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JP7233954B2 - Evaporation mask - Google Patents

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JP7233954B2 JP2019027241A JP2019027241A JP7233954B2 JP 7233954 B2 JP7233954 B2 JP 7233954B2 JP 2019027241 A JP2019027241 A JP 2019027241A JP 2019027241 A JP2019027241 A JP 2019027241A JP 7233954 B2 JP7233954 B2 JP 7233954B2
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Description

本発明は、有機EL表示装置等の画素を、蒸着によって形成する場合の、蒸着マスクに関する。 The present invention relates to a vapor deposition mask for forming pixels of an organic EL display device or the like by vapor deposition.

有機EL表示装置は、画素毎に発光材料である有機層を蒸着によって形成している。画素ピッチは小さく、したがって、蒸着によって形成される各画素における有機EL層で構成される発光体のサイズも小さい。これに伴い、蒸着マスクにおける孔のピッチも孔の大きさも非常に小さい。したがって、蒸着マスクの精度は重要である。 An organic EL display device forms an organic layer, which is a light-emitting material, by vapor deposition for each pixel. The pixel pitch is small, and therefore the size of the light emitter composed of the organic EL layer in each pixel formed by vapor deposition is also small. Along with this, both the pitch and the size of the holes in the vapor deposition mask are very small. Therefore, the precision of the deposition mask is important.

蒸着マスクは、画素に蒸着するための孔が多数形成されたマスク箔の部分と、このマスク箔を指示する支持枠とから構成されている。特許文献1には、この支持枠のゆがみを低減し、かつ、寸法精度を向上させるために、支持枠を上枠と下枠の2枚構成とし、上枠と下枠を接着材によって接着した構成とすることが記載されている。 A vapor deposition mask is composed of a mask foil portion in which a large number of holes for vapor deposition on pixels are formed, and a support frame for supporting the mask foil. In Patent Document 1, in order to reduce the distortion of the support frame and improve the dimensional accuracy, the support frame is composed of two pieces, an upper frame and a lower frame, and the upper frame and the lower frame are bonded with an adhesive. It is stated that the configuration

特開2017-210633号公報JP 2017-210633 A

本発明における蒸着マスクは、有機EL表示装置の表示領域の画素に対応し、孔が多数形成された箔状のマスクと、箔状マスクを支える支持枠と、箔状マスクとによって構成される。以後本明細書では、孔が多数形成された箔状のマスクを単にマスクとよび、マスクと支持枠の組み立て体を蒸着マスクと呼ぶ。 The vapor deposition mask in the present invention corresponds to the pixels of the display area of the organic EL display device, and is composed of a foil-shaped mask having a large number of holes formed therein, a support frame for supporting the foil-shaped mask, and a foil-shaped mask. In the present specification, a foil-like mask having a large number of holes is hereinafter simply referred to as a mask, and an assembly of a mask and a support frame is referred to as a vapor deposition mask.

有機EL表示装置の画素ピッチは非常に小さく、また、各画素に対応するマスク孔の径も非常に小さい。したがって、孔が形成されるマスクの厚さも非常に小さくする必要がある。また、マスクは蒸着される基板に沿って平坦化しておく必要がある。マスクの平坦度を維持するために、支持枠によって、マスクに対して外側にテンションを加えておく必要がある。この時、支持枠には、反作用として、内側に向かうテンションが加わる。 The pixel pitch of the organic EL display device is very small, and the diameter of the mask hole corresponding to each pixel is also very small. Therefore, the thickness of the mask in which the holes are formed must also be very small. Also, the mask should be planarized along the substrate to be deposited. In order to maintain the flatness of the mask, it is necessary to apply external tension to the mask by the support frame. At this time, an inward tension is applied to the support frame as a reaction.

支持枠は、寸法精度の向上及び枠自体のゆがみを防止するために、上枠と下枠の2枚構造とし、接着材によって上枠と下枠を接着した構成が使用される。この時、マスクからの反作用としての、支持枠に対するテンションは、主として上枠に加わる。 In order to improve dimensional accuracy and prevent distortion of the frame itself, the support frame has a two-piece structure consisting of an upper frame and a lower frame, and the upper frame and the lower frame are bonded together with an adhesive. At this time, tension on the support frame as a reaction from the mask is applied mainly to the upper frame.

そうすると、上枠と下枠を接着する接着層に剪断力が加わり、上枠と下枠が互いに平面方向にずれる現象を生ずる。このような剪断力による、上枠と下枠のずれは蒸着マスクによる蒸着精度に対して重要な影響を生ずる。 As a result, a shearing force is applied to the adhesive layer bonding the upper frame and the lower frame, causing the upper frame and the lower frame to be displaced from each other in the plane direction. The shift between the upper frame and the lower frame due to such a shear force has a significant effect on the deposition accuracy of the deposition mask.

本発明は、剪断力による上枠と下枠のずれを防止し、蒸着マスクの寸法精度を維持し、これによって、優れた品質の有機EL表示装置の製造を可能とすることである。 An object of the present invention is to prevent the displacement of the upper frame and the lower frame due to a shearing force, maintain the dimensional accuracy of the vapor deposition mask, and thereby enable the manufacture of an organic EL display device of excellent quality.

本発明は上記課題を克服するものであり、主な具体的な手段は次のとおりである。 The present invention overcomes the above problems, and main specific means are as follows.

(1)表示装置の製造に使用される蒸着マスクであって、前記蒸着マスクは、画素に蒸着物を形成するためのマスクと、前記マスクを支える支持枠とで構成され、前記支持枠は、上板と下板と、前記上板と前記下板を接着する接着材によって構成され、前記上板と前記下板の間にせん断力が加わったときに、前記支持枠の主面方向に、前記上板と前記下板が互いにずれることを防止するためのストッパーを有することを特徴とする蒸着マスク。 (1) A vapor deposition mask used in the manufacture of a display device, the vapor deposition mask comprising a mask for forming a vapor deposition on pixels and a support frame for supporting the mask, the support frame comprising: It is composed of an upper plate, a lower plate, and an adhesive material for adhering the upper plate and the lower plate, and when a shearing force is applied between the upper plate and the lower plate, the upper A deposition mask, comprising a stopper for preventing the plate and the lower plate from being displaced from each other.

(2)表示装置の製造に使用される蒸着マスクであって、前記蒸着マスクは、画素に蒸着物を形成するためのマスクと、前記マスクを支える支持枠とで構成され、前記支持枠は、上板と下板と、前記上板と前記下板を接着する接着材によって構成され、前記上板の一方の面には、所定のピッチで凸部が形成され、前記下板の一方の面には、前記所定のピッチで凹部が形成され、前記凸部と前記凹部が勘合している構成であることを特徴とする蒸着マスク。 (2) A vapor deposition mask used in the manufacture of a display device, the vapor deposition mask comprising a mask for forming a vapor deposition on pixels and a support frame for supporting the mask, wherein the support frame comprises: It is composed of an upper plate, a lower plate, and an adhesive material for adhering the upper plate and the lower plate, and convex portions are formed on one surface of the upper plate at a predetermined pitch, and one surface of the lower plate. , recesses are formed at the predetermined pitch, and the protrusions and the recesses are fitted to each other.

有機EL表示装置の平面図である。1 is a plan view of an organic EL display device; FIG. 有機EL表示装置の画素構成を示す平面図である。1 is a plan view showing a pixel configuration of an organic EL display device; FIG. 表示領域における基板と蒸着マスクの関係を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the relationship between a substrate and a vapor deposition mask in a display area; 蒸着装置の概要を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline|summary of a vapor deposition apparatus. 蒸着マスクの詳細図である。It is a detailed drawing of a vapor deposition mask. 蒸着マスクにおけるマスクを形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the mask in the vapor deposition mask. 支持枠の断面図である。It is a sectional view of a support frame. 支持枠とマスクを仮付けした状態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a support frame and a mask are temporarily attached; メッキで形成した接合部材によってマスクと支持枠を接合した状態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a mask and a support frame are joined by a joining member formed by plating; マスクから母材を剥離した状態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which the base material is separated from the mask; 支持枠の製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of a support frame. 蒸着マスクの平面図である。It is a top view of a vapor deposition mask. 図8のA-A断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 8; 支持枠の上板にテンションが加わった状態における支持枠の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the support frame in a state where tension is applied to the upper plate of the support frame; 本発明の概略を示す断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the outline of this invention. 本発明の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of this invention. 実施例1の実施形態1の製造工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 1 of Example 1; 図13Aに続く工程を示す断面図である。13B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 13A; FIG. 実施例1の実施形態1を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing Embodiment 1 of Example 1. FIG. 実施例1の実施形態2の製造工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 2 of Example 1; 図14Aに続く工程を示す断面図である。14B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 14A; FIG. 図14Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 14C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 14B; 実施例2の実施形態1構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 1 of Example 2; 実施例2の実施形態1の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 1 of Example 2; 図15Aに続く工程を示す断面図である。15B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 15A; FIG. 図15Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 15C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 15B; 図15Cに続く工程を示す断面図である。FIG. 15C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 15C; 実施例2の実施形態1の構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 1 of Example 2; 実施例2の実施形態2の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 2 of Example 2; 図16Aに続く工程を示す断面図である。16B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 16A; FIG. 図16Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 16B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 16B; 実施例2の実施形態2の構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 2 of Example 2; 実施例2の実施形態3の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 3 of Example 2; 図17Aに続く工程を示す断面図である。17B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 17A; FIG. 図17Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 17C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 17B; 図17Cに続く工程を示す断面図である。FIG. 17C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 17C; 図17Dに続く工程を示す断面図である。FIG. 17C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 17D; 実施例2の実施形態3の構成を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 3 of Example 2; 実施例3の実施形態1の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 1 of Example 3; 図18Aに続く工程を示す断面図である。18B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 18A; FIG. 図18Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 18B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 18B; 図18Cに続く工程を示す断面図である。FIG. 18C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 18C; 実施例3の実施形態1の構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 1 of Example 3; 実施例3の実施形態1の構成を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing the configuration of Embodiment 1 of Example 3; 実施例3の実施形態1の他の例の構成を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing another example of the configuration of the first embodiment of the third example; 実施例3の実施形態2の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 2 of Example 3; 図19Aに続く工程を示す断面図である。19B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 19A; FIG. 図19Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 19C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 19B; 図19Cに続く工程を示す断面図である。FIG. 19B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 19C; 図19Dに続く工程を示す断面図である。FIG. 19C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 19D; 実施例3の実施形態2の構成を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 2 of Example 3; 実施例3の実施形態2の構成を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing the configuration of Embodiment 2 of Example 3; 実施例3の実施形態2の他の例の構成を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing another example of the configuration of Embodiment 2 of Example 3; 実施例4の実施形態1の製造工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 1 of Example 4; 図20Aに続く工程を示す断面図である。FIG. 20B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 20A; 図20Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 20C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 20B; 図20Cに続く工程を示す断面図である。20D is a cross-sectional view showing a step following FIG. 20C; FIG. 図20Dに続く工程を示す断面図である。FIG. 20C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 20D; 実施例4の実施形態1の最終工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the final step of Embodiment 1 of Example 4; 実施例4の実施形態1の構成を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing the configuration of Embodiment 1 of Example 4; 実施例4の実施形態2の製造工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 2 of Example 4; 図21Aに続く工程を示す断面図である。FIG. 21B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 21A; 図21Bに続く工程を示す断面図である。FIG. 21B is a cross-sectional view showing a step following FIG. 21B; 図21Cに続く工程を示す断面図である。FIG. 21C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 21C; 図21Dに続く工程を示す断面図である。FIG. 21C is a cross-sectional view showing a step following FIG. 21D; 実施例4の実施形態2の構成を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 2 of Example 4; 実施例5の実施形態1の製造工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 1 of Example 5; 実施例5の実施形態1の構成を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 1 of Example 5; 実施例5における凸部と凹部の例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing an example of a convex portion and a concave portion in Example 5; 実施例5における凸部と凹部の他の例を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing another example of the convex portion and the concave portion in Example 5; 実施例5における凸部と凹部のさらに他の例を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing still another example of the convex portion and the concave portion in Example 5; 実施例5における凸部と凹部のさらに他の例を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing still another example of the convex portion and the concave portion in Example 5; 実施例5における凸部と凹部のさらに他の例を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing still another example of the convex portion and the concave portion in Example 5; 実施例5の実施形態2の製造工程を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 2 of Example 5; 実施例5の実施形態2の構成を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 2 of Example 5; 実施例5の実施形態3の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of Embodiment 3 of Example 5; 実施例5の実施形態3の構成を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing the configuration of Embodiment 3 of Example 5;

図1は有機EL表示装置の平面図である。図1において、ガラスあるいはポリイミドの樹脂で形成されたTFT基板40の上に、画像を表示する表示領域10が形成されている。表示領域10の周辺には、額縁領域21が配置している。額縁領域21には、画素14に電流を供給する電流供給線や、走査線駆動回路20等が配置されている。表示領域10には、横方向(x方向)に走査線11が延在し、縦方向(y方向)に配列している。また、映像信号線12及び電源線13が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線11と、映像信号線12及び電源線13で囲まれた領域が画素14となっており、画素14内には、光を発光する有機EL層、TFTで形成された駆動トランジスタ、スイッチングトランジスタ、等が形成されている。 FIG. 1 is a plan view of an organic EL display device. In FIG. 1, a display area 10 for displaying an image is formed on a TFT substrate 40 made of glass or polyimide resin. A frame area 21 is arranged around the display area 10 . In the frame area 21, current supply lines for supplying current to the pixels 14, the scanning line driving circuit 20, and the like are arranged. In the display area 10, scanning lines 11 extend in the horizontal direction (x direction) and are arranged in the vertical direction (y direction). Also, the video signal lines 12 and the power lines 13 extend in the vertical direction and are arranged in the horizontal direction. A region surrounded by the scanning lines 11, the video signal lines 12, and the power supply lines 13 constitutes the pixels 14, and the pixels 14 include an organic EL layer that emits light, a driving transistor formed of a TFT, and a switching transistor. , etc. are formed.

基板40の1辺には端子領域30が形成されている。端子領域30には、映像信号線12を駆動するためにドライバIC31が搭載され、有機EL表示装置に電源や信号を供給するためにフレキシブル配線基板32が接続されている。 A terminal area 30 is formed on one side of the substrate 40 . A driver IC 31 is mounted on the terminal area 30 to drive the video signal lines 12, and a flexible wiring board 32 is connected to supply power and signals to the organic EL display device.

図2は、有機EL表示装置の表示領域の平面図である。図2において、図1の画素14に対応する部分には、赤発光体Rを有する赤画素、緑発光体Gを有する緑画素、または、青発光体Bを有する青画素が形成され、各画素あるいは発光体は、デルタ配置となっている。赤発光体R、緑発光体G、青発光体Bは、各々別な有機EL材料で構成されるので、別々に蒸着される。したがって、図2のような画素構成とするためには、3個の蒸着マスクが必要である。 FIG. 2 is a plan view of the display area of the organic EL display device. In FIG. 2, a red pixel having a red light emitter R, a green pixel having a green light emitter G, or a blue pixel having a blue light emitter B is formed in a portion corresponding to the pixel 14 in FIG. Alternatively, the emitters are in a delta arrangement. The red light emitter R, green light emitter G, and blue light emitter B are formed of different organic EL materials and are deposited separately. Therefore, three vapor deposition masks are required for the pixel configuration as shown in FIG.

図2では、各発光体の平面形状は円であり、各発光体はデルタ配置している例であるが、これは一例であり、発光体の平面形状が正方形、長方形、ストライプ等の場合もありうる。また、発光体の配置は、デルタに限らず、ひし形、平行四辺形、ストライプ配置等の場合もありうる。
図2において、発光体の直径d1は例えば、15μm乃至20μmである。画素ピッチppは、例えば30μm乃至40μmである。この場合、マスクの径は発光体の径と同じである。一方、マスクの孔は、各発光体別に形成されるので、マスクの孔のピッチpmは50μm乃至67μmである。隣り合って配置される異なる色同士の間隔は、すなわち蒸着マスクのアライメントマージンとなり、10μm乃至30μm程度が必要とされるが、各画素の発光領域の拡大化や、表示領域の高精細化を鑑みると、この距離は小さくすることが好ましい。
In FIG. 2, the planar shape of each light emitter is a circle, and each light emitter is arranged in a delta arrangement. Possible. Also, the arrangement of the light emitters is not limited to delta, but may be rhombus, parallelogram, stripe arrangement, or the like.
In FIG. 2, the diameter d1 of the emitter is, for example, 15 μm to 20 μm. The pixel pitch pp is, for example, 30 μm to 40 μm. In this case, the diameter of the mask is the same as the diameter of the emitter. On the other hand, since the holes in the mask are formed for each light emitter, the pitch pm of the holes in the mask is 50 μm to 67 μm. The interval between different colors arranged next to each other, that is, the alignment margin of the vapor deposition mask, is required to be about 10 μm to 30 μm. and this distance is preferably small.

図3は、3色の発行体の一つとなる有機EL材料を蒸着するためのマスク50と基板40の状態を示す断面図である。図3において、蒸着基板40、すなわち、TFT基板40の厚さtsは、例えば0.5mmである。一方、発光体の径d1を15μm乃至20μmとするために、マスク50にも、同様に、孔径d1の孔を形成している。有機EL材料は、マスク50に設けられた孔から露出した基板40の表面に蒸着される。孔径d1の領域に過不足なく有機EL材料が蒸着されるためには、マスク50の板厚tmは5μm乃至10μm程度と薄くする必要がある。マスク50の板厚が厚いと、斜め方向から堆積しようとする有機EL材料に対する遮蔽物となり、いわゆる「ケラレ」が生じて蒸着不良となる。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing the state of a mask 50 and a substrate 40 for vapor deposition of an organic EL material that will be one of three color emitters. In FIG. 3, the vapor deposition substrate 40, ie, the thickness ts of the TFT substrate 40 is, for example, 0.5 mm. On the other hand, in order to set the diameter d1 of the light emitter to 15 μm to 20 μm, the mask 50 is similarly formed with a hole having a hole diameter d1. The organic EL material is deposited on the surface of the substrate 40 exposed through the holes provided in the mask 50 . In order to vapor-deposit the organic EL material just enough in the area of the hole diameter d1, the plate thickness tm of the mask 50 needs to be as thin as about 5 μm to 10 μm. If the thickness of the mask 50 is large, it becomes a shield against the organic EL material to be deposited from an oblique direction, and so-called "vignetting" occurs, resulting in poor deposition.

図2に示すような高精細の画素構成とするためには、図3に示すように、マスク50と蒸着基板40とはほぼ密着状態とする必要がある。このためには、マスク50にテンションを加えてマスク50を平坦に保つ必要がある。なお、図3における矢印80は有機EL材料の蒸発物である。図示しないが、マグネットを、マスク50に対して基板40の反対側に面するように配置し、磁力によってマスク50を基板40に密着させる場合もある。 In order to obtain a high-definition pixel configuration as shown in FIG. 2, the mask 50 and vapor deposition substrate 40 must be in close contact with each other, as shown in FIG. For this purpose, it is necessary to apply tension to the mask 50 to keep it flat. Note that arrows 80 in FIG. 3 indicate evaporated organic EL materials. Although not shown, a magnet may be placed so as to face the opposite side of the substrate 40 with respect to the mask 50, and the mask 50 may be brought into close contact with the substrate 40 by magnetic force.

図4は真空蒸着の状態を示す概略断面図である。図4の真空チャンバ1000内において、蒸着源900から蒸着材料80が基板40に向けて蒸発する。基板40には、蒸着マスクのマスク50を介して発光材料が蒸着される。蒸着膜厚を均一にするために、図4においては、蒸着源90が2個使用されている。蒸着源90は、蒸着膜を均一にするために、必要に応じて数が増減される。 FIG. 4 is a schematic sectional view showing the state of vacuum deposition. In the vacuum chamber 1000 of FIG. 4, the vapor deposition material 80 is evaporated toward the substrate 40 from the vapor deposition source 900 . A luminescent material is vapor-deposited on the substrate 40 through a mask 50 of a vapor deposition mask. Two deposition sources 90 are used in FIG. 4 in order to make the deposited film thickness uniform. The number of vapor deposition sources 90 is increased or decreased as necessary in order to make the vapor deposited film uniform.

蒸着マスクは、箔状のマスク50と支持枠60を接合部材70で接合したものである。支持枠60は上板61と下板62が接着材63によって接着した構成である。支持枠60とマスク50とは、メッキによる接合部材70によって接合している。薄いマスク50がたわまないように、マスク50には、支持枠60によってテンションがかけられている。その反作用として、支持枠60には、内側に向かうテンションが発生し、上板61と下板62を接着している接着材63には、剪断応力が発生する。 The vapor deposition mask is obtained by joining a foil-shaped mask 50 and a support frame 60 with a joining member 70 . The support frame 60 has a configuration in which an upper plate 61 and a lower plate 62 are adhered with an adhesive 63 . The support frame 60 and the mask 50 are joined by a joining member 70 made of plating. The mask 50 is tensioned by a support frame 60 so that the thin mask 50 does not bend. As a reaction to this, an inward tension is generated in the support frame 60, and shear stress is generated in the adhesive 63 that bonds the upper plate 61 and the lower plate 62 together.

図5は蒸着マスク5の詳細図である。図5において上側が平面図であり、下側が断面図である。有機EL表示装置は個々に製造したのでは効率が悪いので、大きな基板に多数の有機EL表示パネルが形成される。したがって、蒸着マスク5もこの大きな基板に対応するものになっている。 FIG. 5 is a detailed view of the vapor deposition mask 5. FIG. In FIG. 5, the upper side is a plan view, and the lower side is a sectional view. Since it is inefficient to manufacture organic EL display devices individually, a large number of organic EL display panels are formed on a large substrate. Therefore, the vapor deposition mask 5 is also adapted to this large substrate.

図5において、蒸着マスク5は、支持枠60によって4つに区画されており、各区画毎に、マスク50が存在している。各マスク50には、16個の有機EL表示装置が対応している。したがって、図5の蒸着マスク50によって、64個の有機EL表示装置が形成される。なお、図5では、蒸着マスク5は4つに区画されているが、これは例であり、区画の数は4には限らない。 In FIG. 5, the vapor deposition mask 5 is divided into four sections by a support frame 60, and a mask 50 exists for each section. Each mask 50 corresponds to 16 organic EL display devices. Therefore, 64 organic EL display devices are formed by the vapor deposition mask 50 of FIG. In addition, although the vapor deposition mask 5 is divided into four in FIG. 5, this is an example, and the number of divisions is not limited to four.

各マスク50には、有機EL表示装置の表示領域の各画素に対応して多数の孔が形成された開口領域51と、孔の存在していない周辺領域52から構成されている。マスク50は、例えば、厚さが数μmから十数μmのNi、あるいはNi合金であり、メッキによって形成されている。 Each mask 50 is composed of an aperture region 51 having a large number of holes corresponding to each pixel in the display region of the organic EL display device and a peripheral region 52 having no holes. The mask 50 is, for example, Ni or Ni alloy with a thickness of several μm to ten and several μm, and is formed by plating.

支持枠60は、上板61と下板62が接着材63によって接着したものである。支持枠60を2層構成としているのは、ローラによって板材を形成するときに、薄板としたほうが、ローラ回数が増えるので、寸法を正確に出しやすいということが一つの理由である。他の理由は、板材固有のひずみを2枚の板材によって相殺することによって、積層された支持枠にゆがみが生ずることを防止することである。 The support frame 60 is formed by bonding an upper plate 61 and a lower plate 62 with an adhesive 63 . One of the reasons why the support frame 60 has a two-layer structure is that when a plate material is formed by rollers, it is easier to obtain accurate dimensions if a thin plate is used because the number of rollers increases. Another reason is to prevent distortion of the laminated support frame by compensating for the strain inherent in the plates by the two plates.

上板61、下板62は、例えば、厚さ0.5mm程度のインバー材で形成される。インバー材は、鉄とニッケルの合金であり、熱膨張係数が非常に小さい。上板61、下板62、及び接着材63で形成される支持枠60とマスク50とは、メッキによる接合部材70によって接合されている。完成したマスク50には支持枠60によってテンションが加えられ、マスク50の撓みを防止する。 The upper plate 61 and the lower plate 62 are made of, for example, an invar material having a thickness of about 0.5 mm. Invar material is an alloy of iron and nickel and has a very low coefficient of thermal expansion. A support frame 60 formed of an upper plate 61, a lower plate 62, and an adhesive material 63 and a mask 50 are joined by a joining member 70 made of plating. Tension is applied to the completed mask 50 by the support frame 60 to prevent the mask 50 from bending.

図6A乃至図6Eは、図5に示す蒸着マスクを形成するためのプロセスを示す断面図である。図6Aは、メッキによってマスク50を形成した状態を示す断面図である。平面が平滑な金属板を用意し、これを母材90として使用し、この母材90の上に、マスク50を形成する。すなわち、母材90の上に、パターニングのためのフォトレジスト91を形成し、所定の箇所にメッキを成長させることによって、箔を形成する。図6Aでは、フォトレジスト91はマスク50の外形部にのみ形成されているが、開口領域における孔を形成するためにフォトレジストを形成し、マスク50の開口部に画素部の蒸着のための孔を同時に形成することも出来る。 6A-6E are cross-sectional views showing a process for forming the deposition mask shown in FIG. FIG. 6A is a cross-sectional view showing a state in which a mask 50 is formed by plating. A metal plate with a smooth plane is prepared and used as the base material 90, and the mask 50 is formed on the base material 90. FIG. That is, a foil is formed by forming a photoresist 91 for patterning on a base material 90 and growing plating at predetermined locations. In FIG. 6A, the photoresist 91 is formed only on the outline of the mask 50, but the photoresist is formed to form the holes in the opening regions, and the openings of the mask 50 are filled with holes for vapor deposition of the pixel portion. can be formed simultaneously.

図6Bは、マスク50とは別途に形成される支持枠60の断面図である。支持枠60は、例えば、厚さが0.5mmのインバー材でなる上板61と下板62とを接着材63によって貼り合わせたものである。接着材63の厚さは、例えば15μmである。板材は延伸材としてロール状で提供されるために、円弧方向への反りが残っている場合がある。このような場合、2枚の板を表裏逆で貼り合わせ、反りを相殺して平坦性を確保することが出来る。支持枠50の加工は切削加工でもエッチング加工でもよい。 6B is a cross-sectional view of a support frame 60 formed separately from the mask 50. FIG. The support frame 60 is formed by bonding an upper plate 61 and a lower plate 62 made of Invar material having a thickness of 0.5 mm with an adhesive 63, for example. The thickness of the adhesive 63 is, for example, 15 μm. Since the plate material is provided in a rolled form as a stretched material, it may remain warped in the arc direction. In such a case, the two plates can be stuck together with the front and back sides reversed to offset the warpage and ensure flatness. The processing of the support frame 50 may be cutting or etching.

図6Cは、マスク50が形成された母材90に支持枠60を仮接着した状態を示す断面図である。仮接着に用いられる仮接着材92は、後の工程で、母材90の剥離が容易になるようなものを用いることが好ましい。 FIG. 6C is a cross-sectional view showing a state in which the support frame 60 is temporarily adhered to the base material 90 on which the mask 50 is formed. As the temporary adhesive 92 used for temporary adhesion, it is preferable to use a material that facilitates peeling of the base material 90 in a later step.

図6Dは、マスク50と支持枠60を接合するために、図6Cの構造に対して、フォトレジスト91を形成し、その後、メッキを成長させてマスク50と支持枠60の接続部材70を形成した状態を示す断面図である。図6Dにおいて、接合部材70としてのメッキを形成する部分以外をフォトレジスト91で覆い、メッキによって接合部材70が形成されている。 FIG. 6D shows the structure of FIG. 6C, in order to connect the mask 50 and the support frame 60, by forming a photoresist 91 and then growing plating to form a connection member 70 between the mask 50 and the support frame 60. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which In FIG. 6D, the joint member 70 is formed by plating by covering with a photoresist 91 a portion other than the portion to be plated as the joint member 70 .

図6Dでは、支持枠60において、メッキによって接合部材70を形成する部分を除いてレジスト91を形成している。これに限らず、支持枠60全面に対してメッキを施してもよい。但し、この場合、支持枠60全面にメッキを施すことによって、メッキ膜の応力により、支持枠60が変形する場合があるので、注意が必要である。 In FIG. 6D, the resist 91 is formed on the support frame 60 except for the portion where the joining member 70 is formed by plating. Not limited to this, the entire surface of the support frame 60 may be plated. However, in this case, when the entire surface of the support frame 60 is plated, the support frame 60 may be deformed by the stress of the plating film, so care must be taken.

図6Eは、フォトレジスト91を剥離した後、金属で形成された母材90を蒸着マスク5から剥離している状態を示す断面図である。これによって蒸着マスク5が完成する。なお、母材90に、メッキによってマスク50を形成する時に、マスク50に応力が生じ、この応力は、母材90を蒸着マスク5から剥離すると、マスク50が収縮する方向に働き、それを支持枠60が収縮に逆らってマスク50を支えることになる。言い換えると、マスク50には、支持枠60によって、外側に引張られるようなテンションが発生することになる。このテンションによってマスク50の平坦性が保たれる。 FIG. 6E is a cross-sectional view showing a state in which the base material 90 made of metal is peeled off from the vapor deposition mask 5 after the photoresist 91 is peeled off. Thus, the vapor deposition mask 5 is completed. When the mask 50 is formed on the base material 90 by plating, stress is generated in the mask 50. When the base material 90 is peeled off from the vapor deposition mask 5, this stress acts in the direction in which the mask 50 contracts and supports it. Frame 60 will support mask 50 against shrinkage. In other words, the support frame 60 causes the mask 50 to be pulled outwardly. This tension keeps the mask 50 flat.

図7は、支持枠60の製造方法を示す断面図である。支持枠60は、上板61と下板62を接着材63で貼り合わせたものである。上板61、下板62のための板材は延伸材としてロール状で提供されるので、円弧方向への反りが残っている。そこで、図7に示すように、2枚の板を表裏逆で貼り合わせ、平坦性を確保している。 7A and 7B are cross-sectional views showing a method of manufacturing the support frame 60. FIG. The support frame 60 is formed by pasting together an upper plate 61 and a lower plate 62 with an adhesive 63 . Since the plate material for the upper plate 61 and the lower plate 62 is provided in a rolled form as a stretched material, the warp in the arc direction remains. Therefore, as shown in FIG. 7, two plates are stuck together with the front and back sides reversed to ensure flatness.

本発明における蒸着マスク5は図5に示すとおりであるが、以後の説明では、わかりやすくするために、簡略図面を用いる。図8は、以後の説明における蒸着マスク5の平面図である。図8では、図5における1区画のみが記載されている。すなわち、支持枠60内に1個のマスク50が形成されている。図9は、図8のA-A断面図である。実際の蒸着マスク5は図5に示すように、マスク50と支持枠60はメッキによる接合部材70によって接合されているが、図9では、接合部材70は省略され、マスク50は、支持枠70の上板61に接合されている。以後、本発明の説明における蒸着マスク5の断面は、図9を用いておこなう。なお、図5に示すような接合部材70が存在している場合も、マスク50からの支持枠60へのテンションは主として上板61に生ずることは、図9と同じである。 The vapor deposition mask 5 in the present invention is as shown in FIG. 5, but a simplified drawing will be used in the following description for easy understanding. FIG. 8 is a plan view of the vapor deposition mask 5 in the following description. In FIG. 8, only one section in FIG. 5 is described. That is, one mask 50 is formed within the support frame 60 . 9 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 8. FIG. As shown in FIG. 5, the mask 50 and the support frame 60 are joined by a joining member 70 by plating in the actual vapor deposition mask 5, but in FIG. is joined to the upper plate 61 of the Hereinafter, the cross section of the vapor deposition mask 5 in the description of the present invention will be made with reference to FIG. Even when the joint member 70 shown in FIG. 5 exists, the tension from the mask 50 to the support frame 60 is mainly generated in the upper plate 61, as in FIG.

図10は、本発明が解決する問題点を示す断面図である。マスク50には平坦性を保つために、テンションが加えられている。一方、支持枠60には、反作用として、内側にテンションがかかり、これによって、上板61と下板62を接着している接着材63にせん断応力が発生し、上板61と下板62が平面方向にずれてしまう。そうすると、結果的にマスク50の孔の位置が移動することになる。 FIG. 10 is a cross-sectional view showing the problem solved by the present invention. A tension is applied to the mask 50 to keep it flat. On the other hand, the support frame 60 is tensioned inward as a reaction, and shear stress is generated in the adhesive 63 that adheres the upper plate 61 and the lower plate 62, and the upper plate 61 and the lower plate 62 are separated. It deviates in the plane direction. As a result, the positions of the holes in the mask 50 are moved.

つまり、基板40も蒸着マスク5の下板62も蒸着装置に固定されるので、結果的に、支持枠60の上板61と接合したマスク50における開口が基板40に対してずれることになる。図2等で説明したように、有機EL表示装置では、画素ピッチが非常に小さいので、図10のようなずれが発生すると、画素における発光体、すなわち、有機EL層の位置がずれてしまい、表示品質に重大な影響をもたらす。 That is, both the substrate 40 and the lower plate 62 of the vapor deposition mask 5 are fixed to the vapor deposition apparatus, and as a result, the opening of the mask 50 joined to the upper plate 61 of the support frame 60 is shifted with respect to the substrate 40 . As described with reference to FIG. 2 and the like, in the organic EL display device, the pixel pitch is very small. Therefore, if a deviation such as that shown in FIG. Significant impact on display quality.

本発明の構成は、図11に示すように、支持枠60において、上板61と下板62のずれを防止するストッパー100を設け、これによって、たとえ、上板61と下板62の間にテンションによるせん断応力が加わった場合においても、上板61と下板62の間にずれが生じないようにし、発光体としての有機EL層の位置がずれないようにすることである。 In the configuration of the present invention, as shown in FIG. 11, the support frame 60 is provided with a stopper 100 that prevents the upper plate 61 and the lower plate 62 from being displaced. To prevent displacement between the upper plate 61 and the lower plate 62 even when shear stress due to tension is applied, and to prevent displacement of the position of the organic EL layer as a light emitter.

図12は、このための構成を示す、蒸着マスク5の平面図である。図12において、マスク50の外側において、支持枠60の上板61と下板62を固定するためのストッパー100が長辺上、短辺上、及びコーナー部に形成されている。なお、ストッパー100の平面的な位置は、図12に限らず、ストッパー100の性質に応じて位置を選べばよい。以下に示す実施例は、種々のストッパー100の構成を示すものである。 FIG. 12 is a plan view of the vapor deposition mask 5 showing the configuration for this purpose. In FIG. 12, outside the mask 50, stoppers 100 for fixing the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60 are formed on the long sides, short sides, and corners. Note that the planar position of the stopper 100 is not limited to that shown in FIG. The following examples illustrate various stopper 100 configurations.

実施例1は、アイスピック、千枚通し、あるいはキリ等のような、先の尖った打ち抜き具110で上板61と下板62を貫通して打ち抜くことにより、打ち抜き部分における上板61の変形によって、上板61と下板62の平面方向のずれを防止するものである。
(実施形態1)
図13A乃至図13Cは実施例1における実施形態1を示す図である。図13Aの上側の断面図は、支持枠60を、孔を有する下側剛体(載置台)115と上側剛体(抑え台)114の間に挟み、打ち抜き具110を支持枠60に当てた状態を示す図である。13Aの下側の図は、支持枠60の上に配置した打ち抜き具110の打点111を示す平面図である。
In Example 1, a punching tool 110 with a sharp tip, such as an ice pick, an awl, or an awl, is used to punch through the upper plate 61 and the lower plate 62, thereby deforming the upper plate 61 at the punched portion. This prevents the upper plate 61 and the lower plate 62 from being displaced in the plane direction.
(Embodiment 1)
13A to 13C are diagrams showing Embodiment 1 in Example 1. FIG. 13A shows a state in which the support frame 60 is sandwiched between a lower rigid body (mounting table) 115 having a hole and an upper rigid body (holding table) 114, and the punching tool 110 is applied to the support frame 60. FIG. FIG. 4 is a diagram showing; 13A is a plan view showing the hitting points 111 of the punching tool 110 arranged on the support frame 60. FIG.

図13Bは、打ち抜き具110によって、支持枠60の上板61と下板62を貫通した状態を示すものであり、上側の図は断面図、下側の図は平面図である。図13Bの断面図に示すように、支持枠60を打ち抜いたとき、上板61と下板62にバリ113が発生し、このバリ113によって、上板61と下板62の相互のずれを防止するものである。図13Bの下側の平面図において、112は貫通孔、1121は、バリを発生させるように支持枠60が変形した部分である。 FIG. 13B shows a state in which the punching tool 110 penetrates the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60. The upper drawing is a cross-sectional view, and the lower drawing is a plan view. As shown in the cross-sectional view of FIG. 13B, when the support frame 60 is punched out, burrs 113 are generated on the upper plate 61 and the lower plate 62. The burrs 113 prevent the upper plate 61 and the lower plate 62 from being displaced from each other. It is something to do. In the lower plan view of FIG. 13B, 112 is a through hole, and 1121 is a portion where the support frame 60 is deformed so as to generate burrs.

図13Cは、貫通孔112に形成されたバリ113の状態を示す断面図である。形成される孔112は例えば円形である。したがって、支持枠60における上板61と下板62は、平面方向のいずれの方向においても、相互の動きは抑えられる。
(実施形態2)
図14A乃至図14Dは、実施例1の実施形態2を示す断面図である。実施形態1では、図13Cに示すように、打ち抜き具110で打ち抜いた支持枠60の裏側には、バリ113が突起として生じている。蒸着装置等において、このような突起状のバリ113が邪魔になる場合がある。実施形態2はこの問題を対策したものである。
13C is a cross-sectional view showing the state of burrs 113 formed in through hole 112. FIG. The formed holes 112 are, for example, circular. Therefore, the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60 are restrained from moving in any plane direction.
(Embodiment 2)
14A to 14D are cross-sectional views showing Embodiment 2 of Example 1. FIG. In Embodiment 1, as shown in FIG. 13C, burrs 113 are produced as protrusions on the back side of the support frame 60 punched out by the punching tool 110 . Such projecting burrs 113 may become an obstacle in a vapor deposition apparatus or the like. Embodiment 2 is a countermeasure for this problem.

図14Aの上側の断面図は、支持枠60を、孔を有する下側剛体115と、上側剛体114の間に挟み、下板62に対してエンドミル加工を施すためのエンドミル116を当てているところを示す断面図である。エンドミル116によって、下板62のみに孔を形成する。 14A, the support frame 60 is sandwiched between a lower rigid body 115 having a hole and an upper rigid body 114, and an end mill 116 for end milling the lower plate 62 is applied. It is a cross-sectional view showing the. A hole is formed only in the bottom plate 62 by the end mill 116 .

図14Bは、下板62に孔を形成した後、下側剛体115の径が小さい部分に支持枠60を配置し、打ち抜き具110を上板61側に当てた状態を示す断面図である。図14Cは、打ち抜き具110によって上板61を打ち抜いた状態を示す断面図である。この時、下板62には、あらかじめ孔が形成されており、かつ、下側剛体115の径が小さくなっているので、上板61のバリ113は、下板62よりも下方に出っ張らず、下板62の端部に当接することになる。 FIG. 14B is a cross-sectional view showing a state in which the support frame 60 is placed on the portion of the lower rigid body 115 with a small diameter after the hole is formed in the lower plate 62, and the punching tool 110 is pressed against the upper plate 61 side. FIG. 14C is a cross-sectional view showing a state in which the upper plate 61 is punched out by the punching tool 110. FIG. At this time, since a hole is formed in advance in the lower plate 62 and the diameter of the lower rigid body 115 is small, the burr 113 of the upper plate 61 does not protrude below the lower plate 62. It comes into contact with the end of the lower plate 62 .

図14Dは、加工後の支持枠60の断面図である。図14Dにおいて、打ち抜かれた上板61のバリ113は、下板62の下面よりも突出することは無く、下板62の端面と当接している。上板61のバリ113によって、下板62と上板61が平面方向にずれることは防止されている。また、バリ113が下板62の下面よりも下方に突出することは無い。 FIG. 14D is a cross-sectional view of the support frame 60 after processing. In FIG. 14D, the punched burrs 113 of the upper plate 61 are in contact with the end face of the lower plate 62 without protruding beyond the lower surface of the lower plate 62 . The burrs 113 of the upper plate 61 prevent the lower plate 62 and the upper plate 61 from shifting in the plane direction. Also, the burr 113 does not protrude below the lower surface of the lower plate 62 .

実施例2は、支持枠60の上板61と下板62に形成したスルーホールにピンを打ち込むことによって、上板61と下板62が相互にずれることを防止するものである。
(実施形態1)
図15A乃至15Eは、実施例2の実施形態1を示す断面図である。図15Aは、上板61と下板62にスルーホールを形成するために、リーマ117を上板61に当てている状態を示している。支持枠60が載置されている下側剛体115には、リーマ117に対応する部分に開口が形成されている。
In the second embodiment, the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60 are prevented from being displaced by driving pins into through holes formed in the upper plate 61 and the lower plate 62 .
(Embodiment 1)
15A to 15E are cross-sectional views showing Embodiment 1 of Example 2. FIG. FIG. 15A shows a state in which a reamer 117 is applied to the upper plate 61 to form through holes in the upper plate 61 and the lower plate 62 . An opening is formed in a portion corresponding to the reamer 117 in the lower rigid body 115 on which the support frame 60 is placed.

図15Bは、スルーホールが形成された支持枠60を開口が形成されていない下側剛体115の上に載置し、打ち込まれるピンの頭を収容するための穴を形成するために、上板61にエンドミル116を当接している状態を示す断面図である。図15Cは、エンドミル116によって、ピンの頭に対応する部分に穴をあけた状態を示す断面図である。 FIG. 15B shows a support frame 60 with through holes formed in it placed on a lower rigid body 115 with no holes formed in it, and an upper plate 60 mounted on the top plate to form holes to accommodate the heads of the driven pins. 6 is a sectional view showing a state in which an end mill 116 is in contact with 61; FIG. FIG. 15C is a cross-sectional view showing a state in which the portion corresponding to the head of the pin is bored by the end mill 116. FIG.

図15Dは、このようして形成された上板61と下板62の孔にピン120を差し込む状態を示す断面図である。上板61と下板62の平面方向のずれを無くすには、ピン120の本体と、上板61と下板62のスルーホールとの関係は、「隙間嵌め」ではなく、「締り嵌め」のほうがよい。 FIG. 15D is a sectional view showing a state in which the pins 120 are inserted into the holes of the upper plate 61 and the lower plate 62 thus formed. In order to eliminate the misalignment of the upper plate 61 and the lower plate 62 in the plane direction, the relationship between the main body of the pin 120 and the through holes of the upper plate 61 and the lower plate 62 is not "clearance fit" but "interference fit". Better.

図15Eは、上板61と下板62に形成された孔にピン120を差し込んだ状態を示す断面図である。リーマ加工とエンドミル加工によって、ピン120は上板61と下板62に完全に収容されている。図15Eにおいて、ピン120によって支持枠60における上板61と下板62のずれは防止することが出来る。また、実施例1のように、バリ113で上板61と下板62のずれを防止する場合に比較して、再現性が優れている。
(実施形態2)
図16A乃至16Dは、実施例2の実施形態2を示す断面図である。実施形態2が実施形態1と異なる点は、使用するピンが、図16Cに示すような、平行ピン121だということである。平行ピン121の場合、ピンに頭が無いので、実施形態1で用いたようなエンドミル加工は不要である。
15E is a cross-sectional view showing a state in which the pins 120 are inserted into the holes formed in the upper plate 61 and the lower plate 62. FIG. Pins 120 are completely housed in upper plate 61 and lower plate 62 by reaming and end milling. In FIG. 15E, the pin 120 can prevent the upper plate 61 and the lower plate 62 from slipping in the support frame 60. In FIG. In addition, reproducibility is excellent as compared with the case where the upper plate 61 and the lower plate 62 are prevented from being displaced by the burr 113 as in the first embodiment.
(Embodiment 2)
16A to 16D are cross-sectional views showing Embodiment 2 of Example 2. FIG. Embodiment 2 differs from Embodiment 1 in that the pins used are parallel pins 121 as shown in FIG. 16C. In the case of the parallel pin 121, since the pin has no head, the end mill processing used in the first embodiment is unnecessary.

図16Aは孔を有する下側剛体115の上にリーマ117を当てた状態を示す断面図である。図16Bは、リーマ117によってスルーホールを形成した支持枠60を、孔の存在しない下側剛体115の上に載置した状態を示す断面図である。図16Cは、支持枠60のスルーホールに平行ピン121を挿入する状態を示す断面図である。この場合も、上板61と下板62の平面方向のずれを無くすには、平行ピン121と、上板61と下板62のスルーホールとの関係は、「隙間嵌め」ではなく、「締り嵌め」のほうがよい。 FIG. 16A is a cross-sectional view showing a state in which a reamer 117 is applied onto a lower rigid body 115 having a hole. FIG. 16B is a cross-sectional view showing a state in which the support frame 60 with through holes formed by the reamer 117 is placed on the lower rigid body 115 having no holes. 16C is a cross-sectional view showing a state in which the parallel pins 121 are inserted into the through holes of the support frame 60. FIG. In this case as well, in order to eliminate the displacement of the upper plate 61 and the lower plate 62 in the plane direction, the relationship between the parallel pins 121 and the through holes of the upper plate 61 and the lower plate 62 should be not a "gap fit" but a "tight fit". "Fitting" is better.

図16Dは、平行ピン121を支持枠60のスルーホール内に打ち付けによって挿入した状態を示す断面図である。実施形態2は実施形態1にくらべてエンドミル加工が不要な分、工程を簡略化できる。
(実施形態3)
図17A乃至17Dは、実施例2の実施形態3を示す断面図である。実施形態3が実施形態1と異なる点は、使用するピンが、図17Dに示すような、中空ピン122だということである。ピン122の外形形状は、実施形態1のピン120と類似である。したがって、支持枠115に形成するスルーホールや上板61にエンドミル116によって形成する穴は実施形態1と同様であり、実施形態3における図17A、図17B、図17Cに示す加工プロセスは、実施形態1における図15A、図15B、図15Cと同じである。
FIG. 16D is a cross-sectional view showing a state in which the parallel pins 121 are inserted into the through holes of the support frame 60 by hammering. Since the second embodiment does not require end milling, the process can be simplified compared to the first embodiment.
(Embodiment 3)
17A to 17D are cross-sectional views showing Embodiment 3 of Example 2. FIG. Embodiment 3 differs from Embodiment 1 in that the pins used are hollow pins 122 as shown in FIG. 17D. The external shape of the pin 122 is similar to the pin 120 of the first embodiment. Therefore, the through holes formed in the support frame 115 and the holes formed in the upper plate 61 by the end mill 116 are the same as in the first embodiment, and the machining processes shown in FIGS. 15A, 15B, and 15C in 1.

図17Dが図15Dと異なる点は、図17Dで使用されるピン122の長さが、図15Dで使用されるピン120の長さよりも長いということである。図17Dにおいて、支持枠60が載置されている下側剛体115には、孔が形成されており、この部分において、ピン122の先端が下板62の下面よりも下方に突出している。 17D differs from FIG. 15D in that the length of pin 122 used in FIG. 17D is longer than the length of pin 120 used in FIG. 15D. 17D, a hole is formed in the lower rigid body 115 on which the support frame 60 is placed, and the tip of the pin 122 protrudes below the lower surface of the lower plate 62 in this portion.

図17Eは、支持枠60をひっくり返し、孔の存在しない下側剛体115上で、ピン122の中空部分を工具(打ち棒)123によって叩く状態を示す断面図である。これによって、中空ピン122の先端をつぶし、中空ピン122を固定する。 FIG. 17E is a cross-sectional view showing a state in which the support frame 60 is turned over and the hollow portion of the pin 122 is hit with a tool (strike rod) 123 on the lower rigid body 115 having no holes. Thereby, the tip of the hollow pin 122 is crushed and the hollow pin 122 is fixed.

図17Fは、中空ピン122の先端をつぶして、中空ピン122を固定した状態を示す断面図である。図17Fに示すように、中空ピン122の先端のつぶした部分は、下板62の下面よりも、下方に突出している。蒸着装置において、蒸着マスク5のいずれかの面に突起が存在してもよいような構成であれば、図17Fのような構成を使用することが出来る。 FIG. 17F is a cross-sectional view showing a state in which hollow pin 122 is fixed by crushing the tip of hollow pin 122 . As shown in FIG. 17F , the crushed portion of the tip of the hollow pin 122 protrudes downward from the lower surface of the lower plate 62 . In the vapor deposition apparatus, the structure shown in FIG. 17F can be used as long as the vapor deposition mask 5 may have projections on either surface.

実施例3は、平面形状において、下板62を上板61よりも小さくしておき、端部に下板62及び上板61と強力に接着することが出来る材料を上板61の端部下面及び下板62の端部側面に形成することによって、上板61と下板62の平面方向へのずれを防止するものである。
(実施形態1)
図18A乃至18Eは、実施例3の実施形態1を示す断面図である。図18Aは、上板61と下板62が上下逆に下側剛体115の上に載置されている状態を示す断面図である。図18に示すように、下板62のサイズは上板61のサイズよりも小さくなっており、端部において、上板61が下板62よりも外側に突き出た状態になっている。
In the third embodiment, the lower plate 62 is made smaller than the upper plate 61 in the planar shape, and a material capable of strongly adhering to the lower plate 62 and the upper plate 61 is applied to the end portion of the upper plate 61 . And by forming it on the end side surface of the lower plate 62, the upper plate 61 and the lower plate 62 are prevented from being displaced in the plane direction.
(Embodiment 1)
18A to 18E are cross-sectional views showing Embodiment 1 of Example 3. FIG. FIG. 18A is a cross-sectional view showing a state in which the upper plate 61 and the lower plate 62 are placed on the lower rigid body 115 upside down. As shown in FIG. 18, the size of the lower plate 62 is smaller than the size of the upper plate 61, and the upper plate 61 protrudes outward from the lower plate 62 at the end.

図18Bは、上板61の端部に3次元プリンタを用いて造形物133を積層している状態を示している。130は、3次元プリンタのノズルを示している。このようにして形成される造形物133は、例えば、熱処理あるいは紫外線照射等を行った後は、上板61及び下板62と、接着材63以上に、強力に接着する性質を有する材料である。図18Cは、3次元プリンタによって、造形物133を積層し終わった状態を示す断面である。この状態で例えば、熱処理を加えて、あるいは、紫外線照射を行って、造形物133を固化するとともに、造形物133を、上板61及び下板62と強力に接着させる。図18C等におけるバーベル印135は、積層造形物133が、上板61及び下板62に強く接着していることを示している。 FIG. 18B shows a state in which a modeled object 133 is stacked on the edge of the top plate 61 using a three-dimensional printer. 130 indicates the nozzles of the three-dimensional printer. The modeled object 133 formed in this manner is a material having a property of being more strongly adhered to the upper plate 61 and the lower plate 62 than the adhesive 63 after being subjected to heat treatment, ultraviolet irradiation, or the like, for example. . FIG. 18C is a cross section showing a state in which the three-dimensional printer finishes stacking the modeled object 133 . In this state, for example, heat treatment is applied or ultraviolet irradiation is performed to solidify the modeled object 133 and strongly bond the modeled object 133 to the upper plate 61 and the lower plate 62 . A barbell mark 135 in FIG. 18C etc. indicates that the layered product 133 is strongly adhered to the upper plate 61 and the lower plate 62 .

図18Dは、研磨工具132を用いて造形物133を研磨して、支持枠60の平面及び側面を平坦化している状態を示す断面図である。図18Eは、加工後の支持枠60の断面図である。図18A乃至図18Dは、上板61と下板62を上下逆の状態で加工しているが、図18Eは、上板61と下板62の上下関係を元に戻した状態になっている。 FIG. 18D is a cross-sectional view showing a state in which the modeled object 133 is polished using the polishing tool 132 to flatten the plane and side surfaces of the support frame 60 . FIG. 18E is a cross-sectional view of the support frame 60 after processing. In FIGS. 18A to 18D, the upper plate 61 and the lower plate 62 are machined upside down, but in FIG. 18E, the upper plate 61 and the lower plate 62 are reversed. .

図18Fは、支持枠60を裏面から視た場合の裏面平面図である。下板62は上板61よりも全周において外形が小さい。3次元プリンタで、全周に積層造形物131を形成することが時間的、コスト的に不利な場合は、図18Fに示すように、積層造形物131を下板62の外側に離散的に形成することが出来る。もちろん、条件が許せば、積層造形物131を下板62の外周全域に形成してもよい。 FIG. 18F is a back plan view when the support frame 60 is viewed from the back. The lower plate 62 has a smaller outer shape than the upper plate 61 over the entire circumference. If it is disadvantageous in terms of time and cost to form the laminate-molded article 131 on the entire periphery with a three-dimensional printer, the laminate-molded article 131 is discretely formed on the outer side of the lower plate 62 as shown in FIG. 18F. can do Of course, if the conditions permit, the laminate-molded article 131 may be formed over the entire outer circumference of the lower plate 62 .

図18Gは、積層造形物131を支持枠60の内周側に形成した例である。図18Gは、裏面平面図であるから、下板62のみが見えている。下板62が内周の全周において、上板61よりも幅が小さい場合、積層造形物113は下板62の内周の全周に形成されている。
(実施形態2)
図19A乃至19Eは、実施例3の実施形態2を示す断面図である。実施形態2が実施形態1と異なる点は、支持枠60において、当初は下板62と上板61の大きさを同じにしておき、下板62の端部をエンドミルによって、除去することにより、3次元プリンタによる造形物131を形成するスペースを確保するものである。
FIG. 18G shows an example in which the laminate-molded article 131 is formed on the inner peripheral side of the support frame 60 . Since FIG. 18G is a plan view of the back surface, only the lower plate 62 is visible. When the width of the lower plate 62 is smaller than that of the upper plate 61 on the entire inner circumference, the laminate-molded article 113 is formed on the entire inner circumference of the lower plate 62 .
(Embodiment 2)
19A to 19E are cross-sectional views showing Embodiment 2 of Example 3. FIG. Embodiment 2 differs from Embodiment 1 in that, in the support frame 60, the sizes of the lower plate 62 and the upper plate 61 are initially the same, and the end of the lower plate 62 is removed by an end mill. This secures a space for forming a modeled object 131 by a three-dimensional printer.

図19Aは、上板61と下板62が同じ大きさである支持枠60を、上下逆の状態にして下側剛体115上に配置した状態において、下板62端部の一部を除去するために、エンドミル116を当てている状態を示す断面図である。なお、図19A乃至図19Eにおける支持枠60は上下逆の状態になって、下側剛体115の上に載置されている。 FIG. 19A shows a state in which the support frame 60 having the upper plate 61 and the lower plate 62 of the same size is placed upside down on the lower rigid body 115, and the end of the lower plate 62 is partially removed. is a cross-sectional view showing a state in which an end mill 116 is applied for the purpose. Note that the support frame 60 in FIGS. 19A to 19E is placed on the lower rigid body 115 in an upside down state.

図19Bは、エンドミル116によって、下板62端部を切削除去した状態を示す断面図である。図19Cは、3次元プリンタによって、上板61端部に積層造形物133を形成している状態を示す断面図である。130は、3次元プリンタのノズルを示している。図19Cは図18Bで説明した構成と同様である。図19Dは、実施形態1の図18Cに対応し、図19Eは、実施形態1の図18Dに対応する。19Fは、加工後の支持枠60を示す断面図であり、実施形態1の図18Eに対応する。 FIG. 19B is a cross-sectional view showing a state in which the edge of the lower plate 62 has been removed by the end mill 116. FIG. FIG. 19C is a cross-sectional view showing a state in which a laminate-molded article 133 is formed on the end of the upper plate 61 by a three-dimensional printer. 130 indicates the nozzles of the three-dimensional printer. FIG. 19C is similar to the configuration described in FIG. 18B. 19D corresponds to FIG. 18C of the first embodiment, and FIG. 19E corresponds to FIG. 18D of the first embodiment. 19F is a cross-sectional view showing the support frame 60 after processing, and corresponds to FIG. 18E of the first embodiment.

実施形態2における支持枠60の平面図は、実施形態1とは異なっている。つまり、実施形態2は、エンドミル116によって、下板62の端部を除去しているので、通常は、除去部分の平面は円となる。図19Gは、実施形態2における支持枠60の裏面平面図である。図19Gにおいて、下板62端部に形成したエンドミル116による穴に3次元プリンタで形成した積層造形物133が充填されている。穴をエンドミルで形成しているので、穴及び積層造形物133は外周において、離散的に形成されている。 A plan view of the support frame 60 in the second embodiment differs from that in the first embodiment. That is, in Embodiment 2, the edge of the lower plate 62 is removed by the end mill 116, so the plane of the removed portion is usually circular. 19G is a back plan view of the support frame 60 in Embodiment 2. FIG. In FIG. 19G, the hole formed by the end mill 116 at the end of the lower plate 62 is filled with the layered article 133 formed by the three-dimensional printer. Since the holes are formed with an end mill, the holes and the laminate-molded article 133 are discretely formed on the outer periphery.

図19Hは、実施形態2における支持枠60の他の例における裏面平面図である。図19Hにおいて、下板62の内周側の端部に、エンドミル116によって穴を形成し、この穴に3次元プリンタで形成した積層造形物133が充填されている。図19Hにおいても、穴をエンドミル116で形成しているので、穴及び積層造形物133は内周において、離散的に形成されている。 19H is a back plan view of another example of the support frame 60 according to Embodiment 2. FIG. In FIG. 19H, a hole is formed in the inner peripheral edge of the lower plate 62 by an end mill 116, and the hole is filled with a layered product 133 formed by a three-dimensional printer. Also in FIG. 19H, since the holes are formed by the end mill 116, the holes and the laminate-molded article 133 are formed discretely on the inner periphery.

なお、図19G、図19H等は、下板62に形成する除去部分を、エンドミル116によって形成しているので、円形の穴となっている。しかし、エンドミル116以外の工具を用いることによって、下板62の端部の除去部分の平面形状を円以外の形状にすることは可能である。 In addition, in FIGS. 19G, 19H, etc., since the removed portion formed on the lower plate 62 is formed by the end mill 116, it is a circular hole. However, by using a tool other than the end mill 116, it is possible to make the planar shape of the removed portion of the end of the lower plate 62 a shape other than a circle.

実施例4は、支持枠60において、上板61と下板62のずれを無くすために端部において、上板61と下板62をメッキによって固定する例である。
(実施形態1)
図20A乃至図20Fは、実施例4の実施形態1を示す断面図であり、図20Gは、実施例4による支持枠60の平面図である。図20Aの上側の図は、本実施形態の処理を施す前の支持枠60の断面図であり、下側の図は、支持枠60の上板61と下板62を接着している接着材63を溶かす溶剤140が入っている溶剤槽141の断面図である。この溶剤の中に、支持枠60の1辺の端部を浸漬させる。
A fourth embodiment is an example in which the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60 are fixed by plating at the end portions in order to eliminate the displacement between the upper plate 61 and the lower plate 62 .
(Embodiment 1)
20A to 20F are cross-sectional views showing Embodiment 1 of Example 4, and FIG. 20G is a plan view of a support frame 60 according to Example 4. FIG. 20A is a cross-sectional view of the support frame 60 before being subjected to the treatment of this embodiment, and the lower view is an adhesive material that bonds the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60. 63 is a cross-sectional view of a solvent bath 141 containing a solvent 140 that dissolves 63. FIG. The end of one side of the support frame 60 is immersed in this solvent.

図20Bは、支持枠60の1辺の端部を溶剤140に浸漬させた状態を示す断面図である。図20Bにおいて、支持枠60が溶剤140に浸漬された部分における丸印は、接着材63が溶剤140に溶け出している途中過程を示している。図20Cは、溶剤140に浸漬された範囲の接着材63が除去された状態を示す断面図である。 FIG. 20B is a cross-sectional view showing a state in which the end of one side of the support frame 60 is immersed in the solvent 140. FIG. In FIG. 20B , the circular mark at the portion where the support frame 60 is immersed in the solvent 140 indicates the intermediate process in which the adhesive 63 is dissolved in the solvent 140 . FIG. 20C is a cross-sectional view showing a state in which the adhesive material 63 in the range immersed in the solvent 140 is removed.

本実施形態では、メッキは上板61と下板62の端面、及び、端部において上板61と下板62の間にメッキを形成する構成である。図20Dの上側の図は、メッキを施す前に上板61と下板62の主面にメッキが形成されないように、マスキングテープ142を貼り付けた状態を示す断面図である。図20の下側の図は、メッキ液143がメッキ槽145に収容されている状態を示す断面図である。 In this embodiment, plating is performed by forming plating between the end surfaces of the upper plate 61 and the lower plate 62 and between the upper plate 61 and the lower plate 62 at the end portions. The upper view of FIG. 20D is a cross-sectional view showing a state in which masking tape 142 is attached so that plating is not formed on the main surfaces of upper plate 61 and lower plate 62 before plating. 20 is a cross-sectional view showing a state in which the plating solution 143 is contained in the plating bath 145. The bottom view of FIG.

図20Eは、支持枠60の端部をメッキ液143に浸漬させた状態を示す断面図である。図20Eにおいて、メッキ液143と接している上板61と下板62にメッキが施されることになる。図20Fは、端部において、上板61と下板62の間および端部側面にメッキ144が施された状態の支持枠60をメッキ槽145から取り出した状態を示す断面図である。図20Fの上側に示すように、メッキ144は下板62と上板61の間を充填して上板61と下板62を強固に接着して、せん断力による上板61と下板62のずれを防止することが出来る。因みに、上板61と下板62の間のメッキ厚は、接着材63と同じ厚さであり、15μm乃至20μmである。 20E is a cross-sectional view showing a state in which the end portion of the support frame 60 is immersed in the plating solution 143. FIG. In FIG. 20E, the upper plate 61 and the lower plate 62 in contact with the plating solution 143 are plated. FIG. 20F is a cross-sectional view showing a state in which the support frame 60 is taken out from the plating tank 145 with the plating 144 applied to the ends between the upper plate 61 and the lower plate 62 and the side faces of the ends. As shown in the upper side of FIG. 20F, the plating 144 fills the gap between the lower plate 62 and the upper plate 61 to strongly bond the upper plate 61 and the lower plate 62 together, so that the upper plate 61 and the lower plate 62 are separated by shear force. Displacement can be prevented. Incidentally, the plating thickness between the upper plate 61 and the lower plate 62 is the same thickness as the adhesive 63 and is 15 μm to 20 μm.

図20A乃至図20Fに示す工程は、支持枠60の1辺のみでなく、支持枠60の4辺に適用される。図20Gは、本実施形態によって支持枠60にメッキ144が施された状態を示す平面図である。図20Gに示すように、メッキ144は、支持枠60の4辺の外端全域に施され、いずれの方向へのせん断力に対しても対応することが出来る。なお、図20Gの点線は、メッキが支持枠60の端部において、上板61と下板62の間に形成されていることを示している。
(実施形態2)
図21A乃至図21Eは、実施例4の実施形態2を示す断面図である。図21Aは、支持枠60の端部を溶剤140に浸漬して、接着材63を溶かしている状態を示す断面図であり、実施形態1における図20Bに対応する。支持枠60において、接着材63が除去された範囲は上板61と下板62の間隔が大きくなりやすい。図21Bは、支持枠60の端部において、上板61と下板62の間隔が大きくなっている状態を示す断面図である。そうすると、上板61と下板62にメッキ144を施しても、上板61と下板62がメッキ144によって接合されない状態が生ずる。
The steps shown in FIGS. 20A to 20F are applied not only to one side of the support frame 60 but also to four sides of the support frame 60 . FIG. 20G is a plan view showing a state in which the support frame 60 is plated 144 according to this embodiment. As shown in FIG. 20G, the plating 144 is applied to the entire outer ends of the four sides of the support frame 60 so that it can withstand shearing forces in any direction. 20G indicates that the plating is formed between the upper plate 61 and the lower plate 62 at the end of the support frame 60. As shown in FIG.
(Embodiment 2)
21A to 21E are cross-sectional views showing Embodiment 2 of Example 4. FIG. 21A is a cross-sectional view showing a state in which the end portion of the support frame 60 is immersed in the solvent 140 to dissolve the adhesive 63, and corresponds to FIG. 20B in Embodiment 1. FIG. In the support frame 60, the gap between the upper plate 61 and the lower plate 62 tends to increase in the range where the adhesive 63 is removed. 21B is a cross-sectional view showing a state in which the distance between the upper plate 61 and the lower plate 62 is increased at the end of the support frame 60. FIG. As a result, even if the plating 144 is applied to the upper plate 61 and the lower plate 62 , the upper plate 61 and the lower plate 62 are not joined by the plating 144 .

図21Cは、これを防止するために、メッキ前にクランプ146によって、上板61と下板62の間隔の広がりを防止している状態を示す断面図である。図21Cの上側の図において、端部において接着材63が除去された支持枠60に対し、マスキングテープ142を貼り付け、その後、クランプ146によって、上板61と下板62の間隔の広がりを抑え、上板61と下板62の間に均一の厚さでメッキが施されるようにしている。クランプ146は、支持枠60の1辺全体に形成してもよいし、離散的に形成してもよい。この状態で、図21Cに示すメッキ液143に浸漬する。 FIG. 21C is a cross-sectional view showing a state in which a clamp 146 is used to prevent the gap between the upper plate 61 and the lower plate 62 from widening before plating in order to prevent this. 21C, the masking tape 142 is attached to the support frame 60 from which the adhesive 63 has been removed at the end, and then the gap between the upper plate 61 and the lower plate 62 is suppressed by the clamp 146. , the upper plate 61 and the lower plate 62 are plated with a uniform thickness. The clamps 146 may be formed along the entire side of the support frame 60, or may be formed discretely. In this state, it is immersed in the plating solution 143 shown in FIG. 21C.

図21Dは、クランプされた状態の支持枠60をメッキ液143内に浸漬して、メッキ144を施している状態を示す断面図である。図21Dは、このようにして端部がメッキされた支持枠60をメッキ液143から取り出した状態を示す断面図である。21Eは、クランプ146及びマスキングテープ142を除去した状態を示す支持枠60の断面図である。このようにして形成された実施形態2における支持枠60の平面図は、実施形態1における図20Gと同じである。 FIG. 21D is a cross-sectional view showing a state in which the clamped support frame 60 is immersed in a plating solution 143 and plated 144. FIG. FIG. 21D is a cross-sectional view showing a state in which the support frame 60 with its edges plated in this manner is removed from the plating solution 143. As shown in FIG. 21E is a cross-sectional view of the support frame 60 with the clamp 146 and the masking tape 142 removed. A plan view of the support frame 60 in the second embodiment thus formed is the same as FIG. 20G in the first embodiment.

このように、本実施形態による支持枠60は、端部において、確実に上板61と下板62をメッキ144によって接着することが出来るので、せん断力に起因するずれを確実に防止することが出来る。 As described above, the support frame 60 according to the present embodiment can reliably bond the upper plate 61 and the lower plate 62 with the plating 144 at the end portions, so that displacement caused by shearing force can be reliably prevented. I can.

実施例5の支持枠60は、断面構造が実施例1乃至4とは異なっている。実施例5の支持枠60においては、片面に凸部611及び凹部612を有する上板61及び片面に凸部621及び凹部622を有する下板62を用意し、上板61あるいは下板62の一方の凸部と、上板61あるいは下板62の他方の凹部を勘合させて、上板61と下板62を貼り合わせる。このように形成された支持枠60は、互いに勘合する凸部と凹部によって、主面と平行方向にせん断力が生じても、上板61と下板62のずれは生じない。
(実施形態1)
図22は、実施例5の実施形態1による支持枠60の製造方法を示す断面図である。図22において、片面に凸部611と凹部612が形成された上板61、及び、片面に凸部621と凹部622が形成された下板62を用意する。このような板材は、プレスでも、機械加工でも製作することが出来る。図22において、上板61と下板62を、凹凸面を向い合せてローラによって貼り合わせる。貼り合わせるときに、支持枠60の主面と直角方向の力によって、上板61と下板62が剥離しないように、ノズル153から接着面に接着液152を塗布しながら貼り合わせる。
The support frame 60 of Example 5 differs from those of Examples 1 to 4 in cross-sectional structure. In the support frame 60 of Example 5, an upper plate 61 having a convex portion 611 and a concave portion 612 on one side and a lower plate 62 having a convex portion 621 and a concave portion 622 on one side are prepared. The upper plate 61 and the lower plate 62 are bonded together by fitting the convex portion of the upper plate 61 or the lower plate 62 with the concave portion of the other. In the support frame 60 formed in this manner, the upper plate 61 and the lower plate 62 are not displaced even if a shearing force is generated in the direction parallel to the main surface due to the protrusions and recesses that are fitted to each other.
(Embodiment 1)
FIG. 22 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing the support frame 60 according to Embodiment 1 of Example 5. FIG. In FIG. 22, an upper plate 61 having a convex portion 611 and a concave portion 612 formed on one side and a lower plate 62 having a convex portion 621 and a concave portion 622 formed on one side are prepared. Such a plate material can be manufactured by pressing or machining. In FIG. 22, an upper plate 61 and a lower plate 62 are pasted together by rollers with their uneven surfaces facing each other. In order to prevent the upper plate 61 and the lower plate 62 from peeling off due to the force perpendicular to the main surface of the support frame 60, the adhesive liquid 152 is applied from the nozzle 153 to the bonding surface.

上板61と下板62を貼り合わせるときに、ローラ150によって、上板61あるいは下板62の一方の凸部と、上板61あるいは下板62の他方の凹部を勘合させて貼り合わせるので、上板61と下板62の間にせん断力が加えられても、上板61と下板62の主面方向のずれは生じない。また、ローラ150によって押しつぶしながら凸部と凹部を勘合するので、凸部及び凹部の製造公差に起因するずれも防止することが出来る。 When the upper plate 61 and the lower plate 62 are pasted together, the projections of one of the upper plate 61 or the lower plate 62 and the recesses of the other of the upper plate 61 or the lower plate 62 are fitted by the rollers 150, so that Even if a shearing force is applied between the upper plate 61 and the lower plate 62, the upper plate 61 and the lower plate 62 are not displaced in the main surface direction. Further, since the projections and the recesses are fitted while being pressed by the rollers 150, it is possible to prevent misalignment of the projections and the recesses due to manufacturing tolerances.

図23は、このようにして製作された支持枠の断面図である。図23においては、上板61の凸部と下板の凹部が勘合して、組み合わされているので、せん断力が加わっても、上板61と下板62がずれることはない。また、上板61と下板62の間には、接着材が存在しているので、主面と垂直方向に力が加わっても上板61と下板62が剥離することは無い。 FIG. 23 is a cross-sectional view of a support frame manufactured in this way. In FIG. 23, since the projections of the upper plate 61 and the recesses of the lower plate are fitted together, the upper plate 61 and the lower plate 62 do not shift even when a shearing force is applied. Further, since the adhesive is present between the upper plate 61 and the lower plate 62, the upper plate 61 and the lower plate 62 will not separate even if a force is applied in the direction perpendicular to the main surface.

図24は、上板61及び下板62に凸部及び凹部が形成された面の状態を示す図である。図24の左側が上板61であり、右側が下板62である。図24の左側の図において、上板61には、凸部611が所定のピッチで形成されている。上側は平面図であり、下側はそのB-B断面図である。図24の左側の図面において、凸部611は島状に形成され、マトリクス状に配置している。各凸部611の平面形状は、図24では丸であるが、正方形でも、長方形でもよい。 FIG. 24 is a diagram showing the state of the surfaces of the upper plate 61 and the lower plate 62 on which the protrusions and recesses are formed. The left side of FIG. 24 is the upper plate 61 and the right side is the lower plate 62 . 24, convex portions 611 are formed on the upper plate 61 at a predetermined pitch. The upper side is a plan view, and the lower side is a cross-sectional view taken along the line BB. In the drawing on the left side of FIG. 24, the convex portions 611 are formed in an island shape and arranged in a matrix. Although the planar shape of each projection 611 is circular in FIG. 24, it may be square or rectangular.

図24の右側の図において、下板62には、上板61の凸部611に対応する部分に凹部622が形成されている。図24の右側の図の上側は平面図であり、下側はそのC-C断面図である。下板62の凹部622は、上板61における凸部611と同じピッチで形成され、各凹部622の平面形状は、上板61における凸部611と同じである。図24において、上板61の凸部611と下板62の凹部622を勘合させて貼り合わせることによって、せん断力が加わっても、上61板と下板62のずれが生じない支持枠60を製作することが出来る。 24, the lower plate 62 is formed with recesses 622 at portions corresponding to the protrusions 611 of the upper plate 61. As shown in FIG. The upper side of the drawing on the right side of FIG. 24 is a plan view, and the lower side is a sectional view along the line CC. The concave portions 622 of the lower plate 62 are formed at the same pitch as the convex portions 611 of the upper plate 61 , and the planar shape of each concave portion 622 is the same as that of the convex portions 611 of the upper plate 61 . In FIG. 24, the support frame 60 in which the upper plate 61 and the lower plate 62 are not displaced even when a shearing force is applied is provided by fitting the convex portion 611 of the upper plate 61 and the concave portion 622 of the lower plate 62 and bonding them together. can be manufactured.

図25は、上板61及び下板62の凹部及び凸部が形成された面の状態の他の例を示す図である。図24の左側が上板61であり、右側が下板62である。図24の左側の図において、上板61には、凸部611が所定のピッチで形成されている。上側は平面図であり、下側はそのD-D断面図である。 FIG. 25 is a diagram showing another example of the state of the surfaces of the upper plate 61 and the lower plate 62 on which the recesses and protrusions are formed. The left side of FIG. 24 is the upper plate 61 and the right side is the lower plate 62 . 24, convex portions 611 are formed on the upper plate 61 at a predetermined pitch. The upper side is a plan view, and the lower side is a DD cross-sectional view.

図25の右側の図において、下板62には、上板61と同様に、凸部621が所定のピッチで形成されている。上側は平面図であり、下側はそのE-E断面図である。つまり、下板62と上板61は同じものである。上板61と下板62を貼り合わせるときに、上板61の凸部611を、下板62の点線の丸で示す凹部と勘合させる。下板62において、4個の凸部621の間のスペースが凹部622を構成することになる。 25, on the lower plate 62, similarly to the upper plate 61, convex portions 621 are formed at a predetermined pitch. The upper side is a plan view, and the lower side is a cross-sectional view taken along line EE. That is, the lower plate 62 and the upper plate 61 are the same. When the upper plate 61 and the lower plate 62 are attached together, the convex portion 611 of the upper plate 61 is fitted into the concave portion indicated by the dotted circle of the lower plate 62 . In the lower plate 62 , the spaces between the four projections 621 constitute the recesses 622 .

図25においても、効果は図24と同じである。図24の構成では、上板61と下板62を別々の工程で形成する必要があるが、図25の構成では、上板61と下板62を同時に形成することが出来る。したがって、製造コストを低減することができる。 Also in FIG. 25, the effect is the same as in FIG. In the structure of FIG. 24, the upper plate 61 and the lower plate 62 need to be formed in separate processes, but in the structure of FIG. 25, the upper plate 61 and the lower plate 62 can be formed at the same time. Therefore, manufacturing costs can be reduced.

図26は支持枠60の上板61及び下板62に形成する凸部と凹部の他の例を示す平面図である。図26において、上板61の一方の面には、凸部611が、縦方向(y方向)にストライプ状に形成され、横方向(x方向)に所定のピッチで形成されている。凸部611と凸部611の間が凹部612となっている。図26乃至図28における形態では、上板61と下板62は同じ形状なので、上板61のみ記載している。 FIG. 26 is a plan view showing another example of protrusions and recesses formed on the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60. FIG. In FIG. 26, on one surface of the upper plate 61, convex portions 611 are formed in stripes in the vertical direction (y direction) and formed at a predetermined pitch in the horizontal direction (x direction). A concave portion 612 is formed between the convex portions 611 and 611 . 26 to 28, the upper plate 61 and the lower plate 62 have the same shape, so only the upper plate 61 is shown.

図26において、凸部611のピッチppと凸部611の幅wをw=p/2に設定することによって、同じ幅の凸部611と凹部612が同じピッチで形成されることになる。このような構成であれば、上板61と下板62を同時に形成することが出来る。このようにして形成した上板61と下板62の凸部と凹部を勘合させて支持枠60を形成することができる。なお、上板61と下板62を勘合させるさいに、接着液152を吹き付けることは図22で説明したのと同様である。 In FIG. 26, by setting the pitch pp of the projections 611 and the width w of the projections 611 to w=p/2, the projections 611 and the recesses 612 having the same width are formed at the same pitch. With such a configuration, the upper plate 61 and the lower plate 62 can be formed at the same time. The support frame 60 can be formed by fitting the protrusions and recesses of the upper plate 61 and the lower plate 62 thus formed. In addition, when the upper plate 61 and the lower plate 62 are fitted together, the adhesive liquid 152 is sprayed in the same manner as explained with reference to FIG. 22 .

このようにして形成された支持枠60は、横方向(図26のx方向)に加わるせん断力に対しては、上板61と下板62がずれることはない。一方、縦方向(図26のy方向)に加わるせん断力に対しても、上板61及び下板62に形成された凹凸によって接着面積が増加するので、ある程度の効果はある。しかし、縦方向に加わるせん断力に対しては充分ではない。 In the support frame 60 formed in this manner, the upper plate 61 and the lower plate 62 are not displaced against a shearing force applied in the horizontal direction (x direction in FIG. 26). On the other hand, the shear force applied in the vertical direction (the y direction in FIG. 26) is also effective to some extent because the unevenness formed on the upper plate 61 and the lower plate 62 increases the bonding area. However, it is not sufficient for longitudinally applied shear forces.

図27は支持枠60の上板61及び下板62に形成する凸部611と凹部612の他の例を示す平面図である。図27において、上板61の一方の面には、凸部611が、斜め方向にストライプ状に延在し、その直角方向に所定のピッチで形成されている。凸部611と凸部611の間が凹部612となっている。図27の構成は、凸部611が斜め方向にストライプ状に形成されている他は図26と同じである。 FIG. 27 is a plan view showing another example of the projections 611 and the recesses 612 formed on the upper plate 61 and the lower plate 62 of the support frame 60. FIG. In FIG. 27, on one surface of the upper plate 61, convex portions 611 extend obliquely in stripes and are formed at a predetermined pitch in the perpendicular direction. A concave portion 612 is formed between the convex portions 611 and 611 . The configuration of FIG. 27 is the same as that of FIG. 26 except that the protrusions 611 are formed in stripes in an oblique direction.

図27の構成による上板61と下板62を勘合させて形成した支持枠60は、横方向(図27のx方向)、縦方向(図27のy方向)へのせん断力は分散されるので、上板61と下板62のずれは、x方向、y方向のいずれにも生じにくい。但し、x方向またはy方向へのせん断力が非常に大きい場合は、上板61と下板62に若干のずれは生じうる。 In the support frame 60 formed by fitting the upper plate 61 and the lower plate 62 with the structure shown in FIG. Therefore, displacement between the upper plate 61 and the lower plate 62 is unlikely to occur in both the x direction and the y direction. However, if the shear force in the x-direction or the y-direction is very large, the upper plate 61 and the lower plate 62 may be slightly misaligned.

図28は支持枠60の上板及び下板に形成する凸部と凹部の他の例を示す平面図である。図28において、上板61の一方の面には、凸部611が、縦方向にジグザグ状に形成され、その直角方向に所定のピッチで配列している。凸部611と凸部611の間が凹部612となっている。図28の構成は、凸部61がジグザグ状形成されている他は図26と同じである。 FIG. 28 is a plan view showing another example of protrusions and recesses formed on the upper and lower plates of the support frame 60. FIG. In FIG. 28, on one surface of the upper plate 61, convex portions 611 are formed in a zigzag shape in the vertical direction and arranged at a predetermined pitch in the direction perpendicular thereto. A concave portion 612 is formed between the convex portions 611 and 611 . The configuration of FIG. 28 is the same as that of FIG. 26 except that the convex portion 61 is formed in a zigzag shape.

図28の構成による上板61と下板62を勘合させて形成した支持枠60は、横方向(図28のx方向)、縦方向(図28のy方向)へのせん断力は分散されるので、上板と下板のずれは、x方向、y方向のいずれにも生じにくい。特に、ジグザグの角度が45度であれば、x方向あるいはy方向に加わるせん断力は、上下左右とも相殺されてゼロになる。したがって、仮に大きなせん断力が生じても、上板61と下板62は、ずれることは無い。 In the support frame 60 formed by fitting the upper plate 61 and the lower plate 62 with the structure shown in FIG. Therefore, displacement between the upper plate and the lower plate is unlikely to occur in both the x direction and the y direction. In particular, if the zigzag angle is 45 degrees, shear forces applied in the x-direction or the y-direction cancel each other and become zero. Therefore, even if a large shearing force occurs, the upper plate 61 and the lower plate 62 will not be displaced.

なお、図26-28の構成は、上板61、下板62とも同一の部材とすることが出来るので、製造コスト上有利である。
(実施形態2)
図29は実施例5の実施形態2の構成の製造工程を示す断面図である。図29においては、上板61の凸部611の断面、及び、下板62の凸部621の断面が3角形である点を除いて実施形態1の図22と同じである。図29に示すような凸部611、621もプレスあるいは機械加工で形成することが出来る。実施形態2における上板61、あるいは、下板62の平面形状は図24乃至図28で説明したのと同じである。
26 to 28, the upper plate 61 and the lower plate 62 can be made of the same member, which is advantageous in terms of manufacturing cost.
(Embodiment 2)
FIG. 29 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the configuration of Embodiment 2 of Example 5. FIG. 29 is the same as FIG. 22 of Embodiment 1 except that the cross section of the projection 611 of the upper plate 61 and the cross section of the projection 621 of the lower plate 62 are triangular. Protrusions 611 and 621 as shown in FIG. 29 can also be formed by pressing or machining. The planar shape of the upper plate 61 or the lower plate 62 in the second embodiment is the same as explained with reference to FIGS. 24 to 28. FIG.

図30は、実施形態2における支持枠60の断面図である。上板61の凸部611及び下板62の凹部621が勘合することによって、マスク50から、支持枠60にテンションが加わっても、上板61と下板62がずれることは無い。ところで、実施形態2は断面が3角形の場合を示しているが、この断面は、3角形に限らず、3角形の頂点に曲率Rが形成された形状、あるいは、台形等である場合も同様である。
(実施形態3)
図31は実施例5の実施形態3の構成の製造工程を示す断面図である。実施形態3では、上板61に凸部65及び下板62に凸部66が3次元プリンタによって形成されている点が実施形態1と異なっている。3次元プリンタによって凸部65、66を形成した以外は、実施形態1における図22で説明したのと同じである。図32は、実施形態3における支持枠の断面図である。凸部65、66が3次元プリリンタで形成されている他は、実施形態1における図23で説明したのと同じである。
FIG. 30 is a cross-sectional view of the support frame 60 in Embodiment 2. FIG. By fitting the convex portion 611 of the upper plate 61 and the concave portion 621 of the lower plate 62 together, even if tension is applied to the support frame 60 from the mask 50, the upper plate 61 and the lower plate 62 do not shift. By the way, the second embodiment shows a case where the cross section is triangular, but the cross section is not limited to a triangle, and may be a shape having a curvature R formed at the vertex of the triangle, or a trapezoid or the like. is.
(Embodiment 3)
FIG. 31 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the configuration of Embodiment 3 of Example 5. FIG. Embodiment 3 is different from Embodiment 1 in that a convex portion 65 is formed on an upper plate 61 and a convex portion 66 is formed on a lower plate 62 by a three-dimensional printer. The configuration is the same as that described with reference to FIG. 22 in Embodiment 1, except that the convex portions 65 and 66 are formed by a three-dimensional printer. 32 is a cross-sectional view of a support frame according to Embodiment 3. FIG. Except that the convex portions 65 and 66 are formed by a three-dimensional pre-printer, the configuration is the same as that described with reference to FIG. 23 in the first embodiment.

実施形態3における上板61、あるいは、下板62の平面形状は図24乃至図28で説明したのと同じである。例えば、機械加工によって図28に示すように凸部611を平面形状がジグザグになるように形成することは比較的難しいが、3次元プリンタによれば、容易に形成することが出来る。 The planar shape of the upper plate 61 or the lower plate 62 in Embodiment 3 is the same as explained with reference to FIGS. For example, it is relatively difficult to form the convex portion 611 in a zigzag plane shape as shown in FIG. 28 by machining, but it can be easily formed by a three-dimensional printer.

以上の実施例は、有機EL表示装置を、蒸着マスクを用いて製造する場合について説明した。しかし、本発明は、これに限らず、有機EL表示装置以外の表示装置においても、高精細ピッチの蒸着を必要とする場合の蒸着マスクとして用いることが出来る。 In the above examples, the case of manufacturing an organic EL display device using a vapor deposition mask has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be used as a deposition mask for display devices other than the organic EL display device when high-definition pitch deposition is required.

5…蒸着マスク、10…表示領域、 11…走査線、 12…映像信号線、 13…電源線、 14…画素、 14…画素、 14…画素、 14…画素、 20…走査線駆動回路、 21…額縁領域、 30…端子領域、 31…ドライバIC、 32…フレキシブル配線基板、 40…基板、 50…マスク、 51…開口領域、 52…周辺領域、 60…支持枠、 61…上板、 62…下板、 63…接着材、 65…3次元プリンタによる凸部、 66…3次元プリンタによる凸部、 70…接合部材、 80…蒸発物、 90…母材、 91…レジスト、 92…仮止め接着材、 100…ストッパー、 110…打ち抜き具、 111…打点、 112…孔、 113…バリ、 114…上側剛体(載置台)、 115…下側剛体(抑え台)、 116…エンドミル、 117…リーマ、 120…ピン、 121…平行ピン、 122…中空ピン、 123…打ち棒、 130…3次元プリンタ用ノズル、 131…3次元造形物、 132…研磨工具、 133…吐出物、 135…強い接着を示すマーク、 140…溶剤、 141…溶剤槽、 142…マスキングテープ、 143…メッキ液、 144…メッキ、 145…メッキ槽、 150…ローラ、 152…接着液、 153…ノズル、 150…コモン電極、 151…容量絶縁膜、 152…画素電極、 153…配向膜、 611…凸部、 612…凹部、 621…凸部、 622…凹部、 900…蒸着源、 1000…真空蒸着チャンバ、 1121…支持枠の変形部分、 B…青発光体、 G…緑発光体、 R…赤発光体 5 Deposition mask 10 Display area 11 Scanning line 12 Video signal line 13 Power supply line 14 Pixel 14 Pixel 14 Pixel 14 Pixel 20 Scanning line driving circuit 21 Frame area 30 Terminal area 31 Driver IC 32 Flexible wiring board 40 Substrate 50 Mask 51 Opening area 52 Peripheral area 60 Support frame 61 Upper plate 62 Lower plate 63 Adhesive 65 Convex portion by three-dimensional printer 66 Convex portion by three-dimensional printer 70 Joining member 80 Evaporated material 90 Base material 91 Resist 92 Temporary adhesion Material 100 Stopper 110 Punching tool 111 Riding point 112 Hole 113 Burr 114 Upper rigid body (mounting table) 115 Lower rigid body (holding table) 116 End mill 117 Reamer DESCRIPTION OF SYMBOLS 120... Pin 121... Parallel pin 122... Hollow pin 123... Hitting stick 130... Nozzle for three-dimensional printer 131... Three-dimensional modeled object 132... Polishing tool 133... Discharged material 135... Strong adhesion Mark 140 Solvent 141 Solvent bath 142 Masking tape 143 Plating solution 144 Plating 145 Plating bath 150 Roller 152 Adhesive 153 Nozzle 150 Common electrode 151 Capacitance insulating film 152 Pixel electrode 153 Alignment film 611 Convex portion 612 Concave portion 621 Convex portion 622 Concave portion 900 Vapor deposition source 1000 Vacuum vapor deposition chamber 1121 Deformed portion of support frame , B... blue light emitter, G... green light emitter, R... red light emitter

Claims (20)

表示装置の製造に使用される蒸着マスクであって、
前記蒸着マスクは、画素に蒸着物を形成するためのマスクと、前記マスクを支える支持枠とで構成され、
前記支持枠は、上板と下板と、前記上板と前記下板を接着する接着材によって構成され、
前記上板と前記下板の間にせん断力が加わったときに、前記支持枠の主面方向に、前記上板と前記下板が互いにずれることを防止するためのストッパーを有することを特徴とする蒸着マスク。
A vapor deposition mask used in the manufacture of a display device,
The vapor deposition mask is composed of a mask for forming a vapor deposition on pixels and a support frame for supporting the mask,
The support frame is composed of an upper plate, a lower plate, and an adhesive that adheres the upper plate and the lower plate,
A vapor deposition characterized by comprising a stopper for preventing the upper plate and the lower plate from being displaced from each other in the main surface direction of the support frame when a shearing force is applied between the upper plate and the lower plate. mask.
前記マスクはメッキによって形成された箔状であり、前記表示装置の画素に対応して多数の孔が形成されおり、前記マスクと前記支持枠は接合部材によって接合されていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。 The mask is a foil formed by plating, and has a large number of holes corresponding to the pixels of the display device, and the mask and the support frame are joined by a joining member. Item 1. The vapor deposition mask according to item 1. 前記接合部材は、メッキで形成されていることを特徴とする請求項2に記載の蒸着マスク。 3. The vapor deposition mask according to claim 2, wherein the joining member is formed by plating. 前記ストッパーは、前記上板及び前記下板を同時に打ち抜くことによって形成されるバリによって構成されていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。 2. A vapor deposition mask according to claim 1, wherein said stopper comprises a burr formed by simultaneously punching said upper plate and said lower plate. 前記ストッパーは、前記上板又は前記下板の一方を打ち抜くことによって形成されるバリによって構成されていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。 2. A vapor deposition mask according to claim 1, wherein said stopper comprises a burr formed by punching one of said upper plate and said lower plate. 前記ストッパーは、前記上板と前記下板を貫通する孔にピンを挿入して形成されていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。 2. The vapor deposition mask according to claim 1, wherein said stopper is formed by inserting a pin into a hole passing through said upper plate and said lower plate. 前記ピンは平行ピンであることを特徴とする請求項6に記載の蒸着マスク。 7. A vapor deposition mask according to claim 6, wherein said pins are parallel pins. 前記ピンは中空ピンであることを特徴とする請求項6に記載の蒸着マスク。 7. A vapor deposition mask according to claim 6, wherein said pins are hollow pins. 前記ストッパーは、前記下板あるいは前記上板の一方の周辺部分に3次元プリンタによって形成された造形物であることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。 2. The vapor deposition mask according to claim 1, wherein the stopper is a shaped object formed by a three-dimensional printer on the peripheral portion of one of the lower plate and the upper plate. 前記上板あるいは前記上板の一方の平面方向の大きさは、前記上板あるいは前記上板の他方の平面方向の大きさよりも大きく、
前記上板あるいは前記上板の前記一方の端部に、3次元プリンタによって形成された造形物が形成され、
前記造形物が、前記ストッパーを構成していることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
the top plate or one of the top plates is larger than the top plate or the other top plate in the plane direction;
a modeled object formed by a three-dimensional printer is formed on the upper plate or the one end of the upper plate;
2. The vapor deposition mask according to claim 1, wherein the shaped object constitutes the stopper.
前記ストッパーは、前記支持枠の周辺において、前記上板と前記下板の間に形成されたメッキによって構成されていることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。 2. A vapor deposition mask according to claim 1, wherein said stopper is formed by plating between said upper plate and said lower plate around said support frame. 表示装置の製造に使用される蒸着マスクであって、
前記蒸着マスクは、画素に蒸着物を形成するためのマスクと、前記マスクを支える支持枠とで構成され、
前記支持枠は、上板と下板と、前記上板と前記下板を接着する接着材によって構成され、
前記上板の一方の面には、所定のピッチで凸部が形成され、前記下板の一方の面には、前記所定のピッチで凹部が形成され、前記凸部と前記凹部が勘合している構成であることを特徴とする蒸着マスク。
A vapor deposition mask used in the manufacture of a display device,
The vapor deposition mask is composed of a mask for forming a vapor deposition on pixels and a support frame for supporting the mask,
The support frame is composed of an upper plate, a lower plate, and an adhesive that adheres the upper plate and the lower plate,
On one surface of the upper plate, convex portions are formed at a predetermined pitch, and on one surface of the lower plate, concave portions are formed at the predetermined pitch, and the convex portions and the concave portions are fitted to each other. A vapor deposition mask, characterized in that it has a configuration in which the
前記凸部は島状に形成され、マトリクス状に配置しており、
前記凹部は、島状に形成され、マトリクス状に配置していることを特徴とする請求項12に記載の蒸着マスク。
The convex portions are formed in an island shape and arranged in a matrix,
13. The vapor deposition mask according to claim 12, wherein the concave portions are formed like islands and arranged in a matrix.
前記上板の前記一方の面と、前記下板の前記一方の面は同じ形状であり、
前記下板の前記凹部は、前記下板に形成された凸部に挟まれた領域によって構成されていることを特徴とする請求項13に記載の蒸着マスク。
The one surface of the upper plate and the one surface of the lower plate have the same shape,
14. The vapor deposition mask according to claim 13, wherein the concave portion of the lower plate is formed by a region sandwiched between convex portions formed on the lower plate.
前記凸部は、ストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項12に記載の蒸着マスク。 13. The vapor deposition mask according to claim 12, wherein the projections are formed in stripes. 前記凸部は、ストライプ状に形成されており、前記ストライプの延在方向は、前記支持枠の辺に対して斜め方向であることを特徴とする請求項12に記載の蒸着マスク。 13. A vapor deposition mask according to claim 12, wherein said convex portion is formed in a stripe shape, and the extending direction of said stripe is oblique to the sides of said support frame. 前記凸部は、平面で視てジグザグ状に形成されていることを特徴とする請求項12に記載の蒸着マスク。 13. The vapor deposition mask according to claim 12, wherein the projections are formed in a zigzag shape when viewed from above. 前記凸部は3次元プリンタによって形成されていることを特徴とする請求項12に記載の蒸着マスク。 13. The vapor deposition mask according to claim 12, wherein the projections are formed by a three-dimensional printer. 前記凸部の断面形状は矩形であることを特徴とする請求項12に記載の蒸着マスク。 13. The vapor deposition mask according to claim 12, wherein the cross-sectional shape of the projection is rectangular. 前記凸部の断面形状は三角形であることを特徴とする請求項12に記載の蒸着マスク。 13. The vapor deposition mask according to claim 12, wherein the cross-sectional shape of said projections is triangular.
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