JPH02244050A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
加重合性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規な
組成の光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分子重
合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、ア
ルゴンレーザー光線に対しても感応しうる感光性印刷版
の感光層等に有用な光重合性組成物に関するものである
。
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法により画像の複製を行なう方法は、現在
知られるところである。すなわち、米国特許第2,92
7,022号、同2.902.356号あるいは同3,
870,524号に記載されているように、この種の感
光性組成物は光照射により光重合を起こし、硬化し不溶
化することから、該感光性組成物を適当な皮膜となし、
所望の陰画像を通して光照射を行ない、適当な溶媒によ
り未露光部のみを除去する(以下、単に現像と呼ぶ)こ
とにより所望の光重合性組成物の硬化画像を形成するこ
とができる。このタイプの感光性組成物は印刷版等を作
成するために使用されるものとして極めて有用であるこ
とは論をまたない。
化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるた
めに光重合開始剤を添加することが提唱されており、か
かる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインエチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−エ
チルアントラキノン等が用いられてきた。しかしながら
、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物
の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に長
時間を要した。このため細密な画像の場合には、操作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければ
ならないためにそれに伴なう多大な発熱の放散を考慮す
る必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変形お
よび変質も生じ易い等の問題があった。
域の光源に対する光重合能力に比較し、400nm以上
の可視光線領域の光源に対する光重合能力が顕著に低い
。従って、従来の光重合開始剤を含む光重合性組成物は
、応用範囲が著しく限定されていた。
案がなされて来た。かかる提案として、米国特許第2,
850,445号によればある種の光還元注染、料、例
えば、ローズベンガル、エオシン、エリスロシン等が効
果的な可視光感応性を有していると報告されている。ま
た改良技術として、染料とアミンの複合開始系(特公昭
44−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾール
とラジカル発生剤および染料の系(特公昭45−373
77号)、ヘキサアリールビイミダゾールとP−ジアル
キルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−25
28号、特開昭54−155292号)、3−ケト置換
クマリン化合物と活性ハロゲン化合物の系(特開昭58
−15503号)、置換トリアジンとメロシアニン色素
の系(特開昭54−15102号)などの提案がなされ
て来た。これらの技術は確かに可視光線に対して有効で
はある。
く、さらに改良技術が望まれていた。
いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成におけ
るUVプロジヱクション露光法、レーザー直接製版、レ
ーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が既に実用の段
階であり、これらに対応する高感度な感光材料が開発さ
れているところである。しかし未だ十分な感度を有して
いるとは言えない。
とである。
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供することである。
特にAr” レーザーの出力に対応する4 88 nm
付近の光に対しても感度の高い光重合開始剤を含んだ光
重合性組成物を提供することにある。
果1.ある特定の光重合開始剤系が付加重合性不飽和結
合を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大
させ、また400nm以上の可視光線に対しても高感度
を示すことを見出し、本発明に到達したものである。
化合物 (ii )−設置[I] (式中R’およびR2は各々独立して水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アルコキラ・′カルボニル基、
アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を表わ
す。Aは酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原
子、アルキルないしはアリール置換された窒素原子、ま
たはジアルキル置換された炭素原子を表わす。Xは含窒
素へテロ五員環を形成するのに必要な非金属原子群を表
わす。
香環、または無置換ないしは置換されたヘテロ芳香環を
表わす。Zは水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アミノ基
、アシル基、またはアルコキシカルボニル基を表わし、
Yと互いに結合して環を形成していてもよい。) で表わされる化合物、および (iii ) (イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合
物、(ロ)芳香族オニウム塩、 (ハ)有機過酸化物、 (ニ)−設置[11]で示されるチオ化合物:(ホ)へ
キサアリールビイミダゾール化合物、および (へ)ケトオキシムエステル からなる群から選ばれた少なくとも一つの化合物を含有
することを特徴とする光重合性組成物に関する。
)および/または成分(V)を含有させることにより、
さらに高感度な光重合性組成物を得ることができる。
ール基を示し、R4は水素原子またはアルキル基を示す
。また、R3とR“は、互いに結合して酸素、硫黄およ
び窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでもよい5員
ないし7員環を形成するのに必要な非金属原子群を表わ
す。)(ここで、R5、R6、R’およびR6は互いに
同一でも異なっていてもよく、各々置換又は非置換のア
ルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置
換のアルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、も
しくは置換又は非置換の複素環基を示し、R5、RbR
7およびR8はその2個以上の基が結合して環状構造を
形成してもよい。ただし、R5Rh、R7およびR1+
のうち、少なくとも1つは置換又は非置換のアルキル基
である。Z゛はアルカリ金属カチオンまたは第4級アン
モニウムカチ・オンを表わす。) で表わされる化合物9 (v) −設置〔■] : こごで、Arは下記の一般式の一つから選ばれた芳香族
基を表し、R9、RIOは水素原子又はアルキル基を表
し、又、RQ とR10は互いに結合してアルキレン基
を表しても良い。
も異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子1
.アルキル基、アルケニル基、アリール基、置換アリー
ル基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−3
−R17基、−3o−R”基又は−3O2R”基を表わ
すが、但しRI +、 RI S基の少なくとも一つは
−S −R”基、−5o−n”基又は −SO□Rl’7基を表し、R17はアルキル基、アル
ケニル基、RI6は水素原子、アルキル基又はアシル基
を表す。
説明する。
を有する重合可能な化合物は、末端エチレン性不飽和結
合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物
から選ばれる。
体およびオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれ
らの共重合体などの化学的形態をもつものである。モノ
マーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン
酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪
族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等があげられる
。
ステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステ
ルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、1.3−ブタンジオ
ールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロペントリ
(ア・クリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリ1−一ルジアクリレ−1・、ペンタエリ
スリトールトリアクル−ト、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルへキサアクリレート、トリ (アクリロイルオキシエ
チル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオ
リゴマー等がある。
ールジッタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメ
チロールエタン1リメタクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、1.3−ブタンジオールジメタク
リレート、ヘキサンジオールレジメタクリレ−1・、ベ
ン/クエリスリトールジメタクリレート・、ペンクエリ
スリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリ]・−
ルテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメ
ククリレ−[・、ジペンタエリスリ1−一ルヘキサメタ
クリレート、ソルビトールトリメタクリレ−1・、ソル
ビトールテトラメタクリレート、ビス(p−(3−メタ
クリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]
ジメチルメタン、ビス−(p−(アクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
.3−ブタンジオールジイタコネ・−ト、l、4−ブタ
ンジオールシイタコネート、テトラメチレングリコール
シイタコネート、ペンクエリスリトールシイタコネート
、ソルビトールテトライタコネート等がある。
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ベニ/クエリスリトールレジクロトネート、ソルビト
ールテトラマレートネート等がある。
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
ができる。
アミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1.
6−ヘギサメチレンビスアクリルアミド、1.6−ヘキ
サメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリア
ミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルア
ミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加
せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有す
るビニルウレタン化合物等があげられる。
)(ただし、RおよびR′はHあるいはCH、を示す。
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号
、特公昭49−43191号、特公昭52−30490
号各公報明細載されているようなポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させ
たエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートや
メタクリレートをあげることができる。さらに日本接着
協会誌vo1.20、No、7,300〜308ページ
に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されてい
るものも使用することができる。なお、これらの使用量
は、全成分に対して好ましくは5〜50重量%(以下%
と略称する。)、さらに好ましくは10〜40%である
。
]で示される化合物である。
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基ま
たはアラルキル基を表わす、Aは酸素原子、イオウ原子
、セレン原子、テルル原子、アルキルないしは了り−ル
置換された窒素原子、またはジアルキル置換された炭素
原子を表わす。
子群を表わす。
香環、または無置換ないしは置換されたヘテロ芳香環を
表わす。Zは水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アルコキ
シル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アミノ
基、アシル基、またはアルコキシカルボニル基を表わし
、Yと互いに結合して環を形成していてもよい。)−C
式[11におけるR1およびR2の例を以下に示す。ア
ルキル基としては炭素原子数が1から18までの直鎖状
、分岐状および環状のアルキル基をあげることができ、
その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデ
シル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル
基、イソヘキシル基、5ec−ブチル基、ネオペンチル
基、tert−ブチル基、terL−ペンチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへブチル基、
2−ノルボルニル基をあげることができる。これらのう
ちでは、炭素原子数1から10までの直鎖状、分岐状の
アルキル基ならびに炭素原子数6から10までの環状の
アルキル基が好ましい。
、塩素、臭素、沃素)、ヒドロキシル基、アルコキシル
基、アシロキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、N it換カルバモイル基を挙げることがで
きる。一方置換アルキル基のアルキル基としては前述の
炭素数1から18までのアルキル基を、好ましくは同じ
(1から10までの直鎖状、分岐状のアルキル基ならび
に炭素原子数6から10までの環状のアルキル基を、最
も好ましくは炭素原子数1から4までの直鎖状および分
岐状のアルキル基をあげることができる。置換アルキル
基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基
、2−クロロエチル基、2,2゜2−トリクロロエチル
基、2−クロロペンチル基、1− (クロロメチル)プ
ロピル基、10−ブロモデシル基、18−メチルオクタ
デシル基、クロロシクロヘキシル基、ヒドロキシメチル
基、2−ヒドロキンエチル基、2−ヒドロキシブチル基
、5−ヒドロキシペンチル基、10−ヒドロキシデシル
基、2−ヒドロキンオクタデシル基、2−(ヒドロキシ
メチル)エチル基、ヒドロキシシクロヘキシル基、3−
ヒドロキシ−・2−ノルボルニル基、メトキシメチル基
、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシエ
チル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、メト
キシェIキシェヂル基、エトキシエトキシエチル基、ア
セトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル基、ヘン
ジイルオキシエチル基、ベンゾイルオキシペンチル基、
ベンゾイルオキシエトキシエチル基、アセチルアミノエ
チル基、プロピオニルアミノ基、N−メヂルカルバモイ
ルエチル基、N、N−ジエチルカルバモイルエチル基を
挙げることができる。
ル基)、2個および3個の縮合ベンゼン環の残基(ナフ
チル基、アントリル基、フエナントリル基)、2個のベ
ンゼン環集合系の残基(ビフェニル基)ならびにベンゼ
ン環と5員不飽和環との縮合系の残基(インデニル基、
アセナフチニル基、フルオレニル基)をあげることがで
きる。
素原子にハロゲン原子(弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子)、アミノ基、置換アミノ基(モノアルキル
置換アミノ基(アルキル基の例、メチル基、エチル基、
プロピル基、ペンチル基、イソプロピル基、5ec−ブ
チル基、イソペンチル基)、ジアルキルアミノ基(アル
キル基の例はモノアルキル置換アミノ基の例と同じ)、
モノアシルアミノ基(アシル基の例、アセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル(butyryl)基、イソブチ
リル基、バレリル(valeryl)基)、シアノ基、
アルキル基(炭素原子数が1から18までの直線状、分
岐状および環状のアルキル基、好ましくは炭素原子数1
から10までの直線状、分岐状および環状のアルキル基
、最も好ましくは炭素原子数1から4までの直線状およ
び分岐状のアルキル基、これらの具体例はすでに上に述
べた。)、ハロゲンアルキル基(例、クロロメチル基、
2−クロロエチル基、5−クロロペンチル基、トリフル
オロメチル基)、アルコキシル基(アルキル基の例、メ
チル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピ
ル基、イソペンチル基、2−メチルブチル基、5ec−
ブチル基)、アリールオキシ基(アリール基の例、フェ
ニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基)、アルコキ
シカルボニル基(アルキル基の例、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基)、アシルオ
キシ基(アシル基の例はモノアシルアミノ基の例と同し
)、アルコキシスルホニル基(アルキル基の例はアルコ
キシル基のアルキル基の例と同し)等の置換基が1個又
は2個以上の同じ置換基あるいは互いに異なる置換基が
置換した残基をあげることができる。これらのアリール
基および置換アリール基の具体例としては、フェニル基
、クロロフェニル基、アミノフェニル基、(メチルアミ
ノ)フェニル基、(エチルアミノ)フェニル基、(ジメ
チルアミノ)フェニル基、アセチルアミノフェニル基、
トリル基、エチルフェニルL (クロロメチル)フェ
ニル基、アセチルフェニル基、フェノキシフェニル基、
メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフ
ェニル基、アセトキシフェニル基、メトキシスルホニル
フェニル基、ナフチル基、2アミノ−1−ナフチル基、
1−ジメチルアミノ2−ナフチル基、クロロナフチル基
、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル基
、インデニル基、ビフェニリル基、クロロビフェニリル
基、アミノビフェニリル基、メチルビフェニリル基、ア
セナフチニル基をあげることができる。これらのうちで
はフェニル基および上述の置換基が1個又は2個以上の
同じかあるいは互いに異なる上述の置換基が2個以上置
換したフェニル基が好ましい。
しくは同じく1がら6までの直線状、分岐状又は環状の
アルキル基にフェニル基又はナフチル基が置換した残基
をあげることができ、ぞの具体例としては、ベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロビル基、3−フェニ
ルヘキシル基、10−−フェニルデシル基、4−フェニ
ルシクロヘキシル基、l−ナフチルメチル基、2−(1
−ナフチル)エチル基、2−ナフチルメチル基をあげる
ことができる。
0までの直鎖状、分岐状および環状のアルキル基がオキ
シカルボニル基に結合した残基をあげることができ、そ
の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、SeCブトキシカルボニル基、Ler t−ブ
トキシカルボニル基をあげることができる。
成する含窒素五員環の例としては、以下のものが挙げら
れる。
トのσ値が−0,9から+0.5までの範囲にあるもの
である。その例としては、水素原子、メチル基、イソプ
ロピル基、tert−ブチルLフェニル基、トリフルオ
ロメチル基、アセチル基、エトキシカルボニル基、カル
ボキシル基、カルボキシラド基(−〇〇〇−) 、アミ
ノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、アセチルアミノ基、−PQ3
11基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、フェノ
キシ基、ヒドロキシ基、アセトキシ基、メチルチオ基、
エチルチオ基、イソプロピルチオ基、メルカプト基、ア
セチルチオ基、チオシアノ基(−3CN)、メチルスル
フィニル基、エチルスルフィニル基、メチルスルホニル
基、エチルスルホニル基、アミノスルホニル基、ジメチ
ルスルホニル基、(−S−(co、) z)、スルホナ
ト基、(−so!−) 、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子、ヨージル基、トリメチルシリル基(−S
i (C8:J) z )、トリエチルシリル基、トリ
メチルスタニル基(−Sn (CH3) z)をあげる
ことができる。これらの置換基のうちで好ましいものは
、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキ
シ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、塩素原子
、臭素原子、である。
挙げられる。多核芳香環としては、ナフチル基、アンス
リル基、フェナンスリル基が挙げられ、これらは上述の
置換基已により置換されてられ、これらは上述の置換基
Eにより置換されていても良い。ヘテロ芳香環の例とし
ては2−フリル基 3−フリル基 2−チエニル基、3
−チエニル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基が挙げ
られこれらは上述の置換基Eによって置換されていても
良い。
ルキル基1.置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基としζは、R1とR2の例として述べたものと同じ
ものをあげることができる。
しくは同じく1から6までの直線状、分岐状又は環状の
アルキル基にフェニル基又はナフチル基が置換した残基
をあげることができ、その具体例としては、ベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、3−フェニ
ルヘキシル基、IO−フェニルデシル基、4−フェニル
シクロヘキシル基、1−ナフチルメチル基、■−(1−
ナフチル)エチル基、2−ナフチルメチル基をあげるこ
とができる。
線状、分岐状、および環状のアルキル基がチオ基(イオ
ウ原子)に結合した残基をあげることができ、その具体
例としてはメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ
基、ブチルチオ基、5ec−ブチルチオ基、ter L
−ブチルチオ基をあげることができる。
直線状、分岐状および環状のアルキル基がオキシ基(酸
素原子)に結合した残基をあげることができ、その具体
例としてはメトキシル基、エトキシル基、プロポキシル
基、ブトキシル基、5ec−−ブトキシル基、tert
−ブトキシル基をあげることができる。
、分岐状および環状のアルキル基により置換されたアミ
ノ基をあげることができ、その具体例としてはジメチル
アミノ基、ジエチルアミ、ノ基、ジプロピルアミノ基を
あげることができる。
、好ましくは同じ(1から6までの直線状、分岐状また
は環状のアルキル基、フェニル基またはナフチル基がカ
ルボニルに結合した残基をあげることができ、その具体
例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基
、ブチリル基、バレリル基、ベンゾイル基、ナフトイル
基をあげることができる。
0までの直線状、分岐状または環状のアルキル基がオキ
シカルボニル基に結合した残基をあげることができ、そ
の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、5eC−ブトキシカルボニル基、tert−ブ
トキシカルボニル基をあげることができる。
す。
第364〜372頁(1948年)抄録: ’Chem
icalAbstracts J誌第44巻第60e〜
61dMA(1950年))に記載の方法に従って合成
することができる。
。
−例である炭素−ハロゲン結合を有する化合物としては
、下記−設置(V)から(XI)で示される化合物が好
ましい。
1 、Nl!□、−N)IR’ −NR’!、−O
R’を表わす。ここでR′はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。またRは−
CX’ 、 、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。)で
表わされる化合物。
、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、置換アルコキシル基、ニト
ロ基又はシアン基であり、 X′はハロゲン原子であり、 nは1〜3の整数である。) で表わされる化合物。
■)(ただし、 RI9は、アリール基又は置換アリール基であり、R2
1,lで22はアルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アリール基又は置換アリール
基であり、 R21は一般式(V)中のR′と同じであり、X″はハ
ロゲン原子であり、 m !! 1又は2である。) で表わされる化合物。
環式基であり、 RlSは炭素原子1〜3個を有するトリハロアルキル基
又はトリハロアルケニル基であり、pはl、2又は3で
ある。
基であり、 Mは置換又は非置換のアルキレン基であり、Qはイオウ
、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケ
ン−1,2−イレン基、12−フェニレン基又はN−R
基であり、Mは置換又は非置換のアルキレン基又はアル
ケニレン基であるか、又は1.2−アリーレン基であり
、 R2″はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアル
キル基であり、 R2“は炭素環式又は複素環式の2価の芳香族基であり
、 Xは塩素、臭素またはヨウ素原子であり、q=O及びr
=1であるか又はq=l及びr=1又は2である。) で表わされる、トリハロゲノメチル基を有するカルボニ
ルメチレン複素環式化合物。
は1〜4の整数であり、R2′′は水素原子又はC1h
−LXt基であり、R29は8価の置換されていてもよ
い不飽和有機基である) で表わされる、4−ハロゲン−5−(ハロゲノメチル−
フェニル)−オキサゾール誘導体。
は1〜4の整数であり、R”は水素原子又はCL−vX
v基であり、R3IはU価の置換されていてもよい不飽
和有機基である。)で表わされる、2−(ハロゲノメチ
ル−フェニル)=4−へロゲノーオキサゾール誘導体。
、たとえば、若株ら著、Bull、 Chew、 So
c。
の化合物、たとえば、2−フェニル4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−3−)リアジン、2−(p−クロルフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3−1
−リアジン、2−(p−トリル)−4゜6−ビス(トリ
クロルメチル)−3−トリアジン、2−(p−メトキシ
フェニル)−’4.6−ビス(トリクロルメチル)−3
−トリアジン、2−(2’、4’−ジクロルフェニル)
−4,6−ビス(ト・ジクロルメチル)−3−トリアジ
ン、2゜4.6−トリス(トリクロルメチル)−3−ト
リアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−3−)リアジン、2−n−ノニル−4゜6−ビス
(トリクロルメチル)−S−)リアジン、2−(α、α
、β−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−3−)リアジン等が挙げられる。その他、英
国特許1388492号明細書記載の化合物、たとえば
、2−スチリル−46−ビス(トリクロルメチル)−3
−1−リアジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−(
pメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−3−)リアジン、2−(P−メトキシスチリル)
−4−アミノ−6−ドリクロルノチルーS−トリアジン
等、特開昭53−133428号記載の化合物、たとえ
ば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6
−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4
−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリ
クつルメチルー5−hリアジン、2− (4−(2−エ
トキシエチル)−ナフト−1−イル)−4,6−ピスド
リクロルメチルーS−)・リアジン、2−(47−ジメ
トキシ−ナフトー1−イル>、1.Gビス−トリクロル
メチル−S−トリアジ〉・、2(アセナフト−5−イル
)−4,6−ビス−1〜リクロルメチル−5−t−リア
ジン等、独国特許3337024号明細書記載の化合物
、たとえば等やその他 C1 を挙げることができる。
g Chew、:9.1527 (1964)記載の化
合物、たとば2−メチル−4,6−ビス(トリブロムメ
チ)−3−1−リアジン、2,4.6−)リス(ドブロ
ムメチル)−5−1−リアジン、2,4.Gトリス(ジ
ブロムメチル)−5−トリアジン、アミノ−4−メチル
−6−トリブロムメチル−3−トリアジン、2−メトキ
シ−4−メチル−6−トリクロルメチル−S−トリアジ
ン等を挙げることができる。
ば CC1!、3 等を挙げることができる。
、 Elslagerおよびり、 M、Werbel著
Journal of l1eterocyclicc
heIIistry第7巻(No、3)、第511頁以
降(1970年)に記載されている合成方法に準じて、
当業者が容易に合成することができる次のような化合物
群 あるいは、 次のような化合物群 あるいは、ドイツ特許第2641100号に記載されて
いるような化合物、例えば、4−(4−メトキシ−スチ
リル)−6−(3,3,3−)リクロルプロペニル)−
2−ピロンおよび4− (3,4゜5−トリメトキシ−
スチリル)−6−t−リクロルメチルー2−ピロン、あ
るいはドイツ特許第3333450号に記載されている
化合物、例えば、Q=S; R1k=ベンゼン環 あるいはドイツ特許第3021590 物群、 号に記載の化合 あるいはドイツ特許第3021599号に記載の化合物
群例えば、 を挙げることができる。
塩としては、周期律表の第■、■および■族の元素、具
体的にはN、P、As、Sb、Bi、○、S。
−14277号、特公昭52−14278号、特公昭5
2−14279号に示されている化合物を挙げることが
できる。
BF4塩、又はPF、塩の化合物さらに好ましくは芳香
族ヨードニウム塩のBF、塩、又はPF6塩である。
有機過酸化物」としては分子中に酸素−酸素結合を1個
以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、そ
の例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シ
クロヘキサノンパーオキサイド、3,3.5−1−リメ
チルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘ
キサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサ
イド、1.1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)
−3,3,5−)ジメチルシクロヘキサン、1゜1−ビ
ス(ターシャリイブチルパーオキシ)シクロヘキサン、
2.2−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン
、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメン
ハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイ
ドロパーオキサイド、バラメタンハイドロパーオキサイ
ド、2゜5−ジメチルヘキサン−2,5−シバイドロバ
−オキサイド、L L、3.3−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオ
キサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、ビス(ターシャリイブチルパ
ーオキシイソプロビル)ベンゼン、2.5−ジメチル−
2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン
、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリイブチル
パーオキシ)ヘキシン−3、アセチルパーオキサイド、
イソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサ
イド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキ
サイド、3,5.5−)リメチルー・キサノイルパーオ
キサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4
−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイ
ルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボ
ネート、ジー2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネ
ート、ジー2−エトキシエチルパーオキシジカーボネー
ト、ヅメ1−キシイソプロピルパーオキシカーボネート
、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジ
カーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテー
ト、ターシャリイブチルパーオキシビバレート、ターシ
ャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリ
イブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチ
ルパーオキシ−3,5,5−)リメチルヘキサノエート
、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャ
リイブチルパーオキシベンゾエート、ジターシャリイブ
チルジパーオキシイソフタ1/−ト、2゜5−ジメチル
−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、ター
シャリイブチル過酸化マレイン酸、ターシャリイブチル
パーオキシイソプロピルカーポネート、3.3’、4.
4’ −テトラ(L−ブチルパーオキシカルボニル)ペ
ンツフェノン、3.3’、4.4’−テトラ−(L−ア
ミルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3゜3’
4.4’−テトラ(L−へキシルバーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3.3’、4゜4′−テトラ(
t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3.3’、4.4’ −テトラ(クミルパーオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’ −テト
ラ(p−イソプロビルクミルパーオキシカルボニ・ル)
ベンゾフェノン、カルボ、ニルジ(L−プチルパーオキ
シ二水素二フタレート)、カルボニルジ(1−ヘキシル
バーオキシ二水素二フクレート)等がある。
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3’
、4.4’−テトラ−(t−アミルバーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3゜3’、4.4’−テトラ(L
−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4゜4′−テトラ(L−オクチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’ −テ
トラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3.3’、4.4’ −テトラ(p−イソプロピルクミ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジーし一ブ
チルシバーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル
系が好ましい。
、下記−設置(II)で示される。
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい5員ないし7員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。)上記−設置(II)におけるR3の
アルキル基としては炭素原子数1〜4個のものが好まし
い。またR3のアリール基としてはフェニル、ナフチル
のような炭素原子数6〜10個のものが好ましく、置換
アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原
子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基
、メトシキ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換
されたものが含まれる。
ある。
下記に示すような化合物が挙げられる。
リール基を示し、R4は水素原子またはア本発明に使用
される成分(iii )の他の例であるヘキサアリール
ビイミダゾールとしては、2.2′−ビス(O−クロロ
フェニル)−4゜/l’、5.5’ −テトラフェニル
ビイミダゾール、2.2′−ビス(0−ブロモフェニル
)−4,4’5.5’−−テトラフェニルビイミダゾー
ル、2゜2′−ビス(o、p−ジクロロフェニル)−4
゜4’、5.5’ −テトラフェニルビイミダゾール、
2.2′−ビス(0−クロロフェニル)−4,4’5.
5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール
、2.2′−ビス(o、 ol−ジクロロフェニル)
−4,4’、5.5’ −テトラフェニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(0−ニトロフェニル)−4,4’
、5.5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′
−ビス(0−メチルフェニル)−4,4’、5.5’
−テトラフェニルビイミダゾール、2.2′−ビス(o
−トリフルオロフェニル)−4,4’ 、5.5’ −
テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
トオキシムエステルとしては 3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセ
トキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキ
シイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペン
タン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニル
プロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−
フェニルプロパン−1−オン、3−p−)ルエンスルホ
ニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカル
ボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン
等が挙げられる。
]で示される化合物である。
−でも異なっていてもよく、各々置換又は非置換のアル
キル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換
のアルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、もし
くは置換又は非置換の複素環基を示し、R5、R6、R
?およびR8はその2個以上の基が結合して環状構造を
形成してもよイ、タタL、、R’ SRh、R’ およ
びR8のうち、少なくとも1つは置換又は非置換のアル
キル基である。Z゛はアルカリ金属カチオンまたは第4
級アンモニウムカチオンを示す)。
状のものが含まれ、炭素原子数1〜18のものが好まし
い、具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルな
どが含まれる。
に、ハロゲン原子(例えば−α、−Brなど)、シアノ
基、ニトロ基、アリール基(好ましくはフェニル基)、
ヒドロキシ基、 原子、炭素数1−14のアルキル基、又はアリール基を
示す。)、−000RIS(ここでR3Sは水素原子、
炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。
炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す、
)を置換基として有するものが含まれる。
フチル基などの1〜3環の了り−ル基が含まれ、置換ア
リール基としては、上記のようなアリール基に前述の置
換アルキル基の置換基又は、炭素数1〜14のアルキル
基を有するものが含まれる。
8の直鎖、分枝、環状のものが含まれ、置換アルケニル
基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基と
して挙げたものが含まれる。
8の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の
置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙
げたものが含まれる。
くは5〜7員環の複素環基が挙げられ、この複素環基に
は縮合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述
の置換アリール基の置換基として挙げたものを有してい
てもよい。
は米国特許3,567.453号、同4,343,89
1号、ヨーロッパ特許109,772号、同109.7
73号に記載されている化合物および以下に示すもの、
が挙げられる。
a(III−6> <lll−7> <lll−12> <m−s> <lll−13> <lI[−9> <I[1−10> 本発明の光重合性組成物には、下記−設置(TV)で示
される化合物〔成分(V)〕を含有させることにより、
更に怒度を高めることができる。
ら選ばれた芳香族基を表し、R9、R111は水素原子
又はアルキル基を表し、又、RqとRtoは互いに結合
してアルキレン基を表しても良い。
ていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、水酸
基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、 S R+?
基、−5o−R”基又は−So、R”基を表すが、但し
R目〜RIS基の少なくとも−っは−3BIt4、−5
o−R17基又は−5OZR’7基を表し、Rl?はア
ルキル基、アルケニル基、R16は水素原子、アルキル
基又はアシル基を表す。
としては、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数1〜
20個のものが挙げられる。また、RqとRIGが結合
して形成するアルキレン基としては、テトラメチレン、
ペンタメチレン等があげられる。
素数1〜4個のものがあげられる。また、アルケニル基
としては炭素数3〜12のものがあげられる。
があげられる。さらにアルコキシ基としては炭素数1〜
4のものがあげられる R16のアシル基としてはアセ
チル、プロピオニル、アクリロイル等があげられる。
>(IV−8>、<TV−9>である。
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発明
における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と必(TV−5> <IV−6> <IV−7> 要に応じて添加される線状有機高分子重合体との合計に
対して0.01%から60%の範囲で使用するのが好ま
しい。より好ましくは、1%から30%で良好な結果を
得る。
)と(iii )の比は成分(11)の有機染料1重量
部に対して成分(iii )を0.01〜50重量部使
用するのが適当であり、更に好ましくは0.02〜20
重量部、最も好ましくは0.05〜10重量部である。
有機染料1重量部に対して、成分(iv)を0.05〜
30重量部、最も好ましくは0.2〜5重量部である。
ii )の有機染料1重量部に対して成分(v)を0.
01〜50重量部使用するのが適当であり、より好まし
くは0.02〜20重量部、最も好ましくは0.05〜
10重量部である。
ての線状有機高分子重合体を含有させることが好ましい
。このような「線状有機高分子重合体」としては、光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有している
線状有機高分子重合体である限り、どれを使用しても構
わない。好ましくは水現像或は弱アルカリ水現像を可能
とする水あるいは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である
線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重
合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、
弱アルカリ水或は有機溶剤現像剤としての用途に応して
選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合体を
用いると水現像が可能になる。この様な線状有機高分子
重合体としては、側鎖にカルボン酸を存する付加重合体
、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34
327号、特公昭5B−12577号、特公昭5425
957号、特開昭54−92723号、特開昭59−5
3836号、特開昭59−71048号に記載されてい
るもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸
共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、
マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合
体等がある。
導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれ
らの中で(ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(
メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビ
ニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性
線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエ
チレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度
をあげるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエビクロ
ロヒドリンのポリエーテル等も有用である。これらの線
状有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させる
ことができる。しかし90重量%を越える場合には形成
される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ま
しくは30〜85%である。また光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、重量圧で1
/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ましい
範囲は3/7〜515である。
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはハイドロキノン、P−メトキシフェノ
ール、ジーもブチル−p−クレゾール、ピロガロール、
1−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4’ −チ
オビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2
2′−メチレンビス(4−メチル−6−tブチルフェノ
ール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セ
リウム塩等があげられる。熱重合防止剤の添加量は、全
組成物の重量に対して約0.O1%〜1%〜約5ましい
。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するた
めにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導
体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に
偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組
成物の約0.5%〜約10%が好ましい。
添加してもよい。染料および顔料の添加量は全組成物の
約0.5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物
性を改良するために無機充填剤や、その他の公知の添加
剤を加えてもよい。
々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エヂレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレンゲリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモツプチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシプロパツール、メ
トギシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピ
ルアセテート、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、r −ブチロラクトン、乳酸メチル、
乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは
混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の
固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
0g / m 2の範囲が適当である。より好ましくは
0.5〜5 g/m”である。
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)、がラミネートされた紙、また、例えばアルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などの
ような金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三
酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロ
ース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ルなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金
属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチ
ックフィルムなどがあげられる。これらの支持体のうち
、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも
安価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−18
327号に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートも好ましい。
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭47−5125号に記載されているようにアルミニ
ウム板を陽極酸化処理したのらに、アルカリ金属珪酸塩
の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。上記
陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸
等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等のを機酸
またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種
以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極と
して電流を流すことにより実施される。
るようなシリケート電着も有効である。
02号、特開昭52−30503号に開示されているよ
うな電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理
および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用でちる
。
な機械的粗面化、化学的工、チング、電解グレイン、陽
極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好
適である。
えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属
塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等
を下塗りしたものも好適である。
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
空気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例え
ばポリビニルアルコール特にケン化度99%以上のポリ
ビニルアルコール、酸性セルロース類などのような酸素
遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい
。この様な保護層の塗布方法については、例えば米国特
許第3.458,311号、特公昭55−49729号
に詳しく記載されている。
応により硬化・ゲル化するので、印刷板、プリント基板
等作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが
可能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である
高感変性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により
、^r゛レーザー等の可視光レーザー用の感光材料に適
用すると良好な効果が得られる。
に感光性があるため、マイクロカプセルを利用した画像
形成システム用として特に有利に用いることができる。
るには例えば、特開昭57−197538号、同61−
1.30945号、同58−88739号、同58−8
8740号、欧州特許第223,587A1号明細書等
を参考にできる。この画像形成方法は例えば、エチレン
性のビニル化合物及び光重合開始剤から成る光重合開始
剤組成物と色素プレカーサーを含むマイクロカプセルを
支持体に塗設し、この感光シートを画像様露光して露光
部のマイクロカプセルを硬化させた後、顕色剤シートを
重ねて全面加圧することにより、未露光部のマイクロカ
プセルを破壊し、色画像形成物質(例えば色素プレカー
サー)を受像要素(例えば顕色割石)に転写し、発色さ
せる方式である。
したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を
得る。これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使
用する際の好ましい現像液としては、特公昭57−74
27号に記載されているような現像液があげられ、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸す[・リウ
ム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、
第ニリン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭
酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ
剤やモノエタノールアミン又はジェタノールアミンなど
のような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。咳アル
カリ溶液の濃度が0.1〜10重量%、好ましくは0.
5〜5重量%になるように添加される。
剤やベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、
2−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量含むこ
とができる。例えば、米国特許第3,375,171号
および同第3.615.480号に記載されているもの
を挙げることができる。
号、特公昭56−39464号、同56−42860号
の各公報に記載されている現像液も優れている。
域の活性光線に対して高域度庖有する。
灯、ケミカルランプ、カーボンア・−り灯、キセノン灯
、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーラン
プ、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用でき
る。
らの実施例に限定されるものではない。
ンブラシと400メツシユのバミストンの水g<1とを
用いその表面を砂目室てした後、よく水で洗浄した。1
0%水酸化ナトリウムに70°Cで60秒間浸漬してエ
ツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し
、次いで水洗した。これを■。
用いて1%硝酸水溶液中で160ク一ロン/dm2の陽
極特電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを
測定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。引き
続いて30%の硫酸水溶液中に浸漬し55°Cで2分間
デスマットした後、20%硫酸水溶液中、電流密度2A
/dm2において陽極酸化皮膜の厚さが2.7 g/m
2になるように2分間陽極酸化処理した。
感光性組成物を乾燥塗布重量が1.4 g/m”となる
ように塗布し、80°C2分間乾燥させ感光層を形成さ
せた。
タアクリレート/メタク リル酸共重合体 (共重合モル比80/20) 2.0g光重
合開始剤 Xgフッ素系ノニオ
ン界面活性剤 0.03 gメチルエチルケトン
20gプロピレングリコールモノメ
チ ルエーテルアセテート 20μ二の感光層
上にポリビニルアルコール(ケン化度86.5〜89モ
ル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布
重量が2 g/m”となるように塗布し、100°C/
2分間乾燥させた。
88nm)の各単色光を用いた。可視光はタングステン
ランプを光源としケンコー光学フィルター(Kenko
optical filter) B P −49を
通して得た。感光測定には冨十PSステンプガイド(富
士写真フィルム株式会社製、初段の透過光学濃度が0,
05で順次0.15増えていき15段まであるステップ
タブレット)を使用して行った。感材膜面部での照度が
25 LIJXで40秒露光した時のPSステップガイ
ドのクリアー段数で示した。
定した。
−3)の波長488nmのシングルラインをビーム径2
5μで使用し、Ar” レーザーの強度を変え、スキャ
ンした(NDフィルター使用)、現像後に得られた線巾
を測定し25μの線巾が再現された時の什゛レーザーの
強度を感度とした。この値が低いほど感度が高い。表中
(−・)は、極めて低感度であること、具体的には、4
8IIJ/c己以上であることを意味する。
た。
〜15は、可視光、Ar” レーザー光に対する感度が
高いのに対し、成分(11)を含んでいない比較例1〜
7は可視光、Ar” レーザー光、いずれに対しても全
く感度をもっていないことがわかる。
む実施例16〜29は、成分(iv)を含まない実施例
1〜7よりさらに感度が向上していることがわかる。
V)を含む実施例30〜43は、成分(v)を含まない
実施例16〜29よりさらに感度が向上していることが
わかる。
が、成分(11)を含まない比較例8〜15、成分(i
ii )を含まない比較例16〜29はいずれも全く感
度がないか、極めて低いことがわかる。
Claims (3)
- (1)(i)付加重合性不飽和結合を有する重合可能な
化合物 (ii)一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] (式中R^1およびR^2は各々独立して水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボニル基、
アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を表わ
す。Aは酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原
子、アルキルないしはアリール置換された窒素原子、ま
たはジアルキル置換された炭素原子を表わす。Xは含窒
素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非金属原子群を表
わす。 Yは置換フェニル基、無置換ないしは置換 された多核芳香環、または無置換ないしは置換されたヘ
テロ芳香環を表わす。Zは水素原子、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシカルボニル
基を表わし、Yと互いに結合して環を形成していてもよ
い。) で表わされる化合物、および (iii)(イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物、
(ロ)芳香族オニウム塩、 (ハ)有機過酸化物、 (ニ)一般式[II]で示されるチオ化合物:▲数式、化
学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等が
あります▼[II] (ここでR^3はアルキル基、アリール基 または置換アリール基を示し、R^4は水 素原子またはアルキル基を示す。また、 R^3とR^4は、互いに結合して酸素、硫黄および窒
素原子から選ばれたヘテロ原子 を含んでもよい5員ないし7員環を形成 するのに必要な非金属原子群を表わす。) (ホ)ヘキサアリールビイミダゾール化合 物、および (ヘ)ケトオキシムエステル からなる群から選ばれた少なくとも一つの 化合物 を含有することを特徴とする光重合性組成物。 - (2)請求項(1)において、更に (iv)一般式[III]: ▲数式、化学式、表等があります▼[III] (ここで、R^5、R^6、R^7およびR^8は互い
に同一でも異なっていてもよく、各々 置換又は非置換のアルキル基、置換又は非 置換のアリール基、置換又は非置換のアル ケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、もしくは置
換又は非置換の複素環基を示し、R^5、R^6、R^
7およびR^8はその2個以上の基が結合して環状構造
を形成してもよ い。ただし、R^5、R^6、R^7およびR^8のう
ち、少なくとも1つは置換又は非置換 のアルキル基である、Z^+はアルカリ金属カチオンま
たは第4級アンモニウムカチオ ンを表わす。) で表わされる化合物を含有することを特徴とする光重合
性組成物。 - (3)請求項1または2において、更に (v)一般式[IV]: ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] ここで、Arは下記の一般式の一つから 選ばれた芳香族基を表し、R^9、R^1^0は水素原
子又はアルキル基を表し、又、R^9とR^1^0は互
いに結合してアルキレン基を表しても良い。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし式中、R^1^1〜R^1^5は互いに同一で
も異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール
基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−S−
R^1^7基、−SO−R^1^7基又は−SO_2R
^1^7基を表わすが、但しR^1^1〜R^1^5基
の少なくとも一つは−S−R^1^7基、−SO−R^
1^7基又は−SO_2R^1^7基を表し、R^1^
7はアルキル基、アルケニル基、R^1^6は水素原子
、アルキル基又はアシル基を表す。 Y^2は水素原子又は▲数式、化学式、表等があります
▼ を表す。)で表わされる化合物を含有することを特徴と
する光重合性組成物。
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