JP4679249B2 - パターン描画装置 - Google Patents
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Description
2 ステージユニット
6 ランプハウス
9 基板
31 ステージ移動機構
32 描画ユニット移動機構
40 描画ヘッド
41 バンドルファイバ
42 DMD
62 光源
411 入力端
412 出力端
412b 光ファイバ
431 光量調整機構
432 インテグレータ
Claims (3)
- 光の照射により基板にパターンを描画するパターン描画装置であって、
基板を保持する保持部と、
ショートアークランプである光源と、
前記光源からの光の経路を複数の経路へと分岐する光分岐構造と、
それぞれが前記光分岐構造にて分岐された光を空間変調して前記保持部に保持された基板に向けて照射する複数の光照射部と、
前記複数の光照射部を前記保持部に対して相対的に移動する移動機構と、
を備え、
前記光分岐構造が、光ファイバが1つに束ねられて1つの光源である前記光源に光学的に接続される入力端と、前記光ファイバが分割されて束ねられて前記複数の光照射部に接続される複数の出力端とを備えるバンドルファイバであり、
前記入力端において、前記光源からの光束の断面の照度が前記断面内における最大値の30%以上70%以下の集光半径の範囲から光が取り込まれ、
前記複数の光照射部のそれぞれが、
前記バンドルファイバの出力端からの光が導かれるインテグレータと、
前記出力端と前記インテグレータとの間に設けられ、前記出力端からの光の光量を調整する光量調整機構と、
独立して偏向可能な2次元に配列された複数の微小ミラーにより前記インテグレータから導かれる光を空間変調する空間光変調デバイスと、
を備えることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1に記載のパターン描画装置であって、
前記光源を内部に収納し、前記複数の光照射部とは別体とされるランプハウスをさらに備えることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1または2に記載のパターン描画装置であって、
前記複数の光照射部のそれぞれにおいて、前記バンドルファイバの前記出力端が、断面が多角形の前記インテグレータに近接され、前記出力端の端面の形状が前記インテグレータの前記断面と略同一とされることを特徴とするパターン描画装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005159115A JP4679249B2 (ja) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | パターン描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005159115A JP4679249B2 (ja) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | パターン描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006337475A JP2006337475A (ja) | 2006-12-14 |
JP4679249B2 true JP4679249B2 (ja) | 2011-04-27 |
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ID=37558122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005159115A Expired - Fee Related JP4679249B2 (ja) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | パターン描画装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4679249B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI401538B (zh) * | 2007-03-28 | 2013-07-11 | Orc Mfg Co Ltd | Exposure drawing device |
JP4885029B2 (ja) | 2007-03-28 | 2012-02-29 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
JP4880511B2 (ja) | 2007-03-28 | 2012-02-22 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
JP5090780B2 (ja) | 2007-04-26 | 2012-12-05 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
KR102008801B1 (ko) | 2008-01-21 | 2019-08-08 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명장치, 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 |
DE102012224005B4 (de) * | 2012-12-20 | 2015-07-23 | Heraeus Kulzer Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer homogenen Lichtverteilung |
WO2015160252A1 (en) * | 2014-04-15 | 2015-10-22 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Exposure head, exposure apparatus and method of operating an exposure head |
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JP2004228343A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
-
2005
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006337475A (ja) | 2006-12-14 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071218 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100324 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100518 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110128 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110201 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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