JPH08162716A - 半導体レーザの駆動方法及び半導体レーザ装置及び光通信方法及びノード及び光通信システム - Google Patents
半導体レーザの駆動方法及び半導体レーザ装置及び光通信方法及びノード及び光通信システムInfo
- Publication number
- JPH08162716A JPH08162716A JP6300956A JP30095694A JPH08162716A JP H08162716 A JPH08162716 A JP H08162716A JP 6300956 A JP6300956 A JP 6300956A JP 30095694 A JP30095694 A JP 30095694A JP H08162716 A JPH08162716 A JP H08162716A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor laser
- phase
- current
- modulation
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/50—Transmitters
- H04B10/516—Details of coding or modulation
- H04B10/532—Polarisation modulation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
- H01S5/0625—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
- H01S5/06233—Controlling other output parameters than intensity or frequency
- H01S5/06236—Controlling other output parameters than intensity or frequency controlling the polarisation, e.g. TM/TE polarisation switching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
- H01S5/0625—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
- H01S5/06255—Controlling the frequency of the radiation
- H01S5/06258—Controlling the frequency of the radiation with DFB-structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/34—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
- H01S5/3403—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers having a strained layer structure in which the strain performs a special function, e.g. general strain effects, strain versus polarisation
- H01S5/3404—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers having a strained layer structure in which the strain performs a special function, e.g. general strain effects, strain versus polarisation influencing the polarisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/34—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
- H01S5/343—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/34306—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength longer than 1000nm, e.g. InP based 1300 and 1500nm lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/34—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
- H01S5/343—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/34313—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser with a well layer having only As as V-compound, e.g. AlGaAs, InGaAs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/34—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
- H01S5/343—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/3434—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser with a well layer comprising at least both As and P as V-compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Communication System (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 偏波変調時の変調帯域を広げる。
【構成】 互いの位相を調整した2つの変調電流を多電
極レーザの異なる電極にそれぞれ注入する。 【効果】 変調周波数が低周波時の出力波形の変換及び
位相ずれを減らすことができる。
極レーザの異なる電極にそれぞれ注入する。 【効果】 変調周波数が低周波時の出力波形の変換及び
位相ずれを減らすことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本願発明は半導体レーザに関わる
ものであり、特には光通信用光源での半導体レーザの使
用に関する。
ものであり、特には光通信用光源での半導体レーザの使
用に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光通信分野において伝送容量を拡
大することが望まれており、複数の波長あるいは光周波
数を1本の光ファイバに多重させた光周波数多重(光F
DM)伝送の開発が行なわれいる。
大することが望まれており、複数の波長あるいは光周波
数を1本の光ファイバに多重させた光周波数多重(光F
DM)伝送の開発が行なわれいる。
【0003】光FDMの技術は受信方法によって2つに
大別できる。局発光源とのビートを取って中間周波数を
得て検出するコヒーレント光通信と、波長可変フィルタ
で所望の波長(周波数)の光のみを透過させて検出する
方法である。
大別できる。局発光源とのビートを取って中間周波数を
得て検出するコヒーレント光通信と、波長可変フィルタ
で所望の波長(周波数)の光のみを透過させて検出する
方法である。
【0004】上記波長可変フィルタには、マッハツェン
ダ型、ファイバファブリペロ型、AO変調器型、半導体
型などがあり開発が進められている。
ダ型、ファイバファブリペロ型、AO変調器型、半導体
型などがあり開発が進められている。
【0005】伝送容量をなるべく多くするためには、波
長間隔を小さくすることが重要である。そのためには、
波長可変フィルタの透過帯域幅を小さく、光源となるレ
ーザの占有周波数帯域あるいはスペクトル線幅が小さい
ことが望ましい。例えば、波長可変幅3nmの半導体D
FBフィルタでは、透過帯域幅0.03nm程度である
ため、理想的には100チャンネルの多重が可能であ
る。しかし、この場合光源のスペクトル線幅が0.03
nm以下であることが要求される。現状では、動的単一
モード発振する半導体レーザとしてしられるDFBレー
ザでも、直接ASK変調を行なうと、動的波長変動がお
きてスペクトル線幅が0.3nm程度まで広がってしま
い、このような波長多重伝送に向かない。
長間隔を小さくすることが重要である。そのためには、
波長可変フィルタの透過帯域幅を小さく、光源となるレ
ーザの占有周波数帯域あるいはスペクトル線幅が小さい
ことが望ましい。例えば、波長可変幅3nmの半導体D
FBフィルタでは、透過帯域幅0.03nm程度である
ため、理想的には100チャンネルの多重が可能であ
る。しかし、この場合光源のスペクトル線幅が0.03
nm以下であることが要求される。現状では、動的単一
モード発振する半導体レーザとしてしられるDFBレー
ザでも、直接ASK変調を行なうと、動的波長変動がお
きてスペクトル線幅が0.3nm程度まで広がってしま
い、このような波長多重伝送に向かない。
【0006】そこで、このような波長変動を抑えるた
め、外部強度変調器を用いたり(例えば、鈴木他;“λ
/4シフトDFBレーザ/吸収型光変調器集積光源”、
電子情報通信学会研究会予稿集、OQE90−45,
p.99,1990)、直接FSK変調方式(例えば、
M.J.CHAWKIetal.;“1.5Gbit/
sFSK TRANSMISSION SYSTEM
USING TWO ELECTRODE DFB L
ASER AS A TUNABLE FSK DIS
CRIMINATOR/PHOTODETECTO
R”,ELECTRON.LET.,vol.26,N
o.15,p.1146,1990)、直接偏波変調方
式(公開特許 平2−159781号公報)などが考案
されている。
め、外部強度変調器を用いたり(例えば、鈴木他;“λ
/4シフトDFBレーザ/吸収型光変調器集積光源”、
電子情報通信学会研究会予稿集、OQE90−45,
p.99,1990)、直接FSK変調方式(例えば、
M.J.CHAWKIetal.;“1.5Gbit/
sFSK TRANSMISSION SYSTEM
USING TWO ELECTRODE DFB L
ASER AS A TUNABLE FSK DIS
CRIMINATOR/PHOTODETECTO
R”,ELECTRON.LET.,vol.26,N
o.15,p.1146,1990)、直接偏波変調方
式(公開特許 平2−159781号公報)などが考案
されている。
【0007】上記3つの例を比較してみる。外部変調器
の場合、波長変動が0.03nm程度であり、仕様に対
してぎりぎりの性能であり、装置の点数も増えるためコ
ストなどの面で好ましくない。また、FSKの場合、受
信側のファイルを波長弁別装置として機能させる場合が
あり、複雑な制御技術を必要とする。
の場合、波長変動が0.03nm程度であり、仕様に対
してぎりぎりの性能であり、装置の点数も増えるためコ
ストなどの面で好ましくない。また、FSKの場合、受
信側のファイルを波長弁別装置として機能させる場合が
あり、複雑な制御技術を必要とする。
【0008】一方、偏波変調は、図16に示す如き2電
極レーザを用い、図17aのようにTEとTMモードが
スイッチングする点にバイアス電流を固定し、Ι1を微
小矩形電流ΔΙ1で変調すると図17bのように偏波面
がスイッチングし、図16のようにレーザの出力端に偏
光子をおいてどちらかの偏波面のみ選択的に取り出すこ
とで、ASKを行なうものである。通常のDFBレーザ
を多電極化するだけで装置点数は増えず、波長変動が外
部変調方式に比べてさらに小さく、伝送信号はASKの
ため、受信側のファイル等の負荷が小さいという利点が
ある。
極レーザを用い、図17aのようにTEとTMモードが
スイッチングする点にバイアス電流を固定し、Ι1を微
小矩形電流ΔΙ1で変調すると図17bのように偏波面
がスイッチングし、図16のようにレーザの出力端に偏
光子をおいてどちらかの偏波面のみ選択的に取り出すこ
とで、ASKを行なうものである。通常のDFBレーザ
を多電極化するだけで装置点数は増えず、波長変動が外
部変調方式に比べてさらに小さく、伝送信号はASKの
ため、受信側のファイル等の負荷が小さいという利点が
ある。
【0009】
【発明が解決しようとしている課題】以上のように偏波
変調は、波長多重伝送等に好適の変調方式であるが、従
来の提案では、偏波変調の駆動方法について言及は少な
く、実用化するにはまず駆動方法を確立しなければなら
ない。
変調は、波長多重伝送等に好適の変調方式であるが、従
来の提案では、偏波変調の駆動方法について言及は少な
く、実用化するにはまず駆動方法を確立しなければなら
ない。
【0010】偏波変調は、多電極DFBレーザの1つの
電極に矩形信号を与え、TE偏波とTM偏波をスイッチ
ングさせ、出射端に偏光子を配していずれかの偏波を取
り出し、ASK変調するものであるが、変調特性は、1
MHz以下の低周波において劣化していることが問題と
なっている。
電極に矩形信号を与え、TE偏波とTM偏波をスイッチ
ングさせ、出射端に偏光子を配していずれかの偏波を取
り出し、ASK変調するものであるが、変調特性は、1
MHz以下の低周波において劣化していることが問題と
なっている。
【0011】例えば、図16において、2電極のDFB
レーザの一方の電流I1を正弦波電流で変調したとき
の、変調周波数と偏光子透過後の変調度の関係を図18
に、変調周波数と位相差(変調電流と変調光信号との位
相差)の関係を図19に示す。この図のように、数10
0kHz付近で変調度のディップが生じ、位相は1MH
z以下で変動してDCに近づくと逆相の応答を示すこと
がわかる。これは、レーザの偏波変調の物理的要因とし
て、数MHzにカットオフを持つ逆相の熱による屈折率
変化の効果と、共振周波数までフラットな同相のキャリ
ア密度による屈折率変化の効果の2つが重ね合わされて
偏波スイッチングが行なわれているからである。低域で
は、熱の効果が支配的になってしまうために、このよう
に位相特性の平坦性が失われてしまう。
レーザの一方の電流I1を正弦波電流で変調したとき
の、変調周波数と偏光子透過後の変調度の関係を図18
に、変調周波数と位相差(変調電流と変調光信号との位
相差)の関係を図19に示す。この図のように、数10
0kHz付近で変調度のディップが生じ、位相は1MH
z以下で変動してDCに近づくと逆相の応答を示すこと
がわかる。これは、レーザの偏波変調の物理的要因とし
て、数MHzにカットオフを持つ逆相の熱による屈折率
変化の効果と、共振周波数までフラットな同相のキャリ
ア密度による屈折率変化の効果の2つが重ね合わされて
偏波スイッチングが行なわれているからである。低域で
は、熱の効果が支配的になってしまうために、このよう
に位相特性の平坦性が失われてしまう。
【0012】このような特性を示す場合次のような問題
が生じる。偏波変調では、主にディジタル信号を伝送す
るわけだが、パルス幅が1MHz以下で波形変換されて
しまい、伝送に誤りが生じる。その例を図20に示す。
(a)のようにパルス幅1MHzでパルスやせが起こっ
ており、(b)のように100kHzでは逆相のパルス
になってしまう。従って、低域に制限を受けることにな
り、符号化の自由度が制限される。
が生じる。偏波変調では、主にディジタル信号を伝送す
るわけだが、パルス幅が1MHz以下で波形変換されて
しまい、伝送に誤りが生じる。その例を図20に示す。
(a)のようにパルス幅1MHzでパルスやせが起こっ
ており、(b)のように100kHzでは逆相のパルス
になってしまう。従って、低域に制限を受けることにな
り、符号化の自由度が制限される。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願においては、上記課
題を鑑み、半導体レーザそのものに特別な手段を講じる
ことなく偏波変調の変調帯域を広げ、特には低周波側に
広げ、符号化の自由度を向上させて、連続度長い符号で
も受信の誤り率を低減し、より高密度な伝送を可能とす
ることを目的とする。
題を鑑み、半導体レーザそのものに特別な手段を講じる
ことなく偏波変調の変調帯域を広げ、特には低周波側に
広げ、符号化の自由度を向上させて、連続度長い符号で
も受信の誤り率を低減し、より高密度な伝送を可能とす
ることを目的とする。
【0014】そのために、2つ以上の複数の電極を有す
る半導体レーザを、偏波面の異なる2つの偏波モードを
スイッチして駆動する半導体レーザの駆動方法であっ
て、該スイッチする周波数が低周波のときには、前記複
数の電極の内の一部の電極に主たる変調電流を注入する
と同時に、残りの電極のうちの少なくとも一部の電極
に、該主たる変調電流に対する位相を調整した副たる変
調電流を注入することを特徴とする半導体レーザの駆動
方法と、偏波面の異なる2つの偏波モードをスイッチさ
せて出力する半導体レーザ装置であって、2つ以上の複
数の電極を有する半導体レーザと、該半導体レーザの複
数の電極の内の一部の電極に主たる変調電流を注入する
手段と、該半導体レーザの残りの電極の少なくとも一部
の電極に、該主たる変調電流に対する位相を調整した副
たる変調電流を注入する手段と、前記偏波モードをスイ
ッチする周波数の高低によって、前記副たる変調電流を
注入するしかないかを選択する手段とを有していること
を特徴とする半導体レーザ装置と、偏波面の異なる2つ
の偏波モードをスイッチさせて出力する半導体レーザ装
置であって、2つ以上の複数の電極を有する半導体レー
ザと、変調電源の出力を2つに分ける手段と、該2つに
分けた出力の一方を利得のカットオフが数GHz以上の
広帯域増幅器を通してAC結合で前記半導体レーザの複
数の電極の内の一部の電極に注入する手段と、前記2つ
に分けた出力の残りの一方を利得のカットオフ周波数が
前記広帯域増幅器より小さい低周波増幅器を通してAC
結合で前記半導体レーザの複数の電極の残りの電極の内
の少なくとも一部の電極に注入する手段とを有すること
を特徴とする半導体レーザ装置と、偏波面の異なる2つ
の偏波モードをスイッチさせて出力する半導体レーザ装
置であって、2つ以上の複数の電極を有する半導体レー
ザと、変調電源の出力を2つに分ける手段と、該2つに
分けた出力の一方を出力の一方を電圧電流変喚器を通し
てDC結合で直流電流と共に前記半導体レーザの複数の
電極の内の一部の電極に注入する手段と、前記2つに分
けた出力の残りの一方を電圧電流変喚器を通してDC結
合で前記半導体レーザの複数の電極の残りの電極の内の
少なくとも一部の電極に注入する手段と、前記2つの電
圧電流変喚器のいずれか一方と前記半導体レーザとの間
に設けた低域通過フィルタとを有することを特徴とする
半導体レーザ装置と、光ファイバを通じて光信号を伝送
する光通信方法であって、前記半導体レーザの駆動方法
によって得た2つの偏波モードの内いずれかを選択的に
取り出したものを送信光として光ファイバで伝送し、該
送信光を直接検波することによって受信することを特徴
とする光通信方法と、互いに異なる波長の光を出射する
複数の半導体レーザそれぞれを前記半導体レーザの駆動
方法で駆動し、光ファイバ中を波長多重伝送させ、該波
長多重された光信号の中から所望の波長の光のみを波長
フィルタで取り出して受信することを特徴とする光通信
方法と、光ファイバに接続して光通信を行うノードであ
って、光受信装置と、前記半導体レーザ装置を有する光
送信装置とを備えたことを特徴とするノードと、光受信
装置と、前記半導体レーザ装置を有する光送信装置を備
えたノードを複数光ファイバで接続し、波長多重伝送に
より通信を行うことを特徴とする光通信システムとを提
供する。
る半導体レーザを、偏波面の異なる2つの偏波モードを
スイッチして駆動する半導体レーザの駆動方法であっ
て、該スイッチする周波数が低周波のときには、前記複
数の電極の内の一部の電極に主たる変調電流を注入する
と同時に、残りの電極のうちの少なくとも一部の電極
に、該主たる変調電流に対する位相を調整した副たる変
調電流を注入することを特徴とする半導体レーザの駆動
方法と、偏波面の異なる2つの偏波モードをスイッチさ
せて出力する半導体レーザ装置であって、2つ以上の複
数の電極を有する半導体レーザと、該半導体レーザの複
数の電極の内の一部の電極に主たる変調電流を注入する
手段と、該半導体レーザの残りの電極の少なくとも一部
の電極に、該主たる変調電流に対する位相を調整した副
たる変調電流を注入する手段と、前記偏波モードをスイ
ッチする周波数の高低によって、前記副たる変調電流を
注入するしかないかを選択する手段とを有していること
を特徴とする半導体レーザ装置と、偏波面の異なる2つ
の偏波モードをスイッチさせて出力する半導体レーザ装
置であって、2つ以上の複数の電極を有する半導体レー
ザと、変調電源の出力を2つに分ける手段と、該2つに
分けた出力の一方を利得のカットオフが数GHz以上の
広帯域増幅器を通してAC結合で前記半導体レーザの複
数の電極の内の一部の電極に注入する手段と、前記2つ
に分けた出力の残りの一方を利得のカットオフ周波数が
前記広帯域増幅器より小さい低周波増幅器を通してAC
結合で前記半導体レーザの複数の電極の残りの電極の内
の少なくとも一部の電極に注入する手段とを有すること
を特徴とする半導体レーザ装置と、偏波面の異なる2つ
の偏波モードをスイッチさせて出力する半導体レーザ装
置であって、2つ以上の複数の電極を有する半導体レー
ザと、変調電源の出力を2つに分ける手段と、該2つに
分けた出力の一方を出力の一方を電圧電流変喚器を通し
てDC結合で直流電流と共に前記半導体レーザの複数の
電極の内の一部の電極に注入する手段と、前記2つに分
けた出力の残りの一方を電圧電流変喚器を通してDC結
合で前記半導体レーザの複数の電極の残りの電極の内の
少なくとも一部の電極に注入する手段と、前記2つの電
圧電流変喚器のいずれか一方と前記半導体レーザとの間
に設けた低域通過フィルタとを有することを特徴とする
半導体レーザ装置と、光ファイバを通じて光信号を伝送
する光通信方法であって、前記半導体レーザの駆動方法
によって得た2つの偏波モードの内いずれかを選択的に
取り出したものを送信光として光ファイバで伝送し、該
送信光を直接検波することによって受信することを特徴
とする光通信方法と、互いに異なる波長の光を出射する
複数の半導体レーザそれぞれを前記半導体レーザの駆動
方法で駆動し、光ファイバ中を波長多重伝送させ、該波
長多重された光信号の中から所望の波長の光のみを波長
フィルタで取り出して受信することを特徴とする光通信
方法と、光ファイバに接続して光通信を行うノードであ
って、光受信装置と、前記半導体レーザ装置を有する光
送信装置とを備えたことを特徴とするノードと、光受信
装置と、前記半導体レーザ装置を有する光送信装置を備
えたノードを複数光ファイバで接続し、波長多重伝送に
より通信を行うことを特徴とする光通信システムとを提
供する。
【0015】
【作用】上述したように、本願発明においては、偏波変
調の変調周波数が低周波のときには、2つの変調電流が
多電極構造の半導体レーザのそれぞれ異なる電極に注入
される。
調の変調周波数が低周波のときには、2つの変調電流が
多電極構造の半導体レーザのそれぞれ異なる電極に注入
される。
【0016】その2つの変調電流の位相の関係は、素子
の偏波スイッチング特性によって若干異なる。一般に熱
による影響が大きい構造の半導体レーザの場合には、T
E/TMの発信モードの分布は、I1/I2に対して図1
2のようになっており、TE/TMの発振モードの境界
戦の傾きは正である。すなわち、偏波のスイッチング点
近傍にDCバイアスを固定しておくと、I1を増加させ
るとTEからTMに、I2を増加させるとTMからTE
に偏波スイッチングが起こることがわかる。従って、I
1とI2の変化に対する偏波スイッチングの位相は互いに
逆相になっている。そのため、ΔI2としてΔI1と同相
の変調電流を与えれば、熱による偏波スイッチングの方
向がΔI1と逆になるため、ΔI1に対する熱による偏波
のスイッチングを抑えることができる。また、そのとき
のΔI1とΔI2の振幅の比は、図12のような偏波のス
イッチング線に平行になるような振幅比にすれば好適で
ある。
の偏波スイッチング特性によって若干異なる。一般に熱
による影響が大きい構造の半導体レーザの場合には、T
E/TMの発信モードの分布は、I1/I2に対して図1
2のようになっており、TE/TMの発振モードの境界
戦の傾きは正である。すなわち、偏波のスイッチング点
近傍にDCバイアスを固定しておくと、I1を増加させ
るとTEからTMに、I2を増加させるとTMからTE
に偏波スイッチングが起こることがわかる。従って、I
1とI2の変化に対する偏波スイッチングの位相は互いに
逆相になっている。そのため、ΔI2としてΔI1と同相
の変調電流を与えれば、熱による偏波スイッチングの方
向がΔI1と逆になるため、ΔI1に対する熱による偏波
のスイッチングを抑えることができる。また、そのとき
のΔI1とΔI2の振幅の比は、図12のような偏波のス
イッチング線に平行になるような振幅比にすれば好適で
ある。
【0017】このような同相信号を発生させる手段は色
々考えられるが、DC〜数MHzという低周波数でのみ
考えればよい。たとえば、図4のように信号をパワーデ
バイダによって2つに分割し、ひとつは広帯域な反転ア
ンプを通し、もうひとつはカットオフ数MHz程度の反
転アンプを通してそれぞれL、Cで構成されたバイアス
Tを通してレーザの電極にDC電流とAC結合で重畳す
ればよい。この図でレーザは2つのダイオードの並列と
して表現してある。
々考えられるが、DC〜数MHzという低周波数でのみ
考えればよい。たとえば、図4のように信号をパワーデ
バイダによって2つに分割し、ひとつは広帯域な反転ア
ンプを通し、もうひとつはカットオフ数MHz程度の反
転アンプを通してそれぞれL、Cで構成されたバイアス
Tを通してレーザの電極にDC電流とAC結合で重畳す
ればよい。この図でレーザは2つのダイオードの並列と
して表現してある。
【0018】または、図5のように高速の電流ドライバ
チップを用いて、一方はそのまま、もう一方カットオフ
数MHzの低域通過フィルタを通してそれぞれの電極を
ドライブしてもよい。図のように、このドライバチップ
は変調電流源IpとDCバイアス電流源Ibが並列に集
積されたものである。この場合、バイアスTを通さない
ので、変調電流の低域カットオフは存在せず、DCまで
駆動できる。また、小型の回路基板に実装でき、レーザ
とともに1つの箱にモジュール化してもよい。
チップを用いて、一方はそのまま、もう一方カットオフ
数MHzの低域通過フィルタを通してそれぞれの電極を
ドライブしてもよい。図のように、このドライバチップ
は変調電流源IpとDCバイアス電流源Ibが並列に集
積されたものである。この場合、バイアスTを通さない
ので、変調電流の低域カットオフは存在せず、DCまで
駆動できる。また、小型の回路基板に実装でき、レーザ
とともに1つの箱にモジュール化してもよい。
【0019】一方、半導体レーザの構造によっては熱の
効果が小さい場合があり、このような素子では図13の
ように、図12とは相反した偏波スイッチング特性を示
し、TE/TMの発振モードの境界線の傾きは負とな
る。この場合には、上記で述べたものと逆に、ΔI1と
ΔI2は互いに逆相の信号とすればよいことになる。
効果が小さい場合があり、このような素子では図13の
ように、図12とは相反した偏波スイッチング特性を示
し、TE/TMの発振モードの境界線の傾きは負とな
る。この場合には、上記で述べたものと逆に、ΔI1と
ΔI2は互いに逆相の信号とすればよいことになる。
【0020】
(実施例1)図1は本発明による駆動方法を実現するた
めの2電極DFBレーザの斜視図、図4は本実施例の駆
動装置の構成を説明する図である。
めの2電極DFBレーザの斜視図、図4は本実施例の駆
動装置の構成を説明する図である。
【0021】図1において、101は基板となるn−I
nP、102は深さ0.05μmの回析格子が形成され
たn−InPバッファ層、103は0.2μmのn−I
nGaAsP(バンドギャップ波長λg=1.17μ
m)下部光ガイド層、104は井戸層i−In0.29Ga
0.71As 10nm、バリア層i−InGaAsP(λ
g=1.17μm)10nm10層からなる歪超格子構
造の活性層、105はp=InPクラッド層、106は
p−In0.53Ga0.47Asコンタクト層、107は高抵
抗InP埋め込み層、108はコンタクト層106が除
去された電極分離領域、109は電極であるCr/Au
ZnNi/Au層、110は電極であるCr/AuZn
Ni/Au層、111は基板側電極であるAuGeNi
/Au層、112は反射防止膜となるSiO膜である。
ここで、このDFBレーザは活性層が引っ張り歪をもつ
多重量子井戸層になっており、ライトホール準位−電子
の基底準位及びヘビーホール準位−電子の基底準位間の
遷移エネルギーを等しく設計してあるため、通常のDF
Bレーザに比べるとTM偏波での発振しきい値が低く、
効率よく偏波スイッチングできる構成になっている。同
様な構成のレーザが特願平5−310592号公報に開
示されている。回析格子103による分布帰還波長はラ
イトホール準位−電子の基底準位間のバンドギャップに
対応する波長の近傍となるよう回析格子のピッチを24
0nmに設定し、TEモードで1.562μm、TMモ
ードで1.558μmでブラッグ波長を持つ構成にして
いる。
nP、102は深さ0.05μmの回析格子が形成され
たn−InPバッファ層、103は0.2μmのn−I
nGaAsP(バンドギャップ波長λg=1.17μ
m)下部光ガイド層、104は井戸層i−In0.29Ga
0.71As 10nm、バリア層i−InGaAsP(λ
g=1.17μm)10nm10層からなる歪超格子構
造の活性層、105はp=InPクラッド層、106は
p−In0.53Ga0.47Asコンタクト層、107は高抵
抗InP埋め込み層、108はコンタクト層106が除
去された電極分離領域、109は電極であるCr/Au
ZnNi/Au層、110は電極であるCr/AuZn
Ni/Au層、111は基板側電極であるAuGeNi
/Au層、112は反射防止膜となるSiO膜である。
ここで、このDFBレーザは活性層が引っ張り歪をもつ
多重量子井戸層になっており、ライトホール準位−電子
の基底準位及びヘビーホール準位−電子の基底準位間の
遷移エネルギーを等しく設計してあるため、通常のDF
Bレーザに比べるとTM偏波での発振しきい値が低く、
効率よく偏波スイッチングできる構成になっている。同
様な構成のレーザが特願平5−310592号公報に開
示されている。回析格子103による分布帰還波長はラ
イトホール準位−電子の基底準位間のバンドギャップに
対応する波長の近傍となるよう回析格子のピッチを24
0nmに設定し、TEモードで1.562μm、TMモ
ードで1.558μmでブラッグ波長を持つ構成にして
いる。
【0022】ここで、電極109にDCバイアス35
A、電極110にDCバイアス28Aを流し、電極11
0に振幅5mAのディジタル信号ΔI1を重畳させる
と、すでに述べたようにTE/TMのスイッチングが起
こる。また、振幅5mAの正弦波信号ΔI1を重畳させ
ると、その変調周波数依存性は図18及び図19のよう
になり、変調度は100Hz〜1GHzにおいて3dB
以内に収まっているが、位相差は1MHz以下で回って
いる。これは、課題の項目で述べたように低域で熱の効
果が大きく支配的になるためである。
A、電極110にDCバイアス28Aを流し、電極11
0に振幅5mAのディジタル信号ΔI1を重畳させる
と、すでに述べたようにTE/TMのスイッチングが起
こる。また、振幅5mAの正弦波信号ΔI1を重畳させ
ると、その変調周波数依存性は図18及び図19のよう
になり、変調度は100Hz〜1GHzにおいて3dB
以内に収まっているが、位相差は1MHz以下で回って
いる。これは、課題の項目で述べたように低域で熱の効
果が大きく支配的になるためである。
【0023】そこで、図4のような装置構成により電極
109に主たる変調電流ΔI1に対する副たる変調電流
となるΔI2を流した。変調電流409からの信号を
1:1のパワーデバイダ408によって2つに分け、1
つは利得10、カットオフ周波数fcが10GHzの反
転広帯域ビデオアンプ406を通し、低域カットオフ周
波数1kHzのバイアスT402によってDC電源40
3の直流電流と重畳させてレーザ401の駆動電流I1
+ΔI1として駆動する。パワーデバイダのもうひとつ
の出力は、利得10、カットオフ周波数fcが1MHz
の反転オペアンプ407を通し、同様にバイアスT40
4によってDC電源405の直流電流と重畳させてレー
ザ401の駆動電流I2+ΔI2として駆動する。ここで
はアンプ406と407は両方とも反転出力型なので、
ΔI1とΔI2の位相はそろっている。またここでは、変
調電源は出力可変のもので、変調度は電源で調整する。
アンプ406と407の利得の比は、低域で熱効果を抑
えるために最適化したもので、後述する本素子のTE/
TM発振特性及びパワーデバイダにおける分岐比が1:
1であることから決定した。この電流比は、素子の組
成、素子構成、材料、実装形成などでことなるため、そ
の都度最適化する必要がある。またアンプ406のカッ
トオフ周波数は10GHzとしたが、これは変調周波数
に応じて適宜選択すればよい。
109に主たる変調電流ΔI1に対する副たる変調電流
となるΔI2を流した。変調電流409からの信号を
1:1のパワーデバイダ408によって2つに分け、1
つは利得10、カットオフ周波数fcが10GHzの反
転広帯域ビデオアンプ406を通し、低域カットオフ周
波数1kHzのバイアスT402によってDC電源40
3の直流電流と重畳させてレーザ401の駆動電流I1
+ΔI1として駆動する。パワーデバイダのもうひとつ
の出力は、利得10、カットオフ周波数fcが1MHz
の反転オペアンプ407を通し、同様にバイアスT40
4によってDC電源405の直流電流と重畳させてレー
ザ401の駆動電流I2+ΔI2として駆動する。ここで
はアンプ406と407は両方とも反転出力型なので、
ΔI1とΔI2の位相はそろっている。またここでは、変
調電源は出力可変のもので、変調度は電源で調整する。
アンプ406と407の利得の比は、低域で熱効果を抑
えるために最適化したもので、後述する本素子のTE/
TM発振特性及びパワーデバイダにおける分岐比が1:
1であることから決定した。この電流比は、素子の組
成、素子構成、材料、実装形成などでことなるため、そ
の都度最適化する必要がある。またアンプ406のカッ
トオフ周波数は10GHzとしたが、これは変調周波数
に応じて適宜選択すればよい。
【0024】本素子では、TE/TMの発振モードの分
布は、I1/I2に対して図14のようになっている。す
なわち、偏波のスイッチング点近傍にDCバイアスを固
定しておくと、I1を増加させるとTEからTMに、I2
を増加させるとTMからTEに偏波スイッチングが起こ
ることがわかる。従って、I1とI2の変化に対する偏波
スイッチングの位相は互いに逆相になっている。そのた
め、ΔI2としてΔI1の同相の変調電流を与えれば、熱
による偏波スイッチングの方向がΔI1と逆になるた
め、ΔI1に対する熱による偏波スイッチングを抑える
ことができるのである。ΔI1とΔI2の振幅の比、すな
わち本実施例ではアンプ406と407の利得の比は図
14のTE/TMの発振モードの境界線の傾きが1であ
ることから、ΔI1とΔI2の合成の傾きが1となるべく
同じ値とした。
布は、I1/I2に対して図14のようになっている。す
なわち、偏波のスイッチング点近傍にDCバイアスを固
定しておくと、I1を増加させるとTEからTMに、I2
を増加させるとTMからTEに偏波スイッチングが起こ
ることがわかる。従って、I1とI2の変化に対する偏波
スイッチングの位相は互いに逆相になっている。そのた
め、ΔI2としてΔI1の同相の変調電流を与えれば、熱
による偏波スイッチングの方向がΔI1と逆になるた
め、ΔI1に対する熱による偏波スイッチングを抑える
ことができるのである。ΔI1とΔI2の振幅の比、すな
わち本実施例ではアンプ406と407の利得の比は図
14のTE/TMの発振モードの境界線の傾きが1であ
ることから、ΔI1とΔI2の合成の傾きが1となるべく
同じ値とした。
【0025】このような駆動方法で偏波変調したところ
図2のように低周波側で数kHzまで平坦な位相特性が
得られ、低域特性が大幅に改善できた。これにより、パ
ルス幅数kHz〜数GHzまでの矩形波信号による偏波
変調すなわちASK伝送が可能となった。
図2のように低周波側で数kHzまで平坦な位相特性が
得られ、低域特性が大幅に改善できた。これにより、パ
ルス幅数kHz〜数GHzまでの矩形波信号による偏波
変調すなわちASK伝送が可能となった。
【0026】(実施例2)図5は本発明による第2の実
施例を説明する図であり、実施例1とは異なる駆動装置
の構成を示している。使用する素子は、実施例1とほぼ
同じ2電極のDFBレーザである。
施例を説明する図であり、実施例1とは異なる駆動装置
の構成を示している。使用する素子は、実施例1とほぼ
同じ2電極のDFBレーザである。
【0027】本実施例では、低域カットオフを持つバイ
アスTを使用せず、駆動系全体を小型にするために、変
調可能なレーザドライバIC503、504を用いたも
のである。このドライバICの中身は図5の503、5
04のように直流電流源Ibと変調電流源Ipが並列に
集積化されており、ECLレベル(−0.9V〜−1.
8Vの振幅を持つ電圧パルスであり、高速ドライバIC
であるEmitterCoupled Logic(E
CL)を駆動する際の入力信号である。)の変調信号を
入力することでDCオフセット電流を持つ変調電流を駆
動できるものである。その変調度及びバイアス電流量は
IC側で制御できる。
アスTを使用せず、駆動系全体を小型にするために、変
調可能なレーザドライバIC503、504を用いたも
のである。このドライバICの中身は図5の503、5
04のように直流電流源Ibと変調電流源Ipが並列に
集積化されており、ECLレベル(−0.9V〜−1.
8Vの振幅を持つ電圧パルスであり、高速ドライバIC
であるEmitterCoupled Logic(E
CL)を駆動する際の入力信号である。)の変調信号を
入力することでDCオフセット電流を持つ変調電流を駆
動できるものである。その変調度及びバイアス電流量は
IC側で制御できる。
【0028】次に、具体的な駆動方法を説明する。EC
L出力をもつ変調電源505の出力をドライバIC50
3、504に入力する。変調電源を2つに分岐するとき
には2つのドライバの直前で行なえばパワーデバイダは
不要になる。ドライバIC503、504は変調入力に
対し同相出力を取り出す。一方の出力はカットオフ1M
Hzのローパスフィルタを通してレーザ501の駆動電
流I2+ΔI2として駆動する。もう一方はそのままレー
ザ501の駆動電流I1+ΔI1として駆動する。変調電
流の振幅比については、実施例1と同様に1:1で最適
化した。ここで、ドライバICは図5のように、レーザ
をグランドにつって電流を引き込む形にした方が高速性
を出すことができるので望ましい。そこで、この実施例
では、図1と導電型を逆にしてp基板を用い、電極分離
する側をn電極にした素子を用いた。
L出力をもつ変調電源505の出力をドライバIC50
3、504に入力する。変調電源を2つに分岐するとき
には2つのドライバの直前で行なえばパワーデバイダは
不要になる。ドライバIC503、504は変調入力に
対し同相出力を取り出す。一方の出力はカットオフ1M
Hzのローパスフィルタを通してレーザ501の駆動電
流I2+ΔI2として駆動する。もう一方はそのままレー
ザ501の駆動電流I1+ΔI1として駆動する。変調電
流の振幅比については、実施例1と同様に1:1で最適
化した。ここで、ドライバICは図5のように、レーザ
をグランドにつって電流を引き込む形にした方が高速性
を出すことができるので望ましい。そこで、この実施例
では、図1と導電型を逆にしてp基板を用い、電極分離
する側をn電極にした素子を用いた。
【0029】このような駆動系を組めば、系全体を非常
に小型にでき、1つの箱にモジュール化できる。また、
実施例1ではバイアスTの帯域で低域が制限されるが、
本実施例では低域に制限がない。そのため、低域特性を
さらに改善することができ、図3のように100Hz〜
1GHzにわたって位相特性を平坦にすることができ
た。これにより、ASK伝送する場合に、数Gbpsで
連続度が220−1以上のNRZ信号で符号化することが
でき、非常に高密度な伝送が可能となる。
に小型にでき、1つの箱にモジュール化できる。また、
実施例1ではバイアスTの帯域で低域が制限されるが、
本実施例では低域に制限がない。そのため、低域特性を
さらに改善することができ、図3のように100Hz〜
1GHzにわたって位相特性を平坦にすることができ
た。これにより、ASK伝送する場合に、数Gbpsで
連続度が220−1以上のNRZ信号で符号化することが
でき、非常に高密度な伝送が可能となる。
【0030】(実施例3)本実施例においては、実施例
1、2の半導体レーザとほぼ同じ構造で、組成を異なら
せた素子を用いた例を示す。
1、2の半導体レーザとほぼ同じ構造で、組成を異なら
せた素子を用いた例を示す。
【0031】構造はほぼ同じなので、図1を用いてその
組成を説明する。101は基板となるn−InP、10
2は深さ0.05μmの回析格子が形成されたn−In
Pバッファ層、103は0.2μmのn−InGaAs
P(バンドギャップ波長λg=1.3μm)下部光ガイ
ド層、104は井戸層i−In0.4Ga0.6As 8n
m、バリア層i−InGaAsP(λg=1.3μm)
10nm10層からなる歪超格子構造の活性層、105
はp=InPクラッド層、106はp−In0.53Ga
0.47Asコンタクト層、107は高抵抗InP埋め込み
層、108はコンタクト層106が除去された電極分離
領域、109は電極であるCr/AuZnNi/Au
層、110は電極であるCr/AuZnNi/Au層、
111は基板側電極であるAuGeNi/Au層、11
2は反射防止膜となるSiO膜である。ここで、このD
FBレーザは活性層が引っ張り歪をもつ多重量子井戸層
になっている。回析格子103による分布帰還波長はラ
イトホール準位−電子の基底準位間のバンドギャップに
対応する波長の近傍となるよう回析格子のピッチを24
0nm設定し、TEモードで1.562μm、TMモー
ドで1.558μmでブラッグ波長を持つ構成にしてい
る。
組成を説明する。101は基板となるn−InP、10
2は深さ0.05μmの回析格子が形成されたn−In
Pバッファ層、103は0.2μmのn−InGaAs
P(バンドギャップ波長λg=1.3μm)下部光ガイ
ド層、104は井戸層i−In0.4Ga0.6As 8n
m、バリア層i−InGaAsP(λg=1.3μm)
10nm10層からなる歪超格子構造の活性層、105
はp=InPクラッド層、106はp−In0.53Ga
0.47Asコンタクト層、107は高抵抗InP埋め込み
層、108はコンタクト層106が除去された電極分離
領域、109は電極であるCr/AuZnNi/Au
層、110は電極であるCr/AuZnNi/Au層、
111は基板側電極であるAuGeNi/Au層、11
2は反射防止膜となるSiO膜である。ここで、このD
FBレーザは活性層が引っ張り歪をもつ多重量子井戸層
になっている。回析格子103による分布帰還波長はラ
イトホール準位−電子の基底準位間のバンドギャップに
対応する波長の近傍となるよう回析格子のピッチを24
0nm設定し、TEモードで1.562μm、TMモー
ドで1.558μmでブラッグ波長を持つ構成にしてい
る。
【0032】ここで、電極109にDCバイアス35m
A、電極110にDCバイアス21mAを流し、電極1
10に振幅5mAのディジタル信号ΔI1を重畳させる
と、すでに述べたようにTE/TMのスイッチングが起
こる。また、振幅5mAの正弦波信号ΔI1を重畳させ
ると、その変調周波数依存性は図18及び図19のよう
になり、変調度は100Hz〜1GHzにおいて3dB
以内に収まっているが、位相差は1MHz以下で回って
いる。これは、課題の項目で述べたように低域で熱の効
果が大きく支配的になるためである。
A、電極110にDCバイアス21mAを流し、電極1
10に振幅5mAのディジタル信号ΔI1を重畳させる
と、すでに述べたようにTE/TMのスイッチングが起
こる。また、振幅5mAの正弦波信号ΔI1を重畳させ
ると、その変調周波数依存性は図18及び図19のよう
になり、変調度は100Hz〜1GHzにおいて3dB
以内に収まっているが、位相差は1MHz以下で回って
いる。これは、課題の項目で述べたように低域で熱の効
果が大きく支配的になるためである。
【0033】そこで、実施例1と同様に図4のような方
法で電極109に副たる変調電流ΔI2を流した。ただ
しここではアンプ406を反転型、アンプ407を非反
転型とした。変調電流409からの信号を1:1のパワ
ーデバイダ408によって2つに分け、1つは利得3
0、カットオフ周波数10GHzの反転広帯域ビデオア
ンプ407を通し、低域カットオフ周波数1kHzのバ
イアスT402によってDC電源403の直流電流と重
畳させてレーザ401の駆動電流I1+ΔI1として駆動
する。パワーデバイダのもうひとつの出力は、利得2
0、カットオフ周波数1MHzの非反転オペアンプ40
7を通し、同様にバイアスT404によってDC電源4
05の直流電流と重畳させてレーザ401の駆動電流I
2+ΔI2として駆動する。この場合、変調電源は出力可
変のもので、変調度は電源で調整する。アンプ406と
407の利得の比は、低域で熱効果を抑えるために最適
化したもので、後述する様に主たる変調電流ΔI1と副
たる変調電流ΔI2の振幅の比を3:2とすべきことか
ら決定した。この電流比は、素子構成、材料、実装形成
などでことなるため、その都度最適化する必要がある。
法で電極109に副たる変調電流ΔI2を流した。ただ
しここではアンプ406を反転型、アンプ407を非反
転型とした。変調電流409からの信号を1:1のパワ
ーデバイダ408によって2つに分け、1つは利得3
0、カットオフ周波数10GHzの反転広帯域ビデオア
ンプ407を通し、低域カットオフ周波数1kHzのバ
イアスT402によってDC電源403の直流電流と重
畳させてレーザ401の駆動電流I1+ΔI1として駆動
する。パワーデバイダのもうひとつの出力は、利得2
0、カットオフ周波数1MHzの非反転オペアンプ40
7を通し、同様にバイアスT404によってDC電源4
05の直流電流と重畳させてレーザ401の駆動電流I
2+ΔI2として駆動する。この場合、変調電源は出力可
変のもので、変調度は電源で調整する。アンプ406と
407の利得の比は、低域で熱効果を抑えるために最適
化したもので、後述する様に主たる変調電流ΔI1と副
たる変調電流ΔI2の振幅の比を3:2とすべきことか
ら決定した。この電流比は、素子構成、材料、実装形成
などでことなるため、その都度最適化する必要がある。
【0034】本素子では、TE/TMの発振モードの分
布は、I1/I2に対して図15のようになる。すなわ
ち、偏波のスイッチング点近傍にDCバイアスを固定し
ておくと、I1を増加させるとTEからTMに、I2を増
加させてもTEからTMに偏波スイッチングが起こるこ
とがわかる。従って、I1とI2の変化に対する偏波スイ
ッチングの位相は互いに同相になっている。そのため、
ΔI2としてΔI1の逆相の変調電流を与えれば、熱によ
る偏波スイッチングの方向がΔI1と逆になるため、Δ
I1に対する熱による偏波のスイッチングを抑えること
ができるのである。ここではTE/TM発振モードの境
界線の傾きは−2/3であることからΔI1/ΔI2=−
2/3とすればよいことがわかる。
布は、I1/I2に対して図15のようになる。すなわ
ち、偏波のスイッチング点近傍にDCバイアスを固定し
ておくと、I1を増加させるとTEからTMに、I2を増
加させてもTEからTMに偏波スイッチングが起こるこ
とがわかる。従って、I1とI2の変化に対する偏波スイ
ッチングの位相は互いに同相になっている。そのため、
ΔI2としてΔI1の逆相の変調電流を与えれば、熱によ
る偏波スイッチングの方向がΔI1と逆になるため、Δ
I1に対する熱による偏波のスイッチングを抑えること
ができるのである。ここではTE/TM発振モードの境
界線の傾きは−2/3であることからΔI1/ΔI2=−
2/3とすればよいことがわかる。
【0035】このような駆動方法で偏波変調すれば実施
例1と同様に低周波側で数kHzまで平坦な位相特性が
得られ、低域特性が大幅に改善できる。これにより、パ
ルス幅数kHz〜数GHzまでの矩形波信号による偏波
変調すなわちASK伝送が可能となる。
例1と同様に低周波側で数kHzまで平坦な位相特性が
得られ、低域特性が大幅に改善できる。これにより、パ
ルス幅数kHz〜数GHzまでの矩形波信号による偏波
変調すなわちASK伝送が可能となる。
【0036】(実施例4)本発明による第4の実施例を
図6にそって説明する。図6は、本実施例の半導体DF
Bレーザの斜視図であり、層構成は実施例1と同様であ
るが、3電極構造にして中心部の電極には活性層が除去
された位相調整領域があり、偏波スイッチングの制御性
をより向上させている。
図6にそって説明する。図6は、本実施例の半導体DF
Bレーザの斜視図であり、層構成は実施例1と同様であ
るが、3電極構造にして中心部の電極には活性層が除去
された位相調整領域があり、偏波スイッチングの制御性
をより向上させている。
【0037】201は基板となるn−Inp、202は
深さ0.05μmの回析格子が形成されたn−InPバ
ッファ層、203は0.2μmのn−InGaAsP
(バンドギャップ波長λg=1.17μm)下部光ガイ
ド層、204は井戸層i−In0.29Ga0.71As 10
nm、バリア層i−InGaAsP(λg=1.17μ
m)10nm10層からなる歪超格子構造の活性層、2
05はp−InPクラッド層、206はp−In0.53G
a0.47Asコンタクト層、207は高抵抗InP埋め込
み層、208及び208′はコンタクト層206が除去
された電極分離領域、209及び209′は電極である
Cr/AuZnNi/Au層、210は電極であるCr
/AuZnNi/Au層、211は基板側電極であるA
uGeNi/Au層、212及び212′は反射防止膜
となるSiO膜である。
深さ0.05μmの回析格子が形成されたn−InPバ
ッファ層、203は0.2μmのn−InGaAsP
(バンドギャップ波長λg=1.17μm)下部光ガイ
ド層、204は井戸層i−In0.29Ga0.71As 10
nm、バリア層i−InGaAsP(λg=1.17μ
m)10nm10層からなる歪超格子構造の活性層、2
05はp−InPクラッド層、206はp−In0.53G
a0.47Asコンタクト層、207は高抵抗InP埋め込
み層、208及び208′はコンタクト層206が除去
された電極分離領域、209及び209′は電極である
Cr/AuZnNi/Au層、210は電極であるCr
/AuZnNi/Au層、211は基板側電極であるA
uGeNi/Au層、212及び212′は反射防止膜
となるSiO膜である。
【0038】活性層が除去された中心部は、コンタクト
層、クラッド層、活性層をエッチングした後、i−In
GaAsP(λg=1.17μm)光ガイド層213、
p−InPクラッド層214、p−In0.53Ga0.47A
sコンタクト層215が選択的再成長により形成されて
いる。グレーティングのピッチ等は実施例1と同じであ
る。
層、クラッド層、活性層をエッチングした後、i−In
GaAsP(λg=1.17μm)光ガイド層213、
p−InPクラッド層214、p−In0.53Ga0.47A
sコンタクト層215が選択的再成長により形成されて
いる。グレーティングのピッチ等は実施例1と同じであ
る。
【0039】電流駆動方法は、両側電極209、20
9′には同じDCバイアス電流I2を流し、中心電極2
10にDCバイアスI1及び変調電流ΔI1を流す。I2
=60mA、I1=20mAのときΔI1=2mAのディ
ジタル信号を重畳させることで、TE/TMの偏波スイ
ッチングを行なうことができた。
9′には同じDCバイアス電流I2を流し、中心電極2
10にDCバイアスI1及び変調電流ΔI1を流す。I2
=60mA、I1=20mAのときΔI1=2mAのディ
ジタル信号を重畳させることで、TE/TMの偏波スイ
ッチングを行なうことができた。
【0040】本実施例の半導体レーザにおいては、実施
例1に比べると、中心電極の位相調整領域で利得は変化
させずに位相のみを制御でき、しかも熱の影響が小さく
なるため、TE/TM発振モードの分布は図13のよう
になり、その境界線の傾きは負になると予想できた。そ
こで、偏波のスイッチング特性補償電流ΔI2はΔI1
と逆相としてΔI1/ΔI2の最適化を行なったとこ
ろ、ΔI1/ΔI2=5にした時に最適であった。ΔI1
とΔI2の駆動方法に関しては、実施例1または2と同
様であるが、ΔI1とΔI2は互いに逆相とする。従っ
て、実施例1の駆動装置では、カットオフ周波数1MH
zのオペアンプ407を非反転型とし、実施例2の駆動
装置では、ドライバIC503、504の変調出力とし
て互いに逆相になるように設定すればよい。
例1に比べると、中心電極の位相調整領域で利得は変化
させずに位相のみを制御でき、しかも熱の影響が小さく
なるため、TE/TM発振モードの分布は図13のよう
になり、その境界線の傾きは負になると予想できた。そ
こで、偏波のスイッチング特性補償電流ΔI2はΔI1
と逆相としてΔI1/ΔI2の最適化を行なったとこ
ろ、ΔI1/ΔI2=5にした時に最適であった。ΔI1
とΔI2の駆動方法に関しては、実施例1または2と同
様であるが、ΔI1とΔI2は互いに逆相とする。従っ
て、実施例1の駆動装置では、カットオフ周波数1MH
zのオペアンプ407を非反転型とし、実施例2の駆動
装置では、ドライバIC503、504の変調出力とし
て互いに逆相になるように設定すればよい。
【0041】本実施例においては、実際のTE/TMの
発振分布を求めずにΔI1/ΔI2の最適化を行ったが、
前述の各実施例の如く、TE/TMの発振分布の境界線
を求めらてからそれと平行になるようにΔI1/ΔI2を
決めてもよい。
発振分布を求めずにΔI1/ΔI2の最適化を行ったが、
前述の各実施例の如く、TE/TMの発振分布の境界線
を求めらてからそれと平行になるようにΔI1/ΔI2を
決めてもよい。
【0042】また、以上の各実施例では、InP系のレ
ーザについて述べてきたが、GaAs系等他の材料でも
同様に実現できる。
ーザについて述べてきたが、GaAs系等他の材料でも
同様に実現できる。
【0043】(実施例5)本発明による第5の実施例で
は、波長多重伝送を行うため、レーザの波長可変特性を
利用するものである。実施例1の2電極DFBレーザで
は、それぞれの電極に流す電流値を制御することで、発
振波長を変えることができる。その波長可変特性を図7
に示す。図14のTE/TMの境界線、すなわち、1.
1・I1−I2=10mAの関係を保って電流I1を30
mAから50mAまで変化させると発振波長が、1.5
56μmから1.554μmまで約2nm波長を連続的
に変化できる。
は、波長多重伝送を行うため、レーザの波長可変特性を
利用するものである。実施例1の2電極DFBレーザで
は、それぞれの電極に流す電流値を制御することで、発
振波長を変えることができる。その波長可変特性を図7
に示す。図14のTE/TMの境界線、すなわち、1.
1・I1−I2=10mAの関係を保って電流I1を30
mAから50mAまで変化させると発振波長が、1.5
56μmから1.554μmまで約2nm波長を連続的
に変化できる。
【0044】次に、図8に沿って本発明による駆動方法
を用いて波長多重通信を行う方法を説明する。801は
本発明によって偏波変調されている光通信用光源であ
る。この光源では、上に述べたように2nmの範囲で波
長を変えられる。偏波変調においては伝送と必要となる
消光比(10dB程度)を得るのに、通常の直接強度変
調で問題になるようなチャーピングと呼ばれる動的波長
変調が2GHz以下と非常に小さいため、波長多重する
場合に10GHz(約0.05nm)間隔で並べても隣
のチャンネルにクロストークを与えることはない。従っ
て、この光源装置を用いた場合、2/0.05=40チ
ャンネル程度の波長多重が可能である。
を用いて波長多重通信を行う方法を説明する。801は
本発明によって偏波変調されている光通信用光源であ
る。この光源では、上に述べたように2nmの範囲で波
長を変えられる。偏波変調においては伝送と必要となる
消光比(10dB程度)を得るのに、通常の直接強度変
調で問題になるようなチャーピングと呼ばれる動的波長
変調が2GHz以下と非常に小さいため、波長多重する
場合に10GHz(約0.05nm)間隔で並べても隣
のチャンネルにクロストークを与えることはない。従っ
て、この光源装置を用いた場合、2/0.05=40チ
ャンネル程度の波長多重が可能である。
【0045】この光源から出射させた光をシングルモー
ドファイバ802に結合させ伝送する。光ファイバを伝
送した信号光は受信装置において、光フィルタ803に
より所望の波長の光を選択分波し、光検出器804によ
り信号検波する。ここでは、光フィルタとして実施例1
などのDFBレーザと同じ構造のものを、しきい値以下
に電流をバイアスして使用している。DFBレーザと同
様に、2電極の電流比率を変えることで、透過利得を2
0dB一定で透過波長を約2nm変えることができる。
このフィルタの10dBダウンの透過幅は約0.03n
mであり、上記のように0.05nmの間隔で波長多重
するのに十分な特性を持っている。 光フィルタとして
その他のもの、例えば、従来例で挙げたマッハツェンダ
型、ファイバファブリペロ型などを用いてもよい。ま
た、ここでは光源と受信装置を一つずつしか記載してい
ないが、当然、光カップラなどでいくつかの光源あるい
は受信装置をつなげて伝送してもよい。
ドファイバ802に結合させ伝送する。光ファイバを伝
送した信号光は受信装置において、光フィルタ803に
より所望の波長の光を選択分波し、光検出器804によ
り信号検波する。ここでは、光フィルタとして実施例1
などのDFBレーザと同じ構造のものを、しきい値以下
に電流をバイアスして使用している。DFBレーザと同
様に、2電極の電流比率を変えることで、透過利得を2
0dB一定で透過波長を約2nm変えることができる。
このフィルタの10dBダウンの透過幅は約0.03n
mであり、上記のように0.05nmの間隔で波長多重
するのに十分な特性を持っている。 光フィルタとして
その他のもの、例えば、従来例で挙げたマッハツェンダ
型、ファイバファブリペロ型などを用いてもよい。ま
た、ここでは光源と受信装置を一つずつしか記載してい
ないが、当然、光カップラなどでいくつかの光源あるい
は受信装置をつなげて伝送してもよい。
【0046】また、DFBレーザとして実施例4で述べ
たような3電極構造を用いれば、波長可変範囲を広げる
ことができ、さらに波長多重度を高くすることができ
る。
たような3電極構造を用いれば、波長可変範囲を広げる
ことができ、さらに波長多重度を高くすることができ
る。
【0047】(実施例6)図9に、本発明による光通信
用光源の駆動方法及びそれを用いた光通信方式を波長多
重光LANシステムに応用する場合の各端末に接続され
る光−電気変換部(ノード)の構成例を、図10にその
ノードを用いた光LANシステムの構成例を示す。
用光源の駆動方法及びそれを用いた光通信方式を波長多
重光LANシステムに応用する場合の各端末に接続され
る光−電気変換部(ノード)の構成例を、図10にその
ノードを用いた光LANシステムの構成例を示す。
【0048】各部に接続された光ファイバ901を媒体
として、光信号がノードに取り込まれ、分岐部902に
よりその一部が実施例5で説明したような波長可変フィ
ルタを備えた受信装置903に入射する。波長可変フィ
ルタとしては、ファイバファブリペロフィルタやマッハ
ツェンダフィルタや干渉膜フィルタ等でもよい。この受
信装置により所望の波長の光信号のみを取り出して信号
検波を行なう。一方、ノードから光信号を送信する場合
には、波長可変DFBレーザ904を実施例1〜4記載
の如く駆動し、偏波変調してそれが偏光子およびアイソ
レータ905で強度変調に変換された光を分岐部906
を介して光伝送路に入射せしめる。
として、光信号がノードに取り込まれ、分岐部902に
よりその一部が実施例5で説明したような波長可変フィ
ルタを備えた受信装置903に入射する。波長可変フィ
ルタとしては、ファイバファブリペロフィルタやマッハ
ツェンダフィルタや干渉膜フィルタ等でもよい。この受
信装置により所望の波長の光信号のみを取り出して信号
検波を行なう。一方、ノードから光信号を送信する場合
には、波長可変DFBレーザ904を実施例1〜4記載
の如く駆動し、偏波変調してそれが偏光子およびアイソ
レータ905で強度変調に変換された光を分岐部906
を介して光伝送路に入射せしめる。
【0049】波長可変範囲をさらに広げる必要がある場
合には、複数の波長可変レーザを設けてやればよい。
合には、複数の波長可変レーザを設けてやればよい。
【0050】光LANシステムのネットワークとして、
図10に示すものはバス型であり、AおよびBの方向に
ノードを接続してネットワーク化された多数の端末およ
びセンタを設置することができる。ただし、多数のノー
ドを接続するためには、光の減衰を補償するための光増
幅器を伝送路上に直列に設置する必要がある。また、各
端末にノードを2つ接続し伝送路を2本にすることでD
QDB方式による双方向の光伝送が可能となる。
図10に示すものはバス型であり、AおよびBの方向に
ノードを接続してネットワーク化された多数の端末およ
びセンタを設置することができる。ただし、多数のノー
ドを接続するためには、光の減衰を補償するための光増
幅器を伝送路上に直列に設置する必要がある。また、各
端末にノードを2つ接続し伝送路を2本にすることでD
QDB方式による双方向の光伝送が可能となる。
【0051】このような光ネットワークシステムにおい
て、本発明によるレーザの駆動方法を用いれば、実施例
5に述べたように多重度40の高密度波長多重伝送によ
る光ネットワークシステムを構築できる。
て、本発明によるレーザの駆動方法を用いれば、実施例
5に述べたように多重度40の高密度波長多重伝送によ
る光ネットワークシステムを構築できる。
【0052】また、ネットワークの形態として、図10
のAとBを接続したループ型や、スター型、ある意はそ
れらを複合した形態のものでもよい。
のAとBを接続したループ型や、スター型、ある意はそ
れらを複合した形態のものでもよい。
【0053】(実施例7)本発明により、図11のよう
なトポロジーを持つ波長多重CATVの構築ができる。
CATVセンタにおいて波長可変レーザを本発明による
実施例1から4のいずれか偏波変調し、波長多重光源と
する。受け手となる加入者側において実施例5で説明し
た波長可変フィルタを備えた受信装置を用いる。従来
は、DFBレーザの動的波長変動の影響により、DFB
フィルタをこのようなシステムに用いることが困難であ
ったが、本発明により可能となった。
なトポロジーを持つ波長多重CATVの構築ができる。
CATVセンタにおいて波長可変レーザを本発明による
実施例1から4のいずれか偏波変調し、波長多重光源と
する。受け手となる加入者側において実施例5で説明し
た波長可変フィルタを備えた受信装置を用いる。従来
は、DFBレーザの動的波長変動の影響により、DFB
フィルタをこのようなシステムに用いることが困難であ
ったが、本発明により可能となった。
【0054】さらに、加入者に外部変調器を持たせ、加
入者からの信号をその変調器からの反射光で受け取り、
(簡易型双方向光CATVの一形態、例えば、石川、古
田“光CATV加入者系における双方向伝送LAN外部
変調器”OCS91−82,p.51)、図11のよう
なスター型ネットワークを構築することで、双方向光C
ATVが可能となり、サービスの高機能化が図れる。
入者からの信号をその変調器からの反射光で受け取り、
(簡易型双方向光CATVの一形態、例えば、石川、古
田“光CATV加入者系における双方向伝送LAN外部
変調器”OCS91−82,p.51)、図11のよう
なスター型ネットワークを構築することで、双方向光C
ATVが可能となり、サービスの高機能化が図れる。
【0055】
【発明の効果】以上述べてきたように、本願発明におい
ては、互いの位相の関係を調整した2つの変調電流を多
電極半導体レーザのそれぞれ別の電極に注入することに
よって、半導体レーザそのものに特別な手段を講じるこ
となく偏波変調の変調帯域を広げ、特には低周波側に広
げ、符号化の自由度を向上させて、連続度の長い符号で
も受信の誤り率を低減し、より高密度な伝送が可能とな
る。また2つの変調電流の位相の関係を好適に決定する
ことが可能となる。また2つの変調電流の振幅を好適に
決定することが可能となる。またレーザ駆動装置に用い
る増幅器のカットオフ周波数や、その出力特性(反転出
力か非反転出力か等)を利用することにより、簡便で低
コストな構成の駆動装置で2つの変調電流を注入するこ
とが可能となる。またレーザ駆動装置に電圧電流変換器
を用いることにより、その利得作用を利用でき、また変
調帯域の低域側を極めて大きく広げることが可能とな
る。また光通信においては、変調帯域を広げても波長変
動が少ないため、高密度な波長多重が可能となる。
ては、互いの位相の関係を調整した2つの変調電流を多
電極半導体レーザのそれぞれ別の電極に注入することに
よって、半導体レーザそのものに特別な手段を講じるこ
となく偏波変調の変調帯域を広げ、特には低周波側に広
げ、符号化の自由度を向上させて、連続度の長い符号で
も受信の誤り率を低減し、より高密度な伝送が可能とな
る。また2つの変調電流の位相の関係を好適に決定する
ことが可能となる。また2つの変調電流の振幅を好適に
決定することが可能となる。またレーザ駆動装置に用い
る増幅器のカットオフ周波数や、その出力特性(反転出
力か非反転出力か等)を利用することにより、簡便で低
コストな構成の駆動装置で2つの変調電流を注入するこ
とが可能となる。またレーザ駆動装置に電圧電流変換器
を用いることにより、その利得作用を利用でき、また変
調帯域の低域側を極めて大きく広げることが可能とな
る。また光通信においては、変調帯域を広げても波長変
動が少ないため、高密度な波長多重が可能となる。
【図1】実施例1乃至3で用いる半導体レーザの斜視図
と、実施例1乃至3での駆動電流の注入手段の構成の一
部を示す図。
と、実施例1乃至3での駆動電流の注入手段の構成の一
部を示す図。
【図2】実施例1乃び3における偏波変調時の位相特性
を示す図。
を示す図。
【図3】実施例2における偏波変調時の位相特性を示す
図。
図。
【図4】実施例1乃び3における半導体レーザの駆動装
置の構成を示す図。
置の構成を示す図。
【図5】実施例2における半導体レーザの駆動装置の構
成を示す図。
成を示す図。
【図6】実施例4で用いる半導体レーザの斜視図と、駆
動電流の注入手段の構成の一部を示す図。
動電流の注入手段の構成の一部を示す図。
【図7】実施例1で用いる半導体レーザの波長可変特性
を示す図。
を示す図。
【図8】実施例5において、波長多重伝送を行うときの
伝送形の構成を示す図。
伝送形の構成を示す図。
【図9】実施例6におけるノードの構成を示す図。
【図10】光LANの構成例を示す図。
【図11】光CATVシステムの構成例を示す図。
【図12】熱効果の大きい半導体レーザのTE/TMモ
ードの発振モード分布を示す模式図。
ードの発振モード分布を示す模式図。
【図13】熱効果の小さい半導体レーザのTE/TMモ
ードの発振モード分布を示す模式図。
ードの発振モード分布を示す模式図。
【図14】実施例1の半導体レーザのTE/TMモード
の発振モード分布を示す図。
の発振モード分布を示す図。
【図15】実施例3の半導体レーザのTE/TMモード
の発振モード分布を示す図。
の発振モード分布を示す図。
【図16】従来例の偏波変調原理を説明する図。
【図17】従来例の偏波変調原理を説明する図。
【図18】従来例の偏波変調特性を示す図。
【図19】従来例の位相特性を示す図。
【図20】従来例の偏波変調の応答波形を示す図。
101、201 基板 104、204 活性層 108、208、208′ 電極分離溝 109、110、111、211、209、209′、
210 電極 112、212、212′ 無反射コーティング 120、220、1002 偏光子 401、501、1001 2電極半導体レーザ 402、404 バイアスT 403、405 直流電流源 406、407 増幅器 408 パワーデバイダ 409、505 変調電源 502 ローパスフィルタ 503、504 レーザドライバIC 801、904 光通信光源 802、901 光ファイバ 803 波長可変フィルタ 804 光検出器 902、906 光分岐器 903 受信装置 905 光アイソレータ
210 電極 112、212、212′ 無反射コーティング 120、220、1002 偏光子 401、501、1001 2電極半導体レーザ 402、404 バイアスT 403、405 直流電流源 406、407 増幅器 408 パワーデバイダ 409、505 変調電源 502 ローパスフィルタ 503、504 レーザドライバIC 801、904 光通信光源 802、901 光ファイバ 803 波長可変フィルタ 804 光検出器 902、906 光分岐器 903 受信装置 905 光アイソレータ
Claims (23)
- 【請求項1】 2つ以上の複数の電極を有する半導体レ
ーザを、偏波面の異なる2つの偏波モードをスイッチし
て駆動する半導体レーザの駆動方法であって、該スイッ
チする周波数が低周波のときには、前記複数の電極の内
の一部の電極に主たる変調電流を注入すると同時に、残
りの電極のうちの少なくとも一部の電極に、該主たる変
調電流に対する位相を調整した副たる変調電流を注入す
ることを特徴とする半導体レーザの駆動方法。 - 【請求項2】 前記副たる変調電流の位相及び変調振幅
を、前記主たる変調信号と、前記半導体レーザから出射
される光信号との間に位相差が小さくなる様に調整する
ことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザの駆動方
法。 - 【請求項3】 前記副たる変調電流の位相を、前記主た
る変調電流の位相に対して、同相もしくは逆相のいずれ
かとして調整することを特徴とする請求項1及び2記載
の半導体レーザの駆動方法。 - 【請求項4】 前記副たる変調電流を注入する電極の直
流電流と、主たる変調電流を注入する電極の直流電流を
直交座標系として決まる、前記半導体レーザの2つの偏
波モードがスイッチする境界線の傾きの正負によって、
前記副たる変調電流の位相を主たる変調電流の位相に対
して同相とするか逆相とするかを決定することを特徴と
する請求項3記載の半導体レーザの駆動方法。 - 【請求項5】 前記副たる変調電流を注入する電極の直
流電流と、主たる変調電流を注入する電極の直交座標系
として決まる前記半導体レーザの2つの偏波モードがス
イッチする境界線と略平行となるように、前記副たる変
調電流と主たる変調電流の変調振幅の比と同相逆相の関
係を調整することを特徴とする請求項3記載の半導体レ
ーザ駆動方法。 - 【請求項6】 前記2つの偏波モードをスイッチする周
波数が1MHz以下の低周波において、前記副たる変調
電流を注入することを特徴とする請求項1乃至5記載の
半導体レーザの駆動方法。 - 【請求項7】 偏波面の異なる2つの偏波モードをスイ
ッチさせて出力する半導体レーザ装置であって、 2つ以上の複数の電極を有する半導体レーザと、 該半導体レーザの複数の電極の内の一部の電極に主たる
変調電流を注入する手段と、 該半導体レーザの残りの電極の少なくとも一部の電極
に、該主たる変調電流に対する位相を調整した副たる変
調電流を注入する手段と、 前記偏波モードをスイッチする周波数の高低によって、
前記副たる変調電流を注入するしかないかを選択する手
段とを有していることを特徴とする半導体レーザ装置。 - 【請求項8】 偏波面の異なる2つの偏波モードをスイ
ッチさせて出力する半導体レーザ装置であって、 2つ以上の複数の電極を有する半導体レーザと、 変調電源の出力を2つに分ける手段と、 該2つに分けた出力の一方を利得のカットオフが数GH
z以上の広帯域増幅器を通してAC結合で前記半導体レ
ーザの複数の電極の内の一部の電極に注入する手段と、 前記2つに分けた出力の残りの一方を利得のカットオフ
周波数が前記広帯域増幅器より小さい低周波数増幅器を
通してAC結合で前記半導体レーザの複数の電極の残り
の電極の内の少なくとも一部の電極に注入する手段とを
有することを特徴とする半導体レーザ装置。 - 【請求項9】 前記広帯域増幅器と低周波増幅器の出力
が互いに同相な出力であることを特徴とする請求項8記
載の半導体レーザ装置。 - 【請求項10】 前記広帯域増幅器と低周波増幅器のい
ずれか一方が反転増幅器であり、互いの出力が逆相な出
力であることを特徴とする請求項8記載の半導体レーザ
装置。 - 【請求項11】 前記低周波増幅器のカットオフ周波数
が1MHz程度であることを特徴とする請求項8乃至1
0記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項12】 前記広帯域増幅器と低周波増幅器の利
得の比が、前記広帯域増幅器を通して注入する変調電流
の位相の前記半導体レーザから出射される光信号の位相
との間の位相差が小さくなるように調整されていること
を特徴とする請求項8乃至11記載の半導体レーザ装
置。 - 【請求項13】 偏波面の異なる2つの偏波モードをス
イッチさせて出力する半導体レーザ装置であって、 2つ以上の複数の電極を有する半導体レーザと、 変調電源の出力を2つに分ける手段と、 該2つに分けた出力の一方を電圧電流変喚器を通してD
C結合で直流電流と共に前記半導体レーザの複数の電極
の内の一部の電極に注入する手段と、 前記2つに分けた出力の残りの一方を電圧電流変喚器を
通してDC結合で前記半導体レーザの複数の電極の残り
の電極の内の少なくとも一部の電極に注入する手段と、 前記2つの電圧電流変喚器のいずれか一方と前記半導体
レーザとの間に設けた低域通過フィルタとを有すること
を特徴とする半導体レーザ装置。 - 【請求項14】 前記2つの電圧電流変喚器において、
前記変調電源からの出力を互いに同相でDC結合するこ
とを特徴とする請求項13記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項15】 前記2つの電圧電流変喚器において、
前記変調電源からの出力を互いに逆相でDC結合するこ
とを特徴とする請求項13記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項16】 前記低域通過フィルタのカットオフ周
波数が1MHz程度であることを特徴とする請求項13
乃至15記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項17】 前記2つの電圧電流変喚器の利得の比
が、低域通過フィルタを前記半導体レーザとの間に有さ
ない電圧電流変喚器を通して注入する変調電流の位相と
前記半導体レーザから出射される光信号の位相との間の
位相差が小さくなるように調整されていることを特徴と
する請求項13乃至16記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項18】 前記半導体レーザが、発光層を含む光
導波路に近接して回析格子を備えた分布帰還型半導体レ
ーザであり、前記発光層は多重量子井戸で構成されてお
り、ホールの準位であるライトホール準位と電子の基底
準位間のエネルギーバンドギャップに対応する波長の近
傍にブラッグ波長がくる様に前記回析格子のピッチが設
定され、前記ブラッグ波長でのしきい値利得が前記2つ
の偏波モード間で略等しくなるべく設計されたものであ
ることを特徴とする請求項8乃至17記載の半導体レー
ザ装置。 - 【請求項19】 前記多重量子井戸が、引っ張り歪を導
入した多重量子井戸であり、ホールの準位であるライト
ホール準位とヘビーホール準位とが等しいかもしくはラ
イトホール準位のほうが電子の基底準位に近くなってい
ることを特徴とする請求項18記載の半導体レーザ装
置。 - 【請求項20】 光ファイバを通じて光信号を伝送する
光通信方法であって、請求項1乃至7記載の半導体レー
ザの駆動方法によって得た2つの偏波モードの内いずれ
かを選択的に取り出したものを送信光として光ファイバ
で伝送し、該送信光を直接検波することによって受信す
ることを特徴とする光通信方法。 - 【請求項21】 互いに異なる波長の光を出射する複数
の半導体レーザそれぞれを請求項1乃至7記載の半導体
レーザの駆動方法で駆動し、光ファイバ中を波長多重伝
送させ、該波長多重された光信号の中から所望の波長の
光のみを波長フィルタで取り出して受信することを特徴
とする光通信方法。 - 【請求項22】 光ファイバに接続して光通信を行うノ
ードであって、光受信装置と、請求項8乃至19記載の
半導体レーザ装置を有する光通信装置とを備えたことを
特徴とするノード。 - 【請求項23】 光受信装置と、請求項8乃至19記載
の半導体レーザ装置を有する光送信装置を備えたノード
を複数光ファイバで接続し、波長多重伝送により通信を
行うことを特徴とする光通信システム。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30095694A JP3244976B2 (ja) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 半導体レーザの駆動方法及び半導体レーザ装置及び光通信方法及びノード及び光通信システム |
EP95119079A EP0718937B1 (en) | 1994-12-05 | 1995-12-04 | Method of driving a polarization mode selective semiconductor laser with a wide modulation band, and an optical communication system |
ES95119079T ES2148411T3 (es) | 1994-12-05 | 1995-12-04 | Metodo para el control de un laser semiconductor con selectividad de modalidad, con banda ancha de modulacion, y sistema de comunicacion optica. |
DE69516493T DE69516493T2 (de) | 1994-12-05 | 1995-12-04 | Verfahren zur Ansteuerung eines breitbandigen polarisationsmodenselektiven Halbleiterlasers, und ein optisches Kommunikationssystem |
CA002164492A CA2164492C (en) | 1994-12-05 | 1995-12-05 | Method of driving semiconductor laser with wide modulation band, optical communication method, semiconductor laser device, node, and optical communication system |
US08/936,817 US5850408A (en) | 1994-12-05 | 1997-09-24 | Method of driving semiconductor laser with wide modulation band, optical communication method, semiconductor laser device, node, and optical communication system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30095694A JP3244976B2 (ja) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 半導体レーザの駆動方法及び半導体レーザ装置及び光通信方法及びノード及び光通信システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08162716A true JPH08162716A (ja) | 1996-06-21 |
JP3244976B2 JP3244976B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=17891111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30095694A Expired - Fee Related JP3244976B2 (ja) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 半導体レーザの駆動方法及び半導体レーザ装置及び光通信方法及びノード及び光通信システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5850408A (ja) |
EP (1) | EP0718937B1 (ja) |
JP (1) | JP3244976B2 (ja) |
CA (1) | CA2164492C (ja) |
DE (1) | DE69516493T2 (ja) |
ES (1) | ES2148411T3 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018060975A (ja) * | 2016-10-07 | 2018-04-12 | 日本電信電話株式会社 | 直接変調レーザ |
US20220368105A1 (en) * | 2021-05-14 | 2022-11-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Laser having reduced coherence via phaser shifter |
WO2023112675A1 (ja) * | 2021-12-14 | 2023-06-22 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 制御装置、制御方法、半導体レーザー装置、測距装置及び車載装置 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH118442A (ja) * | 1996-10-07 | 1999-01-12 | Canon Inc | 光半導体デバイス、それを用いた光通信システム及び方法 |
DE19822616A1 (de) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Sel Alcatel Ag | Lichtquelle sowie Verfahren für die Übertragung von spektralkodierten Daten |
JP3728147B2 (ja) | 1999-07-16 | 2005-12-21 | キヤノン株式会社 | 光電気混載配線基板 |
JP3990846B2 (ja) * | 1999-08-27 | 2007-10-17 | キヤノン株式会社 | 面型光素子、その製造方法、およびこれを用いた装置 |
JP4902044B2 (ja) * | 1999-09-24 | 2012-03-21 | シャープ株式会社 | 半導体レーザ装置、光伝送装置、光伝送システム、電子機器、制御装置、接続コネクタ、通信装置、ならびに光伝送方法、データ送受信方法 |
US6628686B1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-09-30 | Fox-Tek, Inc | Integrated multi-wavelength and wideband lasers |
GB0206226D0 (en) * | 2002-03-16 | 2002-05-01 | Intense Photonics Ltd | Electro-absorption modulator with broad optical bandwidth |
JP3927913B2 (ja) * | 2003-03-05 | 2007-06-13 | キヤノン株式会社 | 光電気混載装置、及びその駆動方法 |
US7615787B2 (en) * | 2004-03-26 | 2009-11-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Photo-semiconductor device and method of manufacturing the same |
JP4785392B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2011-10-05 | キヤノン株式会社 | テラヘルツ電磁波の発生素子の製造方法 |
JP3913253B2 (ja) * | 2004-07-30 | 2007-05-09 | キヤノン株式会社 | 光半導体装置およびその製造方法 |
JP5196779B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | 光伝導素子及びセンサ装置 |
JP4857027B2 (ja) * | 2006-05-31 | 2012-01-18 | キヤノン株式会社 | レーザ素子 |
JP4958278B2 (ja) * | 2007-03-13 | 2012-06-20 | キヤノン株式会社 | 検査装置 |
US8385749B2 (en) * | 2009-07-02 | 2013-02-26 | International Business Machines Corporation | High speed optical transmitter with directly modulated laser source |
CN103762256B (zh) * | 2014-01-15 | 2016-03-02 | 华南理工大学 | 生长在Si衬底上的InGaAs薄膜及其制备方法 |
US11079432B2 (en) * | 2019-02-19 | 2021-08-03 | Nxp B.V. | Integrated laser voltage probe pad for measuring DC or low frequency AC electrical parameters with laser based optical probing techniques |
CN110544873B (zh) * | 2019-08-29 | 2020-11-24 | 厦门市三安集成电路有限公司 | 分段式调制结构、激光器及其制作方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62144426A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光伝送装置 |
US4918701A (en) * | 1988-09-27 | 1990-04-17 | Siemens Aktiengesellschaft | Semiconductor laser arrangement and method for the operation thereof |
JPH02159781A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-19 | Toshiba Corp | 光通信装置 |
EP0477987B1 (en) * | 1990-09-28 | 1995-12-20 | Nec Corporation | Circuit and electrode arrangement for inducing flat frequency modulation response in semiconductor laser |
US5224114A (en) * | 1990-11-11 | 1993-06-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Semiconductor laser devices with a plurality of light emitting layers having different bands gaps and methods for driving the same |
EP0541983A1 (en) * | 1991-10-15 | 1993-05-19 | Nec Corporation | Optical local area network system and nodal apparatus used therein |
US5497390A (en) * | 1992-01-31 | 1996-03-05 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Polarization mode switching semiconductor laser apparatus |
US5438584A (en) * | 1992-09-22 | 1995-08-01 | Xerox Corporation | Dual polarization laser diode with quaternary material system |
US5412678A (en) * | 1992-09-22 | 1995-05-02 | Xerox Corporation | Multi-beam, orthogonally-polarized emitting monolithic quantum well lasers |
US5396508A (en) * | 1992-09-22 | 1995-03-07 | Xerox Corporation | Polarization switchable quantum well laser |
JP2785921B2 (ja) * | 1992-10-21 | 1998-08-13 | シャープ株式会社 | 光メモリ読み出し装置用の半導体レーザ駆動回路 |
US5345462A (en) * | 1993-03-29 | 1994-09-06 | At&T Bell Laboratories | Semiconductor surface emitting laser having enhanced polarization control and transverse mode selectivity |
US5383211A (en) * | 1993-11-02 | 1995-01-17 | Xerox Corporation | TM-polarized laser emitter using III-V alloy with nitrogen |
JP3210159B2 (ja) * | 1993-12-10 | 2001-09-17 | キヤノン株式会社 | 半導体レーザ、光源装置、光通信システム及び光通信方法 |
JP3263553B2 (ja) * | 1994-02-23 | 2002-03-04 | キヤノン株式会社 | 光送信機 |
US5412680A (en) * | 1994-03-18 | 1995-05-02 | Photonics Research Incorporated | Linear polarization of semiconductor laser |
-
1994
- 1994-12-05 JP JP30095694A patent/JP3244976B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-12-04 DE DE69516493T patent/DE69516493T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-04 EP EP95119079A patent/EP0718937B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-04 ES ES95119079T patent/ES2148411T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-05 CA CA002164492A patent/CA2164492C/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-09-24 US US08/936,817 patent/US5850408A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018060975A (ja) * | 2016-10-07 | 2018-04-12 | 日本電信電話株式会社 | 直接変調レーザ |
US20220368105A1 (en) * | 2021-05-14 | 2022-11-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Laser having reduced coherence via phaser shifter |
US12132296B2 (en) * | 2021-05-14 | 2024-10-29 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Laser having reduced coherence via a phaser shifter |
WO2023112675A1 (ja) * | 2021-12-14 | 2023-06-22 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 制御装置、制御方法、半導体レーザー装置、測距装置及び車載装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2148411T3 (es) | 2000-10-16 |
EP0718937A3 (en) | 1996-08-21 |
US5850408A (en) | 1998-12-15 |
DE69516493D1 (de) | 2000-05-31 |
CA2164492A1 (en) | 1996-06-06 |
JP3244976B2 (ja) | 2002-01-07 |
EP0718937A2 (en) | 1996-06-26 |
EP0718937B1 (en) | 2000-04-26 |
CA2164492C (en) | 2000-02-01 |
DE69516493T2 (de) | 2000-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3244976B2 (ja) | 半導体レーザの駆動方法及び半導体レーザ装置及び光通信方法及びノード及び光通信システム | |
JP3210159B2 (ja) | 半導体レーザ、光源装置、光通信システム及び光通信方法 | |
US5764670A (en) | Semiconductor laser apparatus requiring no external modulator, method of driving semiconductor laser device, and optical communication system using the semiconductor laser apparatus | |
JP3303515B2 (ja) | 光通信方式及びそれを用いた光通信システム | |
US5757828A (en) | Semiconductor laser device, method for driving the same, and optical communication system using the same | |
US5659560A (en) | Apparatus and method for driving oscillation polarization selective light source, and optical communication system using the same | |
US7133576B2 (en) | Traveling-wave optoelectronic wavelength converter | |
EP0644635B1 (en) | Method and apparatus for frequency modulating a semiconductor laser, and an optical communication system using the same | |
US5521754A (en) | Optical apparatus and a method using the apparatus, which utilizes the occurrence of a change in a both-end voltage of an amplifying region | |
Lee et al. | Wavelength-tunable and single-frequency semiconductor lasers for photonic communications networks | |
JPH1174599A (ja) | 信号伝送用半導体光源装置の駆動方法、信号伝送用光源装置、およびそれを用いた光通信方法および光通信システム | |
JP2986604B2 (ja) | 半導体光フィルタ、その選択波長の制御方法及びそれを用いた光通信システム | |
JP3246703B2 (ja) | 偏波変調可能な半導体レーザおよびこれを用いた光通信方式 | |
JPH07307527A (ja) | 光半導体装置、光通信用光源の駆動方法、それを用いた光通信方式、及び光通信システム | |
JP3210152B2 (ja) | 半導体レーザの駆動方法及び駆動装置、及びそれを用いた光通信方法及び光通信システム | |
JP3093535B2 (ja) | 半導体レーザの駆動方法及び駆動装置、及びそれを用いた光通信方法及び光通信システム | |
JP3450573B2 (ja) | 半導体レーザ装置、その駆動方法及びそれを用いた光通信システム | |
JP3303653B2 (ja) | 半導体レーザ装置、その駆動方法及びそれを用いた光通信システム | |
JPH07307705A (ja) | 光通信方式 | |
JP3387722B2 (ja) | 半導体レーザ装置及びそれを用いた光通信システム | |
JPH11214801A (ja) | 複数の変調光を発せられる発光装置 | |
JPH11346022A (ja) | 偏波変調半導体レーザの駆動方法、駆動装置と光通信方法 | |
JPS6258735A (ja) | 光デイジタル送信器 | |
JPH09186409A (ja) | 光源装置、その駆動方法及びそれを用いた光通信方式、光通信システム | |
JPH09162502A (ja) | 半導体レーザ装置、その駆動方法及びそれを用いた光通信システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010918 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |