JP7350253B2 - ビスハロアルキルシロキサン化合物及びその製造方法、並びに、両末端官能性のシロキサン化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
式(5)中のZは、官能基を含む置換基である。Zは、例えば、アルキルアミノ基、アセトキシ基、又は(メタ)アクリロイルオキシ基であることができる。R1、R2及びnは式(1)~(3)中のR1、R2及びnと同義である。
1,3-ビスクロロオクチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン(式(1)において、Xが塩素原子、R1が炭素数5のアルキレン基、R2がメチル基、nが0である化合物)の合成
還流管、滴下ロート、温度計を備えた500ミリリットルの三口丸底フラスコに、1-クロロオクト-7-エンを235g、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(白金含有量:2%)を60mg入れた。フラスコ内の反応液を磁気攪拌子で撹拌しながら110℃まで加熱した。加熱を止め、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン67.2gを、110℃から120℃を維持しながら反応液にゆっくりと滴下した。滴下終了後、反応液の温度を120℃で1時間維持した。未反応の1-クロロオクト-7-エンを減圧下で留去し、次いで1,3-ビスクロロオクチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンを減圧蒸留で単離した。単離した生成物の沸点は0.07kPaの圧力下で178℃~179℃であった。収量は197gで、収率は滴下した1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンに対して92%であった。生成物のガスクロマトグラフィーによる純度は99%であった。図1は、単離された生成物のFT-IRスペクトルである。図2及び図3は、それぞれ、原料として用いられた1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン及び1-クロロオクト-7-エンのFT-IRスペクトルである。1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンで観測された2100cm-1付近のSi-Hの吸収、及び1-クロロオクト-7-エンで観測された1640cm-1付近のオレフィンの吸収が、生成物のFT-IRスペクトルにおいて消失しており、このことから目的とする1,3-ビスクロロオクチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンが生成していることが確認された。生成物の構造は、図4の1H NMRスペクトル(CDCl3,内部標準物質:テトラメチルシラン)、及び以下の元素分析の結果からも確認された。
元素分析値:C 56.2%(理論値:56.17%);H 10.4%(理論値:10.37%)
両末端にクロロオクチル基を有するジメチルポリシロキサン(式(1)において、Xが塩素原子、R1が炭素数5のアルキレン基、R2がメチル基、nが平均で15である化合物)の合成
還流管、滴下ロート、撹拌棒、温度計を備えた2リットルの四口丸底フラスコに、両末端にジメチルヒドロシリル基を有するポリジメチルシロキサン(平均組成式:HMe2SiO(Me2SiO)15SiMe2H)を1370g、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(白金含有量:2%)を100mg入れた。フラスコ内の反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら110℃まで加熱した。続いて反応液に対して1-クロロオクト-7-エン440gをゆっくりと滴下した。滴下終了後、110℃~125℃の温度を維持しながら、反応液を1時間撹拌した。0.2kPaの減圧下、フラスコ内の温度145℃の条件で未反応の1-クロロオクト-7-エン、及び並行反応によって生成した環状ポリジメチルシロキサンを留去した。残渣のろ過により、1110gの生成物を得た。図5は、単離された生成物のFT-IRスペクトルである。1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンで観測された2100cm-1付近のSi-Hの吸収、及び1-クロロオクト-7-エンで観測された1640cm-1付近のオレフィンの吸収が、生成物のFT-IRスペクトルにおいて消失しており、このことから目的物である両末端にクロロオクチル基を有するジメチルポリシロキサンが得られたことを確認した。
両末端にクロロオクチル基を有するジメチルポリシロキサン(式(1)において、Xが塩素原子、R1が炭素数5のアルキレン基、R2がメチル基、nが平均で65である化合物)の合成
還流管、滴下ロート、撹拌棒、温度計を備えた500ミリリットルの四口丸底フラスコに、両末端にジメチルヒドロシリル基を有するポリジメチルシロキサン(平均組成式:HMe2SiO(Me2SiO)65SiMe2H)を300g、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(白金含有量:2%)を1-クロロオクト-7-エンに対して10ppmに相当する量を入れた。フラスコ内の反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら110℃まで加熱した。続いて反応液に対して1-クロロオクト-7-エン33.3gをゆっくりと滴下した。滴下終了後、110℃~125℃の温度を維持しながら、反応液を1時間撹拌した。0.2kPaの減圧下、フラスコ内の温度145℃の条件で未反応の1-クロロオクト-7-エン、及び並行反応によって生成した環状ポリジメチルシロキサンを留去した。残渣のろ過により、290.3gの生成物を得た。生成物のFT-IRによる実施例1、2と同様の分析から、目的物である両末端にクロロオクチル基を有するジメチルポリシロキサンが得られたことを確認した。
両末端にクロロオクチル基を有するジメチルポリシロキサン(式(1)において、Xが塩素原子、R1が炭素数5のアルキレン基、R2がメチル基、nが平均で100である化合物)の合成
還流管、滴下ロート、撹拌棒、温度計を備えた500ミリリットルの四口丸底フラスコに、両末端にジメチルヒドロシリル基を有するポリジメチルシロキサン(平均組成式:HMe2SiO(Me2SiO)100SiMe2H)を300g、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(白金含有量:2%)を1-クロロオクト-7-エンに対して10ppmに相当する量を入れた。フラスコ内の反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら110℃まで加熱した。続いて反応液に対して1-クロロオクト-7-エン21.9gをゆっくりと滴下した。滴下終了後、110℃~125℃の温度を維持しながら、反応液を1時間撹拌した。1mmHgの減圧下、フラスコ内の温度150℃の条件で未反応の1-クロロオクト-7-エン、及び並行反応によって生成した環状ポリジメチルシロキサンを留去した。残渣のろ過により、266.3gの生成物を得た。生成物のFT-IRによる実施例1、2と同様の分析から、目的物である両末端にクロロオクチル基を有するジメチルポリシロキサンが得られたことを確認した。
Claims (1)
- 下記式(1)で表されるビスハロアルキルシロキサン化合物のハロゲン原子を、官能基を含む置換基に置換する工程を含み、
前記官能基が、アセトキシ基、又は(メタ)アクリロイルオキシ基である、
両末端官能性のシロキサン化合物を製造する方法であって、
下記式(2)で表されるハロオレフィン化合物と下記式(3)で表されるシロキサン化合物とのヒドロシリル化反応によって、前記ビスハロアルキルシロキサン化合物を生成させる工程を更に含む、方法。
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