JPH06112354A - 薄型オーバーモールデッド半導体デバイスおよびその製造方法 - Google Patents
薄型オーバーモールデッド半導体デバイスおよびその製造方法Info
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- JPH06112354A JPH06112354A JP5211098A JP21109893A JPH06112354A JP H06112354 A JPH06112354 A JP H06112354A JP 5211098 A JP5211098 A JP 5211098A JP 21109893 A JP21109893 A JP 21109893A JP H06112354 A JPH06112354 A JP H06112354A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ
・キャリア48は、片面に金属を有し、めっきしていな
いスルーホールを有する新しい基板40を用いて製造さ
れる。この新しい基板は、基板の両面におけるはんだレ
ジスト層の必要性を排除している。 【構成】 半導体ダイ50は基板の上側にマウントされ
ており、基板上の金属トレース46にワイヤ・ボンディ
ングされている。パッケージ・ボディ54は基板上にオ
ーバーモールドされて、少なくともダイおよびワイヤ・
ボンド52を被覆する。はんだボール56はスルーホー
ル44内で付着されて、これによって基板の上側の金属
トレースに直接接続されている。
・キャリア48は、片面に金属を有し、めっきしていな
いスルーホールを有する新しい基板40を用いて製造さ
れる。この新しい基板は、基板の両面におけるはんだレ
ジスト層の必要性を排除している。 【構成】 半導体ダイ50は基板の上側にマウントされ
ており、基板上の金属トレース46にワイヤ・ボンディ
ングされている。パッケージ・ボディ54は基板上にオ
ーバーモールドされて、少なくともダイおよびワイヤ・
ボンド52を被覆する。はんだボール56はスルーホー
ル44内で付着されて、これによって基板の上側の金属
トレースに直接接続されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般に半導体デバイスに
関し、具体的にはレジン・オーバーモールデッド・パッ
ド・アレイ・キャリア(resin overmolded leadless pad
array carrier) およびその製造方法に関する。
関し、具体的にはレジン・オーバーモールデッド・パッ
ド・アレイ・キャリア(resin overmolded leadless pad
array carrier) およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に従来のデュアル・イン・ライン・
パッケージ(DIP)は、比較的少ない入出力(I/
O)リード数の半導体デバイスに使用されている。しか
しながらI/Oリード数の多いパッケージ・デバイスで
は、DIPは非実用的である。またDIPはスルーホー
ル技術を利用するのの対して電子工業業会の動きは、表
面実装用途に向かっている。リードレス・パッド・アレ
イ・キャリアの開発は、DIPなど従来のリード付きパ
ッケージに比べていくつかの利点がある。これらのリー
ドレス・パッド・アレイ・キャリアは、サイズを不必要
に大きくせずに高いI/O密度を可能にする。またリー
ドレス・パッド・アレイ・キャリアは、今日の用途に望
ましい表面実装パッケージである。
パッケージ(DIP)は、比較的少ない入出力(I/
O)リード数の半導体デバイスに使用されている。しか
しながらI/Oリード数の多いパッケージ・デバイスで
は、DIPは非実用的である。またDIPはスルーホー
ル技術を利用するのの対して電子工業業会の動きは、表
面実装用途に向かっている。リードレス・パッド・アレ
イ・キャリアの開発は、DIPなど従来のリード付きパ
ッケージに比べていくつかの利点がある。これらのリー
ドレス・パッド・アレイ・キャリアは、サイズを不必要
に大きくせずに高いI/O密度を可能にする。またリー
ドレス・パッド・アレイ・キャリアは、今日の用途に望
ましい表面実装パッケージである。
【0003】リードレス・パッド・アレイ・キャリアの
全体的な作りは、基板の上面にマウントされた半導体ダ
イ、および基板の下面に付着された複数のはんだボール
を含む。既存の基板はビスマレイミド・トリアジン(B
T)樹脂などのプリント回路板材であり、上下両面が銅
で被覆されている。半導体ダイをマウントする最終的な
基板を作るには複雑な製造工程が必要である。この基板
はパネル形状で加工し、後でストリップ形状にカットし
てデバイスを組み立てる。
全体的な作りは、基板の上面にマウントされた半導体ダ
イ、および基板の下面に付着された複数のはんだボール
を含む。既存の基板はビスマレイミド・トリアジン(B
T)樹脂などのプリント回路板材であり、上下両面が銅
で被覆されている。半導体ダイをマウントする最終的な
基板を作るには複雑な製造工程が必要である。この基板
はパネル形状で加工し、後でストリップ形状にカットし
てデバイスを組み立てる。
【0004】最初は一枚の銅張りプリント回路板材のパ
ネルから始め、次にこのパネルにスルーホールまたはバ
イア、およびツーリング穴(tooling hole)など他の必要
な穴を開ける。ついで銅の被覆の上、およびスルーホー
ルの側壁を銅めっきする。銅めっきは、無電解めっき工
程、つぎに電解めっき工程を用いて行う。スルーホール
をめっきする必要があるのは、これによって、基板の両
面の金属の間に導電路を設けるためである。次に金属パ
ターニング工程を実施して、この工程において、銅をフ
ォトエッチングして、パネルの両面で導電金属トレース
の個々のパターンを画定する。
ネルから始め、次にこのパネルにスルーホールまたはバ
イア、およびツーリング穴(tooling hole)など他の必要
な穴を開ける。ついで銅の被覆の上、およびスルーホー
ルの側壁を銅めっきする。銅めっきは、無電解めっき工
程、つぎに電解めっき工程を用いて行う。スルーホール
をめっきする必要があるのは、これによって、基板の両
面の金属の間に導電路を設けるためである。次に金属パ
ターニング工程を実施して、この工程において、銅をフ
ォトエッチングして、パネルの両面で導電金属トレース
の個々のパターンを画定する。
【0005】個々の半導体ダイの導電トレースのパター
ンは、ボンディング・ポスト,経路設定トレース(routi
ng trace) ,エッジ・トレース,はんだパッドおよびめ
っきスルーホールを含む。ボンディング・ポストは導電
トレースの一部を含んでおり、この部分はダイ実装エリ
アに隣接しており、半導体ダイと基板とのワイヤ・ボン
ディング接続に用いられる。エッジ・トレースは、ダイ
実装エリアから遠位の導電トレース部分を含む。すなわ
ち、それらはパネルから切り離された場合に、基板の端
の位置にくるトレースである。エッジ・トレースは、パ
ッケージの輪郭の外側に位置する接地バスに、すべての
トレースの経路を設定するために必要である。これは、
電解めっきの共通接続を提供するために行う。エッジ・
トレースは、組み立てたデバイスの特性検査(probing)
に用いてもよい。しかしながらエッジ・トレースは必ず
しも露出させなくてもよく、一部のデバイスでは、ソル
ダ・レジストで被覆されたままでもよい。はんだパッド
は、トレースの終端になっている基板の下面に位置する
導電トレースの部分を含む。はんだパッドは、はんだボ
ールを基板に接続して、デバイスへの外部電気接続を設
けるのに用いられる。経路設定トレースは、ボンディン
グ・ポストをエッジ・トレースおよびはんだパッドに接
続する導電トレースの部分に過ぎない。めっきスルーホ
ールを通じて、基板の両面のトレースの間に電気接続が
保たれる。
ンは、ボンディング・ポスト,経路設定トレース(routi
ng trace) ,エッジ・トレース,はんだパッドおよびめ
っきスルーホールを含む。ボンディング・ポストは導電
トレースの一部を含んでおり、この部分はダイ実装エリ
アに隣接しており、半導体ダイと基板とのワイヤ・ボン
ディング接続に用いられる。エッジ・トレースは、ダイ
実装エリアから遠位の導電トレース部分を含む。すなわ
ち、それらはパネルから切り離された場合に、基板の端
の位置にくるトレースである。エッジ・トレースは、パ
ッケージの輪郭の外側に位置する接地バスに、すべての
トレースの経路を設定するために必要である。これは、
電解めっきの共通接続を提供するために行う。エッジ・
トレースは、組み立てたデバイスの特性検査(probing)
に用いてもよい。しかしながらエッジ・トレースは必ず
しも露出させなくてもよく、一部のデバイスでは、ソル
ダ・レジストで被覆されたままでもよい。はんだパッド
は、トレースの終端になっている基板の下面に位置する
導電トレースの部分を含む。はんだパッドは、はんだボ
ールを基板に接続して、デバイスへの外部電気接続を設
けるのに用いられる。経路設定トレースは、ボンディン
グ・ポストをエッジ・トレースおよびはんだパッドに接
続する導電トレースの部分に過ぎない。めっきスルーホ
ールを通じて、基板の両面のトレースの間に電気接続が
保たれる。
【0006】フォトエッチングの後、はんだレジストの
薄膜がパネルの両面全体に施される。ついでレジスト・
パターニング工程を実施して、エッチングによりはんだ
レジスト層を除去して、導電金属トレースのパターンの
選択的部分を露出させる。露出される部分には、ダイ実
装エリア,ボンディング・ポストおよびエッジ・トレー
スが含まれ、これらはすべてパネルの上面にある。また
パネルの下面のはんだパッドも、レジスト層のパターニ
ングの後で露出する。はんだレジスト層はいくつかの目
的のために機能する。第1に、レジストによって、はん
だバンピング工程の間、はんだがトレースの上を流れな
いようにする。このはんだバンピング工程で、はんだボ
ールが基板の下面のはんだパッドに付着される。またレ
ジスト層は、モールド作業中にモールド・ダイを固定(c
lamp) するために均一で滑らかな表面を提供する。つい
で導電金属トレースのパターンの内、露出された部分を
ニッケルと金でめっきする。ついでこのパネルをストリ
ップ形状にカットし、組立工程ではこのストリップを用
いてリードレス・パッド・アレイ・キャリアを製造す
る。
薄膜がパネルの両面全体に施される。ついでレジスト・
パターニング工程を実施して、エッチングによりはんだ
レジスト層を除去して、導電金属トレースのパターンの
選択的部分を露出させる。露出される部分には、ダイ実
装エリア,ボンディング・ポストおよびエッジ・トレー
スが含まれ、これらはすべてパネルの上面にある。また
パネルの下面のはんだパッドも、レジスト層のパターニ
ングの後で露出する。はんだレジスト層はいくつかの目
的のために機能する。第1に、レジストによって、はん
だバンピング工程の間、はんだがトレースの上を流れな
いようにする。このはんだバンピング工程で、はんだボ
ールが基板の下面のはんだパッドに付着される。またレ
ジスト層は、モールド作業中にモールド・ダイを固定(c
lamp) するために均一で滑らかな表面を提供する。つい
で導電金属トレースのパターンの内、露出された部分を
ニッケルと金でめっきする。ついでこのパネルをストリ
ップ形状にカットし、組立工程ではこのストリップを用
いてリードレス・パッド・アレイ・キャリアを製造す
る。
【0007】図1は、先行技術のリードレス・パッド・
アレイ・キャリアの完成基板10の断面図を示したもの
である。図に示すように、プリント回路板材基板12
は、両面に導電金属トレース14のパターンを有する。
トレース14のパターンはボンディング・ポスト16,
エッジ・トレース18,およびはんだパッド20を有す
る。はんだパッド20はすべて、基板の上面のトレース
14に接続しているが、これらの接続は断面図では示さ
れない。まためっきスルーホール22も図示されてい
る。はんだレジスト24も図1に示されており、図1で
ははんだレジストは基板の両面上に位置している。
アレイ・キャリアの完成基板10の断面図を示したもの
である。図に示すように、プリント回路板材基板12
は、両面に導電金属トレース14のパターンを有する。
トレース14のパターンはボンディング・ポスト16,
エッジ・トレース18,およびはんだパッド20を有す
る。はんだパッド20はすべて、基板の上面のトレース
14に接続しているが、これらの接続は断面図では示さ
れない。まためっきスルーホール22も図示されてい
る。はんだレジスト24も図1に示されており、図1で
ははんだレジストは基板の両面上に位置している。
【0008】図2は、先行技術のリードレス・パッド・
アレイ・キャリア30を組み立てたものを示している。
図に示すように、半導体ダイ32は、基板10の上面に
マウントされている。ダイ32は、複数のワイヤ34で
ボンディング・ポスト16と電気的に結合されており、
このワイヤはダイ32およびワイヤ・ボンディング・ポ
スト16に接合されている。ワイヤ・ボンディングされ
た半導体ダイは、モールド・パッケージ・ボディ36に
よって保護されている。パッケージ・ボディ36はトラ
ンスファ・モールディング工程またはグローブ・トップ
(glob top)工程によって形成され、この工程でダイ32
およびワイヤ・ボンド34が封入材によってオーバーモ
ールド(overmold)される。モールドの後、複数のはんだ
ボール38が、基板10の下面にあるはんだパッド20
に付着される。実際には、デバイスはストリップ形状で
組み立てられ、完全に組み立てられた後に、個々のデバ
イスに切り離される。
アレイ・キャリア30を組み立てたものを示している。
図に示すように、半導体ダイ32は、基板10の上面に
マウントされている。ダイ32は、複数のワイヤ34で
ボンディング・ポスト16と電気的に結合されており、
このワイヤはダイ32およびワイヤ・ボンディング・ポ
スト16に接合されている。ワイヤ・ボンディングされ
た半導体ダイは、モールド・パッケージ・ボディ36に
よって保護されている。パッケージ・ボディ36はトラ
ンスファ・モールディング工程またはグローブ・トップ
(glob top)工程によって形成され、この工程でダイ32
およびワイヤ・ボンド34が封入材によってオーバーモ
ールド(overmold)される。モールドの後、複数のはんだ
ボール38が、基板10の下面にあるはんだパッド20
に付着される。実際には、デバイスはストリップ形状で
組み立てられ、完全に組み立てられた後に、個々のデバ
イスに切り離される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記リードレス・パッ
ド・アレイ・キャリアの一つの欠点は、複雑な基板を必
要とすることである。基板の両面に導電金属トレースの
パターンがあるので、トレースの経路設定が複雑にな
る。またデバイスの静電容量およびインダクタンスはト
レース全体の長さに正比例する。したがってトレースは
できるだけ短くするのが望ましいが、トレースの経路設
定が複雑であると必ずしもそれがままならない。また、
リードレス・パッド・アレイ・キャリアをできるだけ薄
くするのが望ましいのは、ラジオやページャなどの携帯
型装置での使用を目的としているからである。キャリア
全体の高さが節約できれば、大きな利点が得られる。
ド・アレイ・キャリアの一つの欠点は、複雑な基板を必
要とすることである。基板の両面に導電金属トレースの
パターンがあるので、トレースの経路設定が複雑にな
る。またデバイスの静電容量およびインダクタンスはト
レース全体の長さに正比例する。したがってトレースは
できるだけ短くするのが望ましいが、トレースの経路設
定が複雑であると必ずしもそれがままならない。また、
リードレス・パッド・アレイ・キャリアをできるだけ薄
くするのが望ましいのは、ラジオやページャなどの携帯
型装置での使用を目的としているからである。キャリア
全体の高さが節約できれば、大きな利点が得られる。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明にしたがって、基
板,半導体ダイ,パッケージ・ボディ,および複数のは
んだボールを有する半導体デバイスを製造する方法が提
供される。この基板は、第1表面,第2表面,複数のス
ルーホール,および熱膨張係数を有しており、第1表面
のみが、複数のスルーホールを介して複数のはんだパッ
ドを終端とする導電金属トレースのパターンを有してい
る。半導体ダイは第1表面上にマウントされて、導電金
属トレースのパターンに電気的に結合されている。熱膨
張係数を有する封入材によって形成されるパッケージ・
ボディは、少なくとも半導体ダイを被覆する。複数のは
んだボールは、複数のスルーホールによって、第1表面
上の複数のはんだパッドに付着され、このスルーホール
では複数のはんだボールが基板の第2表面から延在して
いる。
板,半導体ダイ,パッケージ・ボディ,および複数のは
んだボールを有する半導体デバイスを製造する方法が提
供される。この基板は、第1表面,第2表面,複数のス
ルーホール,および熱膨張係数を有しており、第1表面
のみが、複数のスルーホールを介して複数のはんだパッ
ドを終端とする導電金属トレースのパターンを有してい
る。半導体ダイは第1表面上にマウントされて、導電金
属トレースのパターンに電気的に結合されている。熱膨
張係数を有する封入材によって形成されるパッケージ・
ボディは、少なくとも半導体ダイを被覆する。複数のは
んだボールは、複数のスルーホールによって、第1表面
上の複数のはんだパッドに付着され、このスルーホール
では複数のはんだボールが基板の第2表面から延在して
いる。
【0011】上記およびその他の特性ならびに利点は、
添付図面と合わせて以下の詳細な説明からより明確に把
握されよう。指摘すべき重要なことは、図は必ずしも縮
尺どおりに描かれたものではなく、また具体的に図示し
た以外にも本発明の実施例があり得ることである。
添付図面と合わせて以下の詳細な説明からより明確に把
握されよう。指摘すべき重要なことは、図は必ずしも縮
尺どおりに描かれたものではなく、また具体的に図示し
た以外にも本発明の実施例があり得ることである。
【0012】
【実施例】ここで、図を参照しながら本発明について説
明する。図3は、薄型オーバーモールデッド・パッド・
アレイ・キャリア(low profile overmolded pad array
carrier)の改良基板40を示す上面図である。改良基板
40は実質的に0.165ミリメートルから0.300
ミリメートルの範囲の厚さを有する。改良基板40は高
分子材基板42から構成され、この基板は上面に、導電
金属トレース46のパターンを有する。高分子材基板4
2は銅張りのBT樹脂を使用できるが、これに限定され
ない。銅張りBT樹脂を使用する場合には、銅をパター
ニングもしくはエッチングして、導電金属トレース46
のパターンを形成する。トレース46の終端が複数のは
んだパッド47になる。改良基板40は、図1を参照し
て説明した先行技術の基板とほぼ同様の方法で加工し、
パターニング後、ニッケルおよび金など他の金属で金属
トレースを実際にめっきして、はんだに対する導電率お
よび濡れ指標を改善する。
明する。図3は、薄型オーバーモールデッド・パッド・
アレイ・キャリア(low profile overmolded pad array
carrier)の改良基板40を示す上面図である。改良基板
40は実質的に0.165ミリメートルから0.300
ミリメートルの範囲の厚さを有する。改良基板40は高
分子材基板42から構成され、この基板は上面に、導電
金属トレース46のパターンを有する。高分子材基板4
2は銅張りのBT樹脂を使用できるが、これに限定され
ない。銅張りBT樹脂を使用する場合には、銅をパター
ニングもしくはエッチングして、導電金属トレース46
のパターンを形成する。トレース46の終端が複数のは
んだパッド47になる。改良基板40は、図1を参照し
て説明した先行技術の基板とほぼ同様の方法で加工し、
パターニング後、ニッケルおよび金など他の金属で金属
トレースを実際にめっきして、はんだに対する導電率お
よび濡れ指標を改善する。
【0013】図4〜図5は、改良基板上に作られた薄型
オーバーモールデッド・パッド・アレイ・キャリアの製
造工程を示したものである。また図4は、図3の基板4
0を線4―4で切った断面図である。図4に示すよう
に、リードレス・パッド・アレイ・キャリア用の改良基
板40が提供される。改良基板40は、高分子材基板4
2内に複数のスルーホール44を有しており、この基板
内でスルーホール44は図3に示すはんだパッドの裏の
金属に向かって直接に開いている。 図5は、完全に組
立られた薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ・
キャリア48を示したものである。図5において、半導
体ダイ50が基板40の上にマウントされている。ダイ
50は複数のワイヤ・ボンド52によってトレース46
に電気的に結合されている。ワイヤ・ボンディング後、
パッケージ・ボディ54は、トランスファ・モールディ
ング工程またはグローブ・トップ工程によって、基板上
にオーバーモールドされて、ダイ50,ワイヤ・ボンド
52およびトレース46を完全に被覆する。パッケージ
・ボディ54は、高分子封止樹脂などの封入材を使用で
きるが、これに限定されない。パッケージ・ボディ54
に用いる材料および高分子材基板42は、モールド・デ
バイスの潜在的な反りを最小にするために、ほぼ同じ範
囲の熱膨張係数を有することが望ましい。オーバーモー
ルディング工程は、従来のトランスファ・モールディニ
ング装置を用いて実施する。パッケージ・ボディ54を
オーバーモールドした後、複数のはんだボール56を基
板に付着して、ダイ50のための外部電気接続を設け
る。はんだボール56は、スルーホール44内でトレー
ス46の裏面に直接接続されている。はんだボールを導
電トレースの裏側に直接付着する一つの利点は、トレー
スの経路設定が大幅に単純化されることと、それに加え
て経路設定密度を高くできることである。基板の上面か
ら基板の下面へとトレースを経路設定する必要がない。
もう一つの利点は、導電路の長さが図1の先行技術に比
較して短くなっており、デバイスのインダクタンスおよ
び静電容量が低下することである。
オーバーモールデッド・パッド・アレイ・キャリアの製
造工程を示したものである。また図4は、図3の基板4
0を線4―4で切った断面図である。図4に示すよう
に、リードレス・パッド・アレイ・キャリア用の改良基
板40が提供される。改良基板40は、高分子材基板4
2内に複数のスルーホール44を有しており、この基板
内でスルーホール44は図3に示すはんだパッドの裏の
金属に向かって直接に開いている。 図5は、完全に組
立られた薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ・
キャリア48を示したものである。図5において、半導
体ダイ50が基板40の上にマウントされている。ダイ
50は複数のワイヤ・ボンド52によってトレース46
に電気的に結合されている。ワイヤ・ボンディング後、
パッケージ・ボディ54は、トランスファ・モールディ
ング工程またはグローブ・トップ工程によって、基板上
にオーバーモールドされて、ダイ50,ワイヤ・ボンド
52およびトレース46を完全に被覆する。パッケージ
・ボディ54は、高分子封止樹脂などの封入材を使用で
きるが、これに限定されない。パッケージ・ボディ54
に用いる材料および高分子材基板42は、モールド・デ
バイスの潜在的な反りを最小にするために、ほぼ同じ範
囲の熱膨張係数を有することが望ましい。オーバーモー
ルディング工程は、従来のトランスファ・モールディニ
ング装置を用いて実施する。パッケージ・ボディ54を
オーバーモールドした後、複数のはんだボール56を基
板に付着して、ダイ50のための外部電気接続を設け
る。はんだボール56は、スルーホール44内でトレー
ス46の裏面に直接接続されている。はんだボールを導
電トレースの裏側に直接付着する一つの利点は、トレー
スの経路設定が大幅に単純化されることと、それに加え
て経路設定密度を高くできることである。基板の上面か
ら基板の下面へとトレースを経路設定する必要がない。
もう一つの利点は、導電路の長さが図1の先行技術に比
較して短くなっており、デバイスのインダクタンスおよ
び静電容量が低下することである。
【0014】この実施例は、先行技術に対して他にもい
くつかの利点を有する。この基板は、基板の片面のみ金
属を含むように大幅に単純化されている。そのため、金
属パターニング工程が削減されて、基板の片面しか金属
エッチングが必要でなくなり、時間も材料コストも節約
される。またはんだレジストが基板から完全に排除され
ており、これによって基板の製造が単純化する。基板の
下面ではんだレジストが必要なくなる理由は、この表面
に金属被覆がないからである。はんだバンピング工程の
間、トレースの上をはんだが流れてデバイスを短絡させ
る危険はない。この工程ではんだボールがスルーホール
内でトレースに付着される。はんだレジストは基板の上
面でも不要である。無電解めっきを用いるので、この実
施例ではデバイスにエッジ・トレースがない。したがっ
て、トレースが基板の端部まで延在していないので、基
板の端部の滑らかな表面の上にモールド・ダイを固定(c
lamp) できる。基板の両面にはんだレジスト層を施す段
階、および次のはんだレジストをパターン化する段階が
除去される。基板の片面だけに金属を有し、はんだレジ
ストがないことのもう一つの利点は、基板の厚さが減る
ことである。薄い基板は、リードレス・パッド・アレイ
・キャリアが薄くなることにつながり、このことは、ラ
ジオやページャなど携帯型装置の用途では特に望まし
い。
くつかの利点を有する。この基板は、基板の片面のみ金
属を含むように大幅に単純化されている。そのため、金
属パターニング工程が削減されて、基板の片面しか金属
エッチングが必要でなくなり、時間も材料コストも節約
される。またはんだレジストが基板から完全に排除され
ており、これによって基板の製造が単純化する。基板の
下面ではんだレジストが必要なくなる理由は、この表面
に金属被覆がないからである。はんだバンピング工程の
間、トレースの上をはんだが流れてデバイスを短絡させ
る危険はない。この工程ではんだボールがスルーホール
内でトレースに付着される。はんだレジストは基板の上
面でも不要である。無電解めっきを用いるので、この実
施例ではデバイスにエッジ・トレースがない。したがっ
て、トレースが基板の端部まで延在していないので、基
板の端部の滑らかな表面の上にモールド・ダイを固定(c
lamp) できる。基板の両面にはんだレジスト層を施す段
階、および次のはんだレジストをパターン化する段階が
除去される。基板の片面だけに金属を有し、はんだレジ
ストがないことのもう一つの利点は、基板の厚さが減る
ことである。薄い基板は、リードレス・パッド・アレイ
・キャリアが薄くなることにつながり、このことは、ラ
ジオやページャなど携帯型装置の用途では特に望まし
い。
【0015】図6は、リードレス・パッド・アレイ・キ
ャリア基板60の代替的実施例を示したものである。図
に示すように、基板60は、複数のスルーホール44を
有する高分子材基板42によって構成される。また基板
60は上面に導電金属トレース62のパターンを有して
おり、ここではトレース62は基板の端部まで延在して
いる。また導電金属トレース62のパターンは、図3に
示すものと実質的に同じ複数のはんだパッド(図示せ
ず)を含んでおり、この場合高分子材基板42内のスル
ーホール44は、はんだパッドの裏面の金属に向かって
直接開いている。基板の上面にはんだレジスト層64を
有することはオプションになっており、そのため図6の
左半分ははんだレジスト層を有する基板を、また図6の
右半分ははんだレジスト層のない基板を示している。は
んだレジスト層は、モールド・ダイを固定(clamp) する
ために滑らかな表面を設けることによって、オーバーモ
ールディング作業を助ける。しかもモールド・ダイが基
板上に固定(clamp) された時に密閉シールが存在するよ
うに、トレースの間の間隙に合致するモールド・ダイを
設計できる。しかしながらエッジ・トレースを有する場
合にははんだレジスト層があると、モールド工程が容易
になる。
ャリア基板60の代替的実施例を示したものである。図
に示すように、基板60は、複数のスルーホール44を
有する高分子材基板42によって構成される。また基板
60は上面に導電金属トレース62のパターンを有して
おり、ここではトレース62は基板の端部まで延在して
いる。また導電金属トレース62のパターンは、図3に
示すものと実質的に同じ複数のはんだパッド(図示せ
ず)を含んでおり、この場合高分子材基板42内のスル
ーホール44は、はんだパッドの裏面の金属に向かって
直接開いている。基板の上面にはんだレジスト層64を
有することはオプションになっており、そのため図6の
左半分ははんだレジスト層を有する基板を、また図6の
右半分ははんだレジスト層のない基板を示している。は
んだレジスト層は、モールド・ダイを固定(clamp) する
ために滑らかな表面を設けることによって、オーバーモ
ールディング作業を助ける。しかもモールド・ダイが基
板上に固定(clamp) された時に密閉シールが存在するよ
うに、トレースの間の間隙に合致するモールド・ダイを
設計できる。しかしながらエッジ・トレースを有する場
合にははんだレジスト層があると、モールド工程が容易
になる。
【0016】上記の説明および添付の図によって、本発
明に関連した多くの利点が明かになる。具体的には、リ
ードレス・パッド・アレイ・キャリアは、改良基板を用
いて製造できることが明かになった。この基板は片面に
のみ金属を有しており、はんだレジスト層を必要としな
いため、基板の加工が単純化され、コスト節減につなが
る。また片面の金属を排除し、はんだレジスト層も排除
することによって、基板の厚さが減り、低プロファイル
・リードレス・パッド・アレイ・キャリアを得る。
明に関連した多くの利点が明かになる。具体的には、リ
ードレス・パッド・アレイ・キャリアは、改良基板を用
いて製造できることが明かになった。この基板は片面に
のみ金属を有しており、はんだレジスト層を必要としな
いため、基板の加工が単純化され、コスト節減につなが
る。また片面の金属を排除し、はんだレジスト層も排除
することによって、基板の厚さが減り、低プロファイル
・リードレス・パッド・アレイ・キャリアを得る。
【0017】したがって、上記の必要性および利点を完
全に満足する本発明に基づく薄型オーバーモールデッド
半導体デバイス、および前記デバイスを製造する方法が
提供されることが明かである。本発明は具体的な実施例
を参照して説明してきたが、本発明をこれら具体的な実
施例に限定することを意図するものではない。当業者
は、本発明の意図から逸脱せずに変形およびバリエーシ
ョンが可能であることを理解しよう。たとえば導電金属
トレースのパターンは、半導体デバイスの個々の必要条
件に依存して、図示したものと異なってもよい。また改
良基板ではスルホールをめっきする必要はないが、はん
だボールをはんだパッドの裏面の金属に付着しやすいよ
うに、必要に応じてめっきスルーホールを用いてもよ
い。したがって本発明は、添付請求の範囲に属するすべ
てのバリエーションおよび変形をカバーすることを意図
している。
全に満足する本発明に基づく薄型オーバーモールデッド
半導体デバイス、および前記デバイスを製造する方法が
提供されることが明かである。本発明は具体的な実施例
を参照して説明してきたが、本発明をこれら具体的な実
施例に限定することを意図するものではない。当業者
は、本発明の意図から逸脱せずに変形およびバリエーシ
ョンが可能であることを理解しよう。たとえば導電金属
トレースのパターンは、半導体デバイスの個々の必要条
件に依存して、図示したものと異なってもよい。また改
良基板ではスルホールをめっきする必要はないが、はん
だボールをはんだパッドの裏面の金属に付着しやすいよ
うに、必要に応じてめっきスルーホールを用いてもよ
い。したがって本発明は、添付請求の範囲に属するすべ
てのバリエーションおよび変形をカバーすることを意図
している。
【図1】先行技術のパッド・アレイ・キャリアの基板を
断面図で示したものである。
断面図で示したものである。
【図2】図1の基板上に作られた先行技術のパッド・ア
レイ・キャリアを断面図で示したものである。
レイ・キャリアを断面図で示したものである。
【図3】本発明の実施例に基づく薄型オーバーモールデ
ッド・パッド・アレイ・キャリアの改良基板を、上面図
で示したものである。
ッド・パッド・アレイ・キャリアの改良基板を、上面図
で示したものである。
【図4】本発明の一つの実施例に基づき、図3の基板上
に作られた薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ
・キャリアを製造する工程を断面図で示したものであ
る。
に作られた薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ
・キャリアを製造する工程を断面図で示したものであ
る。
【図5】本発明の一つの実施例に基づき、図3の基板上
に作られた薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ
・キャリアを製造する工程を断面図で示したものであ
る。
に作られた薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ
・キャリアを製造する工程を断面図で示したものであ
る。
【図6】本発明の別の実施例に基づく薄型オーバーモー
ルデッド・パッド・アレイ・キャリアの代替的基板を断
面図で示したものである。
ルデッド・パッド・アレイ・キャリアの代替的基板を断
面図で示したものである。
10 リードレス・パッド・アレイ・キャリアの完成基
板 12 プリント回路板材基板 14 導電金属トレース 16 ボンディング・ポスト 18 エッジ・トレース 20 はんだパッド 22 めっきスルーホール 24 はんだレジスト 30 先行技術のリードレス・パッド・アレイ・キャリ
ア 32 半導体ダイ 34 ワイヤ 36 パッケージ・ボディ 38 はんだボール 40 改良基板 42 高分子材基板 44 スルーホール 46 導電金属トレース 47 はんだパッド 48 薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ・キ
ャリア 50 半導体ダイ 52 ワイヤ・ボンド 54 パッケージ・ボディ 56 はんだボール 60 リードレス・パッド・アレイ・キャリア基板 62 導電金属トレース 64 はんだレジスト層
板 12 プリント回路板材基板 14 導電金属トレース 16 ボンディング・ポスト 18 エッジ・トレース 20 はんだパッド 22 めっきスルーホール 24 はんだレジスト 30 先行技術のリードレス・パッド・アレイ・キャリ
ア 32 半導体ダイ 34 ワイヤ 36 パッケージ・ボディ 38 はんだボール 40 改良基板 42 高分子材基板 44 スルーホール 46 導電金属トレース 47 はんだパッド 48 薄型オーバーモールデッド・パッド・アレイ・キ
ャリア 50 半導体ダイ 52 ワイヤ・ボンド 54 パッケージ・ボディ 56 はんだボール 60 リードレス・パッド・アレイ・キャリア基板 62 導電金属トレース 64 はんだレジスト層
Claims (3)
- 【請求項1】 薄型オーバーモールデッド半導体デバイ
ス(48)であって:第1表面,第2表面,および複数
のスルーホール(44)を有する基板(40)であっ
て、前記第1表面は、前記複数のスルーホールの上に置
かれる複数のはんだパッド(47)を終端とする導電金
属トレース(46)のパターンを有する基板(40);
前記第1表面の上にマウントされた半導体ダイ(50)
であって、前記半導体ダイは、前記導電金属トレースの
前記パターンに電気的に結合されている半導体ダイ(5
0);封入材によって形成され、少なくとも前記半導体
ダイを被覆するパッケージ・ボディ(54);および前
記第2表面から延在する複数のはんだボール(56)で
あって、前記複数のはんだボールは、前記複数のスルー
ホールによって前記第1表面上の複数のはんだパッドに
接続されている複数のはんだボール(56);によって
構成されることを特徴とする薄型オーバーモールデッド
半導体デバイス。 - 【請求項2】 薄型オーバーモールデッド半導体デバイ
ス(48)であって:第1表面,第2表面,および複数
のスルーホール(44)を有するプリント回路基板(4
0)であって、前記第1表面のみが、前記複数のスルー
ホールの上に置かれて複数のはんだパッド(47)を終
端とする導電金属トレース(46)のパターンを有し、
前記プリント回路基板は実質的に0.165から0.3
00ミリメートルの範囲の厚さを有するプリント回路基
板(40);前記第1表面の上にマウントされた半導体
ダイ(50);前記半導体ダイを前記導電金属トレース
の前記パターンに電気的に結合する複数のワイヤ・ボン
ド(52);封入材によって形成され、少なくとも前記
半導体ダイを被覆するパッケージ・ボディ(54);お
よび前記第2表面から延在する複数のはんだボール(5
6)であって、前記複数のはんだボールは、前記複数の
スルーホールによって前記第1表面上の前記複数のはん
だパッドに接続されている複数のはんだボール(5
6);によって構成されることを特徴とする薄型オーバ
ーモールデッド半導体デバイス。 - 【請求項3】 薄型オーバーモールデッド半導体デバイ
ス(40)を製造する方法であって:第1表面,第2表
面,および複数のスルーホール(44)によって構成さ
れる基板(40)を設ける段階であって、前記第1表面
のみが、前記複数のスルーホールの上に位置する複数の
はんだパッド(47)を終端とする導電金属トレース
(46)のパターンを有する基板(40)を設ける段
階;前記第1表面上に半導体ダイ(50)をマウントす
る段階;前記半導体ダイを、前記導電金属トレースの前
記パターンに電気的に結合する段階;封入材によってパ
ッケージ・ボディ(54)を形成し、少なくとも前記半
導体ダイを被覆する段階;および前記複数のスルーホー
ル内で複数のはんだボール(56)を付着させ、前記複
数のはんだボールを前記複数のはんだパッドに接続する
段階であって、前記複数のはんだボールは前記基板の前
記第2表面から延在するところの段階;によって構成さ
れることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US92514592A | 1992-08-06 | 1992-08-06 | |
US925145 | 1992-08-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06112354A true JPH06112354A (ja) | 1994-04-22 |
Family
ID=25451286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5211098A Pending JPH06112354A (ja) | 1992-08-06 | 1993-08-04 | 薄型オーバーモールデッド半導体デバイスおよびその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0582052A1 (ja) |
JP (1) | JPH06112354A (ja) |
KR (1) | KR940001363A (ja) |
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JPH0974149A (ja) * | 1995-09-04 | 1997-03-18 | Oki Electric Ind Co Ltd | 小型パッケージ及びその製造方法 |
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US7187072B2 (en) | 1994-03-18 | 2007-03-06 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Fabrication process of semiconductor package and semiconductor package |
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CA2154409C (en) * | 1994-07-22 | 1999-12-14 | Yuzo Shimada | Connecting member and a connecting method using the same |
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