JP6463935B2 - 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明に係る基板上の複数のショット領域に予め定められた順番で露光を行う露光装置の図である。光源1は、複数の波長帯域の光を露光光として出力することができる。光源1より射出された光は、照明光学系4の整形光学系(不図示)を介して所定のビーム形状に整形される。整形されたビームは更に、オプティカルインテグレータ(不図示)に入射され、ここで、レチクル(原版)9を均一な照度分布で照明するために多数の2次光源が形成される。
図2は本発明の露光方法を説明するフローチャートである。まずS1で、主制御部3は、ウエハ15をロードし、続いて、S2で、主制御部3は、ウエハ15のサイズとレイアウト情報から各ショットの露光の順番を決定する。主制御部3は、スループット向上のため、ウエハステージ16の移動量すなわちステージ駆動時間が最小となるように各ショットの露光の順番を決定することができる。
つぎに、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
Claims (10)
- 基板上の複数のショット領域のそれぞれに露光を行う露光装置であって、
原版のパターンを前記複数のショット領域のそれぞれに投影する投影光学系と、
前記投影光学系の結像特性を調整する調整部と、
前記調整部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記基板のサイズおよびレイアウトの情報から前記複数のショット領域の露光の順番を決定し、
前記複数のショット領域のパターンのずれのデータを取得し、
前記取得したずれのデータおよび前記決定された露光の順番に基づいて前記複数のショット領域をグループ分けし、該グループ分けされたグループそれぞれに前記結像特性の設定量を決定し、グループ毎に前記結像特性が該決定された設定量となるように前記調整部を制御し、
前記決定された設定量は、同一のグループに属する複数のショット領域を露光する場合に該複数のショット領域で共通に用いられ、
前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の露光の順番が連続し、かつ、該同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値が予め定められた範囲内であるように前記グループ分けを行う、ことを特徴とする露光装置。 - データを格納する格納部と、
前記複数のショット領域それぞれのパターンのずれを計測する計測器と、を備え、
前記制御部は、前記格納部に前記複数のショット領域のパターンのずれのデータが格納されている場合は、前記格納部から当該ずれのデータを取得し、前記格納部に前記複数のショット領域の前記ずれのデータが格納されていない場合は、前記計測器に前記複数のショット領域それぞれの形状を計測させ、該計測により得られた前記複数のショット領域それぞれのパターンのずれのデータを取得することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記ずれは、前記複数のショット領域それぞれの形状のずれを含み、前記結像特性は、前記投影光学系の投影倍率またはディストーションを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
- 前記調整部は、前記投影光学系を構成する光学素子を駆動する光学素子駆動部を含むことを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記ずれは、前記複数のショット領域それぞれのデフォーカスを含み、前記結像特性は、前記投影光学系のフォーカス位置を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれの最大値と最小値との単純平均値に基づいて該同一のグループに属する複数のショット領域で共通に用いられる前記設定量を決定することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値の単純平均値に基づいて該同一のグループに属する複数のショット領域で共通に用いられる前記設定量を決定することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値の加重平均値に基づいて該同一のグループに属する複数のショット領域で共通に用いられる前記設定量を決定することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 投影光学系により原版のパターンを基板上の複数のショット領域のそれぞれに投影して前記複数のショット領域のそれぞれに露光を行う露光方法であって、
前記基板のサイズおよびレイアウトの情報から前記複数のショット領域の露光の順番を決定する工程と、
前記複数のショット領域のパターンのずれのデータを取得する工程と、
前記取得したずれのデータおよび前記決定された露光の順番に基づいて前記複数のショット領域をグループ分けする工程と、
該グループ分けされたグループそれぞれに前記投影光学系の結像特性の設定量を決定する工程と、
グループ毎に前記結像特性が前記設定量となるように前記結像特性を調整して前記露光を行う工程と、
を含み、
前記決定された設定量は、同一のグループに属する複数のショット領域を露光する場合に該複数のショット領域で共通に用いられ、
前記グループ分けは、前記同一のグループに属する複数のショット領域の露光の順番が連続し、かつ、該同一のグループに属する複数のショット領域の前記ずれのすべての値が予め定められた範囲内であるように行われる、ことを特徴とする露光方法。 - 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の露光装置を使用して基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含み、前記現像された基板からデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
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