JP6709314B2 - 液晶用基板の製造方法、及び液晶用基板の処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、基板を洗浄処理する洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法、及び液晶用基板の処理装置に関する。

従来、液晶表示装置の主要構成部品である液晶パネルの製造においては、液晶用ガラス基板の表面にポリイミド等の高分子膜（配向膜）を塗布し、ラビング処理法や偏光紫外線照射処理法等によって配向膜に一定方向の異方性を持たせるための配向処理が行われている。このうちラビング処理法では、回転するラビングローラーによって配向膜の表面を一定方向に擦ることにより微細な粉塵や削りカス等が生じるため、ラビング処理後に基板の表面（配向処理面）に付着した異物を除去するべく、基板表面を純水洗浄する。

ラビング処理後の洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法の従来例として、下記特許文献１に記載されたものが知られている。この特許文献１に記載された液晶用基板の処理装置は、液晶用基板をブラッシング洗浄する回転式のブラッシングローラーを備えており、その回転方向とラビングローラーの回転方向を逆向きとすることによって、超音波洗浄では除去しにくい配向処理面において下地構造物にひっかかった異物を取り除くことができ、洗浄効果を高めることができるとしている。

特開平４−２２１９２５号公報

しかし、ブラッシングローラーの接触によって配向膜に不必要な傷が生じて配向乱れが生じてしまい、配向処理効果が低下してしまうことがある。また、ブラッシングローラーと共に使用される水系洗浄材の流れによっても、配向乱れが生じてしまい、配向処理効果が低下してしまう恐れがある。

本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、配向処理効果を低下せずに、高い洗浄力を実現することを目的とする。

（１）本発明の一実施形態は、基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄処理する洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法であって、前記洗浄工程において、前記基板が、前記基板の搬送方向に沿って流れる水系洗浄材により洗浄される際、前記洗浄材の供給圧力は、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合に、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合に比して小さく調整される液晶用基板の製造方法。

基板のラビング処理方向が、基板の搬送方向、すなわち洗浄材の流通方向と交わる場合、配向処理面において下地構造物にひっかかった異物が除去されやすくなるため、ブラッシングローラーを使用しなくても洗浄力を高めることができる。一方で、この場合には、基板のラビング処理方向が搬送方向、すなわち洗浄材の流通方向に沿う場合に比して、洗浄材の流れによる配向乱れが生じやすくなり、ラビング処理によりなされた配向処理効果が低下しやすくなってしまう。このため、洗浄材の供給圧力を小さく調整することによって、洗浄力を高めつつ、配向処理効果の低下を抑制できるようになる。

（２）また、本発明のある実施形態は、上記（１）に加え、前記水系洗浄材が高圧噴射して供給される液晶用基板の製造方法。

（３）また、本発明のある実施形態は、上記（１）又は（２）に加え、前記基板が板状をなし、前記搬送方向が前記基板の長辺方向に沿っており、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の短辺方向に沿っており、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の長辺方向に沿っている液晶用基板の製造方法。

（４）また、本発明のある実施形態は、基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄処理する液晶用基板の処理装置であって、前記基板を搬送方向に搬送する搬送装置と、前記基板を前記基板の搬送方向に沿って流れる水系洗浄材により洗浄する洗浄槽と、を備え、前記洗浄槽において、前記基板が、前記搬送方向に沿って流れる水系洗浄材により洗浄される際、前記洗浄材の供給圧力は、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合に、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合に比して小さく調整される液晶用基板の処理装置。

（５）また、本発明のある実施形態は、上記（４）に加え、前記洗浄槽が前記水系洗浄材を高圧噴射して供給するノズルシャワーを備える液晶用基板の処理装置。

（６）また、本発明のある実施形態は、上記（４）又は（５）に加え、前記基板が板状をなし、前記搬送方向が前記基板の長辺方向に沿っており、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の短辺方向に沿っており、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の長辺方向に沿っている液晶用基板の処理装置。

本発明によれば、配向処理効果を低下せずに、高い洗浄力を実現できる。

本発明の実施形態１に係る洗浄工程の側面図 カーテンシャワー及びノズルシャワーによる洗浄処理を示す斜視図 基板の長辺方向に沿ったラビング処理方向を示す斜視図 基板の短辺方向に沿ったラビング処理方向を示す斜視図 ノズルシャワーによる洗浄処理を示す斜視図 基板のラビング処理方向が長辺に沿う範囲を示す上面図 基板のラビング処理方向が短辺に沿う範囲を示す上面図 比較実験１の実験結果を示す表１

＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図６を参照して説明する。本実施形態では、基板を洗浄処理する液晶用基板の処理装置１００について例示する。なお、以下の説明においては、図１のＸ軸方向を基板２０の搬送方向とし、紙面に直交するＹ軸方向を左右方向とし、Ｚ軸方向を上下方向とする。また、各図の左側を搬送方向の上流側とし、右側を搬送方向の下流側とする。

液晶用基板の処理装置１００は、液晶用基板の製造方法において、基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄処理する洗浄工程に用いられるものである。具体的には、基板表面に塗布された配向膜がラビング法により配向処理（ラビング処理）されて、表面に微細な粉塵や削りカス等の異物が付着した状態の基板２０の異物を洗浄処理する。
液晶用基板の処理装置１００は、図１に示すように、複数の処理槽を備える。液晶用基板の処理装置１００において、板状の基板２０は、配向処理面２０Ａ（ラビング処理された面）が上側に向けられた水平状態で搬送方向の上流側に搬入され、その長辺方向がＸ軸方向に沿うとともにその短辺方向がＹ軸方向に沿った姿勢で、次述する搬送装置１５によって搬送方向の上流側から下流側へと搬送される。

液晶用基板の処理装置１００は、具体的には図１に示すように４つの処理槽を備えており、これらの槽は上流側（左側）から順に、被膜処理槽１１、置換槽１２、洗浄槽１３、乾燥槽１４とされている。液晶用基板の処理装置１００は搬送装置１５を備えており、この搬送装置１５には、基板２０を図示しない駆動源により搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って搬送する複数の搬送ローラ１６が設けられている。基板２０は、配向処理面２０Ａとは反対側の板面（下面）が搬送ローラ１６によって断続的に支持されながら、搬送装置１５により各槽内を搬送方向に沿って順に搬送されるとともに、各槽内において処理される。なお、本実施形態において基板２０のサイズはＧ４．５ないしはＧ６サイズとされ、搬送速度は２０００〜３０００mm／分とされている。

被膜処理槽１１は、ラビング処理後であって水洗前の基板２０の表面、すなわち、配向処理面２０Ａに、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ２１）（前処理材の一例）の薄膜を被膜させるための槽である。ＩＰＡ２１は、後述する置換槽１２において純水２４が基板表面を隙間なく覆うための前処理として被膜される。被膜処理槽１１内の搬送方向における上流側にカーテンシャワー１７（第１供給装置の一例）が設けられると共に、下流側にパイプシャワー１８（第２供給装置の一例）が設けられており、これらの二つのシャワーにより、配向処理面２０ＡにＩＰＡ２１が供給され、ＩＰＡ２１は、基板２０の搬送方向に沿って流れる。

カーテンシャワー１７は、ＩＰＡ貯留槽から延びる配管（図示せず）と連結されるとともに、図２に示すように、基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に沿いかつ搬送方向と直交する方向（Ｙ方向）に細長く延びており、その下端に、ＩＰＡ２１をカーテン状に吐出するための図示しない細長いスリットが設けられている。このスリットは、ＩＰＡ２１が基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に対して所定の傾斜角度θで搬送方向の下流側（図１の右側）に向けて、いわゆる液カーテン状に供給されるように設定されている。このカーテンシャワー１７から傾斜した状態で吐出されたＩＰＡ２１により、基板２０の配向処理面２０Ａは、全体にムラが極めて少ない均一に近い状態でＩＰＡ薄膜により被覆される。

パイプシャワー１８は金属製であって、図示しないＩＰＡ貯留槽から延びる配管と連結されており、基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に沿いかつ搬送方向と直交する方向（Ｙ方向）に細長く延びる筒状とされている。このパイプシャワー１８のうち基板２０と対向する面（下面）には、複数の吐出孔（図示せず）が等間隔で一列に並んで設けられており、基板２０に対して垂直にＩＰＡ２１が吐出される。本実施形態においては、パイプシャワー１８の吐出孔１８Ａは等間隔で一列に並んでおり、複数の吐出孔１８Ａの孔径は、いずれも同一とされている。具体的には、各吐出孔１８Ａの孔径は０．５mmφ〜１．０mmφとされており、隣り合う吐出孔１８Ａとの間隔は１０mm〜１５mmとされている。また、各吐出孔から吐出される吐出流量の総計は５〜２０リットル／分とされている。パイプシャワー１８から吐出されたＩＰＡ２１により、被膜処理槽１１から搬出される直前の基板２０の配向処理面２０Ａには、ＩＰＡ薄膜が幅方向に亘って形成される。パイプシャワー１８によりＩＰＡ２１を再供給することで、ＩＰＡ２１の部分的な乾燥を回避することができる。

基板２０は、被覆処理槽１１の出口付近に設けられたエアナイフ１９により過剰なＩＰＡが除去され、上面全体がＩＰＡ２１の薄膜で被覆された状態で被膜処理槽１１から置換槽１２に搬送される（図１）。

置換槽１２内の上流側には被膜処理槽１１と同様の形態のカーテンシャワー２２が設けられている。このカーテンシャワー２２からは、基板２０上に置換用の純水２４が吐出される。また、カーテンシャワー２２の下流側には、同じく基板２０上に置換用の純水２４を放射状に噴射する複数のノズルからなる樹脂製のノズルシャワー２３（洗浄材供給装置の一例）が設けられている。供給された純水２４は、基板２０の表面に噴射され、基板２０の搬送方向に沿って流れる。

ノズルシャワー２３は、基板２０の配向処理面２０Ａに沿いかつ搬送方向と直交する方向（Ｙ軸方向）に直線状に延びており、搬送方向と直交するように並列した状態で２〜４列設けられている（本実施形態においては２列）。配向処理面２０Ａに供給された純水２４は、ＩＰＡ２１と置き換わり、基板表面は純水２４で隙間なく覆われた状態となる。

置換槽１２において表面が純水置換された基板２０は、搬送装置１５により洗浄槽１３内に搬送される。洗浄槽１３には、置換槽１２と同様の形態のノズルシャワー２３が、搬送方向と直交するように複数列並んで設けられている（本実施形態においては３列）。これらのノズルシャワー２３から噴射される純水２４により、基板２０は高圧洗浄され、配向処理面２０Ａの異物が除去される。

次に、ノズルシャワー２３による配向処理面２０Ａの異物除去について説明する。まず配向処理面２０Ａの状態について詳しく述べる。基板２０の配向処理面２０Ａには、図３及び図４に示すように、ラビングローラーＲによって配向膜の表面を一定方向に擦るラビング処理が施されている。図３、図４はそれぞれ、基板２０の長辺方向、短辺に沿ってラビング処理を施す様子を示す図である。ラビングローラーＲを通過した表面（配向処理面２０Ａ）には、ラビング処理により微細な粉塵や削りカス（ラビング布のパイルが切れたものや配向膜の削りカス等）が生じる。配向処理面２０Ａは、基板の下地構造物（カラーフィルター基板上に形成されたフォトスペーサーやアレイ基板上に形成された電極）にそれらが引っかかった状態となっている。

ノズルシャワー２３には、図５に示すように、基板２０と対向する面（下面）に、複数（本実施形態いおいては１２個）の高圧吐出孔（図示せず）が等間隔で一列に並んで設けられており、基板２０に対して高圧で放射状に純水２４が吐出される。複数の高圧吐出孔の孔径はいずれも同一であり、具体的には、各高圧吐出孔の孔径は、０．３mmとされており、隣り合う高圧吐出孔との間隔は６０mmとされている。また、吐出圧力は４MPaから１５MPa、各高圧吐出孔から吐出される吐出液量の総計は８〜１７リットル／分とされている。本実施形態において、ノズルシャワー２３から噴射される純水２４の吐出圧力は、基板２０のラビング処理方向に応じて調整される。具体的には、基板２０のラビング処理方向が搬送方向と交わる場合、ラビング処理方向が搬送方向に沿っている場合に比して小さく調整される。

ラビング処理方向が長辺方向に沿っている場合（図３）、図５における基板２０のラビング処理方向はＸ軸方向となり、搬送方向、及び搬送方向に沿って流れる純水２４の流通方向に沿い、ノズルシャワー２３が延びるＹ軸方向とは交わるものとなる。また、ラビング処理方向が短辺方向に沿う場合（図４）には、長辺方向が搬送方向となるよう９０°回転させて液晶用基板の処理装置１００に搬入される。このため、図５における基板２０のラビング処理方向はＹ軸方向となり、搬送方向、及び搬送方向に沿って流れる純水２４の流通方向と交わり、ノズルシャワー２３が延びるＹ軸方向に沿うものとなる。

なお、実際のラビング処理方向は、図６及び図７の上面図に示すように、長辺から傾斜角αをなして長辺に沿う場合（図６）や、短辺から傾斜角βをなして短辺に沿う場合（図７）がある。このため、本明細書においては、傾斜角α＝０°から＋３０°（図６において時計回りに３０°）以下、及び０°から−３０°（図６において反時計回りに３０°）以下の範囲を、ラビング方向と基板の長辺（搬送方向）とが沿っているものとし、傾斜角β＝０°から＋３０°（図７において時計回りに３０°）以下、及び０°から−３０°（図７において反時計回りに３０°）以下の範囲を、ラビング方向と基板の長辺（搬送方向）とが交わるものと定義する。

洗浄槽１３の出口付近にはエアナイフ１９が設けられている。エアナイフ１９により液切りされた基板２０は、搬送装置１５により乾燥槽１４に搬送される。基板２０は、乾燥槽１４内において、エアナイフ１９の液切りのみでは除去しきれていない吸湿水分が完全に除去される。そして、高温乾燥後、液晶用基板の処理装置１００から搬出される。

本実施形態は以上のような構成であって、続いて、液晶用基板の処理装置１００の作用及び効果について説明する。上記した構成の液晶用基板の処理装置１００において、基板２０のラビング処理方向がＹ軸方向であって、搬送方向、すなわち純水２４の流通方向であるＸ軸方向と交わる場合、ラビング処理方向と交わる水流によって配向膜面において下地構造物にひっかかった異物が除去されやすくなる。これによって、ブラッシングローラーを使用しなくても洗浄力を高めることができる。

一方で、この場合には、純水２４の流れによって、配向処理面２０Ａに配向乱れが生じてしまうことがある。水流によって、配向処理面２０Ａにラビング処理方向と交わる目視できない極微小な傷が生じるためと考えられる。このため、基板２０のラビング処理方向と搬送方向とが交わる場合には、純水２４の供給圧力（ノズルシャワー２３の吐出圧力）を、これらが沿う場合に比べて小さく調整することで、洗浄力を高めつつ、配向処理効果の低下を抑制できるものとなる。

＜比較実験１＞
上記のような作用及び効果を実証するため、比較実験１を行った。比較実験１では、平面サイズ６８０mm×８８０mmの基板を用い、基板のラビング処理方向と搬送方向とが交わる場合においてノズルシャワーの吐出圧力を１０MPa，１３MPaに調整した例をそれぞれ実施例１、比較例１とし、ラビング処理方向と搬送方向とが沿っている場合においてノズルシャワーの吐出圧力を１０MPa，１３MPaに調整した例をそれぞれ比較例２、実施例２とし、これらの実施例及び比較例について基板２０の屈折率異方性を測定し、パネル焼き付き特性、及び異物不良発生率を評価した。実験結果を表１（図８）に示す。

＜屈折率異方性の測定＞
配向膜付き基板の配向処理面側の上方から光を照射し、基板上の測定点（離間した１２箇所）における透過光のリタデーション（Δｎｄ）を測定し、得られた値をそれぞれの配向膜の膜厚（ｄ）で割ることで屈折率異方性（Δｎ）を算出した。また、各測定点の平均及び標準偏差を算出した。上記リタデーション（Δｎｄ）は、Axo Metrics社製の「Axo Scan FAA-3series」を用いて測定した。上記膜厚は、小坂研究所社製の「全自動・高精度微細形状測定機ET5000」を用いて、接触式段差測定により測定した。表１では、実施例１の算出値を基準値１として規格化しており、数字が大きいほど、配向膜の異方性に優れたものとなる。
＜パネル焼付特性＞
簡易評価方法として白黒チェッカーパターンの画面表示でパネルに電圧を２時間電圧印加し、その後パネル全面を中間諧調ベタ画面に切り替えた直後及び所定の緩和放置時間を設けた時の残像輝度レベル（白黒差）にて比較している。裸眼で視認されないレベルを◎、透過率１０％〜８％のＮＤ（Neutral Density）フィルターを通して視認されないレベルを〇、透過率３％のＮＤフィルターを通しても視認されるレベルを×と評価した。
＜異物不良発生率＞
１０型液晶パネルで視認される異物起因の輝点不良の発生率で比較している。０．５％未満を〇、３％超を×と評価した。

比較実験１の実験結果について説明する。比較例１に係る基板は、表１に示すように、異物不良発生率が０．３％未満と低いものの、屈折率異方性が低く、パネル焼き付き特性で劣る結果となったため、総合評価はＮＧとなった。ラビング処理方向に交わる水流によって高い洗浄力が実現されたが、配向乱れが生じ、ラビング処理により施された配向処理効果が低下したためと考えられる。一方、実施例１に係る基板は、異物不良発生率が０．５％未満と低く高い洗浄力が確認され、かつ、屈折率異方性、パネル焼き付き特性共に良好な結果となったため、総合評価はＯＫとなった。比較例１に比べて、ノズルシャワーの吐出圧力が小さく調整されているため、高い洗浄力を維持しつつ、配向処理効果の低下が抑えられたためと考えられる。

比較例２に係る基板は、表１に示すように、屈折率異方性が高く、パネル焼き付き特性で良好な結果が得られたが、異物不良発生率が３％超と高い結果となったため、総合評価はＮＧとなった。ラビング処理方向に沿う水流によれば、配向乱れが生じず、配向処理効果が低下しないものの、洗浄力が不十分で配向処理面において下地構造物にひっかかった異物が残留しているためと考えられる。一方、実施例２に係る基板は、異物不良発生率が０．５％未満と低く高い洗浄力が確認され、かつ、屈折率異方性、パネル焼き付き特性共に良好な結果となったため、総合評価はＯＫとなった。比較例２に比べて、ノズルシャワーの吐出圧力が大きく調整されているため、高い洗浄力を実現できたためと考えられる。

実施例２と実施例１とを比較すると、基板２０のラビング処理方向と搬送方向とが交わる場合（実施例１）には、ノズルシャワー２３の吐出圧力を、これらが沿う場合（実施例２）に比べて小さく調整することで、洗浄力を高めつつ、配向処理効果の低下を抑制できたことが確認される。また、全ての実施例及び比較例において、屈折率異方性（配向膜の異方性）とパネル焼き付き特性には相関があり、異方性が高いほどパネル焼き付き特性が良好となることが確認された。

なお、純水２４の供給手段としてノズルシャワー２３を用いると、配向処理面２０Ａを高圧洗浄できるため洗浄力をより高めることができるが、水流の勢いが増すため、純水２４の流れによる配向乱れはより生じやすくなってしまう。このため、上記したノズルシャワー２３の吐出圧力の調整作用がより効果的なものとなる。

また、基板２０のラビング処理方向が短辺方向又は長辺方向にそれぞれ沿うものを用意し、ラビング処理方向が短辺方向に沿う場合（図４）には、長辺方向が搬送方向となるよう９０°回転させて液晶用基板の処理装置１００に搬入することで、ラビング処理方向が異なる基板２０であっても、洗浄材の供給圧力を上記したように調整することによって、同一の製造ライン（同一の液晶用基板の処理装置１００）を用いて容易に洗浄できるようになる。

＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記実施形態では、前処理材としてＩＰＡ、水系洗浄材として純水を使用する例を示したが、前処理材および水系洗浄材はこれらに限定されず、他のものを使用してもよい。
（２）上記実施形態では、第１供給装置としてカーテンシャワー、第２供給装置としてパイプシャワーを使用する例を示したが、これに限るものではなく、ＩＰＡ耐性を有する金属製のノズルシャワー等の他の形態の供給装置を使用することもできる。また、各設置数についても適宜変更可能である。
（３）上記実施形態では、パイプシャワー、及びノズルシャワーは、同一孔径の吐出孔（高圧吐出孔）が等間隔に一列に並んで設けられている例を示したが、吐出孔（高圧吐出孔）の間隔、孔径は一部又は全部が異なっていてもよく、また列数も適宜変更可能である。
（４）カーテンシャワー（第１供給装置）、パイプシャワー（第２供給装置）、ノズルシャワー（洗浄材供給装置）は搬送方向と直交する方向に配されていなくてもよい。例えば幅方向における中心が搬送方向の下流側に配され、両端部が上流側に配されたＶ字形状としてもよい。
（５）上記実施形態では、基板処理装置が１つの洗浄槽を有する構成としたが、洗浄槽の数については限定されない。また、各洗浄槽における洗浄方法は、ノズルシャワーに限らず、超音波シャワーやバブルジェット、キャビテーションジェット、高圧スプレーシャワー、二流体等、異物除去効果に応じて自由に選択できる。
（６）上記実施形態では、４つの処理槽をそれぞれ別個の槽としたが、洗浄槽が複数設けられる場合には、複数の洗浄槽は１つの槽を区切ることにより形成されていてもよい。
（７）上記した実施形態では、搬送方向が基板の長辺方向である例を示したが、短辺方向でもよい。また、基板の搬送速度は２０００mm／分〜３０００mm／分とされる例を示したが、他の速度の場合にも本発明は適用可能である。
（８）上記した実施形態では、基板２０のサイズはＧ４．５ないしはＧ６サイズとされる例を示したが、他の大きさの基板にも本発明は適用可能である。

１３…洗浄槽、１５…搬送装置、２０…基板、２３…ノズルシャワー、２４…純水（水系洗浄材）、１００…液晶用基板の処理装置

Claims (6)

1. 基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄処理する洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法であって、
   前記洗浄工程において、前記基板が、前記基板の搬送方向に沿って流れる水系洗浄材により洗浄される際、
   前記水系洗浄材の供給圧力は、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合に、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合に比して小さく調整される液晶用基板の製造方法。
2. 前記水系洗浄材は高圧噴射して供給される請求項１記載の液晶用基板の製造方法。
3. 前記基板は板状をなし、
   前記搬送方向は前記基板の長辺方向に沿っており、
   前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の短辺方向に沿っており、
   前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の長辺方向に沿っている請求項１又は請求項２記載の液晶用基板の製造方法。
4. 基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄処理する液晶用基板の処理装置であって、
   前記基板を搬送方向に搬送する搬送装置と、
   前記基板を前記基板の搬送方向に沿って流れる水系洗浄材により洗浄する洗浄槽と、を備え、
   前記洗浄槽において、前記基板が、前記搬送方向に沿って流れる水系洗浄材により洗浄される際、
   前記水系洗浄材の供給圧力は、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合に、前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合に比して小さく調整される液晶用基板の処理装置。
5. 前記洗浄槽は前記水系洗浄材を高圧噴射して供給するノズルシャワーを備える請求項４記載の液晶用基板の処理装置。
6. 前記基板は板状をなし、
   前記搬送方向は前記基板の長辺方向に沿っており、
   前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが交わる場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の短辺方向に沿っており、
   前記基板のラビング処理方向と前記搬送方向とが沿っている場合は、前記ラビング処理方向が前記基板の長辺方向に沿っている請求項４又は請求項５記載の液晶用基板の処理装置。

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