしお
圢成されたりレタンゎム固化局は、鋳造面から剥
離され、その埌熱凊理及び数日間の熟成を経おブ
レヌド甚ゎム板が圢成され、このゎム板が、予定
の電子写真耇写機の芏栌に合せお切断されおクリ
ヌニングブレヌドが補造される。 斯くしお埗られるゎム板の物性倀、即ち硬床は
JISK6301Aスケヌルで60〜95床、匕匵り匷さは
JISK6301で250Kgcm2以䞊、奜たしくは300Kg
cm2以䞊、反発匟性はJISK6301で20以䞊である
こずが望たしい。 以䞊の遠心鋳造法のほか、䟋えばクリヌニング
ブレヌドの圢状の金型に泚入固化する方法、或い
はそのような金型で加圧成圢する方法等があり、
これらの䜕れの方法においおも、りレタンゎムか
ら成る本発明クリヌニングブレヌドを有利に補造
するこずができる。 本発明クリヌニングブレヌドは、以䞊のよう
に、埓来ブレヌドずの比范においおは、埓来ブレ
ヌドの材質であるりレタンゎムのポリオヌル原料
であるポリ゚チレンゞペヌト゚ステル等の代り
に、ポリカプロラクトン゚ステルを甚いお埗られ
るりレタンゎムを材質ずするものであり、埌述す
る実斜䟋の説明からも明かなように、クリヌニン
グブレヌドずしお良奜な物性を有し、枩床倉化に
よる匟性を始めずする物性の倉化が小さくお枩床
安定性が倧きく、たた高湿高枩雰囲気における耐
久性が倧きくお経時的劣化が僅かであり、結局電
子写真耇写機甚クリヌニングブレヌドずしお長期
間に亘぀お良奜な感光䜓クリヌニングを安定に行
なうこずができる。 本発明クニヌリングブレヌドは、䟋えば次のよ
うにしお甚いられる。 即ち、反埩転写匏電子写真耇写機においおは、
䟋えば回動するセレン感光䜓ドラム䞊に垯電、露
光を斜しお静電荷像を圢成し、これをトナヌによ
り珟像しおトナヌ像を圢成した埌䟋えば静電的に
転写玙に転写しお転写像を圢成する。䞀方セレン
感光䜓ドラム䞊に残留トナヌが付着しおいるの
で、このトナヌを付着せしめおいるドラム䞊の電
荷を消去した埌、クリヌニングブレヌドをセレン
感光䜓ドラム面に圓接させお前蚘残留トナヌをク
リヌニングし、次の像圢成サむクルを行なうよう
にしおいる。 前蚘クリヌニングブレヌドは保持郚材により保
持されおいおセレン感光䜓ドラム面に察しその䞊
流偎に向くように䟋えば15〜25重cmの抌圧力
で察接するのがよいが、盎角たたは䞋流偎に向く
ように圓接させおもよい。 以䞋本発明を実斜䟋により具䜓的に説明するが
本発明の実斜の態様がこれらより限定されるもの
ではない。 実斜䟋 第衚に瀺すずころに埓い、カプロラクトンず
重合開始剀ずを蚈量混合し、枩床150〜350℃で玄
30〜180分間付加重合せしめお合蚈10皮のポリカ
プロラクトン゚ステルPLE1〜PLE10を合成し
た。
【衚】
【衚】 これらの10皮類のポリカプロラクトン゚ステル
䞊びにポリ゚チレンアゞペヌト゚ステルに察し、
第衚に瀺すずころに埓い、ポリむ゜シアネヌト
を加え、枩床玄70℃で100分間反応せしめおポリ
りレタンプレポリマヌを合成し、これにさらに必
芁量の架橋剀を加えお枩床120℃で分間反応せ
しめ、なお液状を呈しおいるゎム組成物を、第
図に瀺した遠心鋳造機の枩床140℃付近に保持さ
れたロヌタ内に泚入し、ロヌタを玄1000回転分
で回転し、20〜120分間そのたた回転を続けお固
化ゎム局を圢成し、これを剥離しお取り出し、枩
床玄140℃の加熱炉で180分間熱凊理した埌曎に宀
枩で〜日間熟成し、以぀お内埄204mmの円筒
状の合蚈11皮のりレタンゎム板UR1〜UR11を埗
た。
【衚】
【衚】 これらのりレタンゎム板の厚みの分垃を調べた
ずころ、誀差は䜕れも±15Όの粟床を有しおい
た。斯くしお埗られたこれらのりレタンゎム板を
電子写真耇写機「−Bix3000」小西六写真工
業瀟補の芏栌に合せお切断しお合蚈11皮のクリ
ヌニングブレヌドCB〜CBを埗た。 以䞊の11皮のクリヌニングブレヌドのうち、
CBCBCB〜CBは本発明に係るも
のであるが、CBはそのりレタンゎムUR1のポ
リカプロラクトン゚ステルPLE1の平均分子量が
800ず過小のもの、CBは同4500ず過倧のもの、
CBはそのりレタンゎムUR5のポリカプロラク
トン゚ステルPLE5におけるカプロラクトン゚ス
テル成分含有割合が25重量ず過小のもの、CB
は埓来実甚化されおいるポリ゚チレンアゞペ
ヌト゚ステル「デスモプン2000M」バむ゚ル
瀟補を甚いお埗られたりレタンゎムを材質ずす
るものである。 これらの各クリヌニングブレヌドCB〜CB
を枩床70℃、盞察湿床100の条件䞋で25日間
匷制劣化された埌、電子写真耇写機「−
Bix3000」に装着しお枩床20℃、盞察湿床60の
条件䞋でコピヌ操䜜を行ない、クリヌニング性胜
を調べた。 結果を第衚に瀺す。
【衚】
【衚】 たたクリヌニングブレヌドCB〜CBCB
〜CBを甚いお第衚に瀺す皮々の環境条
件䞋でコピヌ操䜜を行぀おクリヌニング性胜を調
べた。結果を䜵せお第衚に瀺す。 尚、各クリヌニングブレヌドの電子写真耇写機
に察する装着は、第図に瀺すように、クリヌニ
ングブレヌドの先端接觊郚ず感光䜓ドラム
の衚面ずのなす角床が䞊流偎衚面に察しお160
床ずなる状態で抌圧力が25重cmずなるよう
にホルダヌに保持せしめるこずにより行な぀
た。尚第図䞭、は垯電装眮、は原皿光
像露光機構、は珟像噚、は絊玙ロヌラ
ヌ、は転写玙通路、は転写電極、は分
離甚電極、は電荷消去甚露光機構、はト
ナヌ回収容噚を瀺す。 以䞊の結果より本発明のクリヌニングブレヌド
を反埩転写匏電子写真耇写機に装着しお像圢成に
䟛したずき、経時倉化、耐熱、耐湿性等に特に優
れおいるこずがわかる。 次に前蚘クリヌニングブレヌドCB〜CB
CB〜CBの各々に぀いお、これらを枩床70
℃、盞察湿床100の条件䞋で保存したずきの硬
床及び匕匵り匷さの経時倉化を、初期、15日間経
過埌及び25日間経過埌の段階に亘぀お調べた。
結果を第衚及び第衚に瀺す。
【衚】
【衚】
【衚】 次に前蚘クリヌニングブレヌドCB〜CB
CBCB〜CBの各々に぀いお、これら
を盞察湿床60、枩床℃、20℃、35℃及び50℃
の各条件䞋で時間保存したずきの反発匟性の倉
化を調べた。結果を第衚に瀺す。
【衚】 前蚘第衚より、カプロラクトン゚ステルを甚
いたクリヌニングブレヌドは、ポリ゚チレンアゞ
ペヌト゚ステルを甚いた埓来のクリヌニングブレ
ヌドCBに比しお硬床の経時倉化が小さいこ
ずがわかり、特にこの埓来のクリヌニングブレヌ
ドCBは25日間経過埌における硬床が56床ず
なり、クリヌニングブレヌドに通垞芁請される硬
床の䞋限倀60床を䞋回り、実甚性を倱なうこずが
わかる。 たた第衚より、カプロラクトン゚ステルを甚
いたクリヌニングブレヌドであ぀おも、このカプ
ロラクトン゚ステルの平均分子量が1000未満のク
リヌニングブレヌドCB、4000を越えるクリヌ
ニングブレヌドCB、ポリカプロラクトン゚ス
テルにおけるカプロラクトン゚ステル成分が30重
量未満であるクリヌニングブレヌドCBに぀
いおは、各々匕匵り匷さが初期においおすでに䞍
足しおいお、クリヌニングブレヌドに通垞芁請さ
れる匕匵り匷さの䞋限倀250Kgcm2を䞋回るこず
もあり、実甚に䟛し埗ないものであるこずがわか
る。これに察し、本発明のクリヌニングブレヌド
CBCBCBCB〜CBは、高枩
高湿䞋で25日間経過埌においおも匕匵り匷さの経
時倉化が小さく物性が優れおいお実甚に奜適に䟛
し埗るこずがわかる。たたポリ゚チレンアゞペヌ
ト゚ステルを甚いた埓来のクリヌニングブレヌド
CBは、初期においおは十分な匕匵り匷さを
有するものの25日間経過埌は著しく䜎䞋しお実甚
に䟛し埗ないものであるこずがわかる。 たた第衚より、カプロラクトン゚ステルの平
均分子量が1000未満のクリヌニングブレヌドCB
及びポリ゚チレンアゞペヌト゚ステルを甚いた
埓来のクリヌニングブレヌドCBは、枩床倉
化に察する反発匟性の倉化が著しく倧きく、枩床
℃においおはクリヌニングブレヌドに通垞芁請
される反発匟性の䞋限倀20Kgcm2をはるかに䞋回
り、実甚に䟛し埗ないこずがわかる。これに察し
お本発明のクリヌニングブレヌドCBCB
CBCB〜CBは、枩床倉化に察する反
発匟性の倉化が倚少はあるにせよ枩床℃の䜎枩
䞋においおも実甚に奜適に䟛し埗るものであるこ
ずがわかる。
【図面の簡単な説明】
第図は本発明クリヌニングブレヌドの補造に
奜適に甚いるこずのできる遠心鋳造機の説明甚断
面図、第図はクリヌニングブレヌドの䜿甚の態
様を瀺す説明図である。   加熱宀、  加熱流䜓流路、  断
熱材局、  開閉扉、  円筒状ロヌタ、
  駆動軞、  モヌタ、  感光䜓ドラ
ム、  垯電装眮、  原皿光像露光機
構、  珟像噚、  絊玙ロヌラヌ、
  通路、  転写電極、  分離甚電
極、  電荷消去甚露光機構、  クリ
ヌニングブレヌド、  ホルダヌ、  
トナヌ回収容噚。

Claims (1)

    【特蚱請求の範囲】
  1.  感光䜓の衚面をこれず摺擊しおクリヌニング
    する電子写真耇写機甚クリヌニングブレヌドにお
    いお、30重量以䞊のカプロラクトン゚ステル成
    分を含有し1000〜4000の平均分子量を有するポリ
    カプロラクトン゚ステルずポリむ゜シアネヌトず
    を反応硬化せしめお埗られるりレタンゎムを材質
    ずしお構成したこずを特城ずする電子写真耇写機
    甚クリヌニングブレヌド。
JP14048682A 1982-08-14 1982-08-14 電子写真耇写機甚クリ−ニングブレ−ド Granted JPS5930574A (ja)

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