JPH0629189A - 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置 - Google Patents
投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置Info
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- JPH0629189A JPH0629189A JP4184962A JP18496292A JPH0629189A JP H0629189 A JPH0629189 A JP H0629189A JP 4184962 A JP4184962 A JP 4184962A JP 18496292 A JP18496292 A JP 18496292A JP H0629189 A JPH0629189 A JP H0629189A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】パターンの露光、検査および表示において用い
る照明光の指向性や照度分布を対象とするパターンの形
状や寸法に応じて変化可能とし、対象とするパターンが
代わってもそのパターンに最適な照明でパターンの露
光、検査および表示を行う。 【構成】投影式露光装置、パターン検査装置等に用いら
れる照明光学系として、光源24から出射した光を光フ
ァイバーを束ねた光ファイバー束1の入射端に集め、こ
の光ファイバー束1の入射端を複数の小光ファイバー束
に分岐し、この複数の小光ファイバー束端の相対的な位
置を小光ファイバー束相対位置可変機構10によって、
棒状レンズ500に入射する光束の径を制御する。 【効果】比較的簡単な構成で、かつ光の損失を生じるこ
となく照明光の指向性を照度分布を一様に保ち変化させ
ることが可能となる。
る照明光の指向性や照度分布を対象とするパターンの形
状や寸法に応じて変化可能とし、対象とするパターンが
代わってもそのパターンに最適な照明でパターンの露
光、検査および表示を行う。 【構成】投影式露光装置、パターン検査装置等に用いら
れる照明光学系として、光源24から出射した光を光フ
ァイバーを束ねた光ファイバー束1の入射端に集め、こ
の光ファイバー束1の入射端を複数の小光ファイバー束
に分岐し、この複数の小光ファイバー束端の相対的な位
置を小光ファイバー束相対位置可変機構10によって、
棒状レンズ500に入射する光束の径を制御する。 【効果】比較的簡単な構成で、かつ光の損失を生じるこ
となく照明光の指向性を照度分布を一様に保ち変化させ
ることが可能となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体の投影式露光装置
等に用いられる露光照明の方法及び装置に係り、特に露
光や検出を行うパターンの寸法や形状、或いはマスクま
たはレチクルやウェハの種類に応じて照明光の指向性を
制御し、最適な状態でパターン露光やパターン検出を可
能にする投影式露光装置およびその方法並びに照明光学
装置に関する。
等に用いられる露光照明の方法及び装置に係り、特に露
光や検出を行うパターンの寸法や形状、或いはマスクま
たはレチクルやウェハの種類に応じて照明光の指向性を
制御し、最適な状態でパターン露光やパターン検出を可
能にする投影式露光装置およびその方法並びに照明光学
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路のパターン微細化は光の
波長に近いパターン幅に迫るほどに進んできている。光
に変わる露光方法として、X線或いは電子線による方法
も開発が進められているが、需要の大きいメモリ等では
短時間で多数の集積回路チップが露光できる光露光に比
べ量産性が劣り、安価なメモリーを大量に生産すること
が難しい。このような状況下で、近年、従来のi線縮小
投影露光装置(i線ステッパ)に用いるマスクあるいは
レチクル上のパターンに位相シフト部を設け、従来使用
されていた通常のレチクルに比べパターンの解像度を大
幅に向上させる技術の開発が進められている。またこの
ような特殊なレチクルを用いなくても、特開昭61−9
1662号に記載されているように、レチクルに照射す
る照明光が縮小投影レンズの入射瞳上で輪帯状になるよ
うにし、レチクル透過光の高い空間周波数成分が露光結
像レンズの入射瞳を通過する様にすることにより、パタ
ーンの解像度を向上させる技術の開発も進められてい
る。
波長に近いパターン幅に迫るほどに進んできている。光
に変わる露光方法として、X線或いは電子線による方法
も開発が進められているが、需要の大きいメモリ等では
短時間で多数の集積回路チップが露光できる光露光に比
べ量産性が劣り、安価なメモリーを大量に生産すること
が難しい。このような状況下で、近年、従来のi線縮小
投影露光装置(i線ステッパ)に用いるマスクあるいは
レチクル上のパターンに位相シフト部を設け、従来使用
されていた通常のレチクルに比べパターンの解像度を大
幅に向上させる技術の開発が進められている。またこの
ような特殊なレチクルを用いなくても、特開昭61−9
1662号に記載されているように、レチクルに照射す
る照明光が縮小投影レンズの入射瞳上で輪帯状になるよ
うにし、レチクル透過光の高い空間周波数成分が露光結
像レンズの入射瞳を通過する様にすることにより、パタ
ーンの解像度を向上させる技術の開発も進められてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような解像度向上
方法を用いようとするとき、従来用いていた半導体露光
装置(i線ステッパ)をそのまま用いると、レチクルを
照明する照明光の照明指向性を示すいわゆるσの値(σ
=露光結像レンズの瞳径に対する照明光のこの瞳上での
広がりの比)が上記の解像度向上方法で最適とされる照
明指向性を示すσ値と一致しないという課題を有してい
た。
方法を用いようとするとき、従来用いていた半導体露光
装置(i線ステッパ)をそのまま用いると、レチクルを
照明する照明光の照明指向性を示すいわゆるσの値(σ
=露光結像レンズの瞳径に対する照明光のこの瞳上での
広がりの比)が上記の解像度向上方法で最適とされる照
明指向性を示すσ値と一致しないという課題を有してい
た。
【0004】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決すべく、各種の解像度向上方法に対し最適となる照明
光を容易に選択制御し、かつ露光光源から発する露光光
を無駄することなく利用できるようにした投影式露光装
置およびその方法並びに照明光学装置を提供することに
ある。
決すべく、各種の解像度向上方法に対し最適となる照明
光を容易に選択制御し、かつ露光光源から発する露光光
を無駄することなく利用できるようにした投影式露光装
置およびその方法並びに照明光学装置を提供することに
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、露光光源と、該露光光源より出射した光
をマスクまたはレチクルに照射せしめるべく、前記露光
光源より出射した光が入射される入射面を有する複数の
光ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバ
ー束部から分岐され、出射面を有する複数個の小さい束
の小光ファイバー束部とから構成された光ファイバーを
備えた照明光学系と、該照明光学系により照明されてマ
スクまたはレチクルを通過した光を被露光物体上にマス
クまたはレチクルのパターン像として投影せしめる投影
露光系とを備えたことを特徴とする投影式露光装置であ
る。即ち、本発明は、投影式露光装置において、露光光
源より出射した光を集めて複数の光ファイバーを束ねた
光ファイバー束部の一方の入射面に照射し、この光ファ
イバー束部を分岐して複数個の小さい束の小光ファイバ
ー束部を有するように照明光学系を構成する。そしてこ
の光ファイバーの複数の小光ファイバー束部から出射し
た光をマスクまたはレチクルの被照射物体に照射する
際、この複数の小光ファイバー束部の各出射面の相対的
位置を制御可能に構成する。
め、本発明は、露光光源と、該露光光源より出射した光
をマスクまたはレチクルに照射せしめるべく、前記露光
光源より出射した光が入射される入射面を有する複数の
光ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバ
ー束部から分岐され、出射面を有する複数個の小さい束
の小光ファイバー束部とから構成された光ファイバーを
備えた照明光学系と、該照明光学系により照明されてマ
スクまたはレチクルを通過した光を被露光物体上にマス
クまたはレチクルのパターン像として投影せしめる投影
露光系とを備えたことを特徴とする投影式露光装置であ
る。即ち、本発明は、投影式露光装置において、露光光
源より出射した光を集めて複数の光ファイバーを束ねた
光ファイバー束部の一方の入射面に照射し、この光ファ
イバー束部を分岐して複数個の小さい束の小光ファイバ
ー束部を有するように照明光学系を構成する。そしてこ
の光ファイバーの複数の小光ファイバー束部から出射し
た光をマスクまたはレチクルの被照射物体に照射する
際、この複数の小光ファイバー束部の各出射面の相対的
位置を制御可能に構成する。
【0006】また本発明は、前記投影式露光装置におい
て、前記照明光学系の光ファイバーの出射端と集光発散
光学系の入射面とが光学的に共役な関係になるようにし
たことにある。また本発明は、前記投影式露光装置にお
いて、前記照明光学系の光ファイバーに入射する光の光
束を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段
を備えたことにある。また本発明は、前記投影式露光装
置において、前記照明光学系の集光発散光学系に入射す
る光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変形
光学手段を備えたことにある。また本発明は、前記投影
式露光装置において前記光ファイバーは、前記変形光学
手段により変形させられた照明光の傾きを十分透過可能
であるNA(開口比)を有することにある。また本発明
は、前記投影式露光装置において、前記集光発散光学系
は、前記変形光学手段により変形させられた照明光の傾
きを十分透過可能であるNA(開口比)を有することに
ある。また本発明は、前記投影式露光装置において前記
照明光学系の光ファイバーの出射面と前記集光発散光学
系の入射面を光学的にケーラー照明、又は光学的に無限
遠の関係にする光学手段を備えたことにある。
て、前記照明光学系の光ファイバーの出射端と集光発散
光学系の入射面とが光学的に共役な関係になるようにし
たことにある。また本発明は、前記投影式露光装置にお
いて、前記照明光学系の光ファイバーに入射する光の光
束を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段
を備えたことにある。また本発明は、前記投影式露光装
置において、前記照明光学系の集光発散光学系に入射す
る光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変形
光学手段を備えたことにある。また本発明は、前記投影
式露光装置において前記光ファイバーは、前記変形光学
手段により変形させられた照明光の傾きを十分透過可能
であるNA(開口比)を有することにある。また本発明
は、前記投影式露光装置において、前記集光発散光学系
は、前記変形光学手段により変形させられた照明光の傾
きを十分透過可能であるNA(開口比)を有することに
ある。また本発明は、前記投影式露光装置において前記
照明光学系の光ファイバーの出射面と前記集光発散光学
系の入射面を光学的にケーラー照明、又は光学的に無限
遠の関係にする光学手段を備えたことにある。
【0007】また本発明は、露光光源より出射した光
を、入射面を有する複数の光ファイバーを束ねた光ファ
イバー束部と該光ファイバー束部から分岐され、出射面
を有する複数個の小さい束の小光ファイバー束部とから
構成された光ファイバーの前記入射面に入射し、前記光
ファイバの前記出射面から出射された光を、集光発散光
学系により特定角度成分の光を集光して発散させてマス
クまたはレチクルに照射せしめ、該マスクまたはレチク
ルを透過した光を投影光学系により被露光物体状にマス
ク又はレチクルのパターン像として投影せしめることを
特徴とする投影式露光方法である。
を、入射面を有する複数の光ファイバーを束ねた光ファ
イバー束部と該光ファイバー束部から分岐され、出射面
を有する複数個の小さい束の小光ファイバー束部とから
構成された光ファイバーの前記入射面に入射し、前記光
ファイバの前記出射面から出射された光を、集光発散光
学系により特定角度成分の光を集光して発散させてマス
クまたはレチクルに照射せしめ、該マスクまたはレチク
ルを透過した光を投影光学系により被露光物体状にマス
ク又はレチクルのパターン像として投影せしめることを
特徴とする投影式露光方法である。
【0008】また本発明は、光源を設け、該光源より出
射した光を入射させる入射面を有する複数の光ファイバ
ーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバー束部から
分岐され、出射面を有する複数個の小さい束の小光ファ
イバー束部とから構成された光ファイバーを有し、前記
光ファイバから出射された光を入射して特定角度成分の
光を集光して発散させる集光発散光学系を備えたことを
特徴とする照明光学装置である。
射した光を入射させる入射面を有する複数の光ファイバ
ーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバー束部から
分岐され、出射面を有する複数個の小さい束の小光ファ
イバー束部とから構成された光ファイバーを有し、前記
光ファイバから出射された光を入射して特定角度成分の
光を集光して発散させる集光発散光学系を備えたことを
特徴とする照明光学装置である。
【0009】
【作用】上記の手段を用いることにより、位相シフトレ
チクルの場合に適した指向性の比較的高い、σの小さな
照明にしたり、通常のレチクルで高解像度のパターンを
得るために輪帯照明にしたり、あるいは従来の照明の指
向性にしたりすることが容易に可能となる。さらに上記
手段を用いることにより光源から出射した光を高い利用
効率で被露光物体に照射させることが可能となる。
チクルの場合に適した指向性の比較的高い、σの小さな
照明にしたり、通常のレチクルで高解像度のパターンを
得るために輪帯照明にしたり、あるいは従来の照明の指
向性にしたりすることが容易に可能となる。さらに上記
手段を用いることにより光源から出射した光を高い利用
効率で被露光物体に照射させることが可能となる。
【0010】
【実施例】以下本発明を図面に基づいて詳細に説明す
る。
る。
【0011】図1は本発明の露光照明装置2を示す一実
施例である。水銀ランプ24から発した光は楕円面鏡2
5で反射され、所望の露光波長である例えばi線を反射
する波長選択ミラー26で反射された後に光ファイバー
束の入射面A−Aに入射する。束ねられた光ファイバー
1は入射端からある距離離れたところから複数の小光フ
ァイバー11に分岐される。例えば、光ファイバー1本
の径は約0.2mm程度で、束ねたものの径は約30m
m程度である。そして前記分岐された複数の小光ファイ
バー束11の出射面は、相対位置制御手段10により、
小光ファイバー束出射面B−B内で相対的な位置を変え
られる。小光ファイバー束11を出射した光は集光発散
光学系である棒状レンズ500に入射する。集光発散光
学系である棒状レンズ群500に入射する光の光束径
は、小光ファイバ束11により変更が可能であるため、
棒状レンズ群500の出射面付近に形成される2次光源
の形状や大きさを任意に設定することが可能となり、照
明のパーシャルコヒーレンシーσを容易に、しかも光の
利用効率を低下させることなく変更することが可能とな
る。棒状レンズ群500を射出した光は、通常の半導体
露光装置で用いられる照明系と同様にアウトプットレン
ズ22を通過した後コンデンサレンズ23を通り被露光
物体であるレチクル3を照明する。
施例である。水銀ランプ24から発した光は楕円面鏡2
5で反射され、所望の露光波長である例えばi線を反射
する波長選択ミラー26で反射された後に光ファイバー
束の入射面A−Aに入射する。束ねられた光ファイバー
1は入射端からある距離離れたところから複数の小光フ
ァイバー11に分岐される。例えば、光ファイバー1本
の径は約0.2mm程度で、束ねたものの径は約30m
m程度である。そして前記分岐された複数の小光ファイ
バー束11の出射面は、相対位置制御手段10により、
小光ファイバー束出射面B−B内で相対的な位置を変え
られる。小光ファイバー束11を出射した光は集光発散
光学系である棒状レンズ500に入射する。集光発散光
学系である棒状レンズ群500に入射する光の光束径
は、小光ファイバ束11により変更が可能であるため、
棒状レンズ群500の出射面付近に形成される2次光源
の形状や大きさを任意に設定することが可能となり、照
明のパーシャルコヒーレンシーσを容易に、しかも光の
利用効率を低下させることなく変更することが可能とな
る。棒状レンズ群500を射出した光は、通常の半導体
露光装置で用いられる照明系と同様にアウトプットレン
ズ22を通過した後コンデンサレンズ23を通り被露光
物体であるレチクル3を照明する。
【0012】図2は、図1に示す露光照明装置2におい
て、上記相対位置制御手段(小光ファイバ束相対位置可
変機構)10を用いて、小光ファイバ束11の相対位置
を変化させた場合の出射面の状態を示した図である。こ
のように小光ファイバーの相対位置を変化させることに
よって棒状レンズ群500に入射する光の光束径を変更
することが可能となる。これに伴って、棒状レンズ群5
00の射出面付近に形成される2次光源の大きさを任意
に変更することができ、照明のパーシャルコヒーレンシ
ーσを自由に設定することが可能となり、しかも露光光
の損失が低いため照明効率の高い照明光学系となる。そ
こで、例えば通常のレチクルの場合には、σ=0.6程
度に、また位相シフタレチクルを用いる場合にはσ=
0.4程度になるように上記相対位置制御手段10によ
り、小光ファイバー束出射面B−B内で相対的な位置を
変える。
て、上記相対位置制御手段(小光ファイバ束相対位置可
変機構)10を用いて、小光ファイバ束11の相対位置
を変化させた場合の出射面の状態を示した図である。こ
のように小光ファイバーの相対位置を変化させることに
よって棒状レンズ群500に入射する光の光束径を変更
することが可能となる。これに伴って、棒状レンズ群5
00の射出面付近に形成される2次光源の大きさを任意
に変更することができ、照明のパーシャルコヒーレンシ
ーσを自由に設定することが可能となり、しかも露光光
の損失が低いため照明効率の高い照明光学系となる。そ
こで、例えば通常のレチクルの場合には、σ=0.6程
度に、また位相シフタレチクルを用いる場合にはσ=
0.4程度になるように上記相対位置制御手段10によ
り、小光ファイバー束出射面B−B内で相対的な位置を
変える。
【0013】図3は、図1に示す露光照明装置2におい
て、小光ファイバー束11の出射面B−Bと集光発散光
学系である棒状レンズ500の入射面を無限遠の位置に
設定するため、光学レンズ517の前側焦点位置に小光
ファイバー束11の出射面を配置し、後側焦点位置に棒
状レンズ500の入射面を設定したものである。即ち、
光学レンズ517により小光ファイバー束11の出射面
B−Bと集光発散光学系である棒状レンズ500の入射
面を無限遠の位置関係にすればよい。他の構成は図1と
同様である。これにより、棒状レンズ群500に入射す
る光の強度は均一となるため、被露光物体であるレチク
ル3を均一に照明することが可能となる。
て、小光ファイバー束11の出射面B−Bと集光発散光
学系である棒状レンズ500の入射面を無限遠の位置に
設定するため、光学レンズ517の前側焦点位置に小光
ファイバー束11の出射面を配置し、後側焦点位置に棒
状レンズ500の入射面を設定したものである。即ち、
光学レンズ517により小光ファイバー束11の出射面
B−Bと集光発散光学系である棒状レンズ500の入射
面を無限遠の位置関係にすればよい。他の構成は図1と
同様である。これにより、棒状レンズ群500に入射す
る光の強度は均一となるため、被露光物体であるレチク
ル3を均一に照明することが可能となる。
【0014】図4は、図1に示す露光照明装置2におい
て、光ファイバー1の入射面A−Aに入射する光束の径
を光の反射を利用して変形させる屈折変形機構510を
配置した場合を示した図である。水銀ランプ24から発
した光は楕円面鏡25で反射され光ファイバー1に入射
する。このとき、テーパのついた穴の内面が高反射率で
あるミラーを光ファイバー入射面に配置することによ
り、光ファイバー1の周辺部に入射すべき光を中心部に
入射させることが可能となり、小光ファイバー束11の
射出光は中心部のみで得られ、棒状レンズ群500に入
射する光も中心部だけとなる。従って、集光発散光学系
である棒状レンズ群500の射出面付近に形成される2
次光源も棒状レンズ群500の中心部のみに形成され、
照明光を損失させることなくパーシャルコヒーレンシー
σを変更することが可能である。また、光ファイバー1
の入射面A−Aに入射する光束の径を光の屈折を利用し
て変形させる屈折変形機構520を配置することによ
り、照明光を損失させることなくパーシャルコヒーレン
シーσを変更することも可能である。
て、光ファイバー1の入射面A−Aに入射する光束の径
を光の反射を利用して変形させる屈折変形機構510を
配置した場合を示した図である。水銀ランプ24から発
した光は楕円面鏡25で反射され光ファイバー1に入射
する。このとき、テーパのついた穴の内面が高反射率で
あるミラーを光ファイバー入射面に配置することによ
り、光ファイバー1の周辺部に入射すべき光を中心部に
入射させることが可能となり、小光ファイバー束11の
射出光は中心部のみで得られ、棒状レンズ群500に入
射する光も中心部だけとなる。従って、集光発散光学系
である棒状レンズ群500の射出面付近に形成される2
次光源も棒状レンズ群500の中心部のみに形成され、
照明光を損失させることなくパーシャルコヒーレンシー
σを変更することが可能である。また、光ファイバー1
の入射面A−Aに入射する光束の径を光の屈折を利用し
て変形させる屈折変形機構520を配置することによ
り、照明光を損失させることなくパーシャルコヒーレン
シーσを変更することも可能である。
【0015】図5は、図1に示す露光照明装置2におい
て、反射変形機構510を用いて、光ファイバー1(5
11)に入射する光束の径を変更させた場合を示した図
である。例えば、図5(a)に示すように、反射変形機
構510を配置させない場合は光ファイバー1の全面に
光が入射するように光学設計する。この光学系において
図5(b)に示すように、中心部に円錐状の光束の反射
変形鏡512を配置させると、中心部に集まる光は周辺
部に反射されて輪帯状の光束として光ファイバー1(5
11)ヘ入射する。またこの光学系において図5(c)
に示すように、周辺部に円錐筒状の光束の反射変形鏡5
13を配置させると、周辺部に集まる光は中心部に反射
されて円状の光束として光ファイバー1(511)ヘ入
射する。また、光ファイバー1に入射する光束の径を任
意に変更するためには、反射変形鏡512、513のテ
ーパを適正である値に設定すれば良い。
て、反射変形機構510を用いて、光ファイバー1(5
11)に入射する光束の径を変更させた場合を示した図
である。例えば、図5(a)に示すように、反射変形機
構510を配置させない場合は光ファイバー1の全面に
光が入射するように光学設計する。この光学系において
図5(b)に示すように、中心部に円錐状の光束の反射
変形鏡512を配置させると、中心部に集まる光は周辺
部に反射されて輪帯状の光束として光ファイバー1(5
11)ヘ入射する。またこの光学系において図5(c)
に示すように、周辺部に円錐筒状の光束の反射変形鏡5
13を配置させると、周辺部に集まる光は中心部に反射
されて円状の光束として光ファイバー1(511)ヘ入
射する。また、光ファイバー1に入射する光束の径を任
意に変更するためには、反射変形鏡512、513のテ
ーパを適正である値に設定すれば良い。
【0016】図6は、図1に示す露光照明装置2におい
て、屈折変形機構520を用いて、光ファイバー1に入
射する光束の径を変更させた場合を示した図である。例
えば、図6(a)に示すように、屈折変形機構520を
配置させない場合は光ファイバー1の全面に光が入射す
るように光学設計する。この光学系において図6(b)
に示すように、光ファイバー1にプリズム521を配置
させると、中心部に集まる光は周辺部に屈折され、光軸
に対して傾いた光線を平行にさせるレンズを透過して光
ファイバー1に入射する。これにより、光ファイバー1
に入射する光束は周辺部のみとなり、照明光を損失する
ことなく輪帯状の光束が得られる。また、図6(c)に
示すように、プリズム521の替わりに光束を圧縮させ
る作用をもつレンズ522を配置させることにより、周
辺部に集まる光を屈折させて中心部に円状の光束として
光ファイバー1へ入射させることが可能となる。なお、
光ファイバー1に入射する光束の径を任意に変更するた
めには、レンズ522の焦点距離を適正である値に設定
すれば良い。
て、屈折変形機構520を用いて、光ファイバー1に入
射する光束の径を変更させた場合を示した図である。例
えば、図6(a)に示すように、屈折変形機構520を
配置させない場合は光ファイバー1の全面に光が入射す
るように光学設計する。この光学系において図6(b)
に示すように、光ファイバー1にプリズム521を配置
させると、中心部に集まる光は周辺部に屈折され、光軸
に対して傾いた光線を平行にさせるレンズを透過して光
ファイバー1に入射する。これにより、光ファイバー1
に入射する光束は周辺部のみとなり、照明光を損失する
ことなく輪帯状の光束が得られる。また、図6(c)に
示すように、プリズム521の替わりに光束を圧縮させ
る作用をもつレンズ522を配置させることにより、周
辺部に集まる光を屈折させて中心部に円状の光束として
光ファイバー1へ入射させることが可能となる。なお、
光ファイバー1に入射する光束の径を任意に変更するた
めには、レンズ522の焦点距離を適正である値に設定
すれば良い。
【0017】以上に示した光束を変形させる手段である
反射変形鏡512及び513並びにプリズム521及び
レンズ522は、光ファイバー1の入射面において有効
であるが、集光発散光学系である棒状レンズ500の入
射面に配置しても同様の効果が得られ、光ファイバー1
あるいは棒状レンズ500の入射面のどちらに配置して
も良い。
反射変形鏡512及び513並びにプリズム521及び
レンズ522は、光ファイバー1の入射面において有効
であるが、集光発散光学系である棒状レンズ500の入
射面に配置しても同様の効果が得られ、光ファイバー1
あるいは棒状レンズ500の入射面のどちらに配置して
も良い。
【0018】図7は、反射変形機構510あるいは屈折
変形機構520を配置させると、光束の傾きが大きくな
り、棒状レンズ500の透過可能である傾き以上になる
ため、光に損失が生じる恐れが大きくなるが、この問題
を防ぐ手段を示した実施例である。図7(a)に示すご
とく、反射変形機構510あるいは屈折変形機構520
を配置させない場合は、光線の最大入射角度はα1であ
り、通常の棒状レンズ501はNA(開口数)=sin
α1で表される開口数で設計されている。しかし、反射
変形機構510あるいは屈折変形機構520を配置させ
ると光束の傾きが大きくなり、最大入射角度はα2と大
きくなるため、図7(b)に示すごとく、通常の棒状レ
ンズ501では入射面で反射するなどの損失が生じ、光
の利用効率が低下する。この対策として、棒状レンズ群
500の個々の棒状レンズ502をNA(開口数)=s
inα2で表される開口数で設計することにより、光の
損失を防ぐことが可能である。但し、棒状レンズ群50
0の開口数を変更させることにより、アウトプットレン
ズ22及びコンデンサレンズ23についても設計変更す
る必要がある。
変形機構520を配置させると、光束の傾きが大きくな
り、棒状レンズ500の透過可能である傾き以上になる
ため、光に損失が生じる恐れが大きくなるが、この問題
を防ぐ手段を示した実施例である。図7(a)に示すご
とく、反射変形機構510あるいは屈折変形機構520
を配置させない場合は、光線の最大入射角度はα1であ
り、通常の棒状レンズ501はNA(開口数)=sin
α1で表される開口数で設計されている。しかし、反射
変形機構510あるいは屈折変形機構520を配置させ
ると光束の傾きが大きくなり、最大入射角度はα2と大
きくなるため、図7(b)に示すごとく、通常の棒状レ
ンズ501では入射面で反射するなどの損失が生じ、光
の利用効率が低下する。この対策として、棒状レンズ群
500の個々の棒状レンズ502をNA(開口数)=s
inα2で表される開口数で設計することにより、光の
損失を防ぐことが可能である。但し、棒状レンズ群50
0の開口数を変更させることにより、アウトプットレン
ズ22及びコンデンサレンズ23についても設計変更す
る必要がある。
【0019】図8は本発明の変形照明手段を備えた投影
式露光装置を示した図である。水銀ランプ24より発し
た例えばi線の光は光ファイバー1に入射して射出面よ
り射出して、レンズ516により屈折して棒状レンズ群
500に入射する。レンズ516は光ファイバー1の射
出面と棒状レンズ500群の入射面を共役な位置関係に
設定する作用を有している。棒状レンズ500群の入射
面には反射変形機構510あるいは屈折変形機構520
が配置されており、棒状レンズ500群の出射面付近に
形成される2次光源の形状を変形させる。2次光源より
発散する光はコンデンサレンズ23を透過してレチクル
3を均一にケーラー照明して、縮小投影レンズ4の入射
瞳41の位置に2次光源像200を結像する。縮小投影
レンズ4の入射瞳41の径Dに対して、入射瞳41の位
置に形成される2次光源像200の径dの比で表される
照明のパーシャルコヒーレンシーσは任意に設定するこ
とが可能となる。露光照明系2を最適な光学条件に設定
後は、レチクル3に形成された回路パターンと、ウエハ
5に前の露光工程で既に転写されているパターンとの位
置合せを行うため、測長用のレーザビーム60及びウエ
ハ駆動ステージ6を用いて、ウエハチャック51に吸着
されたウエハ5を駆動する。
式露光装置を示した図である。水銀ランプ24より発し
た例えばi線の光は光ファイバー1に入射して射出面よ
り射出して、レンズ516により屈折して棒状レンズ群
500に入射する。レンズ516は光ファイバー1の射
出面と棒状レンズ500群の入射面を共役な位置関係に
設定する作用を有している。棒状レンズ500群の入射
面には反射変形機構510あるいは屈折変形機構520
が配置されており、棒状レンズ500群の出射面付近に
形成される2次光源の形状を変形させる。2次光源より
発散する光はコンデンサレンズ23を透過してレチクル
3を均一にケーラー照明して、縮小投影レンズ4の入射
瞳41の位置に2次光源像200を結像する。縮小投影
レンズ4の入射瞳41の径Dに対して、入射瞳41の位
置に形成される2次光源像200の径dの比で表される
照明のパーシャルコヒーレンシーσは任意に設定するこ
とが可能となる。露光照明系2を最適な光学条件に設定
後は、レチクル3に形成された回路パターンと、ウエハ
5に前の露光工程で既に転写されているパターンとの位
置合せを行うため、測長用のレーザビーム60及びウエ
ハ駆動ステージ6を用いて、ウエハチャック51に吸着
されたウエハ5を駆動する。
【0020】図9は本発明の変形照明手段を備えた投影
式露光装置を示した図である。水銀ランプ24より発し
た例えばi線の光は光ファイバー1に入射して射出面よ
り射出して、レンズ516により屈折して棒状レンズ群
500に入射する。レンズ516は光ファイバー1の射
出面と棒状レンズ群500の入射面を共役な位置関係に
設定する作用を有している。光ファイバー1の入射面に
は反射変形機構510あるいは屈折変形機構520が配
置されており、棒状レンズ群500の出射面付近に形成
される2次光源の形状を変形させる。これにより、縮小
投影レンズ4の入射瞳41の径Dに対して、入射瞳41
の位置に形成される2次光源像200の径dの比で表さ
れる照明のパーシャルコヒーレンシーσは任意に設定す
ることが可能となる。
式露光装置を示した図である。水銀ランプ24より発し
た例えばi線の光は光ファイバー1に入射して射出面よ
り射出して、レンズ516により屈折して棒状レンズ群
500に入射する。レンズ516は光ファイバー1の射
出面と棒状レンズ群500の入射面を共役な位置関係に
設定する作用を有している。光ファイバー1の入射面に
は反射変形機構510あるいは屈折変形機構520が配
置されており、棒状レンズ群500の出射面付近に形成
される2次光源の形状を変形させる。これにより、縮小
投影レンズ4の入射瞳41の径Dに対して、入射瞳41
の位置に形成される2次光源像200の径dの比で表さ
れる照明のパーシャルコヒーレンシーσは任意に設定す
ることが可能となる。
【0021】図10に光ファイバー1の射出面から棒状
レンズ群500の入射面までの光路中に3枚のレンズを
配置して、棒状レンズ群500に入射する光束の径を任
意に変更するズームレンズ機構530を配置した例を示
す。光ファイバー1側から1枚目のレンズの焦点距離を
f1、2枚目のレンズの焦点距離をf2、3枚目のレンズの
焦点距離をf3、光ファイバー1の射出面の径をd1、棒
状レンズ500に入射する光束の径をd2とした場合、
図10に示す式を満たすようにf1及びf2の焦点距離を
持つレンズを光軸と平行に移動させることにより、棒状
レンズ500に入射する光束の径を任意に変更すること
が可能となる。これにより、光を損失させることなく、
照明のパーシャルコヒーレンシーσを任意に変更するこ
とが可能となる。しかも、この光学系では棒状レンズ5
00の入射面が均一に照明されるケーラー照明の位置に
なっており、被露光物体であるレチクル3をより均一に
照明することができる。
レンズ群500の入射面までの光路中に3枚のレンズを
配置して、棒状レンズ群500に入射する光束の径を任
意に変更するズームレンズ機構530を配置した例を示
す。光ファイバー1側から1枚目のレンズの焦点距離を
f1、2枚目のレンズの焦点距離をf2、3枚目のレンズの
焦点距離をf3、光ファイバー1の射出面の径をd1、棒
状レンズ500に入射する光束の径をd2とした場合、
図10に示す式を満たすようにf1及びf2の焦点距離を
持つレンズを光軸と平行に移動させることにより、棒状
レンズ500に入射する光束の径を任意に変更すること
が可能となる。これにより、光を損失させることなく、
照明のパーシャルコヒーレンシーσを任意に変更するこ
とが可能となる。しかも、この光学系では棒状レンズ5
00の入射面が均一に照明されるケーラー照明の位置に
なっており、被露光物体であるレチクル3をより均一に
照明することができる。
【0022】図11にズームレンズ機構530を搭載し
た投影式露光装置の実施例を示す。水銀ランプ24より
発した例えばi線の光は光ファイバー1に入射して射出
面より射出して、ズームレンズ機構530により屈折し
て棒状レンズ群500に入射する。ズームレンズ機構5
30は棒状レンズ群500に入射する光束の径を任意に
変更する作用を有しており、棒状レンズ500の出射面
付近に形成される2次光源の形状を変形させる。これに
より、縮小投影レンズ4の入射瞳41の径Dに対して、
入射瞳41の位置に形成される2次光源像200の径d
の比で表される照明のパ−シャルコヒ−レンシ−σは任
意に設定することが可能となる。
た投影式露光装置の実施例を示す。水銀ランプ24より
発した例えばi線の光は光ファイバー1に入射して射出
面より射出して、ズームレンズ機構530により屈折し
て棒状レンズ群500に入射する。ズームレンズ機構5
30は棒状レンズ群500に入射する光束の径を任意に
変更する作用を有しており、棒状レンズ500の出射面
付近に形成される2次光源の形状を変形させる。これに
より、縮小投影レンズ4の入射瞳41の径Dに対して、
入射瞳41の位置に形成される2次光源像200の径d
の比で表される照明のパ−シャルコヒ−レンシ−σは任
意に設定することが可能となる。
【0023】なお、光源として、前記実施例において
は、水銀ランプ24から発した光は楕円面鏡25で反射
され、所望の露光波長である例えばi線を波長選択ミラ
ー26で反射させるものを示したが、これに限定される
ものではなく、例えば、エキシマレーザ光源で構成して
も良いことは明かである。
は、水銀ランプ24から発した光は楕円面鏡25で反射
され、所望の露光波長である例えばi線を波長選択ミラ
ー26で反射させるものを示したが、これに限定される
ものではなく、例えば、エキシマレーザ光源で構成して
も良いことは明かである。
【0024】また、前記実施例で説明した照明光学系
は、パターンの露光は勿論のこと、パターンの検査ある
いは表示棟等に用いる照明光学系に適用することができ
ることは明かである。
は、パターンの露光は勿論のこと、パターンの検査ある
いは表示棟等に用いる照明光学系に適用することができ
ることは明かである。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、光の利用効率を低下さ
せることなく所望の照明指向性あるいは照明光分布を実
現できる効果を奏する。
せることなく所望の照明指向性あるいは照明光分布を実
現できる効果を奏する。
【0026】また本発明によれば、比較的簡単な構成
で、かつ光の損失を生じることなく照明光の指向性を照
度分布を一様に保ち変化させることが可能となり、1つ
の露光装置、あるいは検査装置や表示装置で各種の対象
パターンに対し、最適な照明を、効率よく実現でき、こ
のため、露光装置、検査装置、あるいは表示装置の解像
性能の大幅な向上と共に、これら装置に用いる光源の低
出力化、または露光装置と検査装置にあっては高スルー
プット可が実現できる効果を奏する。
で、かつ光の損失を生じることなく照明光の指向性を照
度分布を一様に保ち変化させることが可能となり、1つ
の露光装置、あるいは検査装置や表示装置で各種の対象
パターンに対し、最適な照明を、効率よく実現でき、こ
のため、露光装置、検査装置、あるいは表示装置の解像
性能の大幅な向上と共に、これら装置に用いる光源の低
出力化、または露光装置と検査装置にあっては高スルー
プット可が実現できる効果を奏する。
【図1】本発明の露光照明系を備えた投影式露光装置の
実施例を示した図である。
実施例を示した図である。
【図2】図1に示す小光ファイバー束の相対位置を変化
させた場合の説明図である。
させた場合の説明図である。
【図3】本発明の露光照明系を備えた投影式露光装置の
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
【図4】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装置
の実施例を示す図である。
の実施例を示す図である。
【図5】本発明に係る反射を利用した変形照明手段の実
施例を示した図である。
施例を示した図である。
【図6】本発明に係る屈折を利用した変形照明手段の実
施例を示した図である。
施例を示した図である。
【図7】本発明に係る棒状レンズの適正化を示すための
説明図である。
説明図である。
【図8】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装置
の実施例を示した図である。
の実施例を示した図である。
【図9】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装置
の実施例を示した図である。
の実施例を示した図である。
【図10】本発明のレンズを用いた変形照明手段の実施
例を示した図である。
例を示した図である。
【図11】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装
置の実施例を示した図である。
置の実施例を示した図である。
1…光ファイバ−、2…照明光学系、3…レチクル、4
…縮小レンズ、10…小光ファイバ束、24…水銀ラン
プ、500…棒状レンズ群、510…反射変形機構、5
20…屈折変形機構、530…ズ−ムレンズ機構
…縮小レンズ、10…小光ファイバ束、24…水銀ラン
プ、500…棒状レンズ群、510…反射変形機構、5
20…屈折変形機構、530…ズ−ムレンズ機構
Claims (21)
- 【請求項1】露光光源と、該露光光源より出射した光を
マスクまたはレチクルに照射せしめるべく、前記露光光
源より出射した光が入射される入射面を有する複数の光
ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバー
束部から分岐され、出射面を有する複数個の小さい束の
小光ファイバー束部とから構成された光ファイバーを有
し、前記光ファイバから出射された光を入射して特定角
度成分の光を集光して発散させる集光発散光学系を備え
た照明光学系と、該照明光学系により照明されてマスク
またはレチクルを透過した光を被露光物体状にマスク又
はレチクルのパターン像として投影せしめる投影光学系
とを備えたことを特徴とする投影式露光装置。 - 【請求項2】前記照明光学系に、さらに前記小光ファイ
バー束部の出射面の相対的位置を制御する制御手段を備
えたことを特徴とする請求項1記載の投影式露光装置。 - 【請求項3】前記照明光学系の光ファイバーの出射端と
集光発散光学系の入射面とが光学的に共役な関係である
ことを特徴とする請求項1記載の投影式露光装置。 - 【請求項4】前記照明光学系の光ファイバーに入射する
光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変形光
学手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の投影式
露光装置。 - 【請求項5】前記照明光学系の集光発散光学系に入射す
る光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変形
光学手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の投影
式露光装置。 - 【請求項6】前記光ファイバーは、前記変形光学手段に
より変形させられた照明光の傾きを十分透過可能である
NA(開口比)を有することを特徴とする請求項4記載
の投影式露光装置。 - 【請求項7】前記集光発散光学系は、前記変形光学手段
により変形させられた照明光の傾きを十分透過可能であ
るNA(開口比)を有することを特徴とする請求項5記
載の投影式露光装置。 - 【請求項8】前記照明光学系の光ファイバーの出射面と
前記集光発散光学系の入射面を光学的にケーラー照明、
又は光学的に無限遠の関係にする光学手段を備えたこと
を特徴とする請求項1記載の投影式露光装置。 - 【請求項9】前記照明光学系の光ファイバーを出射した
光束の径を変形させて、前記集光発散光学系に入射させ
る変形手段を備えたことを特徴とする請求項8記載の投
影式露光装置。 - 【請求項10】前記照明光学系の集光発散光学系に入射
する光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変
形光学手段を備えたことを特徴とする請求項8記載の投
影式露光装置。 - 【請求項11】前記集光発散光学系は棒状レンズで形成
したことを特徴とする請求項1又は2又は3又は5又は
7又は8又は9又は10記載の投影式露光装置。 - 【請求項12】露光光源より出射した光を、入射面を有
する複数の光ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該
光ファイバー束部から分岐され、出射面を有する複数個
の小さい束の小光ファイバー束部とから構成された光フ
ァイバーの前記入射面に入射し、前記光ファイバの前記
出射面から出射された光を、集光発散光学系により特定
角度成分の光を集光して発散させてマスクまたはレチク
ルに照射せしめ、該マスクまたはレチクルを透過した光
を投影光学系により被露光物体状にマスク又はレチクル
のパターン像として投影せしめることを特徴とする投影
式露光方法。 - 【請求項13】光源を設け、該光源より出射した光を入
射させる入射面を有する複数の光ファイバーを束ねた光
ファイバー束部と該光ファイバー束部から分岐され、出
射面を有する複数個の小さい束の小光ファイバー束部と
から構成された光ファイバーを有し、前記光ファイバか
ら出射された光を入射して特定角度成分の光を集光して
発散させる集光発散光学系を備えたことを特徴とする照
明光学装置。 - 【請求項14】更に前記小光ファイバー束部の出射面の
相対的位置を制御する制御手段を備えたことを特徴とす
る請求項13記載の照明光学装置。 - 【請求項15】前記光ファイバーの出射端と集光発散光
学系の入射面とが光学的に共役な関係であることを特徴
とする請求項13記載の照明光学装置。 - 【請求項16】前記光ファイバーに入射する光の光束
を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段を
備えたことを特徴とする請求項13記載の照明光学装
置。 - 【請求項17】前記集光発散光学系に入射する光の光束
を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段を
備えたことを特徴とする請求項13記載の照明光学装
置。 - 【請求項18】前記光ファイバーの出射面と前記集光発
散光学系の入射面を光学的にケーラー照明、又は光学的
に無限遠の関係にする光学手段を備えたことを特徴とす
る請求項13記載の照明光学装置。 - 【請求項19】前記光ファイバーを出射した光束の径を
変形させて、前記集光発散光学系に入射させる変形手段
を備えたことを特徴とする請求項18記載の照明光学装
置。 - 【請求項20】前記集光発散光学系に入射する光の光束
を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段を
備えたことを特徴とする請求項18記載の照明光学装
置。 - 【請求項21】前記集光発散光学系は棒状レンズで形成
したことを特徴とする請求項13記載の照明光学装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4184962A JPH0629189A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置 |
DE4301716A DE4301716C2 (de) | 1992-02-04 | 1993-01-22 | Projektionsbelichtungsgerät und -verfahren |
US08/009,928 US5302999A (en) | 1992-02-04 | 1993-01-27 | Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4184962A JPH0629189A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0629189A true JPH0629189A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16162400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4184962A Pending JPH0629189A (ja) | 1992-02-04 | 1992-07-13 | 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0629189A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
US6157497A (en) * | 1993-06-30 | 2000-12-05 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
JP2001308048A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-11-02 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | 研削されたウエハの洗浄・搬送方法 |
KR100374910B1 (ko) * | 1994-07-29 | 2003-05-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치 |
KR100381745B1 (ko) * | 1994-08-17 | 2003-07-22 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | 주사식포토리소그래피를위한오프축정렬시스템 |
JP2004233749A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Pentax Corp | パターン描画装置用照明システムおよびパターン描画装置 |
KR100566023B1 (ko) * | 2003-03-26 | 2006-03-30 | 샤프 가부시키가이샤 | 노광 장치 |
JP2006337475A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置 |
US7209243B2 (en) * | 2000-06-29 | 2007-04-24 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Illumination device, and coordinate measuring instrument having an illumination device |
JP2007329455A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-12-20 | Asml Holding Nv | パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系 |
JP2009302225A (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Nikon Corp | ライトガイド、照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2024142970A1 (ja) * | 2022-12-27 | 2024-07-04 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、及びデバイス製造方法 |
-
1992
- 1992-07-13 JP JP4184962A patent/JPH0629189A/ja active Pending
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
US6157497A (en) * | 1993-06-30 | 2000-12-05 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
US6795169B2 (en) | 1993-06-30 | 2004-09-21 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
US6351305B1 (en) | 1993-06-30 | 2002-02-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method for transferring pattern onto a substrate |
US6480262B1 (en) | 1993-06-30 | 2002-11-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus for illuminating a mask, method of manufacturing and using same, and field stop used therein |
US6509954B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-01-21 | Nikon Corporation | Aperture stop having central aperture region defined by a circular ARC and peripheral region with decreased width, and exposure apparatus and method |
US6556278B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-04-29 | Nikon Corporation | Exposure/imaging apparatus and method in which imaging characteristics of a projection optical system are adjusted |
KR100374910B1 (ko) * | 1994-07-29 | 2003-05-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치 |
KR100381745B1 (ko) * | 1994-08-17 | 2003-07-22 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | 주사식포토리소그래피를위한오프축정렬시스템 |
JP2001308048A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-11-02 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | 研削されたウエハの洗浄・搬送方法 |
JP4672829B2 (ja) * | 2000-04-19 | 2011-04-20 | 株式会社岡本工作機械製作所 | 研削されたウエハの洗浄・搬送方法 |
US7209243B2 (en) * | 2000-06-29 | 2007-04-24 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Illumination device, and coordinate measuring instrument having an illumination device |
JP2004233749A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Pentax Corp | パターン描画装置用照明システムおよびパターン描画装置 |
KR100566023B1 (ko) * | 2003-03-26 | 2006-03-30 | 샤프 가부시키가이샤 | 노광 장치 |
JP2006337475A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置 |
JP4679249B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2011-04-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン描画装置 |
JP2007329455A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-12-20 | Asml Holding Nv | パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系 |
JP2009302225A (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Nikon Corp | ライトガイド、照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2024142970A1 (ja) * | 2022-12-27 | 2024-07-04 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、及びデバイス製造方法 |
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