KR20100055812A

KR20100055812A - 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR20100055812A
Application number: KR1020080114689A
Authority: KR
Inventors: 이상준
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2008-11-18
Filing date: 2008-11-18
Publication date: 2010-05-27

Abstract

기판 처리 장치는 처리액을 이용하여 기판을 습식 처리하는 제1 처리 유닛과, 제1 처리 유닛의 일 방향에 배치되고 제1 처리 유닛에서 처리된 기판을 이송 받아 연속하여 습식 처리하는 제2 처리 유닛, 그리고 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이에 배치되며 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛에서 사용되어 기판에 잔류하는 처리액의 혼합 방지를 위해 일 방향 및 일 방향의 반대 방향에 대해 각각 경사각을 갖도록 기판으로 에어를 각각 분사하는 에어 커튼 유닛을 포함한다. 따라서 에어 커튼 유닛의 수량이 감소되어 기판 처리 장치의 구조를 간소화 할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing a substrate}

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 약액을 이용하여 기판을 대상으로 습식 공정을 수행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

일반적으로 정보 처리 기기에는 처리된 정보를 표시하기 위해 평판 표시 장치가 사용되고 있으며, 상기 평판 표시 장치의 예로는 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 표시 장치(PDP), 유기 발광 소자(OLED) 등을 들 수 있다.

상기 평판 표시 장치는 대면적의 유리 기판을 대상으로 상기 기판 상에 회로 패턴들을 형성하기 위한 다양한 단위 공정들을 수행하여 제조된다. 예를 들어, 상기 회로 패턴들은 기판 상에 막을 증착한 후, 포토 공정, 식각 공정, 스트립공정 등을 수행하여 제조될 수 있다.

여기서, 상기 스트립 공정은 기판 상에 잔류하는 포토레지스트를 제거하기 위한 공정이며, 처리액을 이용한 습식 공정이 사용된다. 스트립 공정은 예를 들어 수평 이송되는 기판으로 포토레지스트 제거를 위한 스트립용액(예컨대 처리액)을 분사하는 방식이 사용될 수 있다.

상기 스트립 공정을 위한 장치는 복수의 처리 유닛들이 연이어 배치되어 기 판에 대해 연속하여 습식 공정을 수행하는 구조를 가질 수 있으며, 상기 처리 유닛들은 기판으로 스트립 용액을 분사하거나 순수를 분사할 수 있다.

이처럼, 복수의 처리 유닛들로 구성되어 기판으로 스트립 용액이나 순수 등의 처리액을 분사하는 구성에서는 기판이 이송되며 연속하여 공정이 진행됨에 따라서 처리 유닛간에 사용된 처리액이 유입되어 서로 혼합되는 경우가 발생한다. 이를 방지하기 위하여 각 처리 유닛의 입출구측에는 기판으로 에어를 분사하는 에어 커튼 유닛이 구비될 수 있다.

하지만 각 처리 유닛의 입출구에 개별적으로 에어 커튼 유닛이 구비됨에 따라서 구조가 복잡해지고, 서로 인접하는 처리 유닛의 입구측 및 출구측에 각각 구비되어 서로 인접하게 배치되는 에어 커튼 유닛 사이에 와류가 발생하여 처리액의 유입을 효과적으로 억제하지 못해 공정상의 불량을 발생시키는 문제점을 갖고 있다.

따라서 본 발명의 바람직한 실시예들을 통해 해결하고자 하는 일 과제는 다수의 처리 유닛을 갖는 기판 처리 장치에서 각 처리 유닛의 입구 및 출구측에 대해 기판으로 에어를 분사하기 위한 에어 커튼 유닛의 구조를 간소화하여 설치 공간의 효율을 향상시키고 원가를 절감할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.

상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 제1 처리 유닛, 제2 처리 유닛 및 제1 에어 커튼 유닛을 포함한다. 상기 제1 처리 유닛은 처리액을 이용하여 기판을 습식 처리한다. 상기 제2 처리 유닛은 상기 제1 처리 유닛의 일 방향에 배치되고, 상기 제1 처리 유닛에서 처리된 기판을 이송 받아 연속하여 습식 처리한다. 상기 제1 에어 커튼 유닛은 상기 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이에 배치되며, 상기 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛에서 사용되어 상기 기판에 잔류하는 처리액의 혼합 방지를 위해 상기 일 방향 및 상기 일 방향의 반대 방향에 대해 각각 경사각을 갖도록 상기 기판으로 에어를 각각 분사한다.

여기서, 일 실시예에 따르면 상기 에어 커튼 유닛은 몸체, 제1 공급 유로, 제1 공급관, 제2 공급 유로 및 제2 공급관을 포함할 수 있다. 상기 제1 공급 유로는 상기 몸체 내에 형성되며, 선단에 제1 슬롯이 구비되어 상기 일 방향에 대해 경사각을 갖도록 에어를 분사한다. 상기 제1 공급관은 상기 제1 공급 유로와 연결되어 외부 공급원에서 제공되는 에어를 상기 제1 공급 유로로 공급한다. 상기 제2 공 급 유로는 상기 몸체 내에 형성되며, 선단에 제2 슬롯이 구비되어 상기 일 방향의 반대 방향에 대해 경사각을 갖도록 에어를 분사한다. 상기 제2 공급관은 상기 제2 공급 유로와 연결되어 외부 공급원에서 제공되는 에어를 상기 제2 공급 유로로 공급한다.

다른 실시예에 따르면, 상기 에어 커튼 유닛은 상기 일 방향에 대해 분사되는 에어의 경사각과 상기 일 방향의 반대 방향에 대해 분사되는 에어의 경사각은 수직선을 기준으로 서로 대칭되는 각을 갖도록 에어를 각각 분사할 수 있다.

또 다른 실시예에 따르면, 상기 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛 내부에는 상기 기판을 상기 일 방향으로 수평 이송하기 위한 이송 유닛 및 상기 일 방향으로 수평 이송되는 기판으로 상기 처리액을 분사하는 처리액 분사 유닛이 각각 구비될 수 있다.

또 다른 실시예에 따르면, 상기 기판 처리 장치는 제2 에어 커튼 유닛 및 제2 에어 커튼 유닛을 더 포함할 수 있다. 상기 제2 에어 커튼 유닛은 상기 기판이 유입되는 상기 제1 처리 유닛의 입구측에 배치되며, 상기 일 방향의 반대 방향에 대해서 경사각을 갖도록 상기 기판으로 에어를 분사한다. 상기 제3 에어 커튼 유닛은 상기 기판이 반출되는 상기 제2 처리 유닛의 출구측에 배치되며, 상기 일 방향에 대해서 경사각을 갖도록 상기 기판으로 에어를 분사한다.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 처리액을 이용하여 기판에 대해 습식 공정을 수행하는 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 간 처리액의 혼합을 방지하기 위하여 하나의 에어 커튼 유닛이 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛 양 방향으로 기판에 대해 에어를 분사함으로써, 구조를 간소화하고 원가를 절감할 수 있다.

또한, 하나의 에어 커튼 유닛에서 1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛 양 방향으로 에어가 분사됨으로써, 에어의 분사 위치 간 거리가 좁혀져 인접하여 분사되는 에어 사이에서 발생할 수 있는 와류를 억제하며, 그에 따른 공정 불량을 개선함에 따라 공정 효율을 개선할 수 있다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대하여 상세히 설명한다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

실시예

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타내는 단면도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 제1 처리 유닛(110), 제2 처리 유닛(120) 및 제1 에어 커튼 유닛(130)을 포함한다.

상기 기판 처리 장치(100)는 평판 표시 장치 제조 공정 또는 동종의 기술로서 반도체 제조 공정을 수행하기 위한 장치로, 기판(G) 상에 회로 패턴을 형성하기 위하여 사용된 포토레지스트(photo resister)를 제거하는 스트립 공정을 수행하는 장치일 수 있다. 즉, 상기 기판(G)은 유리 기판과 같은 평판 표시 장치의 제조를 위한 기판(G)일 수 있고, 이와 동종의 기술로서 실리콘 웨이퍼와 같은 반도체 소자를 제조하기 위한 기판(G)일 수 있다. 이와 달리, 상기 기판 처리 장치(100)는 처리액을 기판(G)으로 분사함으로써 습식 공정을 수행하는 구성을 갖는 다양한 제조 장치일 수 있다. 예를 들어, 상기 기판 처리 장치(100)는 기판(G)으로 세정액을 분사하여 세정하기 위한 세정 장치일 수 있을 것이다.

상기 제1 처리 유닛(110)은 기판(G)을 대상으로 하는 공정 공간을 제공하며, 그 내부에서 처리액을 이용하여 기판(G)을 습식 처리한다. 상기 제1 처리 유닛(110)은 예를 들어 박스 형상의 용기로 그 일측에는 공정을 진행할 기판(G)이 유입되는 입구가 구비되고, 상기 입구와 마주하는 반대편에는 공정을 마친 기판(G)이 반출되는 출구가 구비되며, 상기 입구와 출구는 동일 수평선상에 구비된다. 한편, 상기 제1 처리 유닛(110)은 박스 형상 이외의 형상을 가질 수 있다.

상기 제2 처리 유닛(120)은 기판(G)을 대상으로 하는 공정 공간을 제공하며, 그 내부에서 처리액을 이용하여 기판(G)을 습식 처리한다. 상기 제2 처리 유닛(120)은 제1 처리 유닛(110)과 동일한 구조를 가질 수 있다. 즉, 제2 처리 유닛(120)은 박스 형상의 용기로 그 일측에 기판(G) 투입을 위한 입구가 구비되고, 상기 입구와 마주하는 반대편에 기판(G) 반출을 위한 출구가 구비된다.

상기 제2 처리 유닛(120)은 상기 제1 처리 유닛(110)의 일 방향에 배치되며, 상기 제1 처리 유닛(110)과 연통 된다. 상기 제2 처리 유닛(120)은 상기 제1 처리 유닛(110)에서 습식 처리된 기판(G)을 이송 받아, 상기 기판(G)을 연속하여 습식 처리한다. 이에, 상기 제2 처리 유닛(120)은 입구가 상기 제1 처리 유닛(110)의 출구와 마주하도록 배치된다.

한편, 상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)에서 각각 사용되는 처리액은 서로 다른 용액일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 처리 유닛(110)에서 사용되는 처리액은 기판(G)상의 포토레지스트를 스트립하기 위한 스트립 용액이고, 상기 제2 처리 유닛(120)에서 사용되는 처리액은 상기 스트립 용액을 씻어 내기 위한 탈이온수 일 수 있다. 하지만, 처리액이 언급한 용액들로 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)에서 서로 다른 종류의 스트립 용액이 사용될 수도 있고, 동일 스트립 용액을 사용하여 서로 다른 조건으로 공정을 진행할 수도 있다. 또한, 상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)은 상기 기판(G)을 처리할 때 처리액과 함께 추가적으로 브러시 등을 이용할 수도 있다.

상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)은 기판(G)을 수평 방향으로 이송시키며 기판(G)으로 처리액을 공급하여 공정을 진행한다.

이를 위해 상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)의 내부에는 기판(G)을 일 방향으로 수평 이송하기 위한 제1 및 제2 이송 유닛(112, 122)이 각각 구비되고, 수평 이송되는 기판(G)으로 처리액을 분사하기 위한 제1 및 제2 처리액 분사 유닛(114, 124)이 각각 구비될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 및 제2 이송 유닛(112, 122) 각각은 다수의 이송 롤러들과 회전축으로 구성될 수 있고, 상기 제1 및 제2 처리액 분사 유닛(114, 124)은 각각 다수의 분사 노즐들을 포함할 수 있다.

이 때, 상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)을 거치면서 기판(G)에 대해 습식 처리가 연속하여 진행됨에 따라 상기 기판(G)에 잔류하거나, 분사 과정에서 비산되어 입구 및 출구를 통해 상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)간 처리액이 유입되어 혼합되는 문제점이 발생할 수 있다. 이의 방지를 위해 본 실시예에서는 제1 에어 커튼 유닛(130)을 구비한다.

상기 제1 에어 커튼 유닛(130)은 상기 제1 처리 유닛(110)과 제2 처리 유닛(120) 사이에 배치된다. 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)은 상기 제1 처리 유닛(110)으로부터 상기 제2 처리 유닛(120)으로 이송되는 기판(G)에 대해서 양방향으로 에어를 분사하는 구조를 갖는다. 즉, 상기 제1 처리 유닛(110)을 향하는 방향과 상기 제2 처리 유닛을 향하는 방향에 대해서 상기 기판(G)으로 각각 에어를 분사한다. 이 때, 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)에서 분사되는 에어는 상기 기판(G)에 대해 경사각을 갖도록 분사된다.

이에, 상기 제1 처리 유닛(110)에서 사용되어 상기 기판(G)에 잔류하는 처리액을 제거함과 동시에 제1 처리 유닛(110)과 제2 처리 유닛(120) 사이에 에어 차단막을 형성하여 처리액의 유입 및 유출을 억제함으로써 서로 혼합되는 것을 억제한다.

한편, 상기 기판 처리 장치(100)에는 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)과 유사 한 목적 및 효과를 위해 구비되는 제2 에어 커튼 유닛(140) 및 제3 에어 커튼 유닛(150)을 더 포함할 수 있다.

상기 제2 에어 커튼 유닛(140)은 제1 처리 유닛(110)의 입구측에 배치되며, 제1 처리 유닛(110)으로 투입되는 기판(G)으로 에어를 분사하는 역할을 한다. 제2 에어 커튼 유닛(140)은 제1 처리 유닛(110)으로 투입되는 기판(G)에 잔류하는 이물질이나 처리액을 제거하고, 에어 차단막을 형성하여 제1 처리 유닛(110)의 입구측을 격리한다.

상기 제3 에어 커튼 유닛(150)은 제2 처리 유닛(120)의 출구측에 배치되며, 제2 처리 유닛(120)으로부터 반출되는 기판(G)으로 에어를 분사하는 역할을 한다. 제3 에어 커튼 유닛(150)은 제2 처리 유닛(120)으로부터 반출되는 기판(G)에 잔류하는 처리액이나 이물질을 제거하고, 에어 차단막을 형성하여 제2 처리 유닛(120)의 출구측을 격리한다.

상기 제2 에어 커튼 유닛(140) 및 제3 에어 커튼 유닛(150)은 일 방향 에어 분사 구조를 갖는다. 하지만, 상기 제1 처리 유닛(110)의 전단 및 제2 처리 유닛(120)의 후단에 처리 유닛이 추가되는 경우 상기 제2 및 제3 에어 커튼 유닛(140,150)은 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)과 마찬가지로 양 방향 에어 분사 구조를 가질 수 있다.

이처럼, 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)과 상기 제2 및 제3 에어 커튼 유닛(140, 150)에 의해 상기 제1 처리 유닛(110) 및 제2 처리 유닛(120)은 독립된 공정 공간을 형성하며, 처리액이 서로 혼합되는 것을 억제하여 공정 효율을 향상시킨 다.

이하, 제1 에어 커튼 유닛(130)에 대하여 도 2 및 도 3을 추가적으로 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

도 2는 도 1의 제1 에어 커튼 유닛를 설명하기 위한 측면도이고, 도 3은 도 1의 제1 에어 커튼 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.

도 1, 도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)은 몸체(132), 제1 공급 유로(134) 및 제2 공급 유로(136)를 포함한다.

상기 몸체(132)는 다양한 형상을 가질 수 있다. 상기 몸체(132)는 기판(G)의 이송 방향(예컨대 일 방향)과 수직한 방향으로 연장하는 구조를 갖는다.

상기 제1 공급 유로(134)는 상기 몸체(132) 내부에 형성된다. 상기 제1 공급 유로(134)는 그 선단에 제1 처리 유닛(110)의 반출 기판(G)으로 에어를 분사하기 위한 토출구로 제1 슬롯(134a)을 갖는다. 상기 제1 슬롯(134a)은 기판(G)의 이송 방향과 수직한 방향으로 연장할 수 있다.

상기 제2 공급 유로(136)는 상기 몸체(132) 내부에 형성된다. 상기 제2 공급 유로(136)는 그 선단에 제2 처리 유닛(120)의 투입 기판(G)으로 에어를 분사하기 위한 토출구로 제2 슬롯(136a)을 갖는다. 상기 제2 슬롯(136a) 역시 기판(G)의 이송 방향과 수직한 방향으로 연장할 수 있다.

또한, 상기 제1 공급 유로(134)에는 외부의 에어 공급원으로부터 에어를 공급하기 위하여 제1 공급관(162)이 연결되며, 상기 제2 공급 유로(136)에는 상기 에어 공급원으로부터 에어를 공급하기 위하여 제2 공급관(162)이 연결된다.

결과적으로, 제1 공급 유로(134)와 제2 공급 유로(136)가 몸체(132) 내부에 개별적으로 형성되고, 외부 에어 공급원과 연결된 제1 공급관(162) 및 제2 공급관(164)이 각각 제1 공급 유로(134) 및 제2 공급 유로(136)에 연결됨으로써, 양 방향으로 에어를 분사하기 위한 개별적인 에어 공급 라인이 구성된다. 이처럼, 양 방향으로 에러를 분사하기 위한 에어 공급 라인이 개별적으로 구성됨으로써, 양 방향으로 분사되는 에어의 분사 압력을 균일하게 유지할 수 있게 된다. 즉, 하나의 에어 공급 라인(예컨대 공급 유로 및 공급관)을 이용하여 두 개의 슬롯으로 에어를 분기시켜 분사할 경우에는 분사 압력에 편차가 발생하여 공정 효율을 저하시키는 원인이 된다.

본 실시예에서 상기 제1 공급 유로(134) 및 제2 공급 유로(136)는 상기 제1 슬롯(134a)을 통해 기판(G)으로 분사되는 에어 및 상기 제2 슬롯(136a)을 통해 기판(G)으로 분사되는 에어는 각각 기판에 대해 비스듬하게 분사되는 구조를 갖는다. 즉, 제1 공급 유로(134) 및 제2 공급 유로(136)는 그 선단부가 기판(G)에 대해 소정 각도로 비스듬한 구조를 갖는다. 이는 기판(G)상의 처리액을 효과적으로 제거함과 아울러 자칫 에어의 분사 압력에 의해 기판(G)이 요동치는 것을 예방하기 위함이다.

이 때, 제1 에어 커튼 유닛(130)에서 양 방향으로 분사되는 에어의 분사 방향이 수직선을 기준으로 서로 대칭되도록 형성되는 것이 바람직하다. 이를 위해 상기 제1 공급 유로(134) 및 제2 공급 유로(136)의 선단부가 서로 대칭되는 각을 가질 수 있다. 이는 동일한 분사 압력으로 에어를 분사하더라도 분사되는 각이 서로 다르게 되면 기판(G)에 가해지는 압력에 편차가 유발되어 바람직하지 못하기 때문이다. 이처럼 양 방향으로 분사되는 에어의 분사 방향이 서로 대칭되는 경우에 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)은 상기 제1 처리 유닛(110)과 제2 처리 유닛(120)의 정 가운데 위치하도록 배치될 수 있다.

한편, 도시하진 않았지만 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)이 상기 제1 처리 유닛(110)과 제2 처리 유닛(120) 사이에 배치될 수 있도록 상기 제1 에어 커튼 유닛(130)을 설치 고정하기 위한 브래킷이 구비될 수 있다.

상술한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 장치는 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛이 연이어 배치되어 기판에 대해 처리액을 이용한 습식 공정을 연속하여 수행하는 구조에서 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이에 배치되는 하나의 에어 커튼 유닛이 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛 양 방향에 대해 기판으로 에어를 분사함으로써, 에어 커튼 유닛의 구조를 간소화할 수 있다. 따라서, 설치 공간의 효율을 향상시키고, 원가를 절감할 수 있다.

또한, 하나의 에어 커튼 유닛에서 양 방향으로 에어를 분사함에 따라 인접한 에어 분사 위치 사이의 거리를 줄임으로써 에어를 분사할 때 발생될 수 있는 와류를 억제하며, 와류로 인해 발생되는 불량을 개선하여 공정 효율을 향상시킬 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역 으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

100: 기판 처리 장치 110: 제1 처리 유닛

112: 제1 이송 유닛 114: 제1 처리액 분사 유닛

120: 제2 처리 유닛 122: 제2 이송 유닛

124: 제2 처리액 분사 유닛 130: 제1 에어 커튼 유닛

132: 몸체 134: 제1 공급 유로

134a: 제1 슬롯 136: 제2 공급 유로

136a: 제2 슬롯 140: 제2 에어 커튼 유닛

150: 제3 에어 커튼 유닛 162: 제1 공급관

164: 제2 공급관

Claims

처리액을 이용하여 기판을 습식 처리하는 제1 처리 유닛;

상기 제1 처리 유닛의 일 방향에 배치되고, 상기 제1 처리 유닛에서 처리된 기판을 이송 받아 연속하여 습식 처리하는 제2 처리 유닛; 및

상기 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이에 배치되며, 상기 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛에서 사용되어 상기 기판에 잔류하는 처리액의 혼합 방지를 위해 상기 일 방향 및 상기 일 방향의 반대 방향에 대해 각각 경사각을 갖도록 상기 기판으로 에어를 각각 분사하는 에어 커튼 유닛을 포함하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 에어 커튼 유닛은

몸체;

상기 몸체 내에 형성되며, 선단에 제1 슬롯이 구비되어 상기 일 방향에 대해 경사각을 갖도록 에어를 분사하는 제1 공급 유로;

상기 제1 공급 유로와 연결되어 외부 공급원에서 제공되는 에어를 상기 제1 공급 유로로 공급하는 제1 공급관;

상기 몸체 내에 형성되며, 선단에 제2 슬롯이 구비되어 상기 일 방향의 반대 방향에 대해 경사각을 갖도록 에어를 분사하는 제2 공급 유로; 및

상기 제2 공급 유로와 연결되어 외부 공급원에서 제공되는 에어를 상기 제2 공급 유로로 공급하는 제1 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 에어 커튼 유닛은 상기 일 방향에 대해 분사되는 에어의 경사각과 상기 일 방향의 반대 방향에 대해 분사되는 에어의 경사각은 수직선을 기준으로 서로 대칭되는 각을 갖도록 에어를 각각 분사하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛 내부에는 상기 기판을 상기 일 방향으로 수평 이송하기 위한 이송 유닛 및 상기 일 방향으로 수평 이송되는 기판으로 상기 처리액을 분사하는 처리액 분사 유닛이 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 기판이 유입되는 상기 제1 처리 유닛의 입구측에 배치되며, 상기 일 방향의 반대 방향에 대해서 경사각을 갖도록 상기 기판으로 에어를 분사하는 제2 에어 커튼 유닛; 및

상기 기판이 반출되는 상기 제2 처리 유닛의 출구측에 배치되며, 상기 일 방향에 대해서 경사각을 갖도록 상기 기판으로 에어를 분사하는 제3 에어 커튼 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.