JPH03140486A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH03140486A JPH03140486A JP27918789A JP27918789A JPH03140486A JP H03140486 A JPH03140486 A JP H03140486A JP 27918789 A JP27918789 A JP 27918789A JP 27918789 A JP27918789 A JP 27918789A JP H03140486 A JPH03140486 A JP H03140486A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/72—Ethers of polyoxyalkylene glycols
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は洗浄剤組成物、更に詳しくは精密部品又はその
組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在す
る、油脂、機械油、切削油、グリース、ロジン系フラッ
クス等の汚れの除去性に優れ、また斯かる汚れにより劣
化されに<<、かつ廃水処理性のよい洗浄剤組成物に関
する。
組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在す
る、油脂、機械油、切削油、グリース、ロジン系フラッ
クス等の汚れの除去性に優れ、また斯かる汚れにより劣
化されに<<、かつ廃水処理性のよい洗浄剤組成物に関
する。
従来、精密部品、治工具等の固体表面に存在する油等の
有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエチレン
、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリクロロト
リフルオロエタン等のフロン系溶剤;オルソケイ酸ソー
ダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水系
の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械等
の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かして
フロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエチレン
、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリクロロト
リフルオロエタン等のフロン系溶剤;オルソケイ酸ソー
ダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水系
の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械等
の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かして
フロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
また、近年、環境汚染が少なくかつ安全性の高い洗浄剤
として、米国特許第4.511.488号明細書、同第
4.640.719号明細書、同第4.740.247
号明細書等に見られるようなリモネン、ピネン、ジペン
テン等のテルペン類も提案されている。
として、米国特許第4.511.488号明細書、同第
4.640.719号明細書、同第4.740.247
号明細書等に見られるようなリモネン、ピネン、ジペン
テン等のテルペン類も提案されている。
しかし、これらの洗浄剤はいずれを取っても、汚れ除去
性、低毒性、環境汚染をしないといった洗浄剤組成物に
要求される条件のすべてを満たすようなものではなかっ
た。すなわち、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄
剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有し
ている。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシレ
ン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定さ
れている化合物であって、これを取り扱う作業の危険性
及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは好
ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較
して危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力にお
いて数段劣っている。また、リモネンに代表されるテル
ペン類は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物である
が、引火点が低いため設備が大がかりとなるという問題
があるばかりでなく、天然物由来のために安定品質の物
が得難く、供給量に限界があり、工業用洗浄剤として実
際的ではない。
性、低毒性、環境汚染をしないといった洗浄剤組成物に
要求される条件のすべてを満たすようなものではなかっ
た。すなわち、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄
剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有し
ている。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシレ
ン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定さ
れている化合物であって、これを取り扱う作業の危険性
及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは好
ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較
して危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力にお
いて数段劣っている。また、リモネンに代表されるテル
ペン類は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物である
が、引火点が低いため設備が大がかりとなるという問題
があるばかりでなく、天然物由来のために安定品質の物
が得難く、供給量に限界があり、工業用洗浄剤として実
際的ではない。
本発明の目的は、上述のような従来記述のもつ欠点を改
良し、洗浄性、安全性に優れかつ洗浄剤による環境汚染
のない、精密部品又はその組立加工工程に用いられる治
工具類の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グ
リース、ロジン系フラックス等の汚れ成分を除去するた
めの洗浄剤組成物を提供することにある。
良し、洗浄性、安全性に優れかつ洗浄剤による環境汚染
のない、精密部品又はその組立加工工程に用いられる治
工具類の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グ
リース、ロジン系フラックス等の汚れ成分を除去するた
めの洗浄剤組成物を提供することにある。
かかる実情において、本発明者らは上記問題点を解決す
べく鋭意研究を行った結果.ペンジルアルコール又は2
−フェニルエチルアルコールが前記条件を満足する洗浄
剤組成物として使用し得るものであることを見いだし、
本発明を完成するに至った。
べく鋭意研究を行った結果.ペンジルアルコール又は2
−フェニルエチルアルコールが前記条件を満足する洗浄
剤組成物として使用し得るものであることを見いだし、
本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は.ペンジルアルコール又は2−フェニ
ルエチルアルコールを70重量%以上含有する洗浄剤組
成物を提供するものである。
ルエチルアルコールを70重量%以上含有する洗浄剤組
成物を提供するものである。
これらベンジルアルコール又は2−フェニルエチルアル
コールは、洗浄性を維持し、持続性を確保するために本
発明洗浄剤組成物中に70重量%以上含有することが必
要である。
コールは、洗浄性を維持し、持続性を確保するために本
発明洗浄剤組成物中に70重量%以上含有することが必
要である。
本発明の洗浄剤組成物は、更に界面活性剤を配合するこ
とにより、より強力な洗浄力を発揮する。
とにより、より強力な洗浄力を発揮する。
界面活性剤としてはアニオン性活性剤、カチオン性活性
剤、両イオン性活性剤等いずれも使用することができる
が、洗浄面への影響が少ないという点で非イオン系界面
活性剤が最もよい。例えばポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノール
エーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステ
ル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテル、
ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシアルキレン等が好ましく、そのなか
でも平均HLB4〜15の非イオン性界面活性剤が特に
優れた効果を発現する。
剤、両イオン性活性剤等いずれも使用することができる
が、洗浄面への影響が少ないという点で非イオン系界面
活性剤が最もよい。例えばポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノール
エーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステ
ル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテル、
ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシアルキレン等が好ましく、そのなか
でも平均HLB4〜15の非イオン性界面活性剤が特に
優れた効果を発現する。
ここで、ポリオキシアルキレンとは、エチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド又はブチレンオキサイドの重
合体のことをいう。
ド、プロピレンオキサイド又はブチレンオキサイドの重
合体のことをいう。
界面活性剤の添加量としては0.01〜30重量%程度
、特に3〜20重量%が望ましい。0.01重量%未満
では界面活性剤を加えたことによる特別の効果は発現せ
ず、一方30重量%を超えると界面活性剤が洗浄表面に
残留して、洗浄された部品の特性に影響を及ぼすことが
ある。
、特に3〜20重量%が望ましい。0.01重量%未満
では界面活性剤を加えたことによる特別の効果は発現せ
ず、一方30重量%を超えると界面活性剤が洗浄表面に
残留して、洗浄された部品の特性に影響を及ぼすことが
ある。
また、本発明洗浄剤組成物には、その効果を損なわない
範囲で、必要に応じて更にエタノール、グリコール等の
各種アルコール、クエン酸、酒石酸、フタル酸等の有機
酸などを配合してもよい。
範囲で、必要に応じて更にエタノール、グリコール等の
各種アルコール、クエン酸、酒石酸、フタル酸等の有機
酸などを配合してもよい。
本発明の洗浄剤は、精密部品及びその組立加工工程に使
用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有する。
用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有する。
本発明において、精密部品とは、例えば電子部品、電機
部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をいう
。ここで、電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機
器、家電機器、通信機器、OA機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板;ICリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー リレー等接点部材に用いら
れるフープ材;OA機器、時計、電算機器、玩具、家電
機器等に用いられる液晶表示器;映像・音声記録/再生
部品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品;シリ
コンやセラミックスのウェハ等の半導体材料;水晶振動
子等の電歪用部品;CD、FD、複写機器、光記録機器
等に用いられる光電変換部品などをいう。電機部品とは
例えばブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の電動
機部品;販売機や各種機器に用いられる発券用部品;販
売機、キャッシュデイスペンサ等に用いられる貨幣検査
用部品などをいう。精密機械部品とは、例えば精密駆動
機器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング;超
硬チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部品とは
、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工部
品などをいう。更に、光学部品としては、カメラ、眼鏡
、光学機器等に用いられるレンズがあり、また、その他
部品としてメガネフレーム、時計ケース、時計ベルト等
が例示される。
部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をいう
。ここで、電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機
器、家電機器、通信機器、OA機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板;ICリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー リレー等接点部材に用いら
れるフープ材;OA機器、時計、電算機器、玩具、家電
機器等に用いられる液晶表示器;映像・音声記録/再生
部品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品;シリ
コンやセラミックスのウェハ等の半導体材料;水晶振動
子等の電歪用部品;CD、FD、複写機器、光記録機器
等に用いられる光電変換部品などをいう。電機部品とは
例えばブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の電動
機部品;販売機や各種機器に用いられる発券用部品;販
売機、キャッシュデイスペンサ等に用いられる貨幣検査
用部品などをいう。精密機械部品とは、例えば精密駆動
機器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング;超
硬チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部品とは
、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工部
品などをいう。更に、光学部品としては、カメラ、眼鏡
、光学機器等に用いられるレンズがあり、また、その他
部品としてメガネフレーム、時計ケース、時計ベルト等
が例示される。
本発明において、組立加工工程に使用される治工具類と
は、上述の各種部品例で示したような精密部品を製造、
成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取り扱
う治具、工具の他、これらの精密部品を取り扱う各種機
器、その部品等をいう。
は、上述の各種部品例で示したような精密部品を製造、
成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取り扱
う治具、工具の他、これらの精密部品を取り扱う各種機
器、その部品等をいう。
本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のうち、フラックス
の残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発揮す
るが、本発明の対象となる精密部品類及び治工具類は、
これらの例に限られるものではなく、組立加工工程にお
いて各種の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、
又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を付着
している一定形状の固体表面を持つ精密部品類及び治工
具類であれば、本発明洗浄剤組成物が適用できる。
の残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発揮す
るが、本発明の対象となる精密部品類及び治工具類は、
これらの例に限られるものではなく、組立加工工程にお
いて各種の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、
又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を付着
している一定形状の固体表面を持つ精密部品類及び治工
具類であれば、本発明洗浄剤組成物が適用できる。
これらの汚染物質が例えば油脂、機械油、切削油、グリ
ース、ロジン系フラックス等の、主として有機油分の汚
れである場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効であり
、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れであ
っても充分洗浄除去することができる。
ース、ロジン系フラックス等の、主として有機油分の汚
れである場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効であり
、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れであ
っても充分洗浄除去することができる。
本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波洗浄法、揺動
法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥法等
の各種の洗浄方法において使用でき、かつ好ましい結果
を得ることができる。
法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥法等
の各種の洗浄方法において使用でき、かつ好ましい結果
を得ることができる。
本発明の洗浄剤を、例えばフラックスの付着したプリン
ト配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本発
明洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、
次いで本発明の洗浄剤組成物を満たした液浴槽において
浸漬洗浄し、最後に本発明の洗浄剤組成物により蒸気洗
浄する等の方法を連続的に行うことにより、効率的に洗
浄することができる。
ト配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本発
明洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、
次いで本発明の洗浄剤組成物を満たした液浴槽において
浸漬洗浄し、最後に本発明の洗浄剤組成物により蒸気洗
浄する等の方法を連続的に行うことにより、効率的に洗
浄することができる。
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例1〜16及び比較例1〜2
表1に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その洗浄性及
びフラックス除去性を評価した。結果を表1に示す。
びフラックス除去性を評価した。結果を表1に示す。
(1)洗浄性試験
70mmx 150mmの鋼製テストピースに500m
g/m″の割合でナフテン系鉱油(40tl:。
g/m″の割合でナフテン系鉱油(40tl:。
350 cst)を塗布する。このテストピースを、4
0℃に保った洗浄液に浸漬し、超音波で5分間洗浄した
。洗浄後、目視によりその洗浄性を評価した。
0℃に保った洗浄液に浸漬し、超音波で5分間洗浄した
。洗浄後、目視によりその洗浄性を評価した。
(評価基準)
洗浄性 01表面極めて清浄
○:裏表面鉱油残着はとんどなし
Δ:裏表面鉱油残着わずかにあり
×:表面に鉱油残着あり
(2)フラックス除去性試験
ICチップを装着したプリント配線板をフラックス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを80℃に保った洗浄液に浸漬し、5分間超
音波洗浄後プリント配線板からのフラックスの除去性を
目視で評価した。
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを80℃に保った洗浄液に浸漬し、5分間超
音波洗浄後プリント配線板からのフラックスの除去性を
目視で評価した。
(評価基準)
◎:フラックス残着なく、洗浄力極めて大○:フラック
ス残着がほとんどなく、洗浄力△ : フラックス残着かわずかにあるが、 洗浄 力あり × : フラックスが残着し、 洗浄力に乏しい 以下余白 実施例17.18及び比較例3 表2に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その引火性、
生分解性及び水による洗浄性(水に対する溶解性)を評
価した。その結果を表2に示す。
ス残着がほとんどなく、洗浄力△ : フラックス残着かわずかにあるが、 洗浄 力あり × : フラックスが残着し、 洗浄力に乏しい 以下余白 実施例17.18及び比較例3 表2に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その引火性、
生分解性及び水による洗浄性(水に対する溶解性)を評
価した。その結果を表2に示す。
(1)引火性
クリーブランドオープンカップ(C1eaveland
Open Cup)法により引火性の強弱を評価した。
Open Cup)法により引火性の強弱を評価した。
(評価基準)
○ 引火点100℃以上
△ 引火点50℃以上100を未満
X 引火点50℃未満
(2)生分解性
沈降槽を備えた曝気式連続活性汚泥処理試験装置を用い
て、各洗浄剤の生物処理性(生分解性)を測定した。活
性汚泥は、花王和歌山工場活性汚泥を用い、汚泥濃度3
000mg/ It 、処理温度25℃、水理学的滞留
時間12h「で処理を行った。なお、フィードする洗浄
剤濃度は300mg/j!とし、これにJIS KO1
02の16(1)で定められた無機栄養塩溶液A、B、
CSD液各1ml/lを加えた溶液をフィード液とした
。連続フィードしながら処理を行い、7日後の処理液を
採取して、残留するベンジルアルコール、2−フェニル
エチルアルコール、リモネンの残留量をガスクロマトグ
ラフィーを用いて測定した。
て、各洗浄剤の生物処理性(生分解性)を測定した。活
性汚泥は、花王和歌山工場活性汚泥を用い、汚泥濃度3
000mg/ It 、処理温度25℃、水理学的滞留
時間12h「で処理を行った。なお、フィードする洗浄
剤濃度は300mg/j!とし、これにJIS KO1
02の16(1)で定められた無機栄養塩溶液A、B、
CSD液各1ml/lを加えた溶液をフィード液とした
。連続フィードしながら処理を行い、7日後の処理液を
採取して、残留するベンジルアルコール、2−フェニル
エチルアルコール、リモネンの残留量をガスクロマトグ
ラフィーを用いて測定した。
同時にフィード液中の各成分もガスクロマトグラフィー
で測定し、分解率は以下の式で算出した。
で測定し、分解率は以下の式で算出した。
得られた分解率より、下記基準にて生分解性を評価した
。
。
分解率90%以上 ◎
分解率80%以上 ○
分解率60%以下 ×
(3)水による洗浄性
水に対する溶解性をもって、水による洗浄性を評価した
。
。
表2の結果より、本発明洗浄剤組成物は次のような利点
を有する。
を有する。
本発明洗浄剤組成物は非フロン有機溶剤であり、また同
様な溶剤系であるリモネンに比べて廃水処理性がよいた
め環境汚染の問題がない。また、リモネン系に比べ引火
点が高く取扱い上の安全性が高い。更に天然物でないた
め供給安定性の点でも優れている。また本発明洗浄剤組
成物は、水に可溶であるため、水洗により完全に除去さ
れ、残留によるプラスチック部品等への影皆も小さい。
様な溶剤系であるリモネンに比べて廃水処理性がよいた
め環境汚染の問題がない。また、リモネン系に比べ引火
点が高く取扱い上の安全性が高い。更に天然物でないた
め供給安定性の点でも優れている。また本発明洗浄剤組
成物は、水に可溶であるため、水洗により完全に除去さ
れ、残留によるプラスチック部品等への影皆も小さい。
更に.ペンジルアルコール、2−フェニルエチルアルコ
ールはいずれも香料として使用される物質であり、良好
な香りを有し、その香りは穏やかで使用時に不快感を与
えることがない。
ールはいずれも香料として使用される物質であり、良好
な香りを有し、その香りは穏やかで使用時に不快感を与
えることがない。
以上のように、本発明によれば洗浄性、安全性に優れ、
かつ洗浄剤による環境汚染のない、精密部品又はその組
立加工工程に用いられる治工具頚用の洗浄剤組成物が提
供される。
かつ洗浄剤による環境汚染のない、精密部品又はその組
立加工工程に用いられる治工具頚用の洗浄剤組成物が提
供される。
以 上
Claims (4)
- 1.ペンジルアルコール又は2−フェニルエチルアルコ
ールを70重量%以上含有する洗浄剤組成物。 - 2.更に界面活性剤を0.01〜30重量%含有する請
求項1記載の洗浄剤組成物。 - 3.界面活性剤がHLB4〜15の非イオン性界面活性
剤である請求項2記載の洗浄剤組成物。 - 4.精密部品又はその組立加工工程に使用される治工具
類の洗浄に用いるものである請求項1記載の洗浄剤組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1279187A JPH0768551B2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1279187A JPH0768551B2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03140486A true JPH03140486A (ja) | 1991-06-14 |
JPH0768551B2 JPH0768551B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=17607651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1279187A Expired - Fee Related JPH0768551B2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0768551B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08254602A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄剤 |
JP2001089793A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-03 | Kanebo Ltd | やに除去剤およびそれを用いた清掃用薬剤、並びにやに除去用嗜好品 |
WO2005021700A1 (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-10 | Kaken Tech Co., Ltd. | 半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法 |
US7015182B2 (en) | 2002-04-05 | 2006-03-21 | Kao Corporation | Detergent composition for cleaning precision parts |
JP2008291178A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Johnson Diversey Co Ltd | フロアーポリッシュ用剥離剤組成物およびそれを用いた剥離除去方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55145737A (en) * | 1979-05-04 | 1980-11-13 | Toray Ind Inc | Cleaning agent for apparatus having polyamide |
JPS6369897A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-03-29 | 第一工業製薬株式会社 | プリント基板洗浄用洗浄剤組成物 |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP1279187A patent/JPH0768551B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55145737A (en) * | 1979-05-04 | 1980-11-13 | Toray Ind Inc | Cleaning agent for apparatus having polyamide |
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JPH08254602A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄剤 |
JP2001089793A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-03 | Kanebo Ltd | やに除去剤およびそれを用いた清掃用薬剤、並びにやに除去用嗜好品 |
US7015182B2 (en) | 2002-04-05 | 2006-03-21 | Kao Corporation | Detergent composition for cleaning precision parts |
WO2005021700A1 (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-10 | Kaken Tech Co., Ltd. | 半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法 |
CN100412183C (zh) * | 2003-08-27 | 2008-08-20 | 化研科技株式会社 | 除去助焊剂用洗涤剂及助焊剂的洗涤方法 |
US7435711B2 (en) | 2003-08-27 | 2008-10-14 | Kaken Tech Co., Ltd. | Cleaning agent for removing solder flux and method for cleaning solder flux |
JP2009190089A (ja) * | 2003-08-27 | 2009-08-27 | Kaken Tec Kk | 半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法 |
US7776808B2 (en) | 2003-08-27 | 2010-08-17 | Kaken Tech Co., Ltd. | Cleaning agent for removing solder flux and method for cleaning solder flux |
JP2008291178A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Johnson Diversey Co Ltd | フロアーポリッシュ用剥離剤組成物およびそれを用いた剥離除去方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0768551B2 (ja) | 1995-07-26 |
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