JP4543577B2 - 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents
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- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical group OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 28
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 48
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 31
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical class [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxypropane Chemical compound COC(C)(C)OC HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical class [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical class [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4-triol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(O)=C1 GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005371 silicon functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 0 **OCc1c2OC(*)(*)Oc2ccc1 Chemical compound **OCc1c2OC(*)(*)Oc2ccc1 0.000 description 1
- OXQHJIGWZNIQDS-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxybutane Chemical compound CCC(C)(OC)OC OXQHJIGWZNIQDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJQRXCXLFNBLDO-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethoxypentane Chemical compound CCC(CC)(OC)OC FJQRXCXLFNBLDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMAYBPBPEUFIHJ-UHFFFAOYSA-N 4-bromobut-1-ene Chemical compound BrCCC=C DMAYBPBPEUFIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBLFGOQZEVMJKU-UHFFFAOYSA-N 5,5-dimethoxynonane Chemical compound CCCCC(OC)(OC)CCCC HBLFGOQZEVMJKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPOBJNRMUDPATE-UHFFFAOYSA-N 5-chloropent-1-ene Chemical compound ClCCCC=C UPOBJNRMUDPATE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLMIXWDJHNJWDT-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohex-1-ene Chemical compound ClCCCCC=C BLMIXWDJHNJWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRYSDEICJWOTCP-UHFFFAOYSA-N CCOC(CC=C1)C2=C1OC(C)(C=C1CC1)O2 Chemical compound CCOC(CC=C1)C2=C1OC(C)(C=C1CC1)O2 RRYSDEICJWOTCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical class [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N [C].[Pt] Chemical compound [C].[Pt] DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N allyl iodide Chemical compound ICC=C HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical class [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- OPTDDWCXQQYKGU-UHFFFAOYSA-N diphenyldichloromethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OPTDDWCXQQYKGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical class [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical class [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
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- Silicon Polymers (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な有機ケイ素化合物に関し、さらに詳しくは、有機置換基により保護されたカテコール基を有するアルコキシシランに関する。
【０００２】
【従来の技術】
フェノール性水酸基が有機置換基によって保護された、下記式［５］、［５'］に示す有機ケイ素化合物は知られている。
【０００３】
【化５】
【０００４】
（式中、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｚはビニル基又はハロゲンである。）
【０００５】
【化６】
【０００６】
（式中、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は炭素数１〜６のアルキル基である。）
しかし、カテコール基を有する有機基の末端炭素原子にアルコキシシリル基のようなケイ素官能基が結合し、かつ、カテコール基の水素原子が有機置換基で保護された有機ケイ素化合物は知られていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、有機置換基により保護されたカテコール基を有するアルコキシシランを提供し、そのことによって、有機合成その他の分野で新規な合成方法や、新規樹脂の製造、材料表面処理方法および樹脂改質等の分野に資することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、このような有機ケイ素化合物が、一方では１個のケイ素官能基を有し、他方では有機置換基で保護された炭素官能基を有するために、有機合成などの中間原料や各種材料のカップリング剤として有用であることを見出し、その知見に基いて本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、保護されたカテコール基を有し、下記一般式［１］で表される有機ケイ素化合物である。
【０００９】
【化７】
【００１０】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は炭素数１から６のアルキル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、互いに同じであっても異なっていても良く、Ｒ1、Ｒ2またはＲ3の少なくとも１つはアルコキシ基である。Ｒ5およびＲ6は炭素数１から６のアルキル基またはフェニル基を示し、互いに同じであっても異なっていても良い。Ｒ4は炭素数２から６のアルキレン基を示す）
【００１１】
以下、本発明について詳述する。
本発明の有機ケイ素化合物を表す上記一般式［１］において、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は炭素数１から６のアルキル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、互いに同じであっても異なっていても良く、Ｒ1、Ｒ2またはＲ3の少なくとも１つはアルコキシ基である。
炭素数１から６のアルキル基及びアルコキシ基の具体例として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等があり、直鎖状でも分岐状でも差し支えない。
上記一般式［１］において、Ｒ4は炭素数２から６のアルキレン基で、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、具体例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基等がある。
上記一般式［１］において、Ｒ5およびＲ6は炭素数１から６のアルキル基またはフェニル基であり、好ましい具体例として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びフェニル基がある。Ｒ5およびＲ6は、直鎖状又は分岐状の何れでも良く、また環状であっても差し支えない。
Ｒ1〜Ｒ6において好ましいものは、原料が得易く、本発明の化合物の合成が容易なことから、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3についてはエトキシ基であり、Ｒ4については炭素数が３の直鎖状炭化水素であり、Ｒ5およびＲ6についてはメチル基である。
アルコキシシリル基の存在位置としては、 有機置換基により保護されたカテコール基に対して、オルト位又はメタ位のいずれでも構わない。
このような本発明の化合物の具体例はいくつか例示されるが、上記のことを考慮すると、もっとも好ましいものは、下記［２］式で表される化合物である。
【００１２】
【化８】
【００１３】
（式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｅｔはエチル基である。）
【００１４】
本発明の化合物は、例えば以下の反応工程（１）〜（３）により容易に製造することができる。
工程（１）：少なくとも２個の水酸基がオルト位にあるトリヒドロキシベンゼンとカテコール基の保護用化合物とを反応させて下記式［３］で表される化合物［３］を得る。
【００１５】
【化９】
【００１６】
（式中においてＲ5およびＲ6は上記一般式［１］における意味と同義である。）
【００１７】
工程（２）：上記化合物［３］とハロゲン化アルケン（但し、一方の分子末端に炭素二重結合を有する以外は上記一般式［１］におけるＲ4と同じ炭素骨格を有し、他方の分子末端にハロゲンを有する。）とを反応させて下記式［４］で表される化合物［４］を得る。
【００１８】
【化１０】
【００１９】
（式中、Ｒ7は、ハロゲン化アルケンにおけるハロゲンを除いた残基であり、末端に炭素二重結合を有する。）
【００２０】
工程（３）：上記化合物［４］とシラン化合物Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ（但し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は上記一般式［１］における意味と同義である。）とをヒドロシリレーション反応させて本発明の化合物を得る。
【００２１】
以下に（１）〜（３）の各反応工程について更に詳しく説明する。
［工程（１）］
工程（１）におけるトリヒドロキシベンゼンは、少なくとも２個の水酸基がオルト位にあるものであり、好ましい例として、ピロガロール、1,2,4-トリヒドロキシベンゼンがある。
カテコール基の保護用化合物は、分子中に、Ｒ5、Ｒ6及びカテコール基に対する反応性基を有する化合物である（但し、Ｒ5、Ｒ6は上記一般式［１］における意味と同義。以下同じ。）。
Ｒ5及びＲ6がアルキル基である場合、カテコール基に対する好ましい反応性基はアルコキシ基であり、より好ましい反応性基はメトキシ基である。
Ｒ5又はＲ6がフェニル基である場合、カテコール基に対する好ましい反応性基はハロゲンであり、より好ましくは塩素である。
カテコール基の保護用化合物として以下の化合物が好ましく、
【００２２】
【化１１】
【００２３】
【化１２】
【００２４】
その例として、2,2-ジメトキシブタン、3,3-ジメトキシペンタン、5,5-ジメトキシノナン、ジフェニルジクロロメタン等がある。
【００２５】
工程（１）の反応は、トリヒドロキシベンゼンに溶媒を加え、加熱還流下でカテコール基の保護用化合物を滴下することにより行う。この反応はトリヒドロキシベンゼンとカテコール基の保護用化合物との等モル反応であるが、副生するアルコールと共に反応系外へ一部溜出するため、通常後者を過剰に供給して反応を行う。反応系内で副生するアルコール又はハロゲン化水素を反応系外へ流出させ、反応を完結させる。
好ましい溶媒として、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル、トルエン、キシレン、ガソリン、リグロインのような炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類がある。
上記の反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去することにより下記化合物［３］を得る。この化合物［３］において、カテコール基は有機置換基［（Ｒ5）（Ｒ6）Ｃ＝］により保護されている。
【００２６】
【化１３】
【００２７】
［工程（２）］
工程（２）におけるハロゲン化アルケンは、一方の分子末端に炭素二重結合を有する以外は上記一般式［１］におけるＲ4と同じ炭素骨格を有し、他方の分子末端にハロゲンを有する化合物である。
好ましいハロゲン化アルケンは、２−クロロ−１−エテン、４−ブロモ−１−ブテン、５−クロロ−１−ペンテン、６−クロロ−１−ヘキセン等である。
工程（２）の反応は、工程（１）で得た化合物［３］に溶媒、塩基を加え、加熱還流下、ハロゲン化アルケンを滴下することにより行う。
【００２８】
好ましい溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、水、アセトン、ジメチルホルムアミドのような極性溶媒である。
好ましい塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等である。
化合物［３］とハロゲン化アルケンとの反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去し、減圧蒸留によって下記化合物［４］を単離する。
【００２９】
【化１４】
【００３０】
［工程（３）］
工程（２）で得た上記化合物［４］とシラン化合物（Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ）との反応は、通常、触媒の存在下で行う。
好ましい触媒として、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、白金等の第８属から第１０属金属の単体、有機金属錯体、金属塩、金属酸化物等がある。
これらの中で、白金系の触媒が特に好ましい。白金系触媒としては、塩化白金酸六水和物（H2PtCl6・６H2O）、cis-PtCl2(PhCN)2、白金カーボン、ジビニルテトラメチルジシロキサンが配位した白金錯体(PtDVTMDS)等がある。なお、Phはフェニル基を表わす。
触媒の好ましい使用量は、化合物［４］の量に対して、0.1ｐｐｍから1,000ｐｐｍである。
【００３１】
また、反応温度の制御操作は、外部からの加熱およびシラン化合物の供給速度に依存するため、一概に決められないが、通常、反応温度を室温〜１１０℃の範囲に保持することで、ヒドロシリレーション反応を円滑に継続させることができる。反応終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去することにより本発明の化合物を得る。
【００３２】
本発明の化合物の内、好ましい化合物［２］の場合、次のようにして製造することができる。
即ち、少なくとも２個の水酸基がオルト位にあるトリヒドロキシベンゼンと2,2-ジメトキシプロパンを脱メタノールさせながら反応させ、下記式［５］で表される化合物［５］を得る。この化合物［５］は有機置換基［（Ｍｅ）2Ｃ＝］により保護されたカテコール基を有する化合物である。
【００３３】
【化１５】
【００３４】
反応は、トリヒドロキシベンゼンに溶媒を加え、加熱還流下で2,2-ジメトキシプロパンを滴下することにより行う。反応系内で生成されるメタノールを反応系外へ流出させ、反応を完結させる。
好ましい溶媒は、上記工程（１）において例示したものである。
トリヒドロキシベンゼンと2,2-ジメトキシプロパンとの反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去することにより上記化合物［５］を得る。
続けて化合物［５］を塩基存在下、ハロゲン化アリルと反応させることにより、下記式［６］で表される化合物［６］を得る。
【００３５】
【化１６】
【００３６】
化合物［５］とハロゲン化アリルとの反応は、化合物［５］に溶媒、塩基を加え、加熱還流下、ハロゲン化アリルを滴下することにより行う。
好ましい溶媒及び好ましい塩基は、上記工程（２）で例示したものである。
好ましいハロゲン化アリルは、塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化アリル等である。
化合物［５］とハロゲン化アリルとの反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去し、減圧蒸留によって化合物［６］を単離する。
【００３７】
このようにして得られた化合物［６］を、トリエトキシシランとヒドロシリレーション反応させ、本発明の化合物［２］を得る。
【００３８】
【発明の効果】
本発明によって、有機置換基により保護されたカテコール基を有する新規なアルコキシシランが提供される。
本発明の新規な有機ケイ素化合物は、ケイ素原子に結合した加水分解性のアルコキシ基が存在するため、他の有機ケイ素化合物（ポリマーを含む）との反応によりシロキサン結合を形成したり、無機化合物中のシラノール基とカップリング反応させることができる。
また、３官能性アルコキシシランは、（ＳｉＯＳｉ）の架橋反応を利用することができるので、シリコーンレジン又はシルセスキオキサン等の製造用原料として有用である。
一方、本発明の化合物における保護されたカテコール基は、酸性条件下で加水分解により容易に保護基を脱離して、フリーのカテコール基となり、炭素官能性基またはアルカリ水溶性基として機能する。フリーのカテコール基により、本発明の化合物は、１分子当たり２個のヒドロキシル基を有することになり、フェノール基が保護された従来の化合物に比較して、アルカリ水溶性は格段に大きいという特徴がある。また、この際脱離する成分は通常揮発性に富むケトンであり、容易に揮散させることができる。この特性は、本発明の化合物を用いる合成反応や樹脂の製造において、不純分をできるだけ少なくする目的に有利である。
フリーのカテコール基は極性官能基と強い水素結合を形成するので、本発明の有機珪素化合物は、水素結合を利用した有機−無機ハイブリッド材料へも利用できる。
上記の通り、本発明の化合物は、ケイ素官能性および保護された炭素官能性をもつ複反応性ケイ素化合物として機能するので、有機合成の中間原料、ポリマー樹脂の合成原料、ポリマーの改質剤、無機化合物の表面処理剤として有用である。
【００３９】
【実施例】
以下、本発明を参考例および実施例によって具体的に説明する。
【００４０】
参考例１
攪拌機、精留塔及び冷却管を備えた反応器を乾燥窒素雰囲気下にして、ピロガロール100.0g（793mmol）、トルエン300mLを仕込み、加熱還流させた。2,2-ジメトキシプロパン82.6g (793 mmol)を徐々に滴下させると、塔頂温度約６０℃でメタノールが流出した。流出が止まったら、同量の2,2-ジメトキシプロパン82.6g (793 mmol)を滴下させ、滴下終了後、加熱還流３時間行った。ガスクロマトグラフィーを用いてピロガロールが反応系内から消失したのを確認し、溶媒を減圧下で留去することにより、褐色粘性液体を得た。この粘性液体をエタノール500mLに溶かし、還流管を備えた２口フラスコに仕込んだ。続けて水酸化ナトリウム66.7g(1190 mmol)を仕込み、加熱還流させた。反応系に臭化アリル144g (1190 mmol)を徐々に滴下させ、滴下終了後、加熱還流３時間行った。エタノールを減圧下留去後、トルエン200mLを加えた。トルエンに不溶の塩をろ別後、減圧蒸留によって、沸点110〜112℃/707Paの無色透明の液体86.0g(53 %)を得た。
この液体について270MHzの1Ｈ-ＮＭＲの測定を行ったところ、第１図のスペクトルを得た。δ値とその帰属は第１表のとおりであり、この同定結果により、上記で得られた液体は、有機置換基により保護されたカテコールを含有する下記化合物［７］であることが確認できた。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【化１７】
【００４３】
実施例１
攪拌機、温度計及び冷却管を備えた反応器を乾燥窒素雰囲気下にして、参考例１で合成した化合物［７］2.7g（13.1mmol）、トリエトキシシラン3.23g（19.7mmol ）を仕込み、系内を攪拌させながらオイルバスで加熱した。内温度が90℃に達したところで、白金触媒であるPtDVTMDSのキシレン溶液(1μl,0.0001mmol)を加えた。触媒滴下後、１時間、90℃で攪拌放置した。その後、減圧下、揮発成分を留去し無色透明の液体4.37g(90%)を得た。
この液体について270MHzの1Ｈ-ＮＭＲの測定を行ったところ、第２図のスペクトルを得た。δ値とその帰属は第２表のとおりであった。これにより得られた液体は、有機置換基により保護されたカテコールを含有する下記化合物［８］であることが確認できた。
【００４４】
【表２】
【００４５】
【化１８】
【図面の簡単な説明】
【図１】第１図は参考例１で得られた生成物の1H-NMRスペクトルを示す。
【図２】第２図は実施例１で得られた生成物の1H-NMRスペクトルを示す。
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な有機ケイ素化合物に関し、さらに詳しくは、有機置換基により保護されたカテコール基を有するアルコキシシランに関する。
【０００２】
【従来の技術】
フェノール性水酸基が有機置換基によって保護された、下記式［５］、［５'］に示す有機ケイ素化合物は知られている。
【０００３】
【化５】
（式中、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｚはビニル基又はハロゲンである。）
【０００５】
【化６】
（式中、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は炭素数１〜６のアルキル基である。）
しかし、カテコール基を有する有機基の末端炭素原子にアルコキシシリル基のようなケイ素官能基が結合し、かつ、カテコール基の水素原子が有機置換基で保護された有機ケイ素化合物は知られていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、有機置換基により保護されたカテコール基を有するアルコキシシランを提供し、そのことによって、有機合成その他の分野で新規な合成方法や、新規樹脂の製造、材料表面処理方法および樹脂改質等の分野に資することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、このような有機ケイ素化合物が、一方では１個のケイ素官能基を有し、他方では有機置換基で保護された炭素官能基を有するために、有機合成などの中間原料や各種材料のカップリング剤として有用であることを見出し、その知見に基いて本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、保護されたカテコール基を有し、下記一般式［１］で表される有機ケイ素化合物である。
【０００９】
【化７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は炭素数１から６のアルキル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、互いに同じであっても異なっていても良く、Ｒ1、Ｒ2またはＲ3の少なくとも１つはアルコキシ基である。Ｒ5およびＲ6は炭素数１から６のアルキル基またはフェニル基を示し、互いに同じであっても異なっていても良い。Ｒ4は炭素数２から６のアルキレン基を示す）
【００１１】
以下、本発明について詳述する。
本発明の有機ケイ素化合物を表す上記一般式［１］において、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は炭素数１から６のアルキル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、互いに同じであっても異なっていても良く、Ｒ1、Ｒ2またはＲ3の少なくとも１つはアルコキシ基である。
炭素数１から６のアルキル基及びアルコキシ基の具体例として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等があり、直鎖状でも分岐状でも差し支えない。
上記一般式［１］において、Ｒ4は炭素数２から６のアルキレン基で、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、具体例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基等がある。
上記一般式［１］において、Ｒ5およびＲ6は炭素数１から６のアルキル基またはフェニル基であり、好ましい具体例として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びフェニル基がある。Ｒ5およびＲ6は、直鎖状又は分岐状の何れでも良く、また環状であっても差し支えない。
Ｒ1〜Ｒ6において好ましいものは、原料が得易く、本発明の化合物の合成が容易なことから、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3についてはエトキシ基であり、Ｒ4については炭素数が３の直鎖状炭化水素であり、Ｒ5およびＲ6についてはメチル基である。
アルコキシシリル基の存在位置としては、 有機置換基により保護されたカテコール基に対して、オルト位又はメタ位のいずれでも構わない。
このような本発明の化合物の具体例はいくつか例示されるが、上記のことを考慮すると、もっとも好ましいものは、下記［２］式で表される化合物である。
【００１２】
【化８】
（式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｅｔはエチル基である。）
【００１４】
本発明の化合物は、例えば以下の反応工程（１）〜（３）により容易に製造することができる。
工程（１）：少なくとも２個の水酸基がオルト位にあるトリヒドロキシベンゼンとカテコール基の保護用化合物とを反応させて下記式［３］で表される化合物［３］を得る。
【００１５】
【化９】
（式中においてＲ5およびＲ6は上記一般式［１］における意味と同義である。）
【００１７】
工程（２）：上記化合物［３］とハロゲン化アルケン（但し、一方の分子末端に炭素二重結合を有する以外は上記一般式［１］におけるＲ4と同じ炭素骨格を有し、他方の分子末端にハロゲンを有する。）とを反応させて下記式［４］で表される化合物［４］を得る。
【００１８】
【化１０】
（式中、Ｒ7は、ハロゲン化アルケンにおけるハロゲンを除いた残基であり、末端に炭素二重結合を有する。）
【００２０】
工程（３）：上記化合物［４］とシラン化合物Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ（但し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は上記一般式［１］における意味と同義である。）とをヒドロシリレーション反応させて本発明の化合物を得る。
【００２１】
以下に（１）〜（３）の各反応工程について更に詳しく説明する。
［工程（１）］
工程（１）におけるトリヒドロキシベンゼンは、少なくとも２個の水酸基がオルト位にあるものであり、好ましい例として、ピロガロール、1,2,4-トリヒドロキシベンゼンがある。
カテコール基の保護用化合物は、分子中に、Ｒ5、Ｒ6及びカテコール基に対する反応性基を有する化合物である（但し、Ｒ5、Ｒ6は上記一般式［１］における意味と同義。以下同じ。）。
Ｒ5及びＲ6がアルキル基である場合、カテコール基に対する好ましい反応性基はアルコキシ基であり、より好ましい反応性基はメトキシ基である。
Ｒ5又はＲ6がフェニル基である場合、カテコール基に対する好ましい反応性基はハロゲンであり、より好ましくは塩素である。
カテコール基の保護用化合物として以下の化合物が好ましく、
【００２２】
【化１１】
【化１２】
その例として、2,2-ジメトキシブタン、3,3-ジメトキシペンタン、5,5-ジメトキシノナン、ジフェニルジクロロメタン等がある。
【００２５】
工程（１）の反応は、トリヒドロキシベンゼンに溶媒を加え、加熱還流下でカテコール基の保護用化合物を滴下することにより行う。この反応はトリヒドロキシベンゼンとカテコール基の保護用化合物との等モル反応であるが、副生するアルコールと共に反応系外へ一部溜出するため、通常後者を過剰に供給して反応を行う。反応系内で副生するアルコール又はハロゲン化水素を反応系外へ流出させ、反応を完結させる。
好ましい溶媒として、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル、トルエン、キシレン、ガソリン、リグロインのような炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類がある。
上記の反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去することにより下記化合物［３］を得る。この化合物［３］において、カテコール基は有機置換基［（Ｒ5）（Ｒ6）Ｃ＝］により保護されている。
【００２６】
【化１３】
［工程（２）］
工程（２）におけるハロゲン化アルケンは、一方の分子末端に炭素二重結合を有する以外は上記一般式［１］におけるＲ4と同じ炭素骨格を有し、他方の分子末端にハロゲンを有する化合物である。
好ましいハロゲン化アルケンは、２−クロロ−１−エテン、４−ブロモ−１−ブテン、５−クロロ−１−ペンテン、６−クロロ−１−ヘキセン等である。
工程（２）の反応は、工程（１）で得た化合物［３］に溶媒、塩基を加え、加熱還流下、ハロゲン化アルケンを滴下することにより行う。
【００２８】
好ましい溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、水、アセトン、ジメチルホルムアミドのような極性溶媒である。
好ましい塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等である。
化合物［３］とハロゲン化アルケンとの反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去し、減圧蒸留によって下記化合物［４］を単離する。
【００２９】
【化１４】
［工程（３）］
工程（２）で得た上記化合物［４］とシラン化合物（Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ）との反応は、通常、触媒の存在下で行う。
好ましい触媒として、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、白金等の第８属から第１０属金属の単体、有機金属錯体、金属塩、金属酸化物等がある。
これらの中で、白金系の触媒が特に好ましい。白金系触媒としては、塩化白金酸六水和物（H2PtCl6・６H2O）、cis-PtCl2(PhCN)2、白金カーボン、ジビニルテトラメチルジシロキサンが配位した白金錯体(PtDVTMDS)等がある。なお、Phはフェニル基を表わす。
触媒の好ましい使用量は、化合物［４］の量に対して、0.1ｐｐｍから1,000ｐｐｍである。
【００３１】
また、反応温度の制御操作は、外部からの加熱およびシラン化合物の供給速度に依存するため、一概に決められないが、通常、反応温度を室温〜１１０℃の範囲に保持することで、ヒドロシリレーション反応を円滑に継続させることができる。反応終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去することにより本発明の化合物を得る。
【００３２】
本発明の化合物の内、好ましい化合物［２］の場合、次のようにして製造することができる。
即ち、少なくとも２個の水酸基がオルト位にあるトリヒドロキシベンゼンと2,2-ジメトキシプロパンを脱メタノールさせながら反応させ、下記式［５］で表される化合物［５］を得る。この化合物［５］は有機置換基［（Ｍｅ）2Ｃ＝］により保護されたカテコール基を有する化合物である。
【００３３】
【化１５】
反応は、トリヒドロキシベンゼンに溶媒を加え、加熱還流下で2,2-ジメトキシプロパンを滴下することにより行う。反応系内で生成されるメタノールを反応系外へ流出させ、反応を完結させる。
好ましい溶媒は、上記工程（１）において例示したものである。
トリヒドロキシベンゼンと2,2-ジメトキシプロパンとの反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去することにより上記化合物［５］を得る。
続けて化合物［５］を塩基存在下、ハロゲン化アリルと反応させることにより、下記式［６］で表される化合物［６］を得る。
【００３５】
【化１６】
化合物［５］とハロゲン化アリルとの反応は、化合物［５］に溶媒、塩基を加え、加熱還流下、ハロゲン化アリルを滴下することにより行う。
好ましい溶媒及び好ましい塩基は、上記工程（２）で例示したものである。
好ましいハロゲン化アリルは、塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化アリル等である。
化合物［５］とハロゲン化アリルとの反応が終了後、溶媒および揮発成分を減圧下留去し、減圧蒸留によって化合物［６］を単離する。
【００３７】
このようにして得られた化合物［６］を、トリエトキシシランとヒドロシリレーション反応させ、本発明の化合物［２］を得る。
【００３８】
【発明の効果】
本発明によって、有機置換基により保護されたカテコール基を有する新規なアルコキシシランが提供される。
本発明の新規な有機ケイ素化合物は、ケイ素原子に結合した加水分解性のアルコキシ基が存在するため、他の有機ケイ素化合物（ポリマーを含む）との反応によりシロキサン結合を形成したり、無機化合物中のシラノール基とカップリング反応させることができる。
また、３官能性アルコキシシランは、（ＳｉＯＳｉ）の架橋反応を利用することができるので、シリコーンレジン又はシルセスキオキサン等の製造用原料として有用である。
一方、本発明の化合物における保護されたカテコール基は、酸性条件下で加水分解により容易に保護基を脱離して、フリーのカテコール基となり、炭素官能性基またはアルカリ水溶性基として機能する。フリーのカテコール基により、本発明の化合物は、１分子当たり２個のヒドロキシル基を有することになり、フェノール基が保護された従来の化合物に比較して、アルカリ水溶性は格段に大きいという特徴がある。また、この際脱離する成分は通常揮発性に富むケトンであり、容易に揮散させることができる。この特性は、本発明の化合物を用いる合成反応や樹脂の製造において、不純分をできるだけ少なくする目的に有利である。
フリーのカテコール基は極性官能基と強い水素結合を形成するので、本発明の有機珪素化合物は、水素結合を利用した有機−無機ハイブリッド材料へも利用できる。
上記の通り、本発明の化合物は、ケイ素官能性および保護された炭素官能性をもつ複反応性ケイ素化合物として機能するので、有機合成の中間原料、ポリマー樹脂の合成原料、ポリマーの改質剤、無機化合物の表面処理剤として有用である。
【００３９】
【実施例】
以下、本発明を参考例および実施例によって具体的に説明する。
【００４０】
参考例１
攪拌機、精留塔及び冷却管を備えた反応器を乾燥窒素雰囲気下にして、ピロガロール100.0g（793mmol）、トルエン300mLを仕込み、加熱還流させた。2,2-ジメトキシプロパン82.6g (793 mmol)を徐々に滴下させると、塔頂温度約６０℃でメタノールが流出した。流出が止まったら、同量の2,2-ジメトキシプロパン82.6g (793 mmol)を滴下させ、滴下終了後、加熱還流３時間行った。ガスクロマトグラフィーを用いてピロガロールが反応系内から消失したのを確認し、溶媒を減圧下で留去することにより、褐色粘性液体を得た。この粘性液体をエタノール500mLに溶かし、還流管を備えた２口フラスコに仕込んだ。続けて水酸化ナトリウム66.7g(1190 mmol)を仕込み、加熱還流させた。反応系に臭化アリル144g (1190 mmol)を徐々に滴下させ、滴下終了後、加熱還流３時間行った。エタノールを減圧下留去後、トルエン200mLを加えた。トルエンに不溶の塩をろ別後、減圧蒸留によって、沸点110〜112℃/707Paの無色透明の液体86.0g(53 %)を得た。
この液体について270MHzの1Ｈ-ＮＭＲの測定を行ったところ、第１図のスペクトルを得た。δ値とその帰属は第１表のとおりであり、この同定結果により、上記で得られた液体は、有機置換基により保護されたカテコールを含有する下記化合物［７］であることが確認できた。
【００４１】
【表１】
【化１７】
実施例１
攪拌機、温度計及び冷却管を備えた反応器を乾燥窒素雰囲気下にして、参考例１で合成した化合物［７］2.7g（13.1mmol）、トリエトキシシラン3.23g（19.7mmol ）を仕込み、系内を攪拌させながらオイルバスで加熱した。内温度が90℃に達したところで、白金触媒であるPtDVTMDSのキシレン溶液(1μl,0.0001mmol)を加えた。触媒滴下後、１時間、90℃で攪拌放置した。その後、減圧下、揮発成分を留去し無色透明の液体4.37g(90%)を得た。
この液体について270MHzの1Ｈ-ＮＭＲの測定を行ったところ、第２図のスペクトルを得た。δ値とその帰属は第２表のとおりであった。これにより得られた液体は、有機置換基により保護されたカテコールを含有する下記化合物［８］であることが確認できた。
【００４４】
【表２】
【化１８】
【図面の簡単な説明】
【図１】第１図は参考例１で得られた生成物の1H-NMRスペクトルを示す。
【図２】第２図は実施例１で得られた生成物の1H-NMRスペクトルを示す。
Claims (3)
- 保護されたカテコール基を有し、下記一般式［１］で表される有機ケイ素化合物。
- 請求項１における一般式［１］において、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3がエトキシ基であり、Ｒ5およびＲ6がメチル基であり、Ｒ4が炭素数３の直鎖状のアルキル基である、下記構造式［２］で表される請求項１記載の有機ケイ素化合物。
- 以下の反応工程（１）〜（３）を順次行うことを特徴とする請求項１記載の有機ケイ素化合物の製造方法。
工程（１）：少なくとも２個の水酸基がオルト位にあるトリヒドロキシベンゼンとカテコール基の保護用化合物とを反応させて下記式［３］で表される化合物［３］を得る。
工程（２）：上記化合物［３］とハロゲン化アルケン（但し、一方の分子末端に炭素二重結合を有する以外は上記一般式［１］におけるＲ4と同じ炭素骨格を有し、他方の分子末端にハロゲンを有する。）とを反応させて下記式［４］で表される化合物［４］を得る。
工程（３）：上記化合物［４］とシラン化合物Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ（但し、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は上記一般式［１］における意味と同義である。）とをヒドロシリレーション反応させる。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001153237A JP4543577B2 (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001153237A JP4543577B2 (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002338583A JP2002338583A (ja) | 2002-11-27 |
| JP4543577B2 true JP4543577B2 (ja) | 2010-09-15 |
Family
ID=18997777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001153237A Expired - Fee Related JP4543577B2 (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4543577B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1783131A4 (en) | 2004-08-24 | 2009-03-11 | Toagosei Co Ltd | METHOD FOR PRODUCING A SILICON-ORGANIC COMPOUND |
| US7402648B2 (en) | 2004-11-05 | 2008-07-22 | Toagosei Co., Ltd. | Method for producing cyclic organic silicon compound and organic silicon resin having alcoholic hydroxyl group |
| JP6176163B2 (ja) * | 2014-03-25 | 2017-08-09 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物及び接着性組成物並びに物品 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07252272A (ja) * | 1994-03-11 | 1995-10-03 | Tatsuya Shono | 有機ケイ素化合物とその製造方法 |
| JPH09241267A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Tatsuya Shono | 有機ケイ素化合物とその製造方法 |
-
2001
- 2001-05-22 JP JP2001153237A patent/JP4543577B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07252272A (ja) * | 1994-03-11 | 1995-10-03 | Tatsuya Shono | 有機ケイ素化合物とその製造方法 |
| JPH09241267A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Tatsuya Shono | 有機ケイ素化合物とその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002338583A (ja) | 2002-11-27 |
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