JPH04364168A - スルホンアミドピリジン化合物 - Google Patents
スルホンアミドピリジン化合物Info
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、スルホンアミドピリジ
ン化合物、さらに詳細には消炎作用を有する新規なスル
ホンアミドピリジン化合物およびその製薬学的に許容さ
れる塩に関する。
ン化合物、さらに詳細には消炎作用を有する新規なスル
ホンアミドピリジン化合物およびその製薬学的に許容さ
れる塩に関する。
【0002】
【従来の技術】消炎作用を有するスルホンアミド化合物
としては、ベンゼン環を母核とするスルホンアミド化合
物(たとえば、米国特許第3,840,597号明細書
、同第3,856,859号明細書、同第3,806,
024号明細書、特開昭61−10584号公報、特開
昭63−190869号公報、特開平2−268号公報
、特開平2−49778号公報など)が知られているが
、ピリジン環を母核とするスルホンアミド化合物は知ら
れていない。
としては、ベンゼン環を母核とするスルホンアミド化合
物(たとえば、米国特許第3,840,597号明細書
、同第3,856,859号明細書、同第3,806,
024号明細書、特開昭61−10584号公報、特開
昭63−190869号公報、特開平2−268号公報
、特開平2−49778号公報など)が知られているが
、ピリジン環を母核とするスルホンアミド化合物は知ら
れていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】消炎作用を有する薬剤
は、臨床上の副作用として消化管障害が問題になってい
る。本発明は長期投与に耐えうる安全性の高い薬剤を提
供することを目的とする。
は、臨床上の副作用として消化管障害が問題になってい
る。本発明は長期投与に耐えうる安全性の高い薬剤を提
供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記を目
的に鋭意検討した結果、消炎、解熱、鎮痛および抗アレ
ルギー作用を有するため消炎剤、解熱剤、鎮痛剤および
抗アレルギー剤として有用であり、しかも消化管障害な
どの副作用の少ない安全性の高い化合物を見出し、本発
明を完成した。本発明は、式
的に鋭意検討した結果、消炎、解熱、鎮痛および抗アレ
ルギー作用を有するため消炎剤、解熱剤、鎮痛剤および
抗アレルギー剤として有用であり、しかも消化管障害な
どの副作用の少ない安全性の高い化合物を見出し、本発
明を完成した。本発明は、式
【0005】
【化4】
(化1中、R1は炭素原子数1〜10個のアルキル基、
ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜10個のアル
キル基、炭素原子数2〜5個のアルケニル基、ベンジル
基、フェニル基またはハロゲン原子で置換されたフェニ
ル基を示し、R2は炭素原子数1〜5個のアルキル基、
炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数1
〜5個のアルキル基で置換された炭素原子数5〜8個の
シクロアルキル基、フェニル基、「ハロゲン原子、水酸
基、シアノ基、トリフルオロメチル基、炭素原子数1〜
5個のアルキル基、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基
、炭素原子数1〜5個のアルカノイルオキシ基、炭素原
子数2〜5個のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1
〜5個のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5個のアルキ
ルスルフィニル基、炭素原子数1〜5個のアルキルスル
ホニル基またはベンジルオキシ基から選ばれる任意の1
〜3個」で置換されたフェニル基、ベンジル基またはイ
ンダニル基を示し、R3はニトロ基、ハロゲン原子、ア
ミノ基、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基、炭素原子
数1〜5個のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5個のア
ルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5個のアルキル
スルホニル基、フェノキシ基、ハロゲン原子の1〜2個
で置換されたフェノキシ基、炭素原子数2〜5個のアル
カノイル基、式
ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜10個のアル
キル基、炭素原子数2〜5個のアルケニル基、ベンジル
基、フェニル基またはハロゲン原子で置換されたフェニ
ル基を示し、R2は炭素原子数1〜5個のアルキル基、
炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数1
〜5個のアルキル基で置換された炭素原子数5〜8個の
シクロアルキル基、フェニル基、「ハロゲン原子、水酸
基、シアノ基、トリフルオロメチル基、炭素原子数1〜
5個のアルキル基、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基
、炭素原子数1〜5個のアルカノイルオキシ基、炭素原
子数2〜5個のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1
〜5個のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5個のアルキ
ルスルフィニル基、炭素原子数1〜5個のアルキルスル
ホニル基またはベンジルオキシ基から選ばれる任意の1
〜3個」で置換されたフェニル基、ベンジル基またはイ
ンダニル基を示し、R3はニトロ基、ハロゲン原子、ア
ミノ基、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基、炭素原子
数1〜5個のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5個のア
ルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5個のアルキル
スルホニル基、フェノキシ基、ハロゲン原子の1〜2個
で置換されたフェノキシ基、炭素原子数2〜5個のアル
カノイル基、式
【0006】
【化5】
【0007】(化5中、R4およびR5は同一または異
なって水素原子または炭素原子数1〜5個のアルキル基
を示す。)で表される基または式
なって水素原子または炭素原子数1〜5個のアルキル基
を示す。)で表される基または式
【0008】
【化6】
【0009】(化6中、R6およびR7は同一または異
なって水素原子または炭素原子数1〜5個のアルキル基
を示す。)で表される基を示し、Aは酸素原子、硫黄原
子、スルフィニル基またはスルホニル基を示す。)で表
わされるスルホンアミドピリジン化合物およびその製薬
学的に許容される塩である。
なって水素原子または炭素原子数1〜5個のアルキル基
を示す。)で表される基を示し、Aは酸素原子、硫黄原
子、スルフィニル基またはスルホニル基を示す。)で表
わされるスルホンアミドピリジン化合物およびその製薬
学的に許容される塩である。
【0010】本発明において、ハロゲン原子とはフッ素
原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。ア
ルキル基とは直鎖状または分枝鎖状のアルキル基であり
、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、3−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノナリル基、デカニル基などであ
る。ハロゲン原子で置換されたアルキル基とは直鎖状ま
たは分枝鎖状のものであり、たとえばクロロメチル基、
クロロエチル基、クロロプロピル基、クロロイソプロピ
ル基、トリフルオロメチル基などである。アルケニル基
とは、たとえばビニル基、アリール基、プレニル基など
である。シクロアルキル基とは、たとえばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などである
。アルコキシ基とは直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ
基であり、たとえばメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、3−ペンチルオキシ基などである。 アルカノイル基とは、たとえばアセチル基、プロピオニ
ル基、イソプロピオニル基、ブチリル基などである。ア
ルカノイルオキシ基とは、たとえばホルミルオキシ基、
アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニ
ルオキシ基、ブチリルオキシ基などである。アルコキシ
カルボニル基とは、たとえばメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプ
ロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基などであ
る。アルキルチオ基とは、たとえばメチルチオ基、エチ
ルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチ
オ基などである。アルキルスルフィニル基とは、たとえ
ばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロ
ピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ペンチル
スルフィニル基などである。アルキルスルホニル基とは
、たとえばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチル
スルホニル基などである。ハロゲン原子の1〜2個で置
換されたフェノキシ基とは、同一または異なったハロゲ
ン原子で置換されたフェノキシ基であり、たとえば2−
フルオロフェノキシ基、2,4−ジフルオロフェノキシ
基などである。インダニル基は、そのいずれの位置で置
換されていてもよく、たとえば1−インダニル基、2−
インダニル基、5−インダニル基などである。
原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。ア
ルキル基とは直鎖状または分枝鎖状のアルキル基であり
、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、3−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノナリル基、デカニル基などであ
る。ハロゲン原子で置換されたアルキル基とは直鎖状ま
たは分枝鎖状のものであり、たとえばクロロメチル基、
クロロエチル基、クロロプロピル基、クロロイソプロピ
ル基、トリフルオロメチル基などである。アルケニル基
とは、たとえばビニル基、アリール基、プレニル基など
である。シクロアルキル基とは、たとえばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などである
。アルコキシ基とは直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ
基であり、たとえばメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基、3−ペンチルオキシ基などである。 アルカノイル基とは、たとえばアセチル基、プロピオニ
ル基、イソプロピオニル基、ブチリル基などである。ア
ルカノイルオキシ基とは、たとえばホルミルオキシ基、
アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニ
ルオキシ基、ブチリルオキシ基などである。アルコキシ
カルボニル基とは、たとえばメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプ
ロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基などであ
る。アルキルチオ基とは、たとえばメチルチオ基、エチ
ルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチ
オ基などである。アルキルスルフィニル基とは、たとえ
ばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロ
ピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ペンチル
スルフィニル基などである。アルキルスルホニル基とは
、たとえばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチル
スルホニル基などである。ハロゲン原子の1〜2個で置
換されたフェノキシ基とは、同一または異なったハロゲ
ン原子で置換されたフェノキシ基であり、たとえば2−
フルオロフェノキシ基、2,4−ジフルオロフェノキシ
基などである。インダニル基は、そのいずれの位置で置
換されていてもよく、たとえば1−インダニル基、2−
インダニル基、5−インダニル基などである。
【0011】製薬学的に許容される塩とは、リチウム塩
、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無機
塩のほか、トリエチルアミン、エタノールアミンなどの
有機アミンとの塩などである。
、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無機
塩のほか、トリエチルアミン、エタノールアミンなどの
有機アミンとの塩などである。
【0012】本発明の化4の化合物は、公知の化合物か
ら下記に示す方法によって製造することができる。 (1)Aが酸素原子または硫黄原子である化4の化合物
は、2−クロロ−3−ニトロピリジンを出発原料として
得ることができる。すなわち、2−クロロ−3−ニトロ
ピリジンに塩基存在下、式H−Y−R2(式中、R2は
前記と同意義であり、Yは酸素原子または硫黄原子であ
る。)で示される化合物を反応させることにより、下記
式
ら下記に示す方法によって製造することができる。 (1)Aが酸素原子または硫黄原子である化4の化合物
は、2−クロロ−3−ニトロピリジンを出発原料として
得ることができる。すなわち、2−クロロ−3−ニトロ
ピリジンに塩基存在下、式H−Y−R2(式中、R2は
前記と同意義であり、Yは酸素原子または硫黄原子であ
る。)で示される化合物を反応させることにより、下記
式
【0013】
【化7】
【0014】(化7中、R2およびYは前記と同意義で
ある。)で示される化合物を得ることができる。
ある。)で示される化合物を得ることができる。
【0015】本反応における塩基とは、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水素
化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素
化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金
属炭酸塩、炭酸水素ナトリム、炭酸水素カリウムなどの
アルカリ金属炭酸水素塩、金属ナトリウム、ナトリウム
アミドなどである。本反応は、無溶媒または水、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、石油エー
テル、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ピリジン、N,N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホル
ムなどの溶媒中で行うことができる。また、本反応にお
いては、ヨウ化カリウム、トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロリドなどの4級アンモニウム塩、18−クラウ
ン−6エーテルなどのクラウンエーテルなどを加えるこ
とにより反応を加速することもできる。
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水素
化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素
化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金
属炭酸塩、炭酸水素ナトリム、炭酸水素カリウムなどの
アルカリ金属炭酸水素塩、金属ナトリウム、ナトリウム
アミドなどである。本反応は、無溶媒または水、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、石油エー
テル、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ピリジン、N,N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホル
ムなどの溶媒中で行うことができる。また、本反応にお
いては、ヨウ化カリウム、トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロリドなどの4級アンモニウム塩、18−クラウ
ン−6エーテルなどのクラウンエーテルなどを加えるこ
とにより反応を加速することもできる。
【0016】次いで、化7の化合物を還元してアミノ体
とする。還元はニトロ基を還元してアミノ基とする通常
の還元方法でよく、たとえばパラジウム−炭素、ラネー
ニッケル、白金などを触媒として用いる接触還元、鉄や
錫を用いる還元、硫化ナトリウム−塩化アンモニウムを
用いる還元、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウム
アルミニウムなどを用いる還元などである。本反応に用
いる溶媒は、還元方法により任意に選択すればよいが、
一般的にはメタノール、エタノール、プロパノールなど
のアルコール、水、酢酸、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、アセトニトリルなどである。
とする。還元はニトロ基を還元してアミノ基とする通常
の還元方法でよく、たとえばパラジウム−炭素、ラネー
ニッケル、白金などを触媒として用いる接触還元、鉄や
錫を用いる還元、硫化ナトリウム−塩化アンモニウムを
用いる還元、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウム
アルミニウムなどを用いる還元などである。本反応に用
いる溶媒は、還元方法により任意に選択すればよいが、
一般的にはメタノール、エタノール、プロパノールなど
のアルコール、水、酢酸、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、アセトニトリルなどである。
【0017】引き続き、上記で得たアミノ体を式R1S
O2Xまたは(R1SO2)2O(式中、R1は前記と
同意義であり、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子ま
たはヨウ素原子である。)で示される化合物と反応させ
ることにより下記式
O2Xまたは(R1SO2)2O(式中、R1は前記と
同意義であり、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子ま
たはヨウ素原子である。)で示される化合物と反応させ
ることにより下記式
【0018】
【化8】
【0019】(化8中、R1、R2およびYは前記と同
意義である。)で示される化合物を得ることができる。 本反応は塩基存在下で行うのが好ましく、ここで用いら
れる塩基とは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどの無機塩基またはトリエチルアミン、
4−メチルモルホリン、1−メチルピペリジン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基で
ある。また、この反応は、通常ジクロロメタン、クロロ
ホルム、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
、エチルエーテル、トルエン、アセトン、アセトニトリ
ル、水、ピリジン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
意義である。)で示される化合物を得ることができる。 本反応は塩基存在下で行うのが好ましく、ここで用いら
れる塩基とは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどの無機塩基またはトリエチルアミン、
4−メチルモルホリン、1−メチルピペリジン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基で
ある。また、この反応は、通常ジクロロメタン、クロロ
ホルム、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
、エチルエーテル、トルエン、アセトン、アセトニトリ
ル、水、ピリジン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
【0020】次いで、化8の化合物を硝酸または硝酸塩
を用いてニトロ化することにより、下記式
を用いてニトロ化することにより、下記式
【0021】
【化9】
【0022】(化9中、R1、R2およびYは前記と同
意義である。)で表わされる本発明の化合物を得ること
ができる。本反応における硝酸塩とは、硝酸ナトリウム
、硝酸カリウム、硝酸鉄などである。反応は無溶媒であ
るか、または酢酸、無水酢酸、トリフルオロ酢酸、硫酸
、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、ジオキサ
ン、エタノールなどを溶媒として用いて行われる。
意義である。)で表わされる本発明の化合物を得ること
ができる。本反応における硝酸塩とは、硝酸ナトリウム
、硝酸カリウム、硝酸鉄などである。反応は無溶媒であ
るか、または酢酸、無水酢酸、トリフルオロ酢酸、硫酸
、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、ジオキサ
ン、エタノールなどを溶媒として用いて行われる。
【0023】(2)Aがスルフィニル基またはスルホニ
ル基である化4の化合物は、上記の方法で得たYが硫黄
原子である化9の化合物を、スルフィドをスルホキシド
またはスルホンに変換する通常の酸化方法(たとえば、
過酸化水素、過酢酸、m−クロロ過安息香酸、過マンガ
ン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムなどを用いる方法
)で酸化することによって得ることができる。
ル基である化4の化合物は、上記の方法で得たYが硫黄
原子である化9の化合物を、スルフィドをスルホキシド
またはスルホンに変換する通常の酸化方法(たとえば、
過酸化水素、過酢酸、m−クロロ過安息香酸、過マンガ
ン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムなどを用いる方法
)で酸化することによって得ることができる。
【0024】(3)R2が低級アルキルスルフィニル基
で置換されたフェニル基である化4の化合物は、R2が
低級アルキルチオ基で置換されたフェニル基である化4
の化合物を上記(2)の方法で酸化しても得ることがで
きる。また、R2が低級アルキルスルホニル基で置換さ
れたフェニル基である化4の化合物は、R2が低級アル
キルチオ基または低級アルキルスルフィニル基で置換さ
れたフェニル基である化4の化合物を同様に酸化しても
得ることができる。
で置換されたフェニル基である化4の化合物は、R2が
低級アルキルチオ基で置換されたフェニル基である化4
の化合物を上記(2)の方法で酸化しても得ることがで
きる。また、R2が低級アルキルスルホニル基で置換さ
れたフェニル基である化4の化合物は、R2が低級アル
キルチオ基または低級アルキルスルフィニル基で置換さ
れたフェニル基である化4の化合物を同様に酸化しても
得ることができる。
【0025】(4)R2が水酸基で置換されたフェニル
基である化4の化合物は、R2が低級アルカノイルオキ
シ基で置換されたフェニル基である化4の化合物を加水
分解しても得ることができる。本反応における加水分解
とは、塩基性条件または酸性条件における通常の方法、
たとえば塩基性条件では水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなどを用いる方法、酸性条件では塩酸、硫酸などを
用いる方法である。ここで用いられる溶媒は任意に選択
されるが、一般的には水、メタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、
蟻酸、酢酸などである。
基である化4の化合物は、R2が低級アルカノイルオキ
シ基で置換されたフェニル基である化4の化合物を加水
分解しても得ることができる。本反応における加水分解
とは、塩基性条件または酸性条件における通常の方法、
たとえば塩基性条件では水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなどを用いる方法、酸性条件では塩酸、硫酸などを
用いる方法である。ここで用いられる溶媒は任意に選択
されるが、一般的には水、メタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、
蟻酸、酢酸などである。
【0026】(5)R3がハロゲン原子である化4の化
合物は、2,6−ジハロゲノ−3−ニトロピリジンを塩
基存在下、式H−Y−R2(式中、R2およびYは前記
と同意義である。)で示される化合物を反応させること
により、下記式
合物は、2,6−ジハロゲノ−3−ニトロピリジンを塩
基存在下、式H−Y−R2(式中、R2およびYは前記
と同意義である。)で示される化合物を反応させること
により、下記式
【0027】
【化10】
【0028】(化10中、R2およびYは前記と同意義
であり、R8はR3で定義されたハロゲン原子である。 )で示される化合物を得、以下前記(1)と同様にニト
ロ基の還元、スルホニル化を行い得ることができる。
であり、R8はR3で定義されたハロゲン原子である。 )で示される化合物を得、以下前記(1)と同様にニト
ロ基の還元、スルホニル化を行い得ることができる。
【0029】(6)また、上記(5)で得られたR3が
ハロゲン原子である化4の化合物に式R9−H[式中、
R9は、R3で定義された炭素原子数1〜5個のアルコ
キシ基、炭素原子数1〜5個のアルキルチオ基、フェノ
キシ基、ハロゲン原子の1〜2個で置換されたフェノキ
シ基または式
ハロゲン原子である化4の化合物に式R9−H[式中、
R9は、R3で定義された炭素原子数1〜5個のアルコ
キシ基、炭素原子数1〜5個のアルキルチオ基、フェノ
キシ基、ハロゲン原子の1〜2個で置換されたフェノキ
シ基または式
【0030】
【化11】
【0031】(化11中、R4およびR5は前記と同意
義である。)で表される基を示す。]で表される化合物
またはその塩(リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩
など)を塩基存在下または不存在下に反応させることに
より、下記式
義である。)で表される基を示す。]で表される化合物
またはその塩(リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩
など)を塩基存在下または不存在下に反応させることに
より、下記式
【0032】
【化12】
【0033】(化12中、R2、R9およびYは前記と
同意義である。)で表される化合物を得、以下前記(1
)と同様にニトロ基の還元、スルホニル化を行い、R3
がR9で定義された基である本発明化合物を得ることが
できる。
同意義である。)で表される化合物を得、以下前記(1
)と同様にニトロ基の還元、スルホニル化を行い、R3
がR9で定義された基である本発明化合物を得ることが
できる。
【0034】(7)化10の化合物に式R10−CH2
−NO2(R10は炭素原子数1〜4個のアルキル基を
示す。)で表される化合物を塩基(1,8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザ
ビシクロ[4,3,0]−5−ノネン、リチウムジイソ
プロピルアミドなど)の存在下反応させたのち、過酸化
水素および塩基(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムな
ど)の存在下、酸化的加水分解して式
−NO2(R10は炭素原子数1〜4個のアルキル基を
示す。)で表される化合物を塩基(1,8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザ
ビシクロ[4,3,0]−5−ノネン、リチウムジイソ
プロピルアミドなど)の存在下反応させたのち、過酸化
水素および塩基(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムな
ど)の存在下、酸化的加水分解して式
【0035】
【化13】
【0036】(化13中、R2、R10およびYは前記
と同意義である。)で表される化合物を得、以下前記(
1)と同様にニトロ基の還元、スルホニル化を行い、R
3が炭素原子数2〜5個のアルカノイル基である本発明
化合物を得ることができる。
と同意義である。)で表される化合物を得、以下前記(
1)と同様にニトロ基の還元、スルホニル化を行い、R
3が炭素原子数2〜5個のアルカノイル基である本発明
化合物を得ることができる。
【0037】(8)R3が炭素原子数1〜5個のアルキ
ルスルフィニル基または炭素原子数1〜5個のアルキル
スルホニル基である化4の化合物は、R3が炭素原子数
1〜5個のアルキルチオ基である化4の化合物を前記(
2)と同様に酸化して得ることができる。
ルスルフィニル基または炭素原子数1〜5個のアルキル
スルホニル基である化4の化合物は、R3が炭素原子数
1〜5個のアルキルチオ基である化4の化合物を前記(
2)と同様に酸化して得ることができる。
【0038】(9)R3式
【0039】
【化14】
【0040】(化14中、R6およびR7は前記と同意
義である。)で表される基である化4の化合物は、前記
(6)で得たR3が式
義である。)で表される基である化4の化合物は、前記
(6)で得たR3が式
【0041】
【化15】
【0042】(化15中、R4およびR5は前記と同意
義である。)で表される基である化4の化合物を、非プ
ロトン性極性溶媒(たとえば、ジメチルスルホキシド、
N,N−ジメチルホルムアミドなど)と水を用い、無機
塩(たとえば、塩化ナトリウム、塩化リチウム、塩化マ
グネシウム、臭化ナトリウム、臭化リチウム、臭化マグ
ネシウムなど)の存在下、脱アルコキシカルボニル化す
ることにより得ることができる。さらに、場合により上
記の生成物を加水分解して目的物を得ることができる。
義である。)で表される基である化4の化合物を、非プ
ロトン性極性溶媒(たとえば、ジメチルスルホキシド、
N,N−ジメチルホルムアミドなど)と水を用い、無機
塩(たとえば、塩化ナトリウム、塩化リチウム、塩化マ
グネシウム、臭化ナトリウム、臭化リチウム、臭化マグ
ネシウムなど)の存在下、脱アルコキシカルボニル化す
ることにより得ることができる。さらに、場合により上
記の生成物を加水分解して目的物を得ることができる。
【0043】(10)R3がアミノ基である化4の化合
物は、化9の化合物を前記(1)におけるニトロ基の還
元と同条件で還元することにより得ることができる。
物は、化9の化合物を前記(1)におけるニトロ基の還
元と同条件で還元することにより得ることができる。
【0044】(11)化4の化合物の製薬学的に許容さ
れる塩は、化4の化合物を水または有機溶媒中、塩基で
処理することにより得ることができる。ここで塩基とは
、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
などのアルカリ金属水酸化物、ナトリウムエトキシド、
カリウム−t−ブトキシドなどのアルコラート、トリエ
チルアミン、エタノールアミンなどの有機アミンである
。
れる塩は、化4の化合物を水または有機溶媒中、塩基で
処理することにより得ることができる。ここで塩基とは
、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
などのアルカリ金属水酸化物、ナトリウムエトキシド、
カリウム−t−ブトキシドなどのアルコラート、トリエ
チルアミン、エタノールアミンなどの有機アミンである
。
【0045】
【発明の効果】本発明の化合物は、消炎、解熱、鎮痛、
抗アレルギー作用などを示し、消化管障害などの副作用
が少ないため消炎剤、解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤
として有用である。この目的のために、この化合物は経
口または非経口的に慣用の投与剤型で投与することがで
きる。これらは、たとえば錠剤、粉剤、顆粒剤、散剤、
カプセル剤、液剤、乳剤、懸濁剤、注射剤などであり、
いずれも通常の製剤技術で製造することができる。人に
対して消炎剤、解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として
用いる場合、その投与量は年齢、体重、症状、投与経路
、投与回数などによって異なるが、通常1日当り20〜
1000mgである。
抗アレルギー作用などを示し、消化管障害などの副作用
が少ないため消炎剤、解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤
として有用である。この目的のために、この化合物は経
口または非経口的に慣用の投与剤型で投与することがで
きる。これらは、たとえば錠剤、粉剤、顆粒剤、散剤、
カプセル剤、液剤、乳剤、懸濁剤、注射剤などであり、
いずれも通常の製剤技術で製造することができる。人に
対して消炎剤、解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として
用いる場合、その投与量は年齢、体重、症状、投与経路
、投与回数などによって異なるが、通常1日当り20〜
1000mgである。
【0046】以下、試験例を挙げる。
試験例[カラゲニンを用いる浮腫抑制試験]カラゲニン
を用いるウィンターらの方法[Journal of
Pharmacology and Expe
rimental Therapeutics,第1
41巻,第368頁(1963年)]に準拠して行った
。ウィスター系雄性ラット(1群6匹)に、本発明化合
物を5%アラビアゴム水溶液に懸濁した液を体重100
g当り1mlの投与容量でカラゲニン投与の1時間前に
経口投与し、イブプロフェンを対照薬としてその浮腫抑
制のED30値を求めて抗炎症作用を調べた。その結果
を表1に示した。
を用いるウィンターらの方法[Journal of
Pharmacology and Expe
rimental Therapeutics,第1
41巻,第368頁(1963年)]に準拠して行った
。ウィスター系雄性ラット(1群6匹)に、本発明化合
物を5%アラビアゴム水溶液に懸濁した液を体重100
g当り1mlの投与容量でカラゲニン投与の1時間前に
経口投与し、イブプロフェンを対照薬としてその浮腫抑
制のED30値を求めて抗炎症作用を調べた。その結果
を表1に示した。
【0047】
【表1】
【0048】(注)
a:N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3
−ピリジル)メタンスルホンアミド
−ピリジル)メタンスルホンアミド
【0049】
【実施例】次に、実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明
する。 実施例1 (1)粉末化した水酸化ナトリウム31.5gおよびシ
クロヘキサノール23.7gを含むトルエン250ml
懸濁液に、氷冷下2−クロロ−3−ニトロピリジン25
.0gを15分間かけて加え、室温で19時間撹拌した
。反応液に水を加え、トルエンで抽出し、トルエン層を
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチル=20
:1)で精製し、淡黄色油状の2−シクロヘキシルオキ
シ−3−ニトロピリジン28.6gを得た。
する。 実施例1 (1)粉末化した水酸化ナトリウム31.5gおよびシ
クロヘキサノール23.7gを含むトルエン250ml
懸濁液に、氷冷下2−クロロ−3−ニトロピリジン25
.0gを15分間かけて加え、室温で19時間撹拌した
。反応液に水を加え、トルエンで抽出し、トルエン層を
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチル=20
:1)で精製し、淡黄色油状の2−シクロヘキシルオキ
シ−3−ニトロピリジン28.6gを得た。
【0050】NMR(CDCl3)δ(ppm);0.
69〜2.16(10H,m) 5.32(1H,m) 6.97(1H,dd,J=4,7Hz)8.21(1
H,dd,J=1,7Hz)8.35(1H,dd,J
=1,4Hz)
69〜2.16(10H,m) 5.32(1H,m) 6.97(1H,dd,J=4,7Hz)8.21(1
H,dd,J=1,7Hz)8.35(1H,dd,J
=1,4Hz)
【0051】(2)2−シクロヘキシル
オキシ−3−ニトロピリジン27.0gおよび5%パラ
ジウム−炭素1.4gを含むエタノール122ml懸濁
液を水素雰囲気下、室温で撹拌し、接触還元した。パラ
ジウム−炭素を▲ろ▼去後、▲ろ▼液を濃縮して無色針
状晶の3−アミノ−2−シクロヘキシルオキシピリジン
22.6gを得た。 m.p.67〜69℃
オキシ−3−ニトロピリジン27.0gおよび5%パラ
ジウム−炭素1.4gを含むエタノール122ml懸濁
液を水素雰囲気下、室温で撹拌し、接触還元した。パラ
ジウム−炭素を▲ろ▼去後、▲ろ▼液を濃縮して無色針
状晶の3−アミノ−2−シクロヘキシルオキシピリジン
22.6gを得た。 m.p.67〜69℃
【0052】(3)3−アミノ−2−シクロヘキシルオ
キシピリジン16.8gを含むピリジン88ml溶液に
、氷冷下メタンスルホニルクロリド11.0gを9分間
かけて加え、同温度で15分間撹拌後、さらに室温で1
時間撹拌した。反応液に撹拌しながら水を加え、析出し
た結晶を▲ろ▼取し、水で洗浄した。得られた粗結晶を
エタノール−n−ヘキサンで再結晶して無色プリズム晶
のN−(2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メ
タンスルホンアミド19.9gを得た。 m.p.100〜102℃
キシピリジン16.8gを含むピリジン88ml溶液に
、氷冷下メタンスルホニルクロリド11.0gを9分間
かけて加え、同温度で15分間撹拌後、さらに室温で1
時間撹拌した。反応液に撹拌しながら水を加え、析出し
た結晶を▲ろ▼取し、水で洗浄した。得られた粗結晶を
エタノール−n−ヘキサンで再結晶して無色プリズム晶
のN−(2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メ
タンスルホンアミド19.9gを得た。 m.p.100〜102℃
【0053】(4)N−(2−シクロヘキシルオキシ−
3−ピリジル)メタンスルホンアミド19.5gを含む
酢酸72ml溶液に、95℃に加熱下60%硝酸8.0
gを2時間かけて加え、さらに同温度で1時間撹拌した
。反応液を室温に戻し、撹拌しながら水を加え、析出し
た結晶を▲ろ▼取し、水で洗浄した。得られた粗結晶を
ジクロロメタンに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去後、エタノールで再結晶して淡黄色プリズム晶のN
−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピリ
ジル)メタンスルホンアミド12.3gを得た。 m.p.155〜156℃
3−ピリジル)メタンスルホンアミド19.5gを含む
酢酸72ml溶液に、95℃に加熱下60%硝酸8.0
gを2時間かけて加え、さらに同温度で1時間撹拌した
。反応液を室温に戻し、撹拌しながら水を加え、析出し
た結晶を▲ろ▼取し、水で洗浄した。得られた粗結晶を
ジクロロメタンに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去後、エタノールで再結晶して淡黄色プリズム晶のN
−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピリ
ジル)メタンスルホンアミド12.3gを得た。 m.p.155〜156℃
【0054】実施例1と同様にして、下記に示される化
合物を得た。 N−(2−シクロペンチルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド m.p.150.5〜152℃ N−(2−シクロヘプチルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド m.p.106〜109℃
合物を得た。 N−(2−シクロペンチルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド m.p.150.5〜152℃ N−(2−シクロヘプチルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド m.p.106〜109℃
【0055】N−[2−(トランス−2−メチルシクロ
ヘキシルオキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタン
スルホンアミド m.p.125〜126℃ N−[2−(3−ペンチルオキシ)−6−ニトロ−3−
ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.130〜131℃
ヘキシルオキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタン
スルホンアミド m.p.125〜126℃ N−[2−(3−ペンチルオキシ)−6−ニトロ−3−
ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.130〜131℃
【0056】実施例2
(1)2−クロロ−3−ニトロピリジン2.0g、4−
フルオロフェノール1.4gおよび炭酸カリウム3.8
gを含むテトラヒドロフラン13ml懸濁液を6時間還
流した。反応液を室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層を水、10%炭酸ナトリウム水
溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して得られた粗結晶をジクロロ
メタン−n−ヘキサンで再結晶し、淡黄色針状晶の2−
(4−フルオロフェノキシ)−3−ニトロピリジン2.
3gを得た。 m.p.98〜99℃
フルオロフェノール1.4gおよび炭酸カリウム3.8
gを含むテトラヒドロフラン13ml懸濁液を6時間還
流した。反応液を室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層を水、10%炭酸ナトリウム水
溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して得られた粗結晶をジクロロ
メタン−n−ヘキサンで再結晶し、淡黄色針状晶の2−
(4−フルオロフェノキシ)−3−ニトロピリジン2.
3gを得た。 m.p.98〜99℃
【0057】(2)2−(4−フルオロフェノキシ)−
3−ニトロピリジンを実施例1(2)〜(4)と同様に
反応させて、N−[2−(4−フルオロフェノキシ)−
6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドを得
た。 m.p.145〜146℃
3−ニトロピリジンを実施例1(2)〜(4)と同様に
反応させて、N−[2−(4−フルオロフェノキシ)−
6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドを得
た。 m.p.145〜146℃
【0058】実施例2と同様にして、下記の化合物を得
た。 N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)メ
タンスルホンアミドm.p.163〜164℃N−[2
−(4−クロロフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジ
ル]メタンスルホンアミド m.p.152〜153℃ N−[2−(4−ブロモフェノキシ)−6−ニトロ−3
−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.186.5〜187.5℃
た。 N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)メ
タンスルホンアミドm.p.163〜164℃N−[2
−(4−クロロフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジ
ル]メタンスルホンアミド m.p.152〜153℃ N−[2−(4−ブロモフェノキシ)−6−ニトロ−3
−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.186.5〜187.5℃
【0059】N−[2−(2−フルオロフェノキシ)−
6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.
p.158〜159℃ N−[2−(3−フルオロフェノキシ)−6−ニトロ−
3−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.154.5〜156.6.℃ N−[2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−6−ニ
トロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p.1
56〜157℃
6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.
p.158〜159℃ N−[2−(3−フルオロフェノキシ)−6−ニトロ−
3−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.154.5〜156.6.℃ N−[2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−6−ニ
トロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p.1
56〜157℃
【0060】N−[2−(2,3−ジフルオロフェノキ
シ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミ
ド m.p.149〜150℃ N−[2−(3,4−ジクロロフェノキシ)−6−ニト
ロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p.15
3.5〜154.5℃ N−[6−ニトロ−3−ピリジル−2−(2,4,5−
トリクロロフェノキシ)]メタンスルホンアミドm.p
.181〜182℃
シ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミ
ド m.p.149〜150℃ N−[2−(3,4−ジクロロフェノキシ)−6−ニト
ロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p.15
3.5〜154.5℃ N−[6−ニトロ−3−ピリジル−2−(2,4,5−
トリクロロフェノキシ)]メタンスルホンアミドm.p
.181〜182℃
【0061】N−[2−(4−メチルフェノキシ)−6
−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p
.158〜160.5℃ N−[6−ニトロ−3−ピリジル−2−(4−トリフル
オロメチルフェノキシ)]メタンスルホンアミドm.p
.182.5〜183.5℃ N−[2−(4−メトキシフェノキシ)−6−ニトロ−
3−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.132〜133℃
−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p
.158〜160.5℃ N−[6−ニトロ−3−ピリジル−2−(4−トリフル
オロメチルフェノキシ)]メタンスルホンアミドm.p
.182.5〜183.5℃ N−[2−(4−メトキシフェノキシ)−6−ニトロ−
3−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.132〜133℃
【0062】N−[2−(4−アセトキシフェノキシ)
−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm
.p.209〜211℃ N−[2−(4−エトキシカルボニルフェノキシ)−6
−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p
.178〜180℃ N−[2−(4−シアノフェノキシ)−6−ニトロ−3
−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.214〜215℃ N−[2−(5−インダニルオキシ)−6−ニトロ−3
−ピリジル]メタンスルホンアミド・1/2エタノール
m.p.97〜98℃
−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm
.p.209〜211℃ N−[2−(4−エトキシカルボニルフェノキシ)−6
−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm.p
.178〜180℃ N−[2−(4−シアノフェノキシ)−6−ニトロ−3
−ピリジル]メタンスルホンアミド m.p.214〜215℃ N−[2−(5−インダニルオキシ)−6−ニトロ−3
−ピリジル]メタンスルホンアミド・1/2エタノール
m.p.97〜98℃
【0063】実施例3
(1)4−ベンジルオキシフェノールより実施例2(1
)と同様にして得た2−(4−ベンジルオキシフェノキ
シ)−3−ニトロピリジン5.0g鉄粉3.9g、塩化
アンモニウム0.3gおよび水4.7mlの混合物を8
0〜85℃に加熱下1時間撹拌後、室温に戻し、酢酸エ
チルを加え、不溶物を▲ろ▼去した。▲ろ▼液を水、飽
和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を留去して油状物質の3−アミノ−2−(4−ベ
ンジルオキシフェノキシ)ピリジン4.5gを得た。
)と同様にして得た2−(4−ベンジルオキシフェノキ
シ)−3−ニトロピリジン5.0g鉄粉3.9g、塩化
アンモニウム0.3gおよび水4.7mlの混合物を8
0〜85℃に加熱下1時間撹拌後、室温に戻し、酢酸エ
チルを加え、不溶物を▲ろ▼去した。▲ろ▼液を水、飽
和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を留去して油状物質の3−アミノ−2−(4−ベ
ンジルオキシフェノキシ)ピリジン4.5gを得た。
【0064】NMR(CDCl3)δ(ppm);3.
80(2H,br) 5.05(2H,s) 6.80(1H,dd,J=4,7Hz)6.96〜7
.10(4H,m) 7.02(1H,dd,J=1,7Hz)7.26〜7
.50(5H,m) 7.55(1H,dd,J=1,4Hz)
80(2H,br) 5.05(2H,s) 6.80(1H,dd,J=4,7Hz)6.96〜7
.10(4H,m) 7.02(1H,dd,J=1,7Hz)7.26〜7
.50(5H,m) 7.55(1H,dd,J=1,4Hz)
【0065】
(2)実施例3(1)で得た3−アミノ−2−(4−ベ
ンジルオキシフェノキシ)ビリジンを実施例1(3)〜
(4)と同様に反応させてN−[2−(4−ベンジルオ
キシフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタン
スルホンアミドを得た。 m.p.166〜167℃
(2)実施例3(1)で得た3−アミノ−2−(4−ベ
ンジルオキシフェノキシ)ビリジンを実施例1(3)〜
(4)と同様に反応させてN−[2−(4−ベンジルオ
キシフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタン
スルホンアミドを得た。 m.p.166〜167℃
【0066】実施例3と同様にして、下記の化合物を得
た。 N−(2−ベンジルオキシ−6−ニトロ−3−ピリジル
)メタンスホンアミド m.p.152〜154℃ N−(2−シクロヘキシルチオ−6−ニトロ−3−ピリ
ジル)メタンスホンアミド m.p.141〜142.5℃ N−(6−ニトロ−2−フェニルチオ−3−ピリジル)
メタンスホンアミド m.p.126〜127℃
た。 N−(2−ベンジルオキシ−6−ニトロ−3−ピリジル
)メタンスホンアミド m.p.152〜154℃ N−(2−シクロヘキシルチオ−6−ニトロ−3−ピリ
ジル)メタンスホンアミド m.p.141〜142.5℃ N−(6−ニトロ−2−フェニルチオ−3−ピリジル)
メタンスホンアミド m.p.126〜127℃
【0067】実施例4
4−(メチルチオ)フェノールを実施例2(1)、実施
例3(1)、次いで実施例1(3)と同様に反応させて
得たN−[2−(4−メチルチオフェノキシ)−3−ピ
リジル]メタンスルホンアミド1.0gおよ無水酢酸0
.49gを含むクロロホルム6ml溶液に、室温下60
%硝酸0.44gを加え、1.5時間撹拌した。反応液
に水を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム層を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、
エタノールで再結晶し、黄色針状晶のN−[2−(4−
メチルチオフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]
メタンスホンアミド0.35gを得た。 m.p.150〜151℃
例3(1)、次いで実施例1(3)と同様に反応させて
得たN−[2−(4−メチルチオフェノキシ)−3−ピ
リジル]メタンスルホンアミド1.0gおよ無水酢酸0
.49gを含むクロロホルム6ml溶液に、室温下60
%硝酸0.44gを加え、1.5時間撹拌した。反応液
に水を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム層を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、
エタノールで再結晶し、黄色針状晶のN−[2−(4−
メチルチオフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]
メタンスホンアミド0.35gを得た。 m.p.150〜151℃
【0068】実施例5
実施例3の方法で得たN−(6−ニトロ−2−フェニル
チオ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.20g
を含むN,N−ジメチルホルムアミド0.7ml溶液に
、氷冷下m−クロロ過安息香酸0.13gを加え、1時
間撹拌した。反応液に水を加え、沈殿物を▲ろ▼取し、
得られた粗結晶を酢酸エチルで再結晶し、淡黄色針状晶
のN−(6−ニトロ−2−フェニルスルフィニル−3−
ピリジル)メタンスルホンアミド0.18gを得た。 m.p.205〜207℃
チオ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.20g
を含むN,N−ジメチルホルムアミド0.7ml溶液に
、氷冷下m−クロロ過安息香酸0.13gを加え、1時
間撹拌した。反応液に水を加え、沈殿物を▲ろ▼取し、
得られた粗結晶を酢酸エチルで再結晶し、淡黄色針状晶
のN−(6−ニトロ−2−フェニルスルフィニル−3−
ピリジル)メタンスルホンアミド0.18gを得た。 m.p.205〜207℃
【0069】実施例4で得たN−[2−(4−メチルチ
オフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンス
ルホンアミドを実施例5と同様に反応させて、N−[2
−(4−メチルスルフィニルフェノキシ)−6−ニトロ
−3−ピリジル]メタンスルホンアミドを得た。 m.p.210〜212℃
オフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンス
ルホンアミドを実施例5と同様に反応させて、N−[2
−(4−メチルスルフィニルフェノキシ)−6−ニトロ
−3−ピリジル]メタンスルホンアミドを得た。 m.p.210〜212℃
【0070】実施例6
実施例5の方法で得たN−[2−(4−メチルスルフィ
ニルフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタン
スルホンアミド0.12gを含むN,N−ジメチルホル
ムアミド3.2ml溶液に、室温でm−クロロ過安息香
酸0.07gを加え、1時間撹拌した。反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
に洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去後、粗結晶をエタノールで再結晶して淡黄色結晶のN
−[2−(4−メチルスルホニルフェノキシ)−6−ニ
トロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミド0.04g
を得た。 m.p.248〜253℃
ニルフェノキシ)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタン
スルホンアミド0.12gを含むN,N−ジメチルホル
ムアミド3.2ml溶液に、室温でm−クロロ過安息香
酸0.07gを加え、1時間撹拌した。反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順
に洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去後、粗結晶をエタノールで再結晶して淡黄色結晶のN
−[2−(4−メチルスルホニルフェノキシ)−6−ニ
トロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミド0.04g
を得た。 m.p.248〜253℃
【0071】実施例7
実施例3の方法で得たN−(2−シクロヘキシルチオ−
6−ニトロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.
25gを含むN,N−ジメチルホルムアミド1.5ml
溶液に、室温でm−クロロ過安息香酸0.78gを加え
、2時間撹拌した。反応液に水を加え、析出物を▲ろ▼
取し、得られた析出物をエタノールで再結晶して淡黄色
針状晶のN−(2−シクロヘキシルスルホニル−6−ニ
トロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.25g
を得た。 m.p.194〜195℃
6−ニトロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.
25gを含むN,N−ジメチルホルムアミド1.5ml
溶液に、室温でm−クロロ過安息香酸0.78gを加え
、2時間撹拌した。反応液に水を加え、析出物を▲ろ▼
取し、得られた析出物をエタノールで再結晶して淡黄色
針状晶のN−(2−シクロヘキシルスルホニル−6−ニ
トロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.25g
を得た。 m.p.194〜195℃
【0072】実施例8
実施例2で得たN−[2−(4−アセトキシフェノキシ
)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミド
0.25gを含むアセトン2.8ml溶液に3規定塩酸
0.6mlを加え、2時間撹拌した。反応液に水を加え
、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順
に洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去後、粗結晶をエタノール−n−ヘキサンで再結晶して
黄色板状晶のN−[2−(4−ヒドロキシフェノキシ)
−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミド0
.19gを得た。 m.p.212〜214℃
)−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミド
0.25gを含むアセトン2.8ml溶液に3規定塩酸
0.6mlを加え、2時間撹拌した。反応液に水を加え
、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順
に洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去後、粗結晶をエタノール−n−ヘキサンで再結晶して
黄色板状晶のN−[2−(4−ヒドロキシフェノキシ)
−6−ニトロ−3−ピリジル]メタンスルホンアミド0
.19gを得た。 m.p.212〜214℃
【0073】実施例9
(1)実施例1(1)〜(2)で得た3−アミノ−2−
シクロヘキシルオキシピリジン0.70gを含むピリジ
ン3.8ml溶液に、氷冷下ベンゼンスルホニルクロリ
ド0.73gを加え、同温度で10分間、さらに室温で
30分間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽
出し、水、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた粗結晶をクロ
ロホルム−n−ヘキサンで再結晶して無色プリズム晶の
N−(2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)ベン
ゼンスルホンアミド0.99gを得た。 m.p.110〜111℃
シクロヘキシルオキシピリジン0.70gを含むピリジ
ン3.8ml溶液に、氷冷下ベンゼンスルホニルクロリ
ド0.73gを加え、同温度で10分間、さらに室温で
30分間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽
出し、水、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られた粗結晶をクロ
ロホルム−n−ヘキサンで再結晶して無色プリズム晶の
N−(2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)ベン
ゼンスルホンアミド0.99gを得た。 m.p.110〜111℃
【0074】(2)N−(2−シクロヘキシルオキシ−
3−ピリジル)ベンゼンスルホンアミドを実施例1(4
)と同様に反応させて、N−(2−シクロヘキシルオキ
シ−6−ニトロ−3−ピリジル)ベンゼンスルホンアミ
ドを得た。 m.p.102〜103℃
3−ピリジル)ベンゼンスルホンアミドを実施例1(4
)と同様に反応させて、N−(2−シクロヘキシルオキ
シ−6−ニトロ−3−ピリジル)ベンゼンスルホンアミ
ドを得た。 m.p.102〜103℃
【0075】実施例9と同様にして、ベンゼンスルホニ
ルクロリドの代わりにエタンスルホニルクロリド、イソ
プロピルスルホニルクロリド、クロロメタンスルホニル
クロリド、2−クロロエタンスルホニルクロリド、3−
クロロプロパンスルホニルクロリド、オクタンスルホニ
ルクロリド、ベンジルスルホニルクロリドを用い下記に
示されるそれぞれの化合物を得た。
ルクロリドの代わりにエタンスルホニルクロリド、イソ
プロピルスルホニルクロリド、クロロメタンスルホニル
クロリド、2−クロロエタンスルホニルクロリド、3−
クロロプロパンスルホニルクロリド、オクタンスルホニ
ルクロリド、ベンジルスルホニルクロリドを用い下記に
示されるそれぞれの化合物を得た。
【0076】N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニ
トロ−3−ピリジル)エタンスルホンアミドm.p.1
08〜110℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)イソプロピルスルホンアミド m.p.155.5〜156.5℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)クロロメタンスルホンアミド m.p.98〜99℃
トロ−3−ピリジル)エタンスルホンアミドm.p.1
08〜110℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)イソプロピルスルホンアミド m.p.155.5〜156.5℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)クロロメタンスルホンアミド m.p.98〜99℃
【0077】N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニ
トロ−3−ピリジル)ビニルスルホンアミドm.p.8
3〜84℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)−3−クロロプロパンスルホンアミドm.p.
106〜107℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)オクタンスルホンアミド m.p.49〜50℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)ベンジルスルホンアミド m.p.107〜108℃
トロ−3−ピリジル)ビニルスルホンアミドm.p.8
3〜84℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)−3−クロロプロパンスルホンアミドm.p.
106〜107℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)オクタンスルホンアミド m.p.49〜50℃ N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピ
リジル)ベンジルスルホンアミド m.p.107〜108℃
【0078】実施例10
実施例2(1)、次いで実施例1(2)の方法で得た3
−アミノ−2−フェノキシピリジンとベンゼンスルホニ
ルクロリド、4−クロロベンゼンスルホニルクロリド、
無水トリフルオロメタンスルホン酸またはイソプロピル
スルホニルクロリドを実施例9と同様に反応させて、下
記に示されるそれぞれの化合物を得た。
−アミノ−2−フェノキシピリジンとベンゼンスルホニ
ルクロリド、4−クロロベンゼンスルホニルクロリド、
無水トリフルオロメタンスルホン酸またはイソプロピル
スルホニルクロリドを実施例9と同様に反応させて、下
記に示されるそれぞれの化合物を得た。
【0079】N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−
ピリジル)ベンゼンスルホンアミド m.p.96〜97℃ N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)−
4−クロロベンゼンスルホンアミド m.p.199〜200℃ N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)ト
リフルオロメタンスルホンアミド m.p.148〜149℃ N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)イ
ソプロピルスルホンアミド m.p.188〜189℃
ピリジル)ベンゼンスルホンアミド m.p.96〜97℃ N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)−
4−クロロベンゼンスルホンアミド m.p.199〜200℃ N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)ト
リフルオロメタンスルホンアミド m.p.148〜149℃ N−(6−ニトロ−2−フェノキシ−3−ピリジル)イ
ソプロピルスルホンアミド m.p.188〜189℃
【0080】実施例11
実施例1で得たN−(2−シクロヘキシルオキシ−6−
ニトロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.30
gを含むテトラヒドロフラン−メタノール(3:1)溶
液4mlに、室温下金属ナトリウム0.07gを加え、
30分間撹拌後、減圧下濃縮して得られた結晶にエーテ
ル15mlを加え、12時間撹拌した。結晶を▲ろ▼取
し、エーテル洗浄後、減圧下乾燥して黄褐色結晶のN−
(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピリジ
ル)メタンスルホンアミドのナトリウム塩0.29gを
得た。 m.p.119〜120℃
ニトロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.30
gを含むテトラヒドロフラン−メタノール(3:1)溶
液4mlに、室温下金属ナトリウム0.07gを加え、
30分間撹拌後、減圧下濃縮して得られた結晶にエーテ
ル15mlを加え、12時間撹拌した。結晶を▲ろ▼取
し、エーテル洗浄後、減圧下乾燥して黄褐色結晶のN−
(2−シクロヘキシルオキシ−6−ニトロ−3−ピリジ
ル)メタンスルホンアミドのナトリウム塩0.29gを
得た。 m.p.119〜120℃
【0081】実施例12
2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジンを用い、実施例
1(1)〜(3)と同様に反応させてN−(6−クロロ
−2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メタンス
ルホンアミドを得た。 m.p.145.5〜146.5℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
1(1)〜(3)と同様に反応させてN−(6−クロロ
−2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メタンス
ルホンアミドを得た。 m.p.145.5〜146.5℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
【0082】
実施例13 2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジンを用い、実施例
2(1)、次いで実施例1(2)および(3)と同様に
反応させてN−(6−クロロ−2−フェノキシ−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド・1/4水和物を得た。 m.p.132.5〜134.5℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
実施例13 2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジンを用い、実施例
2(1)、次いで実施例1(2)および(3)と同様に
反応させてN−(6−クロロ−2−フェノキシ−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド・1/4水和物を得た。 m.p.132.5〜134.5℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
【0083】
実施例14 実施例12の第1工程で得られる6−クロロ−2−シク
ロヘキシルオキシ−3−ニトロピリジン1.5gおよび
ナトリウムメトキシド0.47gのメタノール10ml
溶液を3時間還流後、室温に戻し、水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て淡黄色油状の2−シクロヘキシルオキシ−6−メトキ
シ−3−ニトロピリジン1.0gを得た。
実施例14 実施例12の第1工程で得られる6−クロロ−2−シク
ロヘキシルオキシ−3−ニトロピリジン1.5gおよび
ナトリウムメトキシド0.47gのメタノール10ml
溶液を3時間還流後、室温に戻し、水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て淡黄色油状の2−シクロヘキシルオキシ−6−メトキ
シ−3−ニトロピリジン1.0gを得た。
【0084】NMR(CDCl3)δ(ppm);1.
32〜2.02(10H,m) 3.97(3H,s) 5.28(1H,m) 6.32(1H,d,J=8Hz) 8.30(1H,d,J=8Hz)
32〜2.02(10H,m) 3.97(3H,s) 5.28(1H,m) 6.32(1H,d,J=8Hz) 8.30(1H,d,J=8Hz)
【0085】(2)2−シクロヘキシルオキシ−6−メ
トキシ−3−ニトロピリジンを実施例1(2)および(
3)と同様に反応させてN−(2−シクロヘキシルオキ
シ−6−メトキシ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ドを得た。 m.p.64〜66℃ (エタノールより再結晶)
トキシ−3−ニトロピリジンを実施例1(2)および(
3)と同様に反応させてN−(2−シクロヘキシルオキ
シ−6−メトキシ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ドを得た。 m.p.64〜66℃ (エタノールより再結晶)
【0086】実施例15
(1)実施例12の第1工程で得られる6−クロロ−2
−シクロヘキシルオキシ−3−ニトロピリジン2.0g
のテトラヒドロフラン10ml溶液に15%メチルメル
カプタン水溶液5.2ml溶液を加え、0.75時間還
流後、室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。 酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して淡黄色油状の
2−シクロヘキシルオキシ−6−メチルチオ−3−ニト
ロピリジン2.0gを得た。
−シクロヘキシルオキシ−3−ニトロピリジン2.0g
のテトラヒドロフラン10ml溶液に15%メチルメル
カプタン水溶液5.2ml溶液を加え、0.75時間還
流後、室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。 酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して淡黄色油状の
2−シクロヘキシルオキシ−6−メチルチオ−3−ニト
ロピリジン2.0gを得た。
【0087】NMR(CDCl3)δ(ppm);1.
32〜2.08(10H,m) 2.58(3H,s) 5.33(1H,m) 6.81(1H,d,J=8Hz) 8.15(1H,d,J=8Hz)
32〜2.08(10H,m) 2.58(3H,s) 5.33(1H,m) 6.81(1H,d,J=8Hz) 8.15(1H,d,J=8Hz)
【0088】(2)2−シクロヘキシルオキシ−6−メ
チルチオ−3−ニトロピリジンを実施例1(2)および
(3)と同様に反応させてN−(2−シクロヘキシルオ
キシ−6−メチルチオ−3−ピリジル)メタンスルホン
アミドを得た。 m.p.87〜89℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
チルチオ−3−ニトロピリジンを実施例1(2)および
(3)と同様に反応させてN−(2−シクロヘキシルオ
キシ−6−メチルチオ−3−ピリジル)メタンスルホン
アミドを得た。 m.p.87〜89℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
【0089】
実施例16 (1)60%水素化ナトリウム2.0gのN,N−ジメ
チルホルムアミド30ml懸濁液にマロン酸ジエチル8
.0gを加え、15分間撹拌後、実施例12の第1工程
で得られる6−クロロ−2−シクロヘキシルオキシ−3
−ニトロピリジン11.0gのN,N−ジメチルホルム
アミド5ml溶液を加え、6時間還流した。反応液を室
温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸
エチル=10:1)で精製し、淡黄色油状の2−(6−
シクロヘキシルオキシ−5−ニトロ−2−ピリジル)マ
ロン酸ジエチル11.3gを得た。
実施例16 (1)60%水素化ナトリウム2.0gのN,N−ジメ
チルホルムアミド30ml懸濁液にマロン酸ジエチル8
.0gを加え、15分間撹拌後、実施例12の第1工程
で得られる6−クロロ−2−シクロヘキシルオキシ−3
−ニトロピリジン11.0gのN,N−ジメチルホルム
アミド5ml溶液を加え、6時間還流した。反応液を室
温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸
エチル=10:1)で精製し、淡黄色油状の2−(6−
シクロヘキシルオキシ−5−ニトロ−2−ピリジル)マ
ロン酸ジエチル11.3gを得た。
【0090】NMR(CDCl3)δ(ppm);1.
30(6H,t,J=7Hz) 1.30〜2.00(10H,m) 4.28(4H,m) 4.82(1H,s) 5.23(1H,m) 7.09(1H,d,J=8Hz) 8.23(1H,d,J=8Hz)
30(6H,t,J=7Hz) 1.30〜2.00(10H,m) 4.28(4H,m) 4.82(1H,s) 5.23(1H,m) 7.09(1H,d,J=8Hz) 8.23(1H,d,J=8Hz)
【0091】(2)2−(6−シクロヘキシルオキシ−
5−ニトロ−2−ピリジル)マロン酸ジエチルを実施例
1(2)および(3)と同様に反応させてN−(6−ジ
エトキシカルボニルメチル−2−シクロヘキシルオキシ
−3−ピリジル)メタンスルホンアミドを得た。
5−ニトロ−2−ピリジル)マロン酸ジエチルを実施例
1(2)および(3)と同様に反応させてN−(6−ジ
エトキシカルボニルメチル−2−シクロヘキシルオキシ
−3−ピリジル)メタンスルホンアミドを得た。
【0092】NMR(CDCl3)δ(ppm);1.
20〜2.09(10H,m) 1.28(6H,t,J=7Hz) 3.00(3H,s) 4.23(4H,q,J=7Hz) 4.76(1H,s) 5.08(1H,m) 6.73(1H,brs) 6.97(1H,d,J=8Hz) 7.76(1H,d,J=8Hz)
20〜2.09(10H,m) 1.28(6H,t,J=7Hz) 3.00(3H,s) 4.23(4H,q,J=7Hz) 4.76(1H,s) 5.08(1H,m) 6.73(1H,brs) 6.97(1H,d,J=8Hz) 7.76(1H,d,J=8Hz)
【0093】実施例16と同様にして、N−[6−(1
,1−ジエトキシカルボニルエチル)−2−シクロヘキ
シルオキシ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドを得
た。 m.p.104.5〜105.5℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
,1−ジエトキシカルボニルエチル)−2−シクロヘキ
シルオキシ−3−ピリジル]メタンスルホンアミドを得
た。 m.p.104.5〜105.5℃ (エタノール−n−ヘキサンより再結晶)
【0094】
実施例17 (1)2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジン5.0g
、2,4−ジフルオロフェノール10.0gおよび炭酸
カリウム5.0gのテトラヒドロフラン20ml溶液を
1時間還流後、室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣
をエタノールで再結晶して2,6−ビス(2,4−ジフ
ルオロフェノキシ)−3−ニトロピリジン4.4gを得
た。 m.p.169.5〜171.0℃
実施例17 (1)2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジン5.0g
、2,4−ジフルオロフェノール10.0gおよび炭酸
カリウム5.0gのテトラヒドロフラン20ml溶液を
1時間還流後、室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣
をエタノールで再結晶して2,6−ビス(2,4−ジフ
ルオロフェノキシ)−3−ニトロピリジン4.4gを得
た。 m.p.169.5〜171.0℃
【0095】(2)2,6−ビス(2,4−ジフルオロ
フェノキシ)−3−ニトロピリジンを実施例1(2)お
よび(3)と同様に反応させてN−[2,6ビス(2,
4−ジフルオロフェノキシ)−3−ピリジル]メタンス
ルホンアミドを得た。 m.p.127〜128.5℃ (エタノールより再結晶)
フェノキシ)−3−ニトロピリジンを実施例1(2)お
よび(3)と同様に反応させてN−[2,6ビス(2,
4−ジフルオロフェノキシ)−3−ピリジル]メタンス
ルホンアミドを得た。 m.p.127〜128.5℃ (エタノールより再結晶)
【0096】実施例18
(1)実施例12の第1工程で得られる6−クロロ−2
−シクロヘキシルオキシ−3−ニトロピリジン5.0g
、ニトロエタン3.0gおよび1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセン6.9gの酢酸エチル
40ml溶液を0.5時間還流後、炭酸カリウム5.0
gおよび30%過酸化水素水4.5mlを加え、1時間
還流した。反応液を室温に戻し、水を加え、酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒
;n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製し、淡
黄色油状の6−アセチル−2−シクロヘキシルオキシ−
3−ニトロピリジン1.8gを得た。
−シクロヘキシルオキシ−3−ニトロピリジン5.0g
、ニトロエタン3.0gおよび1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセン6.9gの酢酸エチル
40ml溶液を0.5時間還流後、炭酸カリウム5.0
gおよび30%過酸化水素水4.5mlを加え、1時間
還流した。反応液を室温に戻し、水を加え、酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水の順で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒
;n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製し、淡
黄色油状の6−アセチル−2−シクロヘキシルオキシ−
3−ニトロピリジン1.8gを得た。
【0097】NMR(CDCl3)δ(ppm);1.
30〜2.10(10H,m) 2.67(3H,s) 5.32(1H,m) 7.68(1H,d,J=7Hz) 8.29(1H,d,J=7Hz)
30〜2.10(10H,m) 2.67(3H,s) 5.32(1H,m) 7.68(1H,d,J=7Hz) 8.29(1H,d,J=7Hz)
【0098】(2)6−アセチル−2−シクロヘキシル
オキシ−3−ニトロピリジンを実施例1(2)および(
3)と同様に反応させてN−(6−アセチル−2−シク
ロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ドを得た。 m.p.104〜106℃ (エタノールより再結晶)
オキシ−3−ニトロピリジンを実施例1(2)および(
3)と同様に反応させてN−(6−アセチル−2−シク
ロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ドを得た。 m.p.104〜106℃ (エタノールより再結晶)
【0099】上記と同様にして、以下の化合物を得た。
N−(6−アセチル−2−フェノキシ−3−ピリジル)
メタンスルホンアミド m.p.128〜129℃ (エタノールより再結晶)
メタンスルホンアミド m.p.128〜129℃ (エタノールより再結晶)
【0100】N−[6−アセチル−2−(4−フルオロ
フェノキシ)−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm
.p.98〜100℃ (エタノールより再結晶)
フェノキシ)−3−ピリジル]メタンスルホンアミドm
.p.98〜100℃ (エタノールより再結晶)
【0101】実施例19
実施例15で得られたN−(2−シクロヘキシルオキシ
−6−メチルチオ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ド0.33gのN,N−ジメチルホルムアミド4ml溶
液に、氷冷下m−クロロ過安息香酸0.20gを加え、
5分間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を留去後、残渣をエタノールで再結晶してN
−(2−シクロヘキシルオキシ−6−メチルスルフィニ
ル−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.18gを
得た。 m.p.146〜147℃
−6−メチルチオ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ド0.33gのN,N−ジメチルホルムアミド4ml溶
液に、氷冷下m−クロロ過安息香酸0.20gを加え、
5分間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を留去後、残渣をエタノールで再結晶してN
−(2−シクロヘキシルオキシ−6−メチルスルフィニ
ル−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.18gを
得た。 m.p.146〜147℃
【0102】実施例20
実施例15で得られたN−(2−シクロヘキシルオキシ
−6−メチルチオ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ド0.45gのN,N−ジメチルホルムアミド4ml溶
液に、室温でm−クロロ過安息香酸0.74gを加え、
1.5時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去後、残渣をエタノールで再結晶し
てN−(2−シクロヘキシルオキシ−6−メチルスルホ
ニル−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.36g
を得た。 m.p.113〜114.5℃
−6−メチルチオ−3−ピリジル)メタンスルホンアミ
ド0.45gのN,N−ジメチルホルムアミド4ml溶
液に、室温でm−クロロ過安息香酸0.74gを加え、
1.5時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去後、残渣をエタノールで再結晶し
てN−(2−シクロヘキシルオキシ−6−メチルスルホ
ニル−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.36g
を得た。 m.p.113〜114.5℃
【0103】実施例21
実施例16で得られたN−(6−ジエトキシカルボニル
メチル−2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メ
タンスルホンアミド1.0g、塩化ナトリウム0.37
gおよび水0.13gを含むジメチルスルホキシド3m
l溶液160℃で7時間加熱撹拌した。反応液を室温に
戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1)で精製し、無色油状のN−(2−シクロヘ
キシルオキシ−6−エトキシカルボニルメチル−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド0.38gを得た。
メチル−2−シクロヘキシルオキシ−3−ピリジル)メ
タンスルホンアミド1.0g、塩化ナトリウム0.37
gおよび水0.13gを含むジメチルスルホキシド3m
l溶液160℃で7時間加熱撹拌した。反応液を室温に
戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1)で精製し、無色油状のN−(2−シクロヘ
キシルオキシ−6−エトキシカルボニルメチル−3−ピ
リジル)メタンスルホンアミド0.38gを得た。
【0105】NMR(CDCl3)δ(ppm);1.
20〜2.20(10H,m) 1.28(3H,t,J=7Hz) 2.98(3H,s) 3.70(2H,s) 4.18(2H,q,J=7Hz) 5.11(1H,m) 6.61(1H,brs) 6.82(1H,d,J=8Hz) 7.70(1H,d,J=8Hz)
20〜2.20(10H,m) 1.28(3H,t,J=7Hz) 2.98(3H,s) 3.70(2H,s) 4.18(2H,q,J=7Hz) 5.11(1H,m) 6.61(1H,brs) 6.82(1H,d,J=8Hz) 7.70(1H,d,J=8Hz)
【0106】実施例22
N−(2−シクロヘキシルオキシ−6−エトキシカルボ
ニルメチル−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.
39gのメタノール2ml溶液に水酸化ナトリウム0.
10gの0.5ml水溶液を加え、室温で0.5時間撹
拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を3規定塩酸、飽和食塩水の順で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣を
エタノールで再結晶してN−(2−シクロヘキシルオキ
シ−6−カルボキシメチル−3−ピリジル)メタンスル
ホンアミド0.36gを得た。 m.p.104〜105.5℃
ニルメチル−3−ピリジル)メタンスルホンアミド0.
39gのメタノール2ml溶液に水酸化ナトリウム0.
10gの0.5ml水溶液を加え、室温で0.5時間撹
拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を3規定塩酸、飽和食塩水の順で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣を
エタノールで再結晶してN−(2−シクロヘキシルオキ
シ−6−カルボキシメチル−3−ピリジル)メタンスル
ホンアミド0.36gを得た。 m.p.104〜105.5℃
【0107】実施例23
実施例1で得られたN−(2−シクロヘキシルオキシ−
6−ニトロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド1.
0gおよび塩化ニッケル・6水和物1.5gを含むテト
ラヒドロフラン−メタノール(1:1)6.4ml溶液
に、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム0.48gを加え、
15分間撹拌した。反応液に3規定塩酸10mlを加え
、室温で15分間撹拌し、次いで28%アンモニア水を
加え塩基性とし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去後、残渣をジクロロメタン−n
−ヘキサンで再結晶してN−(6−アミノ−2−シクロ
ヘキシルオキシ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド
0.76gを得た。 m.p.145〜146℃
6−ニトロ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド1.
0gおよび塩化ニッケル・6水和物1.5gを含むテト
ラヒドロフラン−メタノール(1:1)6.4ml溶液
に、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム0.48gを加え、
15分間撹拌した。反応液に3規定塩酸10mlを加え
、室温で15分間撹拌し、次いで28%アンモニア水を
加え塩基性とし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去後、残渣をジクロロメタン−n
−ヘキサンで再結晶してN−(6−アミノ−2−シクロ
ヘキシルオキシ−3−ピリジル)メタンスルホンアミド
0.76gを得た。 m.p.145〜146℃
Claims (1)
- 【請求項1】式 【化1】 (化1中、R1は炭素原子数1〜10個のアルキル基、
ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜10個のアル
キル基、炭素原子数2〜5個のアルケニル基、ベンジル
基、フェニル基またはハロゲン原子で置換されたフェニ
ル基を示し、R2は炭素原子数1〜5個のアルキル基、
炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数1
〜5個のアルキル基で置換された炭素原子数5〜8個の
シクロアルキル基、フェニル基、「ハロゲン原子、水酸
基、シアノ基、トリフルオロメチル基、炭素原子数1〜
5個のアルキル基、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基
、炭素原子数1〜5個のアルカノイルオキシ基、炭素原
子数2〜5個のアルコキシ、カルボニル基、炭素原子数
1〜5個のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5個のアル
キルスルフィニル基、炭素原子数1〜5個のアルキルス
ルホニル基またはベンジルオキシ基から選ばれる任意の
1〜3個」で置換されたフェニル基、ベンジル基または
インダニル基を示し、R3はニトロ基、ハロゲン原子、
アミノ基、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基、炭素原
子数1〜5個のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5個の
アルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5個のアルキ
ルスルホニル基、フェノキシ基、ハロゲン原子の1〜2
個で置換されたフェノキシ基、炭素原子数2〜5個のア
ルカノイル基、式 【化2】 (化2中、R4およびR5は同一または異なって水素原
子または炭素原子数1〜5個のアルキル基を示す。)で
表される基または式 【化3】 (化3中、R6およびR7は同一または異なって水素原
子または炭素原子数1〜5個のアルキル基を示す。)で
表される基を示し、Aは酸素原子、硫黄原子、スルフィ
ニル基またはスルホニル基を示す。)で表わされるスル
ホンアミドピリジン化合物およびその製薬学的に許容さ
れる塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3284267A JPH04364168A (ja) | 1990-08-08 | 1991-08-06 | スルホンアミドピリジン化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2-209546 | 1990-08-08 | ||
JP20954690 | 1990-08-08 | ||
JP3284267A JPH04364168A (ja) | 1990-08-08 | 1991-08-06 | スルホンアミドピリジン化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04364168A true JPH04364168A (ja) | 1992-12-16 |
Family
ID=26517522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3284267A Pending JPH04364168A (ja) | 1990-08-08 | 1991-08-06 | スルホンアミドピリジン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04364168A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6022884A (en) * | 1997-11-07 | 2000-02-08 | Amgen Inc. | Substituted pyridine compounds and methods of use |
JP2002521366A (ja) * | 1998-07-21 | 2002-07-16 | シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト | 3置換ピリジン化合物及び関連の合成 |
US7582661B2 (en) | 2002-11-18 | 2009-09-01 | Chemocentryx, Inc. | Aryl sulfonamides |
US7622583B2 (en) | 2005-01-14 | 2009-11-24 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2 |
US7884110B2 (en) | 2007-07-12 | 2011-02-08 | Chemocentryx, Inc. | Fused heteroaryl pyridyl and phenyl benzenesuflonamides as CCR2 modulators for the treatment of inflammation |
US8519135B2 (en) | 2006-07-14 | 2013-08-27 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2/CCR9 |
US10758540B2 (en) | 2017-10-11 | 2020-09-01 | Chemocentryx, Inc. | Treatment of focal segmental glomerulosclerosis with CCR2 antagonists |
US10973809B2 (en) | 2016-11-23 | 2021-04-13 | Chemocentryx, Inc. | Method of treating focal segmental glomerulosclerosis |
-
1991
- 1991-08-06 JP JP3284267A patent/JPH04364168A/ja active Pending
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US6333341B1 (en) | 1997-11-07 | 2001-12-25 | Amgen Inc. | Substituted pyridine compounds and methods of use |
US6458813B1 (en) | 1997-11-07 | 2002-10-01 | Amgen Inc. | Substituted pyridine compounds and methods of use |
US6022884A (en) * | 1997-11-07 | 2000-02-08 | Amgen Inc. | Substituted pyridine compounds and methods of use |
JP2002521366A (ja) * | 1998-07-21 | 2002-07-16 | シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト | 3置換ピリジン化合物及び関連の合成 |
US8211896B2 (en) | 2002-11-18 | 2012-07-03 | Chemocentryx, Inc. | Aryl sulfonamides |
US7582661B2 (en) | 2002-11-18 | 2009-09-01 | Chemocentryx, Inc. | Aryl sulfonamides |
US7622583B2 (en) | 2005-01-14 | 2009-11-24 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2 |
US8093247B2 (en) | 2005-01-14 | 2012-01-10 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2 |
US8519135B2 (en) | 2006-07-14 | 2013-08-27 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2/CCR9 |
US10206912B2 (en) | 2006-07-14 | 2019-02-19 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2/CCR9 |
US11433061B2 (en) | 2006-07-14 | 2022-09-06 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2/CCR9 |
US10532044B2 (en) | 2006-07-14 | 2020-01-14 | Chemocentryx, Inc. | Heteroaryl sulfonamides and CCR2/CCR9 |
US9745312B2 (en) | 2007-07-12 | 2017-08-29 | Chemocentryx, Inc. | Fused heteroaryl pyridyl and phenyl benzenesuflonamides as CCR2 modulators for the treatment of inflammation |
US7884110B2 (en) | 2007-07-12 | 2011-02-08 | Chemocentryx, Inc. | Fused heteroaryl pyridyl and phenyl benzenesuflonamides as CCR2 modulators for the treatment of inflammation |
US10208050B2 (en) | 2007-07-12 | 2019-02-19 | Chemocentryx, Inc. | Fused heteroaryl pyridyl and phenyl benzenesuflonamides as CCR2 modulators for the treatment of inflammation |
US9394307B2 (en) | 2007-07-12 | 2016-07-19 | Chemocentryx, Inc. | Fused heteroaryl pyridyl and phenyl benzenesuflonamides as CCR2 modulators for the treatment of inflammation |
US10899765B2 (en) | 2007-07-12 | 2021-01-26 | Chemocentryx, Inc. | Fused heteroaryl pyridyl and phenyl benzenesuflonamides as CCR2 modulators for the treatment of inflammation |
US8546408B2 (en) | 2007-07-12 | 2013-10-01 | Chemocentryx, Inc. | Fused heteroaryl pyridyl and phenyl benzenesuflonamides as CCR2 modulators for the treatment of inflammation |
US10973809B2 (en) | 2016-11-23 | 2021-04-13 | Chemocentryx, Inc. | Method of treating focal segmental glomerulosclerosis |
US11324736B2 (en) | 2016-11-23 | 2022-05-10 | Chemocentryx, Inc. | Method of Treating Focal Segmental Glomerulosclerosis |
US10758540B2 (en) | 2017-10-11 | 2020-09-01 | Chemocentryx, Inc. | Treatment of focal segmental glomerulosclerosis with CCR2 antagonists |
US11382915B2 (en) | 2017-10-11 | 2022-07-12 | Chemocentryx, Inc. | Treatment of focal segmental glomerulosclerosis with CCR2 antagonists |
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