JPH07110403A - 複合型光学部品 - Google Patents
複合型光学部品Info
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- JPH07110403A JPH07110403A JP5352195A JP35219593A JPH07110403A JP H07110403 A JPH07110403 A JP H07110403A JP 5352195 A JP5352195 A JP 5352195A JP 35219593 A JP35219593 A JP 35219593A JP H07110403 A JPH07110403 A JP H07110403A
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- optical film
- resin layer
- glass
- optical
- vapor deposition
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラスとエネルギー硬化性樹脂との接着強度
を増大させる。 【構成】 ガラス基板からなるレンズ１の表面に光学膜
２，３を接合し、光学膜３を介してエネルギー硬化性樹
脂からなる樹脂層４を接合する。光学膜３における樹脂
層３側の面にＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3
あるいはこれらを含む混合物からなる層を形成し接着強
度を増大させる。
を増大させる。 【構成】 ガラス基板からなるレンズ１の表面に光学膜
２，３を接合し、光学膜３を介してエネルギー硬化性樹
脂からなる樹脂層４を接合する。光学膜３における樹脂
層３側の面にＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3
あるいはこれらを含む混合物からなる層を形成し接着強
度を増大させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラスと樹脂とが接合さ
れる複合型光学部品に関する。
れる複合型光学部品に関する。
【０００２】近年、カメラ等の光学機器においては、複
数のレンズからなる複合レンズと同等の作用を有する非
球面レンズを使用することにより、光学機器のレンズ枚
数の削減、小型・軽量化、低コスト化が図られている。
このような非球面を有した光学部品としては、例えば特
開昭５９−１２４１２号公報に開示されるように、ガラ
スの面上に樹脂層を形成した複合型光学部品が知られて
いる。
数のレンズからなる複合レンズと同等の作用を有する非
球面レンズを使用することにより、光学機器のレンズ枚
数の削減、小型・軽量化、低コスト化が図られている。
このような非球面を有した光学部品としては、例えば特
開昭５９−１２４１２号公報に開示されるように、ガラ
スの面上に樹脂層を形成した複合型光学部品が知られて
いる。
【０００３】ところでこのような複合型光学部品は、樹
脂の硬化収縮やガラスと樹脂の線膨張係数の違いによる
応力が発生するため、ガラスと樹脂の接合面に充分な接
着強度が必要となっている。このため接合面の接着強度
を確保する従来方法として、特開昭５４−６００６号公
報に開示されるように、ガラスの表面をシランカップリ
ング剤により処理した後、樹脂層を形成することが知ら
れている。
脂の硬化収縮やガラスと樹脂の線膨張係数の違いによる
応力が発生するため、ガラスと樹脂の接合面に充分な接
着強度が必要となっている。このため接合面の接着強度
を確保する従来方法として、特開昭５４−６００６号公
報に開示されるように、ガラスの表面をシランカップリ
ング剤により処理した後、樹脂層を形成することが知ら
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一般にシランカップリ
ング剤は、全ての無機物に対し表面処理効果を有するも
のではなく、ＳｉＯ2 のようなシリコン酸化物等に対し
て表面処理効果を有している。一方、ガラスの中にはＳ
ｉＯ2 の含有率が低いものも少なくない。従ってこうし
たガラスにおいては、従来技術のようにシランカップリ
ング剤の表面処理を行ってもガラスと樹脂との接合面に
充分な接着強度が得られないという重大な問題点が存在
する。
ング剤は、全ての無機物に対し表面処理効果を有するも
のではなく、ＳｉＯ2 のようなシリコン酸化物等に対し
て表面処理効果を有している。一方、ガラスの中にはＳ
ｉＯ2 の含有率が低いものも少なくない。従ってこうし
たガラスにおいては、従来技術のようにシランカップリ
ング剤の表面処理を行ってもガラスと樹脂との接合面に
充分な接着強度が得られないという重大な問題点が存在
する。
【０００５】本発明はかかる従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、ＳｉＯ2 の含有率が低いガラスであって
も、ガラスと樹脂の接合面に充分な接着強度を有する複
合型光学部品を提供することを目的とする。
れたもので、ＳｉＯ2 の含有率が低いガラスであって
も、ガラスと樹脂の接合面に充分な接着強度を有する複
合型光学部品を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するため本発明者は、接合面の接着強度を増大させる
目的で、ＳｉＯ2 の含有率が低いガラス基板の表面に種
々の光学膜材料を成膜し、シランカップリング剤の表面
処理効果を検討した。その結果、光学膜材料の中でもＡ
ｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3 などのフッ化物
およびこれらを含む混合物に対してシランカップリング
剤の表面処理効果が高いことを見い出した。
成するため本発明者は、接合面の接着強度を増大させる
目的で、ＳｉＯ2 の含有率が低いガラス基板の表面に種
々の光学膜材料を成膜し、シランカップリング剤の表面
処理効果を検討した。その結果、光学膜材料の中でもＡ
ｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3 などのフッ化物
およびこれらを含む混合物に対してシランカップリング
剤の表面処理効果が高いことを見い出した。
【０００７】すなわち本発明の複合型光学部品は、ガラ
ス基板と、少なくとも１層からなる光学膜と、エネルギ
ー硬化性樹脂層とが順に接合されており、前記光学膜に
おけるエネルギー硬化性樹脂層と接する面がＡｌＦ3 ，
ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3 あるいはこれらを含む混
合物となっていることを特徴とする。
ス基板と、少なくとも１層からなる光学膜と、エネルギ
ー硬化性樹脂層とが順に接合されており、前記光学膜に
おけるエネルギー硬化性樹脂層と接する面がＡｌＦ3 ，
ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3 あるいはこれらを含む混
合物となっていることを特徴とする。
【０００８】ここで、光学膜を構成する各層は、真空蒸
着、イオンプレーティング、スパッタリング等の手段で
形成することができる。本発明で用いるＡｌＦ3 ，Ｍｇ
Ｆ2，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3 などの光学膜材料は、各々単
独で用いることはもちろん、それらを互いに混ぜ合わせ
た混合物あるいは他の材料を少量混ぜ合わせた混合物等
を用いても良い。また本発明の複合型光学部品は、Ｓｉ
Ｏ2 の含有率の大小にかかわりなく、同様の効果が得ら
れるものであり、ガラス基板の種類に特に限定されるも
のではない。
着、イオンプレーティング、スパッタリング等の手段で
形成することができる。本発明で用いるＡｌＦ3 ，Ｍｇ
Ｆ2，ＣｅＦ3 ，ＮｄＦ3 などの光学膜材料は、各々単
独で用いることはもちろん、それらを互いに混ぜ合わせ
た混合物あるいは他の材料を少量混ぜ合わせた混合物等
を用いても良い。また本発明の複合型光学部品は、Ｓｉ
Ｏ2 の含有率の大小にかかわりなく、同様の効果が得ら
れるものであり、ガラス基板の種類に特に限定されるも
のではない。
【０００９】上記構成では、ガラス基板の表面に形成さ
れた光学膜の樹脂と接する層にＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，Ｃ
ｅＦ3 ，ＮｄＦ3 あるいはこれらを含む混合物を用いて
いるので、シランカップリング剤による表面処理効果が
高く、樹脂層の接着強度を充分に得ることができる。
れた光学膜の樹脂と接する層にＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，Ｃ
ｅＦ3 ，ＮｄＦ3 あるいはこれらを含む混合物を用いて
いるので、シランカップリング剤による表面処理効果が
高く、樹脂層の接着強度を充分に得ることができる。
【００１０】また、本発明の複合型光学部品のガラス基
板の表面に形成されたＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，
ＮｄＦ3 あるいはこれらを含む混合物、及び光学膜を構
成する各層はガラスとの密着性が非常によいので、接合
面の強度上の問題を生じることがない。
板の表面に形成されたＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，
ＮｄＦ3 あるいはこれらを含む混合物、及び光学膜を構
成する各層はガラスとの密着性が非常によいので、接合
面の強度上の問題を生じることがない。
【００１１】
【実施例１】図１は、本発明の実施例１の複合型光学部
品の断面を示している。レンズ１は、硝材ＬＡＨ６１
（（株）オハラ製）により作成されている。この硝材の
屈折率は１．７４であり、ＳｉＯ2 の含有率は５％以下
である。レンズ１の樹脂層４を成形しない側の面上には
光学膜２が形成されている。以下、この光学膜２の作成
方法を説明する。まず、レンズ１を樹脂層４を成形しな
い側の面を下にしてチャンバー径が８００ｍｍの真空蒸
着装置にセットした後、真空蒸着チャンバー内を３×１
０-3Ｐａ以下の真空に排気する。基板の加熱は３００℃
で行った。その後、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして１３０ｎｍ蒸着して第一層を形成
する。この光学膜２はガラス表面の反射防止膜として機
能するものである。レンズ１の樹脂層４を成形する側の
面上には光学膜３が形成されている。以下、この光学膜
３の作成方法を説明する。まず、レンズ１を樹脂層４を
成形する側の面を下にして真空蒸着装置にセットした
後、真空蒸着チャンバー内を３×１０-3Ｐａ以下の真空
に排気する。基板の加熱は３００℃で行った。その後、
ＡｌＦ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして
１５ｎｍ蒸着して第一層を形成する。表１は本実施例の
光学膜３の構成を示す。
品の断面を示している。レンズ１は、硝材ＬＡＨ６１
（（株）オハラ製）により作成されている。この硝材の
屈折率は１．７４であり、ＳｉＯ2 の含有率は５％以下
である。レンズ１の樹脂層４を成形しない側の面上には
光学膜２が形成されている。以下、この光学膜２の作成
方法を説明する。まず、レンズ１を樹脂層４を成形しな
い側の面を下にしてチャンバー径が８００ｍｍの真空蒸
着装置にセットした後、真空蒸着チャンバー内を３×１
０-3Ｐａ以下の真空に排気する。基板の加熱は３００℃
で行った。その後、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして１３０ｎｍ蒸着して第一層を形成
する。この光学膜２はガラス表面の反射防止膜として機
能するものである。レンズ１の樹脂層４を成形する側の
面上には光学膜３が形成されている。以下、この光学膜
３の作成方法を説明する。まず、レンズ１を樹脂層４を
成形する側の面を下にして真空蒸着装置にセットした
後、真空蒸着チャンバー内を３×１０-3Ｐａ以下の真空
に排気する。基板の加熱は３００℃で行った。その後、
ＡｌＦ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして
１５ｎｍ蒸着して第一層を形成する。表１は本実施例の
光学膜３の構成を示す。
【００１２】
【表１】
【００１３】こうして得られた光学膜３の表面上には非
球面の形状を有したＵＶ硬化型ウレタンアクリレート系
の樹脂層４が形成されている。以下、樹脂層４の作成方
法を説明する。まず、光学膜３の表面上にエタノールで
希釈したシランカップリング剤「ＫＢＭ−５０３」（信
越化学（株）製）をスピンコートした後、１１０℃、２
０分の条件で乾燥させることにより表面処理を行う。こ
の後、液状のＵＶ硬化型ウレタンアクリレート系の樹脂
をレンズ１の中心部に適量塗布し、この上から非球面等
所望の形状に形成された金型を樹脂に気泡が入らないよ
うに静かに押し付け、樹脂層４の厚さが中心で１００μ
ｍになるところで停止する。次に、レンズ１の下部から
高圧水銀灯により紫外線（主に３６５ｎｍ）を照射し、
樹脂を硬化させた後、金型を離型する。
球面の形状を有したＵＶ硬化型ウレタンアクリレート系
の樹脂層４が形成されている。以下、樹脂層４の作成方
法を説明する。まず、光学膜３の表面上にエタノールで
希釈したシランカップリング剤「ＫＢＭ−５０３」（信
越化学（株）製）をスピンコートした後、１１０℃、２
０分の条件で乾燥させることにより表面処理を行う。こ
の後、液状のＵＶ硬化型ウレタンアクリレート系の樹脂
をレンズ１の中心部に適量塗布し、この上から非球面等
所望の形状に形成された金型を樹脂に気泡が入らないよ
うに静かに押し付け、樹脂層４の厚さが中心で１００μ
ｍになるところで停止する。次に、レンズ１の下部から
高圧水銀灯により紫外線（主に３６５ｎｍ）を照射し、
樹脂を硬化させた後、金型を離型する。
【００１４】成形された樹脂層４の上面には光学膜５が
形成されている。以下、同様に光学膜５の作成方法を説
明する。まず、成形された樹脂層４の面を下にしてレン
ズ１を真空蒸着装置にセットした後、真空蒸着チャンバ
ー内を１×１０-3Ｐａ以下の真空に排気する。基板の加
熱を行わなかった。その後、ＳｉＯ2 を電子電加熱蒸着
法により、光学的膜厚にして６０ｎｍ蒸着して第一層を
形成する。次に酸化セリウム（ＣｅＯ2 ）を電子線加熱
蒸着法により、光学的膜厚にして３５ｎｍ蒸着して第二
層を形成する。続いてＳｉＯ2 を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして１８５ｎｍ蒸着して第三層を形成
する。この光学膜５は、樹脂層表面の反射防止膜として
機能するものである。以上のような工程により、本実施
例の複合型光学部品を製造する。
形成されている。以下、同様に光学膜５の作成方法を説
明する。まず、成形された樹脂層４の面を下にしてレン
ズ１を真空蒸着装置にセットした後、真空蒸着チャンバ
ー内を１×１０-3Ｐａ以下の真空に排気する。基板の加
熱を行わなかった。その後、ＳｉＯ2 を電子電加熱蒸着
法により、光学的膜厚にして６０ｎｍ蒸着して第一層を
形成する。次に酸化セリウム（ＣｅＯ2 ）を電子線加熱
蒸着法により、光学的膜厚にして３５ｎｍ蒸着して第二
層を形成する。続いてＳｉＯ2 を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして１８５ｎｍ蒸着して第三層を形成
する。この光学膜５は、樹脂層表面の反射防止膜として
機能するものである。以上のような工程により、本実施
例の複合型光学部品を製造する。
【００１５】
【実施例２】本実施例において、光学膜３以外は実施例
１と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を
説明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板加
熱を行った後に、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法により、
光学的膜厚にして１０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。
表２は本実施例の光学膜３の構成を示す。
１と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を
説明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板加
熱を行った後に、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法により、
光学的膜厚にして１０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。
表２は本実施例の光学膜３の構成を示す。
【００１６】
【表２】
【００１７】
【実施例３】本実施例においても、光学膜３以外は実施
例１と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法
を説明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板
加熱を行った後に、ＮｄＦ3 を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして２０ｎｍ蒸着して第一層を形成す
る。表３は本実施例の光学膜３の構成を示す。
例１と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法
を説明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板
加熱を行った後に、ＮｄＦ3 を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして２０ｎｍ蒸着して第一層を形成す
る。表３は本実施例の光学膜３の構成を示す。
【００１８】
【表３】
【００１９】
【実施例４】本実施例において、光学膜３以外は実施例
１と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を
説明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板加
熱を行った後に、ＮｄＦ3 とＡｌＦ3 が重量比にして
８：２で混合された混合物を電子線加熱蒸着法により、
光学的膜厚にして３０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。
表４は本実施例の光学膜３の構成を示す。
１と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を
説明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板加
熱を行った後に、ＮｄＦ3 とＡｌＦ3 が重量比にして
８：２で混合された混合物を電子線加熱蒸着法により、
光学的膜厚にして３０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。
表４は本実施例の光学膜３の構成を示す。
【００２０】
【表４】
【００２１】
【実施例５】本実施例ではレンズ１と光学膜３以外は実
施例１と同様の条件で行った。本実施例のレンズ１は、
硝材ＬＡＬ６０（オハラ（株）製）により作成されてい
る。この硝材の屈折率は１．８３であり、ＳｉＯ2 の含
有量は５％以下である。次に、光学膜３の作成方法を説
明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板加熱
を行った後に、ＣｅＦ3 を電子線加熱蒸着法により、光
学的膜厚にして１３０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。
表５は本実施例の光学膜３の構成を示す。
施例１と同様の条件で行った。本実施例のレンズ１は、
硝材ＬＡＬ６０（オハラ（株）製）により作成されてい
る。この硝材の屈折率は１．８３であり、ＳｉＯ2 の含
有量は５％以下である。次に、光学膜３の作成方法を説
明する。まず、実施例１と同様の条件で排気・基板加熱
を行った後に、ＣｅＦ3 を電子線加熱蒸着法により、光
学的膜厚にして１３０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。
表５は本実施例の光学膜３の構成を示す。
【００２２】
【表５】
【００２３】本実施例に用いたガラスは屈折率が樹脂に
比べて高いため、従来の構成ではガラスと樹脂の界面で
の反射が無視できなかったが、本実施例では光学膜３が
ガラスと樹脂の界面の反射防止膜としても機能するの
で、フレアーや透過率減少などの光学性能上の問題も生
じにくい。
比べて高いため、従来の構成ではガラスと樹脂の界面で
の反射が無視できなかったが、本実施例では光学膜３が
ガラスと樹脂の界面の反射防止膜としても機能するの
で、フレアーや透過率減少などの光学性能上の問題も生
じにくい。
【００２４】
【実施例６】本実施例では、光学膜３と光学膜５以外は
実施例５と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成
方法を説明する。まう、実施例５と同様に排気・基板加
熱を行った後に、ＣｅＦ3 を電子線加熱蒸着法により、
光学的膜厚にして１５０ｎｍ蒸着して第一層を形成す
る。続いてＡｌＦ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的
膜厚にして１５ｎｍ蒸着して第二層を形成する。表６は
本実施例の光学膜３の構成を示す。
実施例５と同様の条件で行った。以下、光学膜３の作成
方法を説明する。まう、実施例５と同様に排気・基板加
熱を行った後に、ＣｅＦ3 を電子線加熱蒸着法により、
光学的膜厚にして１５０ｎｍ蒸着して第一層を形成す
る。続いてＡｌＦ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的
膜厚にして１５ｎｍ蒸着して第二層を形成する。表６は
本実施例の光学膜３の構成を示す。
【００２５】
【表６】
【００２６】次に、光学膜５の作成方法を説明する。ま
ず、実施例１の光学膜５と同様に基板セット・排気を行
った後に、ＳｉＯ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的
膜厚にして２５ｎｍ蒸着して第一層を形成する。次に、
酸化タングステン（ＷＯ3 ）を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして３０ｎｍ蒸着して第二層を形成す
る。続いて、ＳｉＯ2 を電子線加熱蒸着法により、光学
的膜厚にして４７ｎｍ蒸着して第三層を形成する。更
に、ＷＯ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にし
て２５０ｎｍ蒸着して第四層を形成する。最後に、Ｓｉ
Ｏ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして１２
２ｎｍ蒸着して第五層を形成する。本実施例において
も、実施例５と同様に光学膜３がガラスと樹脂の界面の
反射防止膜としても機能するので、フレアーや透過率減
少などの光学性能上の問題も生じにくい。
ず、実施例１の光学膜５と同様に基板セット・排気を行
った後に、ＳｉＯ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的
膜厚にして２５ｎｍ蒸着して第一層を形成する。次に、
酸化タングステン（ＷＯ3 ）を電子線加熱蒸着法によ
り、光学的膜厚にして３０ｎｍ蒸着して第二層を形成す
る。続いて、ＳｉＯ2 を電子線加熱蒸着法により、光学
的膜厚にして４７ｎｍ蒸着して第三層を形成する。更
に、ＷＯ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にし
て２５０ｎｍ蒸着して第四層を形成する。最後に、Ｓｉ
Ｏ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして１２
２ｎｍ蒸着して第五層を形成する。本実施例において
も、実施例５と同様に光学膜３がガラスと樹脂の界面の
反射防止膜としても機能するので、フレアーや透過率減
少などの光学性能上の問題も生じにくい。
【００２７】
【実施例７】本実施例は光学膜３以外は実施例５と同様
の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を説明す
る。まず、実施例５と同様に排気・基板加熱を行った後
に、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚に
して１０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。続いて、Ｃｅ
Ｆ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして１０
５ｎｍ蒸着して第二層を形成する。表７は本実施例の光
学膜の構成を示す。
の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を説明す
る。まず、実施例５と同様に排気・基板加熱を行った後
に、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚に
して１０ｎｍ蒸着して第一層を形成する。続いて、Ｃｅ
Ｆ3 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして１０
５ｎｍ蒸着して第二層を形成する。表７は本実施例の光
学膜の構成を示す。
【００２８】
【表７】
【００２９】本実施例においても、実施例５と同様に光
学膜３がガラスと樹脂の界面の反射防止膜としても機能
するので、フレアーや透過率減少などの光学性能上の問
題も生じにくい。
学膜３がガラスと樹脂の界面の反射防止膜としても機能
するので、フレアーや透過率減少などの光学性能上の問
題も生じにくい。
【００３０】
【実施例８】本実施例では光学膜３以外は実施例５と同
様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を説明す
る。まず、実施例５と同様に排気・基板加熱を行った後
に、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚に
して４５ｎｍ蒸着して第一層を形成する。続いて、酸化
ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）と酸化タンタル（Ｔａ
2 Ｏ5 ）が重量比にして９：１で混合された混合物を電
子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして４０ｎｍ蒸着
して第二層を形成する。さらに、ＡｌＦ3 を電子線加熱
蒸着法により、光学的膜厚にして４０ｎｍ蒸着して第三
層を形成する。表８は本実施例の光学膜の構成を示す。
様の条件で行った。以下、光学膜３の作成方法を説明す
る。まず、実施例５と同様に排気・基板加熱を行った後
に、ＭｇＦ2 を電子線加熱蒸着法により、光学的膜厚に
して４５ｎｍ蒸着して第一層を形成する。続いて、酸化
ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）と酸化タンタル（Ｔａ
2 Ｏ5 ）が重量比にして９：１で混合された混合物を電
子線加熱蒸着法により、光学的膜厚にして４０ｎｍ蒸着
して第二層を形成する。さらに、ＡｌＦ3 を電子線加熱
蒸着法により、光学的膜厚にして４０ｎｍ蒸着して第三
層を形成する。表８は本実施例の光学膜の構成を示す。
【００３１】
【表８】
【００３２】本実施例も、実施例５と同様に光学膜３が
ガラスと樹脂の界面の反射防止膜としても機能するの
で、フレアーや透過率減少などの光学性能上の問題も生
じにくい。
ガラスと樹脂の界面の反射防止膜としても機能するの
で、フレアーや透過率減少などの光学性能上の問題も生
じにくい。
【００３３】
【比較例１】この比較例１ではレンズ１に硝材ＬＡＨ６
０を用い、レンズ１の樹脂を成形する側の面上に光学膜
３を形成することなく、実施例１と同様の条件で樹脂層
３を形成して複合型光学部品を得た。表９はこの比較例
の構成を示す。
０を用い、レンズ１の樹脂を成形する側の面上に光学膜
３を形成することなく、実施例１と同様の条件で樹脂層
３を形成して複合型光学部品を得た。表９はこの比較例
の構成を示す。
【００３４】
【表９】
【００３５】
【評価例】上記実施例１〜８及び比較例１の複合型光学
部品について以下のような方法で、耐熱衝撃性を評価し
た。 （耐熱衝撃性）温度が−５０℃と９０℃の環境下に交互
に３０分間ずつ放置するサイクルを実施例１〜８及び比
較例１の複合型光学部品について、耐熱衝撃性を評価し
た結果は表１０に示す通りである。表１０の結果からわ
かるように本発明の複合型光学部品は耐久性が非常に高
く、樹脂や膜の剥離がまったく生じない。
部品について以下のような方法で、耐熱衝撃性を評価し
た。 （耐熱衝撃性）温度が−５０℃と９０℃の環境下に交互
に３０分間ずつ放置するサイクルを実施例１〜８及び比
較例１の複合型光学部品について、耐熱衝撃性を評価し
た結果は表１０に示す通りである。表１０の結果からわ
かるように本発明の複合型光学部品は耐久性が非常に高
く、樹脂や膜の剥離がまったく生じない。
【００３６】
【表１０】
【００３７】次に実施例５〜８及び比較例１の複合型光
学部品におけるガラスと樹脂層との界面の反射特性を図
２〜図６に示す。図から判るように実施例５〜８の複合
型光学部品は比較例に比べてガラスと樹脂層界面の反射
が可視域（４００〜７００ｎｍ）において有効に反射防
止されている。
学部品におけるガラスと樹脂層との界面の反射特性を図
２〜図６に示す。図から判るように実施例５〜８の複合
型光学部品は比較例に比べてガラスと樹脂層界面の反射
が可視域（４００〜７００ｎｍ）において有効に反射防
止されている。
【００３８】
【発明の効果】以上のように本発明の複合型光学部品に
よれば、ガラス基板の表面に、エネルギー硬化性樹脂と
接する層が少なくともＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，
ＮｄＦ 3 あるいはそれらを含む混合物からなる１層以上
の光学膜を形成しているので、ＳｉＯ2 の含有量が少な
いガラスであっても、ガラスと樹脂の接合面に充分な接
着強度を有することができる。
よれば、ガラス基板の表面に、エネルギー硬化性樹脂と
接する層が少なくともＡｌＦ3 ，ＭｇＦ2 ，ＣｅＦ3 ，
ＮｄＦ 3 あるいはそれらを含む混合物からなる１層以上
の光学膜を形成しているので、ＳｉＯ2 の含有量が少な
いガラスであっても、ガラスと樹脂の接合面に充分な接
着強度を有することができる。
【図１】本発明の複合型光学部品の断面図である。
【図２】実施例５の反射特性図である。
【図３】実施例６の反射特性図である。
【図４】実施例７の反射特性図である。
【図５】実施例８の反射特性図である。
【図６】比較例１の反射特性図である。
１ レンズ ２，３ 光学膜 ４ 樹脂層 ５ 光学膜
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラス基板と、少なくとも１層からなる
光学膜と、エネルギー硬化性樹脂層とが順に接合されて
おり、前記光学膜におけるエネルギー硬化性樹脂層と接
する面がフッ化アルミニウム，フッ化マグネシウム，フ
ッ化セリウム，フッ化ネオジウムあるいはこれらを含む
混合物となっていることを特徴とする複合型光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5352195A JPH07110403A (ja) | 1993-08-20 | 1993-12-30 | 複合型光学部品 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-227946 | 1993-08-20 | ||
| JP22794693 | 1993-08-20 | ||
| JP5352195A JPH07110403A (ja) | 1993-08-20 | 1993-12-30 | 複合型光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07110403A true JPH07110403A (ja) | 1995-04-25 |
Family
ID=26527964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5352195A Withdrawn JPH07110403A (ja) | 1993-08-20 | 1993-12-30 | 複合型光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07110403A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006220739A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Casio Comput Co Ltd | セラミックスハイブリッドレンズ |
| JP2008083188A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Olympus Corp | 複合光学素子及びその製造方法 |
| WO2009038134A1 (ja) * | 2007-09-19 | 2009-03-26 | Nikon Corporation | 樹脂複合型光学素子及びその製造方法 |
| JP2011505592A (ja) * | 2007-11-30 | 2011-02-24 | コーニング インコーポレイテッド | Ｄｕｖ素子のための緻密で均質なフッ化物膜及びその作製方法 |
-
1993
- 1993-12-30 JP JP5352195A patent/JPH07110403A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006220739A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Casio Comput Co Ltd | セラミックスハイブリッドレンズ |
| JP2008083188A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Olympus Corp | 複合光学素子及びその製造方法 |
| WO2009038134A1 (ja) * | 2007-09-19 | 2009-03-26 | Nikon Corporation | 樹脂複合型光学素子及びその製造方法 |
| JPWO2009038134A1 (ja) * | 2007-09-19 | 2011-01-06 | 株式会社ニコン | 樹脂複合型光学素子及びその製造方法 |
| US7901787B2 (en) | 2007-09-19 | 2011-03-08 | Nikon Corporation | Resin composite-type optical element and process for producing the resin composite-type optical element |
| JP2011505592A (ja) * | 2007-11-30 | 2011-02-24 | コーニング インコーポレイテッド | Ｄｕｖ素子のための緻密で均質なフッ化物膜及びその作製方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010306 |