JPH08138868A - 有機薄膜el素子 - Google Patents
有機薄膜el素子Info
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- JPH08138868A JPH08138868A JP7239239A JP23923995A JPH08138868A JP H08138868 A JPH08138868 A JP H08138868A JP 7239239 A JP7239239 A JP 7239239A JP 23923995 A JP23923995 A JP 23923995A JP H08138868 A JPH08138868 A JP H08138868A
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Landscapes
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- Luminescent Compositions (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 EL素子の長期連続駆動において、陽極と陽
極に接する発光層のイオン化ポテンシャルを制御するこ
とにより、高耐久性を有するEL素子を提供すること。 【解決手段】 基板上において互いに対向する陽極と陰
極との間に配置された有機発光層を有する有機EL素子
において、前記陽極のイオン化ポテンシャル(Ipa)
と、それに接する有機発光層のイオン化ポテンシャル
(Ipl)とが、それぞれ下記式(1)又は(2)の関
係を満足することを特徴とする有機薄膜EL素子。 Ipa>5.0eV (1) Ipl<5.25eV (2)
極に接する発光層のイオン化ポテンシャルを制御するこ
とにより、高耐久性を有するEL素子を提供すること。 【解決手段】 基板上において互いに対向する陽極と陰
極との間に配置された有機発光層を有する有機EL素子
において、前記陽極のイオン化ポテンシャル(Ipa)
と、それに接する有機発光層のイオン化ポテンシャル
(Ipl)とが、それぞれ下記式(1)又は(2)の関
係を満足することを特徴とする有機薄膜EL素子。 Ipa>5.0eV (1) Ipl<5.25eV (2)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、発光性物質から成
る有機発光層を有し、電圧を印加することにより電気エ
ネルギーを直接光エネルギーに変換でき、従来の白熱
灯、蛍光灯あるいは発光ダイオード等とは異なり、フラ
ットパネルディスプレイの実現を可能にする有機EL表
示素子、特に、長時間の高輝度発光(高耐久性)が可能
な有機EL素子に関する。
る有機発光層を有し、電圧を印加することにより電気エ
ネルギーを直接光エネルギーに変換でき、従来の白熱
灯、蛍光灯あるいは発光ダイオード等とは異なり、フラ
ットパネルディスプレイの実現を可能にする有機EL表
示素子、特に、長時間の高輝度発光(高耐久性)が可能
な有機EL素子に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、情報機器の多様化及び省スペース
化に伴い、CRTよりも低消費電力で空間占有面積の小
さい平面表示素子へのニーズが高まってきている。この
ような平面表示装置としては、液晶、プラズマディスプ
レイ等があるが、特に最近は自己発光型で表示が鮮明
な、また、直流低電駆動が可能な有機EL素子への期待
が高まっている。有機EL素子の素子構造としては、こ
れまで2層構造(陽極と陰極の間にホール注入輸送層と
発光層が形成された構造(SH−A構造)(特開昭59
−194393号、Appl.Phys.Lett.5
1,913(1987)、または、陽極と陰極の間に発
光層と電子注入輸送層が形成された構造(SH−B構
造)(米国特許第5085947号明細書、特開平2−
25092号、Appl.Phys.Lett.55,
1489(1989))、あるいは3層構造(陽極と陰
極の間にホール注入輸送層/発光層/電子注入輸送層が
形成された構造(DH構造)Appl.Phys.Le
tt.57,531(1990))等の積層型の素子構
造が報告されている。さらに最近ではホール注入輸送層
もしくは電子注入輸送層が2層以上から構成されている
EL素子構造が報告されている(特開平5−94880
号、米国特許第4720432号明細書)。
化に伴い、CRTよりも低消費電力で空間占有面積の小
さい平面表示素子へのニーズが高まってきている。この
ような平面表示装置としては、液晶、プラズマディスプ
レイ等があるが、特に最近は自己発光型で表示が鮮明
な、また、直流低電駆動が可能な有機EL素子への期待
が高まっている。有機EL素子の素子構造としては、こ
れまで2層構造(陽極と陰極の間にホール注入輸送層と
発光層が形成された構造(SH−A構造)(特開昭59
−194393号、Appl.Phys.Lett.5
1,913(1987)、または、陽極と陰極の間に発
光層と電子注入輸送層が形成された構造(SH−B構
造)(米国特許第5085947号明細書、特開平2−
25092号、Appl.Phys.Lett.55,
1489(1989))、あるいは3層構造(陽極と陰
極の間にホール注入輸送層/発光層/電子注入輸送層が
形成された構造(DH構造)Appl.Phys.Le
tt.57,531(1990))等の積層型の素子構
造が報告されている。さらに最近ではホール注入輸送層
もしくは電子注入輸送層が2層以上から構成されている
EL素子構造が報告されている(特開平5−94880
号、米国特許第4720432号明細書)。
【0003】上記陽極としてはAuやITO(インジウ
ム−スズ酸化物)などの様な仕事関係の大きな電極材料
を用い、陰極としてはCa、Mg、Al等及びそれらの
合金等の仕事関数の小さな電極材料を用いる。また、現
在まで、上記ホール注入輸送層、発光層、電子注入輸送
層に使用可能な材料として様々な有機化合物が報告され
ている。これらに使用される有機材料としては、例え
ば、ポール注入輸送層としては芳香族第3級アミン、フ
タロシアニン類等が、発光層材料としてはアルミニウム
トリスオキシン(特開昭59−194393号、特開昭
63−295695号)、スチリルアミン誘導体、スチ
リルベンゼン誘導体(特開平2−209988号)、ア
ミノピレン誘導体等が、また、電子注入輸送層としては
オキサジアゾール誘導体(日本化学会誌No.11,1
540(1991)、特開平4−363894号、特開
平5−202011号)等が報告されている。
ム−スズ酸化物)などの様な仕事関係の大きな電極材料
を用い、陰極としてはCa、Mg、Al等及びそれらの
合金等の仕事関数の小さな電極材料を用いる。また、現
在まで、上記ホール注入輸送層、発光層、電子注入輸送
層に使用可能な材料として様々な有機化合物が報告され
ている。これらに使用される有機材料としては、例え
ば、ポール注入輸送層としては芳香族第3級アミン、フ
タロシアニン類等が、発光層材料としてはアルミニウム
トリスオキシン(特開昭59−194393号、特開昭
63−295695号)、スチリルアミン誘導体、スチ
リルベンゼン誘導体(特開平2−209988号)、ア
ミノピレン誘導体等が、また、電子注入輸送層としては
オキサジアゾール誘導体(日本化学会誌No.11,1
540(1991)、特開平4−363894号、特開
平5−202011号)等が報告されている。
【0004】現在まで様々な素子構造及び有機材料を用
いることにより、初期的には1000cd/m2以上の
高輝度発光、駆動電圧10V以下のEL素子が得られて
いる。しかしながら、連続駆動を行った場合、経時で光
出力の低下及び駆動電圧の上昇が観測され、ついには短
絡モードでEL素子自体の破壊が生じる。このEL素子
の劣化は有機材料の経時における結晶化やそれに伴う有
機層内での空間電荷の蓄積、及び、一定方向の電界印加
による誘電分極のため有機分子が分極を起こし素子の電
気的性質が変化、また、電極の酸化等による劣化が生じ
ると考えられている。そこで、これらの連続駆動に伴う
素子の劣化を抑制する手段として、材料面からの検討及
びEL素子の駆動方法によって耐久性を向上する試みが
これまでなされている。例えば、これらを解決する手段
として、陽極であるインジウム錫酸化物層を酸処理する
ことにより(特開平4−14795)、また、インジウ
ム錫酸化物からなる陽極をプラズマ処理することにより
(特開平5−347188)、駆動電圧を低下させる方
法が提案されているが、未だ十分に満足できるEL特性
のものは得られていない。
いることにより、初期的には1000cd/m2以上の
高輝度発光、駆動電圧10V以下のEL素子が得られて
いる。しかしながら、連続駆動を行った場合、経時で光
出力の低下及び駆動電圧の上昇が観測され、ついには短
絡モードでEL素子自体の破壊が生じる。このEL素子
の劣化は有機材料の経時における結晶化やそれに伴う有
機層内での空間電荷の蓄積、及び、一定方向の電界印加
による誘電分極のため有機分子が分極を起こし素子の電
気的性質が変化、また、電極の酸化等による劣化が生じ
ると考えられている。そこで、これらの連続駆動に伴う
素子の劣化を抑制する手段として、材料面からの検討及
びEL素子の駆動方法によって耐久性を向上する試みが
これまでなされている。例えば、これらを解決する手段
として、陽極であるインジウム錫酸化物層を酸処理する
ことにより(特開平4−14795)、また、インジウ
ム錫酸化物からなる陽極をプラズマ処理することにより
(特開平5−347188)、駆動電圧を低下させる方
法が提案されているが、未だ十分に満足できるEL特性
のものは得られていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、EL素子の
長期連続駆動において、陽極と陽極に接する発光層のイ
オン化ポテンシャルを制御することにより、高耐久性を
有するEL素子を提供することを目的とする。
長期連続駆動において、陽極と陽極に接する発光層のイ
オン化ポテンシャルを制御することにより、高耐久性を
有するEL素子を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討した結果、EL素子を構成する
陽極のイオン化ポテンシャルをある特定の値より大き
く、また陽極に接する有機発光層のイオン化ポテンシャ
ルをある特定の値より小さくなるように制御した場合、
耐久性が向上することを見い出し本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明によれば、蛍光層単層型、少な
くとも1層から構成されるホール注入輸送層/蛍光層
型、蛍光層/少なくとも1層から構成される電子注入輸
送層型、少なくとも1層から構成されるホール注入輸送
層/蛍光層/少なくとも1層から構成される電子注入輸
送層型、のいずれかから構成される有機EL素子におい
て、前記陽極のイオン化ポテンシャル(Ipa)と、そ
れに接する有機発光層のイオン化ポテンシャル(Ip
l)とが、それぞれ下記式(1)又は(2)の関係を満
足することを特徴とする有機薄膜EL素子が提供され
る。 Ipa>5.0eV (1) Ipl<5.25eV (2)
を達成するため鋭意検討した結果、EL素子を構成する
陽極のイオン化ポテンシャルをある特定の値より大き
く、また陽極に接する有機発光層のイオン化ポテンシャ
ルをある特定の値より小さくなるように制御した場合、
耐久性が向上することを見い出し本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明によれば、蛍光層単層型、少な
くとも1層から構成されるホール注入輸送層/蛍光層
型、蛍光層/少なくとも1層から構成される電子注入輸
送層型、少なくとも1層から構成されるホール注入輸送
層/蛍光層/少なくとも1層から構成される電子注入輸
送層型、のいずれかから構成される有機EL素子におい
て、前記陽極のイオン化ポテンシャル(Ipa)と、そ
れに接する有機発光層のイオン化ポテンシャル(Ip
l)とが、それぞれ下記式(1)又は(2)の関係を満
足することを特徴とする有機薄膜EL素子が提供され
る。 Ipa>5.0eV (1) Ipl<5.25eV (2)
【0007】有機EL素子は、陽極からホール注入輸送
層へのホールの注入、ホール注入輸送層内でのホール輸
送、さらに、ホール注入輸送層から蛍光層へのホール注
入プロセス、また、電子注入に関しては、陰極から電子
注入輸送層への電子注入、電子注入輸送層内での電子輸
送、さらに、電子注入輸送層から蛍光層への電子注入プ
ロセスから成る。そして、発光層内へ注入された電子と
ホールが再結合して、励起子を生成、そしてEL発光と
いうプロセスをとる。この複数のプロセスにおいて素子
の劣化を引き起こす劣化要因の一つとしてジュール熱の
発生がある。そのため、それぞれキャリヤー注入障壁の
低下、キャリヤー輸送能の向上が素子のジュール熱発生
の抑制に効果的であり、耐久性の向上につながる。たと
えば、安達らは陽極に接するホール注入輸送層のイオン
化ポテンシャルを小さくすることにより、陽極とホール
注入輸送層の注入障害を小さくし耐久性の向上が可能で
あることを報告している(特開平5−239455)。
特にイオン化ポテンシャル5.08eVを有する材料を
陽極との界面に用いることにより耐久性が向上すること
を報告している。このことは、さらにイオン化ポテンシ
ャルを小さくすることにより、より高耐久化が期待され
るのであるが、有機材料のイオン化ポテンシャルをさら
に小さくすることは、π共役系の拡大やドナー基の導入
により可能であるが、イオン化ポテンシャルが小さくな
りすぎると材料が酸化されやすいことや、バンドギャッ
プが小さくなりすぎるために、EL材料としては不適当
となる。
層へのホールの注入、ホール注入輸送層内でのホール輸
送、さらに、ホール注入輸送層から蛍光層へのホール注
入プロセス、また、電子注入に関しては、陰極から電子
注入輸送層への電子注入、電子注入輸送層内での電子輸
送、さらに、電子注入輸送層から蛍光層への電子注入プ
ロセスから成る。そして、発光層内へ注入された電子と
ホールが再結合して、励起子を生成、そしてEL発光と
いうプロセスをとる。この複数のプロセスにおいて素子
の劣化を引き起こす劣化要因の一つとしてジュール熱の
発生がある。そのため、それぞれキャリヤー注入障壁の
低下、キャリヤー輸送能の向上が素子のジュール熱発生
の抑制に効果的であり、耐久性の向上につながる。たと
えば、安達らは陽極に接するホール注入輸送層のイオン
化ポテンシャルを小さくすることにより、陽極とホール
注入輸送層の注入障害を小さくし耐久性の向上が可能で
あることを報告している(特開平5−239455)。
特にイオン化ポテンシャル5.08eVを有する材料を
陽極との界面に用いることにより耐久性が向上すること
を報告している。このことは、さらにイオン化ポテンシ
ャルを小さくすることにより、より高耐久化が期待され
るのであるが、有機材料のイオン化ポテンシャルをさら
に小さくすることは、π共役系の拡大やドナー基の導入
により可能であるが、イオン化ポテンシャルが小さくな
りすぎると材料が酸化されやすいことや、バンドギャッ
プが小さくなりすぎるために、EL材料としては不適当
となる。
【0008】そこで、本発明者らは、有機材料面からの
検討に加え、電極及びそれに接する発光層について鋭意
検討を行い、陽極のイオン化ポテンシャル(Ipa)を
5.0eVよりも大きく、またそれに接する有機発光層
のイオン化ポテンシャル(Ipl)を5.25eVより
小さく制御することにより、有機EL素子の高耐久化が
可能であることを見い出し本発明に到達したのである。
なお、陽極として用いているITO等のイオン化ポテン
シャルは、理研計器製のAC−1等により決定すること
ができる。さらにより厳密には、汎用の光電子紫外可視
分光法により決定することも可能である。有機層を適当
な溶媒により溶解させ、陽極表面から除去した後に、直
ちに測定を行うことが好ましい。また、有機層のイオン
化ポテンシャルの決定は一般的に困難であるが、積層有
機多層膜もしくは単層膜を有機溶媒等により抽出させ、
それぞれの成分に分離したのち、再び有機膜を構成する
ことによりイオン化ポテンシャルの測定が可能である。
検討に加え、電極及びそれに接する発光層について鋭意
検討を行い、陽極のイオン化ポテンシャル(Ipa)を
5.0eVよりも大きく、またそれに接する有機発光層
のイオン化ポテンシャル(Ipl)を5.25eVより
小さく制御することにより、有機EL素子の高耐久化が
可能であることを見い出し本発明に到達したのである。
なお、陽極として用いているITO等のイオン化ポテン
シャルは、理研計器製のAC−1等により決定すること
ができる。さらにより厳密には、汎用の光電子紫外可視
分光法により決定することも可能である。有機層を適当
な溶媒により溶解させ、陽極表面から除去した後に、直
ちに測定を行うことが好ましい。また、有機層のイオン
化ポテンシャルの決定は一般的に困難であるが、積層有
機多層膜もしくは単層膜を有機溶媒等により抽出させ、
それぞれの成分に分離したのち、再び有機膜を構成する
ことによりイオン化ポテンシャルの測定が可能である。
【0009】本発明で用いる陽極のイオン化ポテンシャ
ル(Ipa)は、前記したように、 Ipa>5.0eV (1) なる条件式を満足する必要がある。イオン化ポテンシャ
ルIpaが5.0eV以下であると、経時での光出力の
低下及び駆動電圧が上昇してしまい、EL素子自体の破
壊が生じ、有機EL素子の高耐久化を実現することがで
きない。陽極のイオン化ポテンシャルを5.0eVより
大きくするには、陽極を構成する材料を選択することに
より達成できる。陽極に用いる材料としては、Ipa>
5.0eVを満足するものであれば、いずれのものも使
用でき、たとえば、ニッケル、金、白金、パラジウムや
これらの合金等の金属あるいは、酸化錫、酸化錫インジ
ウム、ヨウ化銅等の化合物及びこれらの混合物等の金属
化合物、さらには、ポリアニリン、ポリピロール、ポリ
パラフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポ
リチオフェン等の導電性高分子等が使用できるが、透明
性の観点から、400nm〜800nmの可視域におい
て約60%以上の透過率を有するインジウム錫酸化物
(ITO)、酸化錫、及び白金、ニッケルの半導明スパ
ッタ膜等のいわゆる透明電極が好ましく、特にインジウ
ム錫酸化物(ITO)が好ましい。
ル(Ipa)は、前記したように、 Ipa>5.0eV (1) なる条件式を満足する必要がある。イオン化ポテンシャ
ルIpaが5.0eV以下であると、経時での光出力の
低下及び駆動電圧が上昇してしまい、EL素子自体の破
壊が生じ、有機EL素子の高耐久化を実現することがで
きない。陽極のイオン化ポテンシャルを5.0eVより
大きくするには、陽極を構成する材料を選択することに
より達成できる。陽極に用いる材料としては、Ipa>
5.0eVを満足するものであれば、いずれのものも使
用でき、たとえば、ニッケル、金、白金、パラジウムや
これらの合金等の金属あるいは、酸化錫、酸化錫インジ
ウム、ヨウ化銅等の化合物及びこれらの混合物等の金属
化合物、さらには、ポリアニリン、ポリピロール、ポリ
パラフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポ
リチオフェン等の導電性高分子等が使用できるが、透明
性の観点から、400nm〜800nmの可視域におい
て約60%以上の透過率を有するインジウム錫酸化物
(ITO)、酸化錫、及び白金、ニッケルの半導明スパ
ッタ膜等のいわゆる透明電極が好ましく、特にインジウ
ム錫酸化物(ITO)が好ましい。
【0010】上記電極材料を用いる場合、必要であるな
らば、電極表面をプラズマ放電等の表面処理によりIp
>5.0eVの条件を満足するように処理を行うことが
好ましい。プラズマに用いるガス種としては種々のガス
が利用できる。酸素等が特に好ましいが、窒素、アルゴ
ン等の不活性ガスや、それらの混合ガスも利用できる。
また、本発明においては、必要に応じ電極表面を予め塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸及びそれらの混合物、もし
くは各種アルカリにより溶媒処理を行い、その後イオン
化ポテンシャルの値を5.0eVより大きくなるように
処理する方法を採用してもよい。
らば、電極表面をプラズマ放電等の表面処理によりIp
>5.0eVの条件を満足するように処理を行うことが
好ましい。プラズマに用いるガス種としては種々のガス
が利用できる。酸素等が特に好ましいが、窒素、アルゴ
ン等の不活性ガスや、それらの混合ガスも利用できる。
また、本発明においては、必要に応じ電極表面を予め塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸及びそれらの混合物、もし
くは各種アルカリにより溶媒処理を行い、その後イオン
化ポテンシャルの値を5.0eVより大きくなるように
処理する方法を採用してもよい。
【0011】また、陽極と接する有機発光層のイオン化
ポテンシャル(Ipl)は、前記したように、 Ipl<5.25eV (2) なる条件式を満足する必要がある。イオン化ポテンシャ
ルIplが5.25eV以上であると有機EL素子の耐
久性が低下する。該発光層のイオン化ポテンシャル(I
pl)を5.25eVより小さくするには、発光層の層
構成、或いは、発光層材料、ホール注入輸送材料等、又
はそれら材料の組み合せを適宜選択することにより達成
できる。
ポテンシャル(Ipl)は、前記したように、 Ipl<5.25eV (2) なる条件式を満足する必要がある。イオン化ポテンシャ
ルIplが5.25eV以上であると有機EL素子の耐
久性が低下する。該発光層のイオン化ポテンシャル(I
pl)を5.25eVより小さくするには、発光層の層
構成、或いは、発光層材料、ホール注入輸送材料等、又
はそれら材料の組み合せを適宜選択することにより達成
できる。
【0012】本発明の有機薄層EL素子は、前記Ipa
が5.0eVより大きく、かつ、Iplが5.25eV
より小さいものであるが、IpaとIplとの差は0.
25eV以内が好ましい。
が5.0eVより大きく、かつ、Iplが5.25eV
より小さいものであるが、IpaとIplとの差は0.
25eV以内が好ましい。
【0013】本発明の有機EL素子に用いる陰極材料と
しては、仕事関数の小さな金属、例えば、銀、錫、鉛、
マグネシウム、マンガン、アルミニウム、カルシウム、
リチウム等、或いはこれらの合金が用いられる。また、
陽極及び陰極として用いる材料のうち、少なくとも一方
は素子の発光波長領域において十分に透明であることが
好ましい。具体的には80%以上の光透過率を有するこ
とが好ましい。
しては、仕事関数の小さな金属、例えば、銀、錫、鉛、
マグネシウム、マンガン、アルミニウム、カルシウム、
リチウム等、或いはこれらの合金が用いられる。また、
陽極及び陰極として用いる材料のうち、少なくとも一方
は素子の発光波長領域において十分に透明であることが
好ましい。具体的には80%以上の光透過率を有するこ
とが好ましい。
【0014】本発明の有機EL素子の素子構成に特別な
制限はないが、たとえば図1に示す様に(a)発光層
(蛍光層)単層型、(b)少なくとも1層以上から構成
されるホール注入輸送層/蛍光層型、(c)蛍光層/少
なくとも1層以上から構成される電子注入輸送層、
(d)少なくとも1層以上から構成されるホール注入輸
送層/蛍光層/少なくとも1層以上から構成される電子
注入輸送層等が挙げられる。
制限はないが、たとえば図1に示す様に(a)発光層
(蛍光層)単層型、(b)少なくとも1層以上から構成
されるホール注入輸送層/蛍光層型、(c)蛍光層/少
なくとも1層以上から構成される電子注入輸送層、
(d)少なくとも1層以上から構成されるホール注入輸
送層/蛍光層/少なくとも1層以上から構成される電子
注入輸送層等が挙げられる。
【0015】また、本発明の有機EL素子の有機層は蒸
着により形成してもよいし、また、必要に応じて高分子
結着剤を用いて溶媒塗布法(キャスト法、スピンコート
法、ブレードコート法、ディッピング法等)により形成
してもよい。
着により形成してもよいし、また、必要に応じて高分子
結着剤を用いて溶媒塗布法(キャスト法、スピンコート
法、ブレードコート法、ディッピング法等)により形成
してもよい。
【0016】以下、本発明の有機EL素子に使用する有
機化合物の具体例を示す。電子注入輸送層材料としては
従来公知のものが用いられ、例えば、下記に示すような
オキサジアゾール誘導体を用いることができる。
機化合物の具体例を示す。電子注入輸送層材料としては
従来公知のものが用いられ、例えば、下記に示すような
オキサジアゾール誘導体を用いることができる。
【0017】
【表1−(1)】
【0018】
【表1−(2)】
【0019】
【表1−(3)】
【0020】ホール注入輸送材料としては、従来公知の
ものが用いられ、例えば以下に示す化合物及びそれらの
混合物が利用できる。
ものが用いられ、例えば以下に示す化合物及びそれらの
混合物が利用できる。
【表2−(1)】
【0021】
【表2−(2)】
【0022】蛍光層材料としては、従来公知のものが利
用でき、例えば以下に示した化合物及びそれらの混合物
が用いられる。また前記ホール注入輸送材料と前記電子
注入輸送材料との混合物を用いることもできる。
用でき、例えば以下に示した化合物及びそれらの混合物
が用いられる。また前記ホール注入輸送材料と前記電子
注入輸送材料との混合物を用いることもできる。
【表3−(1)】
【表3−(2)】
【0023】
【発明の効果】本発明の有機EL表示素子は、長期連続
駆動においても経時での光出力の低下や駆動電圧の上昇
がなく、素子の劣化が抑制され耐久性に優れたものであ
る。従って、本発明の有機EL素子は、フラットパネル
ディスプレイや液晶ディスプレイのバックライトとして
の用途や、スキャナーの光源、複写機の除電機の除電光
源などのOA機器への用途、また、簡単な表示素子への
応用が可能となる。
駆動においても経時での光出力の低下や駆動電圧の上昇
がなく、素子の劣化が抑制され耐久性に優れたものであ
る。従って、本発明の有機EL素子は、フラットパネル
ディスプレイや液晶ディスプレイのバックライトとして
の用途や、スキャナーの光源、複写機の除電機の除電光
源などのOA機器への用途、また、簡単な表示素子への
応用が可能となる。
【0024】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。
明する。
【0025】実施例1 中性洗剤、酸素系洗浄剤、イソプロピルアルコールで順
次超音波洗浄し、イソプロピルアルコール中で煮沸し、
注意深く溶媒中から引き上げたITO(インジウムース
ズ酸化物:膜厚2000Å以下)基板をヤマト科学社製
のプラズマリアクター(PR−501A)により下記の
条件下で行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 15分 このようにして表面処理を行ったITO基板のイオン化
ポテンシャルを理研計器製表面分析装置によりイオン化
ポテンシャルを測定したところ、イオン化ポテンシャル
Ipaは5.25eVを示した。そして、この基板を真
空蒸着装置にセットし、0.6×10~6torrの真空
度まで排気した。そして、ホール注入輸送層として前記
化合物(HTM−1)を400Å、蛍光層として前記化
合物(EM−1)を150Å、第2電子注入輸送層とし
て前記化合物(ETM−5)を150Å、さらに第1電
子注入輸送層として前記化合物(ETM−11)を30
0Å蒸着した。さらに、基板上にマスクをセットし、M
g:Ag=10:1(蒸着速度比)の陰極合金を200
0Å形成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子を作成した。
なお、ここで用いたHTM−1は、イオン化ポテンシャ
ルIplは5.08eVを有しており、前記条件式
(2)を満足する。また蒸着時の基板温度は室温で行っ
た。このようにして作成したEL素子を繰り返し周波数
f=100Hz、最大電流密度が30mA/cm2とな
る矩形波(図2参照)を印加し連続耐久試験を行った。
素子に電圧を印加直後の実効電圧は3.4Vを示し、き
わめて低駆動電圧で素子は機能した。このときの初期輝
度は47cd/m2であった。また図3に示す様に素子
の経時における電圧の上昇も小さく、775時間経過後
においても4.8Vの値を示した。
次超音波洗浄し、イソプロピルアルコール中で煮沸し、
注意深く溶媒中から引き上げたITO(インジウムース
ズ酸化物:膜厚2000Å以下)基板をヤマト科学社製
のプラズマリアクター(PR−501A)により下記の
条件下で行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 15分 このようにして表面処理を行ったITO基板のイオン化
ポテンシャルを理研計器製表面分析装置によりイオン化
ポテンシャルを測定したところ、イオン化ポテンシャル
Ipaは5.25eVを示した。そして、この基板を真
空蒸着装置にセットし、0.6×10~6torrの真空
度まで排気した。そして、ホール注入輸送層として前記
化合物(HTM−1)を400Å、蛍光層として前記化
合物(EM−1)を150Å、第2電子注入輸送層とし
て前記化合物(ETM−5)を150Å、さらに第1電
子注入輸送層として前記化合物(ETM−11)を30
0Å蒸着した。さらに、基板上にマスクをセットし、M
g:Ag=10:1(蒸着速度比)の陰極合金を200
0Å形成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子を作成した。
なお、ここで用いたHTM−1は、イオン化ポテンシャ
ルIplは5.08eVを有しており、前記条件式
(2)を満足する。また蒸着時の基板温度は室温で行っ
た。このようにして作成したEL素子を繰り返し周波数
f=100Hz、最大電流密度が30mA/cm2とな
る矩形波(図2参照)を印加し連続耐久試験を行った。
素子に電圧を印加直後の実効電圧は3.4Vを示し、き
わめて低駆動電圧で素子は機能した。このときの初期輝
度は47cd/m2であった。また図3に示す様に素子
の経時における電圧の上昇も小さく、775時間経過後
においても4.8Vの値を示した。
【0026】比較例1 プラズマリアクターによるITO基板処理を行わなかっ
た以外は実施例1と同様にEL素子の作成を行った。こ
のようにして作成したEL素子を実施例1と同様な駆動
法で連続駆動試験を行ったところ、初期実効電圧は5.
7Vであり実施例1よりも高い駆動電圧を必要とした。
このときの初期輝度は51.0cd/m2であった。さ
らに経時においては、図3に示す様に実施例1と比べ電
圧の上昇が激しく、850時間経過後においては11.
7Vの駆動電圧を必要とした。この素子に用いたITO
基板のイオン化ポテンシャルはIpa4.66eVであ
り、条件式(1)の関係を満足しなかった。
た以外は実施例1と同様にEL素子の作成を行った。こ
のようにして作成したEL素子を実施例1と同様な駆動
法で連続駆動試験を行ったところ、初期実効電圧は5.
7Vであり実施例1よりも高い駆動電圧を必要とした。
このときの初期輝度は51.0cd/m2であった。さ
らに経時においては、図3に示す様に実施例1と比べ電
圧の上昇が激しく、850時間経過後においては11.
7Vの駆動電圧を必要とした。この素子に用いたITO
基板のイオン化ポテンシャルはIpa4.66eVであ
り、条件式(1)の関係を満足しなかった。
【0027】実施例2 実施例1と同様にEL素子の作成を行った。ただし、プ
ラズマ処理時間を5分間とした。このようにして作成し
たEL素子を繰り返し周波数f=100Hz、最大電流
密度が30mA/cm2となる矩形波を印加し連続耐久
試験を行った。素子に電圧を印加直後の実効電圧は3.
30Vを示し、きわめて低駆動電圧で素子は機能した。
このときの初期輝度は40.3cd/m2であった。ま
た経時における電圧の上昇も小さく、456時間経過後
においても4.22Vの値を示した。このようにして表
面処理を行ったITO基板のイオン化ポテンシャルを理
研計器製表面分析装置によりイオン化ポテンシャルを測
定したところ、Ipa=5.25eVを示し、条件式
(1)の関係を満足するものであった。
ラズマ処理時間を5分間とした。このようにして作成し
たEL素子を繰り返し周波数f=100Hz、最大電流
密度が30mA/cm2となる矩形波を印加し連続耐久
試験を行った。素子に電圧を印加直後の実効電圧は3.
30Vを示し、きわめて低駆動電圧で素子は機能した。
このときの初期輝度は40.3cd/m2であった。ま
た経時における電圧の上昇も小さく、456時間経過後
においても4.22Vの値を示した。このようにして表
面処理を行ったITO基板のイオン化ポテンシャルを理
研計器製表面分析装置によりイオン化ポテンシャルを測
定したところ、Ipa=5.25eVを示し、条件式
(1)の関係を満足するものであった。
【0028】実施例3 中性洗剤、酸素系洗浄剤、イソプロピルアルコールで順
次超音波洗浄し、イソプロピルアルコール中で煮沸し、
注意深く溶媒中から引き上げたITO(インジウムース
ズ酸化物:膜厚2000Å以下)基板をヤマト科学社製
のプラズマリアクター(PR−501A)により下記の
条件下で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 0、1、5分 そして、これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.
6×10~6torrの真空度まで排気した。そして、ホ
ール注入輸送層として前記化合物(HTM−1)を40
0Å、蛍光層として前記化合物(EM−1)を150
Å、第2電子注入輸送層として前記化合物(ETM−1
2)を150Å、さらに第1電子注入輸送層として前記
化合物(ETM−11)を300Å蒸着した。さらに、
基板上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸
着速度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2
ミリ角のEL素子を作成した。なお、ここで用いたHT
M−1は、イオン化ポテンシャルIplは5.08eV
を有しており、前記条件式(2)を満足する。また蒸着
時の基板温度は室温で行った。このようにして作成した
EL素子を直流定電流条件下で最大電流密度が10mA
/cm2となるように電圧を印加し連続耐久試験を行っ
た。表4にITO膜のイオン化ポテンシャルの値、及び
素子の耐久特性について示す。明らかにITO膜のイオ
ン化ポテンシャルが5.0eV以上の場合は初期駆動電
圧が低く、かつ経時での電圧上昇も抑制されていること
がわかる。
次超音波洗浄し、イソプロピルアルコール中で煮沸し、
注意深く溶媒中から引き上げたITO(インジウムース
ズ酸化物:膜厚2000Å以下)基板をヤマト科学社製
のプラズマリアクター(PR−501A)により下記の
条件下で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 0、1、5分 そして、これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.
6×10~6torrの真空度まで排気した。そして、ホ
ール注入輸送層として前記化合物(HTM−1)を40
0Å、蛍光層として前記化合物(EM−1)を150
Å、第2電子注入輸送層として前記化合物(ETM−1
2)を150Å、さらに第1電子注入輸送層として前記
化合物(ETM−11)を300Å蒸着した。さらに、
基板上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸
着速度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2
ミリ角のEL素子を作成した。なお、ここで用いたHT
M−1は、イオン化ポテンシャルIplは5.08eV
を有しており、前記条件式(2)を満足する。また蒸着
時の基板温度は室温で行った。このようにして作成した
EL素子を直流定電流条件下で最大電流密度が10mA
/cm2となるように電圧を印加し連続耐久試験を行っ
た。表4にITO膜のイオン化ポテンシャルの値、及び
素子の耐久特性について示す。明らかにITO膜のイオ
ン化ポテンシャルが5.0eV以上の場合は初期駆動電
圧が低く、かつ経時での電圧上昇も抑制されていること
がわかる。
【表4】
【0029】実施例4 中性洗剤、酸素系洗浄剤、イソプロピルアルコールで順
次超音波洗浄し、イソプロピルアルコール中で煮沸し、
注意深く溶媒中から引き上げたITO(インジウム−ス
ズ酸化物:膜厚2000Å以下)基板をヤマト科学社製
のプラズマリアクター(PR−501A)により下記の
条件下で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 0、1、5分 そして、これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.
6×10~6torrの真空度まで排気した。そして、ホ
ール注入輸送層として前記化合物(HTM−1)を40
0Å、蛍光層として前記化合物(EM−1)を150
Å、第2電子注入輸送層として前記化合物(ETM−1
3)を150Å、さらに第1電子注入輸送層として前記
化合物(ETM−11)を300Å蒸着した。さらに、
基板上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸
着速度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2
ミリ角のEL素子を作成した。なお、ここで用いたHT
M−1は、5.08eVのイオン化ポテンシャルIpl
を有しており、前記条件式(2)を満足する。また蒸着
時の基板温度は室温で行った。このようにして作成した
3種類のEL素子の電流・電圧特性を測定したところ図
4のような結果になり、プラズマ処理により素子抵抗が
約1/2に低下していることがわかり、ホール注入障壁
が低下していることがわかる。
次超音波洗浄し、イソプロピルアルコール中で煮沸し、
注意深く溶媒中から引き上げたITO(インジウム−ス
ズ酸化物:膜厚2000Å以下)基板をヤマト科学社製
のプラズマリアクター(PR−501A)により下記の
条件下で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 0、1、5分 そして、これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.
6×10~6torrの真空度まで排気した。そして、ホ
ール注入輸送層として前記化合物(HTM−1)を40
0Å、蛍光層として前記化合物(EM−1)を150
Å、第2電子注入輸送層として前記化合物(ETM−1
3)を150Å、さらに第1電子注入輸送層として前記
化合物(ETM−11)を300Å蒸着した。さらに、
基板上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸
着速度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2
ミリ角のEL素子を作成した。なお、ここで用いたHT
M−1は、5.08eVのイオン化ポテンシャルIpl
を有しており、前記条件式(2)を満足する。また蒸着
時の基板温度は室温で行った。このようにして作成した
3種類のEL素子の電流・電圧特性を測定したところ図
4のような結果になり、プラズマ処理により素子抵抗が
約1/2に低下していることがわかり、ホール注入障壁
が低下していることがわかる。
【0030】実施例5 実施例4と同様に、中性洗剤、酸素系洗浄剤、イソプロ
ピルアルコールで順次超音波洗浄し、イソプロピルアル
コール中で煮沸し、注意深く溶媒中から引き上げたIT
O(インジウム−スズ酸化物:膜厚20000Å以下)
基板をヤマト科学社製のプラズマリアクター(PR−5
01A)により下記の条件で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 3分 このようにして表面処理を行ったITO基板のイオン化
ポテンシャルを測定したところIpa=5.20eVを
示した。これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.
6×10~6torrの真空度まで排気した。そして、ホ
ール注入輸送層として前記化合物(HTM−1)を50
0Å、蛍光層として前記化合物(EM5)を500Å蒸
着した。さらに、基板上にマスクをセットし、Mg:A
g=10:1(蒸着速度比)の陰極合金を2000Å形
成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子を作成した。なお、
ここで用いたHTM−1は、5.08eVのイオン化ポ
テンシャルIplを有しており、前記条件式(2)を満
足する。また蒸着時の基板温度は室温で行った。このよ
うにして作成したEL素子を直流定電流条件下で電流密
度が10mA/cm2となるように電圧を印加し連続耐
久試験を行ったところ、未処理のITO膜を用いた場合
と比較して初期駆動電圧が低く、また経時での電圧上昇
も抑制されていた。
ピルアルコールで順次超音波洗浄し、イソプロピルアル
コール中で煮沸し、注意深く溶媒中から引き上げたIT
O(インジウム−スズ酸化物:膜厚20000Å以下)
基板をヤマト科学社製のプラズマリアクター(PR−5
01A)により下記の条件で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 3分 このようにして表面処理を行ったITO基板のイオン化
ポテンシャルを測定したところIpa=5.20eVを
示した。これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.
6×10~6torrの真空度まで排気した。そして、ホ
ール注入輸送層として前記化合物(HTM−1)を50
0Å、蛍光層として前記化合物(EM5)を500Å蒸
着した。さらに、基板上にマスクをセットし、Mg:A
g=10:1(蒸着速度比)の陰極合金を2000Å形
成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子を作成した。なお、
ここで用いたHTM−1は、5.08eVのイオン化ポ
テンシャルIplを有しており、前記条件式(2)を満
足する。また蒸着時の基板温度は室温で行った。このよ
うにして作成したEL素子を直流定電流条件下で電流密
度が10mA/cm2となるように電圧を印加し連続耐
久試験を行ったところ、未処理のITO膜を用いた場合
と比較して初期駆動電圧が低く、また経時での電圧上昇
も抑制されていた。
【0031】実施例6 実施例4と同様に、中性洗剤、酸素系洗浄剤、イソプロ
ピルアルコールで順次超音波洗浄し、イソプロピルアル
コール中で煮沸し、注意深く溶媒中から引き上げたIT
O(インジウム−スズ酸化物:膜厚2000Å以下)基
板をヤマト科学社製のプラズマリアクター(PR−50
1A)により下記の条件下で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 3分 このようにして表面処理を行ったITO基板のイオン化
ポテンシャルを測定したところIp=5.20eVを示
した。これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.6
×10~6torrの真空度まで排気した。そして、蛍光
層として前記化合物(EM−7)を1000Å蒸着し
た。さらに、基板上にマスクをセットし、Mg:Ag=
10:1(蒸着速度比)の陰極合金を2000Å形成
し、2ミリ×2ミリ角のEL素子を作成した。なお、こ
こで用いたEM−7のイオン化ポテンシャルIplは
5.11eVであり、前記条件式(2)を満足する。ま
た蒸着時の基板温度は室温で行った。このようにして作
成したEL素子を直流定電流条件下で電流密度が10m
A/cm2となるように電圧を印加し連続耐久試験を行
ったところ、未処理のITO膜を用いた場合と比較して
初期駆動電圧が低く、また経時での電圧上昇も抑制され
ていた。
ピルアルコールで順次超音波洗浄し、イソプロピルアル
コール中で煮沸し、注意深く溶媒中から引き上げたIT
O(インジウム−スズ酸化物:膜厚2000Å以下)基
板をヤマト科学社製のプラズマリアクター(PR−50
1A)により下記の条件下で処理を行った。 真空度 0.02torr 高周波出力 50W 発振周波数 13.56MHz 反応時間 3分 このようにして表面処理を行ったITO基板のイオン化
ポテンシャルを測定したところIp=5.20eVを示
した。これらの基板を真空蒸着装置にセットし、0.6
×10~6torrの真空度まで排気した。そして、蛍光
層として前記化合物(EM−7)を1000Å蒸着し
た。さらに、基板上にマスクをセットし、Mg:Ag=
10:1(蒸着速度比)の陰極合金を2000Å形成
し、2ミリ×2ミリ角のEL素子を作成した。なお、こ
こで用いたEM−7のイオン化ポテンシャルIplは
5.11eVであり、前記条件式(2)を満足する。ま
た蒸着時の基板温度は室温で行った。このようにして作
成したEL素子を直流定電流条件下で電流密度が10m
A/cm2となるように電圧を印加し連続耐久試験を行
ったところ、未処理のITO膜を用いた場合と比較して
初期駆動電圧が低く、また経時での電圧上昇も抑制され
ていた。
【0032】実施例7 実施例5と同様に基板の処理を行った。そして、これら
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、ホール注入輸送層
として前記化合物(HTM−1)を500Å、蛍光層と
して前記化合物(EM−5)を500Å、さらに、基板
上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速
度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ
角のEL素子を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室
温で行った。このようにして作成したEL素子を直流定
電流条件下で最大電流密度が30mA/cm2となるよ
うに電圧を印加し連続耐久試験を行った。その結果50
0時間以上の連続駆動においても、400cd/m2以
上の発光輝度が観測された。ここで用いたHTM−1は
5.08eVのイオン化ポテンシャルIplを有してお
り、前記条件下(2)を満足する。
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、ホール注入輸送層
として前記化合物(HTM−1)を500Å、蛍光層と
して前記化合物(EM−5)を500Å、さらに、基板
上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速
度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ
角のEL素子を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室
温で行った。このようにして作成したEL素子を直流定
電流条件下で最大電流密度が30mA/cm2となるよ
うに電圧を印加し連続耐久試験を行った。その結果50
0時間以上の連続駆動においても、400cd/m2以
上の発光輝度が観測された。ここで用いたHTM−1は
5.08eVのイオン化ポテンシャルIplを有してお
り、前記条件下(2)を満足する。
【0033】比較例2 実施例5と同様に基板の処理を行った。そして、これら
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、ホール注入輸送層
としてN,N’−(3−メチルフェニル)−1,1’−
ビフェニル−4,4’−ジアミンを500Å、発光層と
して前記化合物(EM−5)を500Å、さらに、基板
上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速
度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ
角のEL素子を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室
温で行った。このようにして作成したEL素子を直流定
電流条件下で最大電流密度が30mA/cm2となるよ
うに電圧を印加し連続耐久試験を行った。その結果10
0時間以上の連続駆動において実施例8と比較して顕著
な発光輝度の低下が観測された。ここで用いたホール注
入輸送層のイオン化ポテンシャルIplは5.29eV
であり、前記条件式(2)を満足しなかった。
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、ホール注入輸送層
としてN,N’−(3−メチルフェニル)−1,1’−
ビフェニル−4,4’−ジアミンを500Å、発光層と
して前記化合物(EM−5)を500Å、さらに、基板
上にマスクをセットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速
度比)の陰極合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ
角のEL素子を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室
温で行った。このようにして作成したEL素子を直流定
電流条件下で最大電流密度が30mA/cm2となるよ
うに電圧を印加し連続耐久試験を行った。その結果10
0時間以上の連続駆動において実施例8と比較して顕著
な発光輝度の低下が観測された。ここで用いたホール注
入輸送層のイオン化ポテンシャルIplは5.29eV
であり、前記条件式(2)を満足しなかった。
【0034】実施例8 実施例5と同様に基板の処理を行った。そして、これら
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、蛍光層として前記
化合物EM−8を500Å、電子注入輸送層としてET
M−1を500Å形成した。さらに、基板上にマスクを
セットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速度比)の陰極
合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子
を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室温で行った。
このようにして作成されたEL素子を直流定電流条件下
で最大電流密度が30mA/cm2となるように電圧を
印加し連続耐久試験を行った。その結果数時間経過後に
おいても発光が観察された。ここで用いたEM−8は
5,23eVのイオン化ポテンシャルIplを有してお
り、前記条件式(2)を満足する。
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、蛍光層として前記
化合物EM−8を500Å、電子注入輸送層としてET
M−1を500Å形成した。さらに、基板上にマスクを
セットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速度比)の陰極
合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子
を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室温で行った。
このようにして作成されたEL素子を直流定電流条件下
で最大電流密度が30mA/cm2となるように電圧を
印加し連続耐久試験を行った。その結果数時間経過後に
おいても発光が観察された。ここで用いたEM−8は
5,23eVのイオン化ポテンシャルIplを有してお
り、前記条件式(2)を満足する。
【0035】比較例3 実施例5と同様に基板の処理を行った。そして、これら
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、蛍光層として下記
化合物EM−9を500Å、電子注入輸送層としてET
M−1を500Å形成した。さらに、基板上にマスクを
セットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速度比)の陰極
合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子
を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室温で行った。
このようにして作成したEL素子を直流定電流条件下で
最大電流密度が30mA/cm2となるように電圧を印
加し連続耐久試験を行った。その結果、数分後において
発光は観測されなかった。ここで用いたEM−9は5.
72eVのイオン化ポテンシャルIplを有しており、
前記条件式(2)を満足しなかった。
の基板を真空蒸着装置にセットし、0.6×10-6to
rrの真空度まで排気した。そして、蛍光層として下記
化合物EM−9を500Å、電子注入輸送層としてET
M−1を500Å形成した。さらに、基板上にマスクを
セットし、Mg:Ag=10:1(蒸着速度比)の陰極
合金を2000Å形成し、2ミリ×2ミリ角のEL素子
を作成した。なお、蒸着時の基板温度は室温で行った。
このようにして作成したEL素子を直流定電流条件下で
最大電流密度が30mA/cm2となるように電圧を印
加し連続耐久試験を行った。その結果、数分後において
発光は観測されなかった。ここで用いたEM−9は5.
72eVのイオン化ポテンシャルIplを有しており、
前記条件式(2)を満足しなかった。
【化1】
【図1】本発明に係わる有機EL素子の素子構造断面図 (a)発光層単層型 (b)ホール注入輸送層/発光層型 (c)発光層/電子注入輸送層型 (d)ホール注入輸送層/発光層/電子注入輸送層型
【図2】本発明に係わる有機EL素子の駆動波形図。
【図3】本発明に係わる有機EL素子の連続駆動にとも
なう印加電圧の経時変化図。
なう印加電圧の経時変化図。
【図4】本発明に係わる有機EL素子の電流・電圧特性
図。
図。
Claims (6)
- 【請求項1】 基板上において互いに対向する陽極と陰
極との間に配置された有機物質から成る有機発光層を有
する有機EL素子において、前記陽極のイオン化ポテン
シャル(Ipa)と、それに接する有機発光層のイオン
化ポテンシャル(Ipl)とが、それぞれ下記式(1)
又は(2)の関係を満足することを特徴とする有機薄膜
EL素子。 Ipa>5.0eV (1) Ipl<5.25eV (2) - 【請求項2】 前記有機発光層が、蛍光層のみから構成
されていることを特徴とする請求項1記載の有機薄膜E
L素子。 - 【請求項3】 前記有機発光層が、少なくとも一層から
構成されるホール注入輸送層と蛍光層から構成されてい
ることを特徴とする請求項1記載の有機薄膜EL素子。 - 【請求項4】 有機発光層が、蛍光層と少なくとも一層
の電子注入輸送層から構成されていることを特徴とする
請求項1記載の有機薄膜EL素子。 - 【請求項5】 有機発光層が、少なくとも一層から構成
されるホール注入輸送層と蛍光層と少なくとも一層から
構成される電子注入輸送層から構成されていることを特
徴とする請求項1記載の有機薄膜EL素子。 - 【請求項6】 前記陽極がインジウム錫酸化物(IT
O)から構成されていることを特徴とする請求項1、
2、3、4又は5記載の有機薄膜EL素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7239239A JPH08138868A (ja) | 1994-09-16 | 1995-08-24 | 有機薄膜el素子 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6-248421 | 1994-09-16 | ||
JP24842194 | 1994-09-16 | ||
JP7239239A JPH08138868A (ja) | 1994-09-16 | 1995-08-24 | 有機薄膜el素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08138868A true JPH08138868A (ja) | 1996-05-31 |
Family
ID=26534154
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7239239A Pending JPH08138868A (ja) | 1994-09-16 | 1995-08-24 | 有機薄膜el素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08138868A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001110570A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-04-20 | Sony Corp | 有機電界発光素子 |
JP2001319777A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-11-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
WO2003043383A1 (en) * | 2001-11-12 | 2003-05-22 | Neoviewkolon Co., Ltd | Organic light-emitting device having high luminescent efficiency |
WO2006090838A1 (ja) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Nissan Motor Co., Ltd. | 有機エレクトロルミネッセント素子及びその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0414795A (ja) * | 1990-05-02 | 1992-01-20 | Mitsubishi Kasei Corp | 有機電界発光素子 |
JPH05326146A (ja) * | 1992-01-07 | 1993-12-10 | Toshiba Corp | 有機el素子 |
JPH08222373A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子 |
-
1995
- 1995-08-24 JP JP7239239A patent/JPH08138868A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH05326146A (ja) * | 1992-01-07 | 1993-12-10 | Toshiba Corp | 有機el素子 |
JPH08222373A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2001110570A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-04-20 | Sony Corp | 有機電界発光素子 |
JP2001319777A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-11-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
WO2003043383A1 (en) * | 2001-11-12 | 2003-05-22 | Neoviewkolon Co., Ltd | Organic light-emitting device having high luminescent efficiency |
WO2006090838A1 (ja) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Nissan Motor Co., Ltd. | 有機エレクトロルミネッセント素子及びその製造方法 |
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---|---|---|---|
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