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JP6010183B2 - Continuous diffusion processing equipment - Google Patents

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JP6010183B2
JP6010183B2 JP2015102370A JP2015102370A JP6010183B2 JP 6010183 B2 JP6010183 B2 JP 6010183B2 JP 2015102370 A JP2015102370 A JP 2015102370A JP 2015102370 A JP2015102370 A JP 2015102370A JP 6010183 B2 JP6010183 B2 JP 6010183B2
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清彦 森川
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圭介 西村
忍 芦田
忍 芦田
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、連続拡散処理装置に関する。   The present invention relates to a continuous diffusion processing apparatus.

例えば、結晶シリコンによる太陽電池セルの製造では、シリコン製の被処理物(ウエハ)の表面に、所定の元素からなる不純物を付着させ、この不純物を被処理物の内部に拡散させる拡散処理が行われる。このような拡散処理を行う拡散処理装置として、例えば、バッチ式のものがあり、このバッチ式の装置は、被処理物を加熱する加熱炉を備え、加熱炉は、複数の被処理物の載せたトレイを格納するだけの大きさを有している。
この加熱炉においては、被処理物を投入した後、当該加熱炉内に不純物を含むガスを供給し、加熱炉内を昇温し不純物を被処理物の内部に拡散させる。その後、加熱炉内を降温してから、被処理物を加熱炉から取り出している。
For example, in the manufacture of solar cells using crystalline silicon, a diffusion process is performed in which an impurity made of a predetermined element is attached to the surface of a silicon workpiece (wafer) and diffused into the workpiece. Is called. As a diffusion processing apparatus that performs such a diffusion treatment, for example, there is a batch type apparatus, and this batch type apparatus includes a heating furnace that heats an object to be processed, and the heating furnace includes a plurality of objects to be processed. It is large enough to store a tray.
In this heating furnace, after the workpiece is put in, a gas containing impurities is supplied into the heating furnace, and the temperature in the heating furnace is raised to diffuse the impurities into the workpiece. Thereafter, after the temperature in the heating furnace is lowered, the object to be processed is taken out from the heating furnace.

このようなバッチ式の加熱炉を用いる場合、処理品質の向上を望めるが、実際に加熱炉内で拡散処理を行う時間の前後に、炉内を所定温度まで昇温する時間、及び、炉内を降温させる時間が必要となり、被処理物を連続して処理することができず、生産効率を高めるのは困難である。   When such a batch-type heating furnace is used, improvement in processing quality can be expected, but before and after the time for actually performing the diffusion treatment in the heating furnace, the time for raising the temperature in the furnace to a predetermined temperature, and the inside of the furnace It takes time to lower the temperature, and the object to be processed cannot be processed continuously, and it is difficult to increase the production efficiency.

そこで、特許文献1に開示されているように、筒状の加熱炉と、被処理物を並べて加熱炉内を搬送するコンベアと、加熱炉内を通過する被処理物を加熱する加熱装置と、加熱炉内に不純物を含むガスを供給するガス供給装置とを備えた連続拡散処理装置がある。
さらに、この装置では、加熱炉の内部の雰囲気と外気とを遮断するために、加熱炉の両端部において、上から下に向けて窒素ガスが吹き出されており、ガスカーテンが形成されている。
Therefore, as disclosed in Patent Document 1, a cylindrical heating furnace, a conveyor that arranges the objects to be processed and conveys the inside of the heating furnace, a heating device that heats the objects to be processed that pass through the inside of the heating furnace, There is a continuous diffusion processing apparatus including a gas supply apparatus that supplies a gas containing impurities into a heating furnace.
Furthermore, in this apparatus, in order to shut off the atmosphere inside the heating furnace and the outside air, nitrogen gas is blown out from the top to the bottom at both ends of the heating furnace to form a gas curtain.

特開平9−298163号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-298163

特許文献1に記載の装置によれば、被処理物を連続的に処理することができ、バッチ式と比べて、生産効率を高めることができる。
しかし、前記のとおり、ガスカーテンによって加熱炉の内部の雰囲気と外気とを遮断しているが、加熱炉の内部は、拡散処理を実際に行うゾーンと、その他のゾーンとが、明確に区画されていない。このため、ゾーン毎の雰囲気を制御するのは困難となり、バッチ式と比べると、被処理物の処理品質が低くなるおそれがある。
According to the apparatus described in Patent Document 1, it is possible to continuously process an object to be processed, and it is possible to increase production efficiency as compared with a batch type.
However, as described above, the atmosphere inside the heating furnace and the outside air are blocked by the gas curtain, but the inside of the heating furnace is clearly divided into a zone where the diffusion treatment is actually performed and other zones. Not. For this reason, it becomes difficult to control the atmosphere for each zone, and there is a possibility that the processing quality of the object to be processed is lowered as compared with the batch type.

そこで、本発明は、生産効率の向上と処理品質の向上とを両立させることが可能となる連続拡散処理装置を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a continuous diffusion processing apparatus capable of achieving both improvement in production efficiency and improvement in processing quality.

本発明の連続拡散処理装置は、複数枚の板状の被処理物を載せる搬送台と、前記搬送台を搬入する搬入部から当該搬送台を搬出する搬出部まで直線状に延びる筒状の加熱炉と、前記加熱炉内に前記搬送台を前記搬入部から順次搬入し、当該加熱炉内を搬送した前記搬送台を前記搬出部から順次搬出する搬送装置と、前記加熱炉内のガスを炉外に排出するための排出パイプと、前記排出パイプに接続されたガス排出装置と、前記加熱炉内を通過する前記搬送台に載せた前記被処理物を加熱する加熱装置とを備え、前記加熱炉内の前記搬入部から前記搬出部までの間を、被処理物に対してそれぞれ異なる処理を施すための複数のゾーンに分け、前記排出パイプは、前記加熱炉内から搬入部および搬出部の外側まで延びて、加熱炉内のガスを炉外に排出するように構成され、前記排出パイプには、前記加熱炉内のガスを吸引するための吸引口が前記各ゾーン毎に設けられ、前記排出パイプは、夫々前記加熱炉の外部で反転し当該加熱炉の延在方向に沿って中心方向に相互に接近するように延び、前記ガス排出装置によって、加熱炉内のガスを当該中心位置の近傍から外部に排出するように構成されることを特徴とする。 The continuous diffusion processing apparatus of the present invention is a cylindrical heating that extends linearly from a transport table on which a plurality of plate-like workpieces are placed, and a carry-in section that carries in the carry table to a carry-out section that carries out the carry table. A furnace, a transfer device that sequentially carries the carrier into the heating furnace from the carry-in unit, and sequentially carries out the carrier from the carry-out unit from the carry-out unit; A discharge pipe for discharging to the outside, a gas discharge device connected to the discharge pipe, and a heating device for heating the workpiece placed on the transfer table passing through the heating furnace, the heating The space from the carry-in part to the carry-out part in the furnace is divided into a plurality of zones for performing different treatments on the workpieces, and the discharge pipe is connected to the carry-in part and the carry-out part from the heating furnace. Extends to the outside and moves the gas inside the furnace outside the furnace Is configured to output, said the discharge pipe, the suction port for sucking a gas in the heating furnace is provided in each of said zones, the discharge pipe, inverting the outside of each said heating furnace It extends so as to approach each other in the center direction along the extending direction of the heating furnace, and is configured to discharge the gas in the heating furnace from the vicinity of the center position to the outside by the gas discharge device. And

本発明によれば、搬送台に載せた被処理物を、加熱炉内を搬送しながら拡散処理することができ、従来のバッチ式と比べて、生産性を高めることができる。そして、加熱炉内が隔壁部材によって複数のゾーンに区画されており、ゾーン毎に個別にガスが供給されると共に、ゾーン毎に個別にガスが排出されるので、加熱炉内のゾーン毎の雰囲気を制御することができ、品質の高い被処理物を得ることが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the to-be-processed object mounted on the conveyance stand can be spread | diffused while conveying the inside of a heating furnace, and productivity can be improved compared with the conventional batch type. And the inside of the heating furnace is divided into a plurality of zones by partition members, and gas is supplied individually for each zone and gas is discharged individually for each zone, so the atmosphere for each zone in the heating furnace Therefore, it is possible to obtain a high-quality workpiece.

また、前記加熱装置は、前記加熱炉の外周に設けられたヒータと、前記ヒータと共に前記加熱炉を覆う筒状の断熱材とを備え、前記ヒータを制御することにより前記ゾーン毎に個別に炉内の温度調整を行う制御装置を備えているのが好ましい。
この場合、加熱炉内の各ゾーンの温度を制御することが可能となり、品質の高い被処理物を得ることが可能となる。
The heating device includes a heater provided on an outer periphery of the heating furnace, and a cylindrical heat insulating material that covers the heating furnace together with the heater, and controls the heaters individually for each zone. It is preferable to provide a control device for adjusting the temperature inside.
In this case, the temperature of each zone in the heating furnace can be controlled, and a high-quality workpiece can be obtained.

また、前記隔壁部材は、前記搬送方向に沿って移動可能として前記加熱炉内に設置されているのが好ましく、この場合、ゾーンの長さの変更が可能となる。   Moreover, it is preferable that the said partition member is installed in the said heating furnace so that a movement along the said conveyance direction is possible, In this case, the change of the length of a zone is attained.

また、前記搬送台の搬送方向の長さは、前記隔壁部材によって区画された各ゾーンの搬送方向の長さよりも小さいのが好ましい。
この場合、各ゾーンに、少なくとも1台の搬送台の全体を位置させることができる。このため、同じ搬送台に載せた複数枚の被処理物に対して、ゾーン毎で同じ雰囲気の条件により処理を行うことが可能となり、これら複数の被処理物の品質を均一にすることができる。
Moreover, it is preferable that the length of the said conveyance stand in the conveyance direction is smaller than the length of the conveyance direction of each zone divided by the said partition member.
In this case, the whole of at least one transport table can be positioned in each zone. For this reason, it becomes possible to process a plurality of objects to be processed placed on the same conveyance table under the same atmospheric conditions for each zone, and the quality of the plurality of objects to be processed can be made uniform. .

また、前記加熱装置は、前記加熱炉の外周に設けられたヒータと、前記ヒータと共に前記加熱炉を覆う筒状の断熱材とを備え、前記断熱材は、前記搬送方向に沿って切断された分割構造であるのが好ましい。
この場合、断熱材を分割構造することにより、内側にある加熱炉の脱着が可能となる。
Moreover, the said heating apparatus is provided with the heater provided in the outer periphery of the said heating furnace, and the cylindrical heat insulating material which covers the said heating furnace with the said heater, The said heat insulating material was cut | disconnected along the said conveyance direction. A divided structure is preferred.
In this case, by separating the heat insulating material, the inner heating furnace can be detached.

また、前記ガス給排装置は、拡散処理を行うためのゾーンに拡散処理のためのガスを供給するガス供給装置と、当該ゾーンのガスを排出するガス排出装置とを有し、前記ガス供給装置は、前記加熱炉の上部に配置され、前記加熱炉は、前記拡散処理を行うためのゾーンにおける前記搬送台が通過する搬送路を、上から及び左右両側から覆うと共に、多数の貫通穴が形成されているカバーを有しているのが好ましい。
拡散処理を行うためのゾーンでは、加熱炉の上部から供給されたガスは広がりながら底部へと流れ、ガスの流れに乱れが生じることがあるが、前記カバーによれば、貫通穴を通過するガスは整流され、ガスの流れの乱れを防ぎ、搬送台に載せた被処理物の周囲のガス濃度(雰囲気)を均質化することができる。
The gas supply / discharge device includes a gas supply device that supplies a gas for diffusion treatment to a zone for performing the diffusion treatment, and a gas discharge device that discharges gas in the zone, and the gas supply device Is arranged at the upper part of the heating furnace, and the heating furnace covers the conveyance path through which the conveyance table passes in the zone for performing the diffusion treatment from above and from both the left and right sides, and a plurality of through holes are formed. It is preferable to have a covered cover.
In the zone for performing the diffusion treatment, the gas supplied from the top of the heating furnace flows to the bottom while spreading, and the gas flow may be disturbed, but according to the cover, the gas passing through the through hole Is rectified to prevent the gas flow from being disturbed, and to homogenize the gas concentration (atmosphere) around the object to be processed placed on the transfer table.

また、前記加熱炉内の前記搬入部から前記搬出部までの間は、前記隔壁部材によって、当該搬入部側から昇温ゾーン、均熱ゾーン及び降温ゾーンに区画されており、前記降温ゾーンのガスを前記昇温ゾーンに供給するバイパス流路を備えているのが好ましい。
この場合、被処理物からの廃熱によって高温となった降温ゾーンのガスを昇温ゾーンに与えることができ、昇温ゾーンで加熱炉内を昇温させるために必要となる消費電力の削減が可能となる。
Further, the space from the carry-in section to the carry-out section in the heating furnace is divided into a temperature rising zone, a soaking zone, and a temperature falling zone from the carry-in portion side by the partition member, and the gas in the temperature falling zone It is preferable to provide a bypass flow path for supplying to the temperature raising zone.
In this case, the gas in the temperature lowering zone that has become high temperature due to waste heat from the object to be processed can be given to the temperature raising zone, and the power consumption required to raise the temperature in the heating furnace in the temperature raising zone can be reduced It becomes possible.

本発明によれば、被処理物を、加熱炉内を搬送しながら拡散処理することができ、生産性を高め、かつ、加熱炉内のゾーン毎の雰囲気を制御することで、品質の高い被処理物を得ることができる。つまり、生産効率の向上と処理品質の向上とを両立させることが可能となる。   According to the present invention, the object to be processed can be diffused while being conveyed in the heating furnace, the productivity is improved, and the atmosphere for each zone in the heating furnace is controlled, so that the quality of the object to be processed is increased. A processed product can be obtained. That is, it is possible to achieve both improvement in production efficiency and improvement in processing quality.

連続拡散処理装置の斜視図である。It is a perspective view of a continuous diffusion processing apparatus. 搬送台の斜視図である。It is a perspective view of a conveyance stand. 加熱炉、搬送装置及び加熱装置を説明する縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view explaining a heating furnace, a conveying apparatus, and a heating apparatus. 搬送装置の説明図である。It is explanatory drawing of a conveying apparatus. 搬送装置の説明図である。It is explanatory drawing of a conveying apparatus. 連続拡散処理装置の横断面図である。It is a cross-sectional view of a continuous diffusion treatment apparatus. 加熱炉内を説明するための加熱炉の横断面図である。It is a transverse cross section of a heating furnace for explaining the inside of a heating furnace. 隔壁部材の斜視図である。It is a perspective view of a partition member. ガス排出装置の説明図である。It is explanatory drawing of a gas discharge apparatus. 加熱炉の底部を示している説明図である。It is explanatory drawing which shows the bottom part of the heating furnace. 搬送台の車輪部の説明図である。It is explanatory drawing of the wheel part of a conveyance stand. 搬送台に載せたスペーサの説明図である。It is explanatory drawing of the spacer mounted on the conveyance stand.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
[1.全体構成について]
図1は、本発明の連続拡散処理装置の斜視図である。この連続拡散処理装置は、被処理物に対して拡散処理を行うための装置である。例えば、結晶シリコンによる太陽電池セルの製造において、シリコン製のウエハ(被処理物)の表面に、所定の元素からなる不純物を付着させ、この不純物を当該ウエハの内部に拡散させるための装置である。図1では、被処理物の記載を省略している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[1. About the overall configuration]
FIG. 1 is a perspective view of the continuous diffusion processing apparatus of the present invention. This continuous diffusion processing apparatus is an apparatus for performing diffusion processing on an object to be processed. For example, in the manufacture of solar cells using crystalline silicon, this is an apparatus for adhering impurities made of a predetermined element on the surface of a silicon wafer (object to be processed) and diffusing the impurities into the wafer. . In FIG. 1, the description of the object to be processed is omitted.

連続拡散処理装置は、複数枚の板状の被処理物を載せる搬送台50と、筒状の加熱炉1と、複数の搬送台50を搬送する搬送装置2と、加熱炉1内を加熱するヒータ30を有する加熱装置3と、加熱炉1内へのガスの供給及び当該加熱炉1内のガスの排出を行うガス給排装置4とを備えている。さらに、連続拡散処理装置は、搬送装置2等の各装置を制御する制御装置5を備えている。加熱炉1の長手方向(図1では左右方向)と、搬送台50が搬送される方向とは、一致しており、この方向を前後方向と呼ぶ。また、搬送台50が搬送される方向に直交する水平方向を左右方向と呼ぶこともある。   The continuous diffusion processing apparatus heats the inside of the heating furnace 1, the transport base 50 on which a plurality of plate-shaped workpieces are placed, the cylindrical heating furnace 1, the transport apparatus 2 that transports the plurality of transport bases 50. A heating device 3 having a heater 30 and a gas supply / discharge device 4 for supplying gas into the heating furnace 1 and discharging the gas in the heating furnace 1 are provided. Furthermore, the continuous diffusion processing apparatus includes a control device 5 that controls each device such as the transport device 2. The longitudinal direction of the heating furnace 1 (the left-right direction in FIG. 1) and the direction in which the transport table 50 is transported coincide with each other, and this direction is referred to as the front-rear direction. Moreover, the horizontal direction orthogonal to the direction in which the conveyance stand 50 is conveyed may be called the left-right direction.

[2.搬送台50の概略構成について]
図2は、搬送台50の斜視図である。搬送台50は、複数枚の板状の被処理物Wを、等間隔で垂直に立てた状態として載せる本体部51と、本体部51に取り付けられ加熱炉1の底面を転がる車輪部52とを有している。
本体部51には、被処理物Wが、前後方向に直交する姿勢で載せられる。本体部51は、複数本の円柱形状の棒部材51aによって直方体形状の枠体として組み立てられている。なお、搬送台50の詳細な構成については、後に説明する。
[2. About schematic configuration of transfer table 50]
FIG. 2 is a perspective view of the transport table 50. The transport base 50 includes a main body 51 on which a plurality of plate-like workpieces W are vertically placed at equal intervals and a wheel 52 attached to the main body 51 and rolling on the bottom surface of the heating furnace 1. Have.
The workpiece W is placed on the main body 51 in a posture orthogonal to the front-rear direction. The main body 51 is assembled as a rectangular parallelepiped frame by a plurality of cylindrical rod members 51a. The detailed configuration of the transport table 50 will be described later.

[3.加熱炉1、搬送装置2及び加熱装置3の構成について]
図3は、加熱炉1、搬送装置2及び加熱装置3を説明する縦断面図である。図3では、被処理物の記載を省略している。
加熱炉1(一般的に炉芯管と呼ばれる)は、前後方向に長く、搬送台50を搬入する搬入部11から、搬送台50を搬出する搬出部12まで直線状に延びる構成である。加熱炉1は、石英ガラス又はセラミックスからなり、断面が円形の筒からなる。加熱炉1は、連続拡散処理装置が有しているステージ6(図1参照)上に設置されている。
この加熱炉1は、搬入部11から搬出部12まで途切れず一体物であり、内部のガスが漏れるのを防いでいる。加熱炉1の一端部の搬入部11及び他端部の搬出部12は開放されている。しかし、後に説明するパージガスによって、加熱炉1内の両端部にはガスカーテンが形成されており、加熱炉1内の雰囲気は、加熱炉1外の大気と遮断されている。
[3. Regarding the configuration of the heating furnace 1, the conveying device 2 and the heating device 3]
FIG. 3 is a longitudinal sectional view for explaining the heating furnace 1, the conveying device 2 and the heating device 3. In FIG. 3, the description of the object to be processed is omitted.
The heating furnace 1 (generally referred to as a furnace core tube) is long in the front-rear direction, and has a configuration that extends linearly from a carry-in unit 11 that carries the carrying table 50 to a carry-out unit 12 that carries the carrying table 50 out. The heating furnace 1 is made of quartz glass or ceramics, and is made of a cylinder having a circular cross section. The heating furnace 1 is installed on a stage 6 (see FIG. 1) included in the continuous diffusion processing apparatus.
The heating furnace 1 is a single piece without interruption from the carry-in part 11 to the carry-out part 12, and prevents the internal gas from leaking. The carry-in part 11 at one end of the heating furnace 1 and the carry-out part 12 at the other end are open. However, gas curtains are formed at both ends in the heating furnace 1 by the purge gas described later, and the atmosphere in the heating furnace 1 is blocked from the atmosphere outside the heating furnace 1.

搬送装置2は、加熱炉1内に搬送台50を搬入部11から順次搬入すると共に、搬入した搬送台50を加熱炉1内を搬送し、さらに、搬出部12から搬送台50を順次搬出する機能を有している。図4と図5とは、搬送装置2の説明図である。
搬送装置2は、複数の搬送台50を、加熱炉1内を列状として搬送する押し込み駆動部21を有している。押し込み駆動部21は、搬送台50に接触するプッシャー22と、このプッシャー22が取り付けられている可動片23と、この可動片23を前後方向に往復移動させる駆動装置24とを有している。プッシャー22、可動片23及び駆動装置24は、前記ステージ6(図1参照)上に配置されており、これらは、加熱炉1外に設置されている。
The conveyance device 2 sequentially carries the conveyance table 50 into the heating furnace 1 from the carry-in unit 11, conveys the conveyed conveyance table 50 through the heating furnace 1, and further carries out the conveyance table 50 sequentially from the carry-out unit 12. It has a function. 4 and 5 are explanatory diagrams of the transfer device 2. FIG.
The conveying apparatus 2 has a pushing drive unit 21 that conveys the plurality of conveying tables 50 in a row in the heating furnace 1. The push-in drive unit 21 includes a pusher 22 that comes into contact with the transport table 50, a movable piece 23 to which the pusher 22 is attached, and a drive device 24 that reciprocates the movable piece 23 in the front-rear direction. The pusher 22, the movable piece 23, and the driving device 24 are arranged on the stage 6 (see FIG. 1), and these are installed outside the heating furnace 1.

駆動装置24は、前記制御装置5の制御により、前後方向に沿って、可動片23の進退移動を繰り返す。可動片23が前進することにより(図5参照)、プッシャー22は搬送台50を搬入部11側へ向かって押す。
この搬送装置2によれば、搬入部11の上流側(手前)のゾーンA0に位置する搬送台50(図4と図5では50−1)を、搬入部11側へ向かって押すことにより、当該搬送台50−1を、加熱炉1内へ搬入すると共に、この搬入した搬送台50−1によって、先に搬入されている搬送台50(50−2,50−3)を搬出部12側へ押して、複数の搬送台50(50−2,50−3)を、同時に、加熱炉1内を列状として搬送することができる。そして、搬出部12から加熱炉1外にあるゾーンA4に、搬送台50を搬出することができる。
The drive device 24 repeats the forward and backward movement of the movable piece 23 along the front-rear direction under the control of the control device 5. As the movable piece 23 moves forward (see FIG. 5), the pusher 22 pushes the transport base 50 toward the carry-in portion 11 side.
According to the transport device 2, by pushing the transport base 50 (50-1 in FIGS. 4 and 5) located in the zone A0 on the upstream side (near side) of the carry-in unit 11 toward the carry-in unit 11 side, While carrying the said conveyance stand 50-1 in the heating furnace 1, the conveyance stand 50 (50-2, 50-3) previously carried in by this carry-in conveyance stand 50-1 is the carrying-out part 12 side. The plurality of transfer platforms 50 (50-2, 50-3) can be simultaneously transferred in a row in the heating furnace 1. And the conveyance stand 50 can be carried out from the carrying-out part 12 to zone A4 outside the heating furnace 1.

プッシャー22のストロークS、つまり、押し込み駆動部21による搬送台50の押し込みストロークSは、搬送台50の長さLとほぼ同一である。なお、ほぼ同一とは、搬送台50を加熱炉1に搬入する準備作業の際、搬送台50を搬入部11の上流側のゾーンA0に置くために必要となる余裕代K(空間)を、搬送台50の長さLに含めた全長が、前記ストロークSと同一となる場合を含むことを意味している。
また、図5において、1回の押し込みストロークSにより加熱炉1に搬入された搬送台50−1の左側の端部は、加熱炉1の左側の端部と、前後方向の位置についてほぼ一致する。このように、1回の押し込みストロークSにより、搬送台50を1台ずつ搬入部11から加熱炉1内へ搬入し、かつ、搬送台50を1台ずつ加熱炉1から搬出させることが可能となる。
The stroke S of the pusher 22, that is, the pushing stroke S of the conveying table 50 by the pushing drive unit 21 is substantially the same as the length L of the conveying table 50. Note that substantially the same means that the margin K (space) required for placing the transport table 50 in the zone A0 on the upstream side of the load-in part 11 during the preparatory work for transporting the transport table 50 into the heating furnace 1, This means that the entire length included in the length L of the transport table 50 includes the case where the stroke S is the same.
Further, in FIG. 5, the left end portion of the transfer table 50-1 carried into the heating furnace 1 by one pushing stroke S substantially coincides with the left end portion of the heating furnace 1 in the front-rear direction position. . In this way, it is possible to carry the conveyance table 50 one by one from the loading unit 11 into the heating furnace 1 and carry the conveyance table 50 one by one from the heating furnace 1 by one pushing stroke S. Become.

図3において、加熱装置3は、加熱炉1の外周に設けられ前後方向に並べられた複数のヒータ30と、各ヒータ30と共に加熱炉1を外周側から覆う筒状の断熱材31とを備えている。加熱装置3は、加熱炉1内を加熱し、加熱炉1内を通過する搬送台50に載っている被処理物を加熱する。
後に説明するが、加熱炉1内は、複数のゾーンに区画されており、複数のゾーンの内の、ゾーンA1−2,A2−1,A2−2,A3−1の外周側に、ヒータ30がそれぞれ設けられている。ヒータ30は、例えば筒型のヒータである。
In FIG. 3, the heating device 3 includes a plurality of heaters 30 provided on the outer periphery of the heating furnace 1 and arranged in the front-rear direction, and a cylindrical heat insulating material 31 that covers the heating furnace 1 from the outer peripheral side together with each heater 30. ing. The heating device 3 heats the inside of the heating furnace 1 and heats an object to be processed that is mounted on the transport table 50 that passes through the inside of the heating furnace 1.
As will be described later, the inside of the heating furnace 1 is divided into a plurality of zones, and the heater 30 is provided on the outer peripheral side of the zones A1-2, A2-1, A2-2, and A3-1 in the plurality of zones. Are provided. The heater 30 is a cylindrical heater, for example.

断熱材31は、少なくともゾーンA1−2,A2−1,A2−2,A3−1の外周側に設置されている。図6は、拡散処理装置の横断面図である。断熱材31は、全体が筒形状であるが、分割構造であり、前後方向(図6では紙面方向)に沿って切断されており、前後方向に長い分割面32を有している。
断熱材31と同様に、リング型の前記ヒータ30も前後方向に沿って切断された分割構造であり、分割面32と同じ位置で分割されている。
断熱材31の外周側には、分割面32を挟んだ直径方向両側に、ヒンジ部33とロック部34とを有している。ロック部34を固定状態(図6の状態)から固定解除状態とすることで、ヒンジ部33を中心として、分割構造である断熱材31を展開することが可能となる。断熱材31及びヒータ30を分割構造とすることにより、断熱材31の内側にある加熱炉1の脱着が可能となり、装置のメンテナンスが容易となる。
The heat insulating material 31 is installed at least on the outer peripheral side of the zones A1-2, A2-1, A2-2, and A3-1. FIG. 6 is a cross-sectional view of the diffusion processing apparatus. The heat insulating material 31 has a cylindrical shape as a whole, but has a divided structure, is cut along the front-rear direction (the paper surface direction in FIG. 6), and has a long divided surface 32 in the front-rear direction.
Similar to the heat insulating material 31, the ring-shaped heater 30 has a divided structure cut along the front-rear direction, and is divided at the same position as the dividing surface 32.
On the outer peripheral side of the heat insulating material 31, a hinge portion 33 and a lock portion 34 are provided on both sides in the diameter direction across the dividing surface 32. By changing the lock portion 34 from the fixed state (the state shown in FIG. 6) to the fixed release state, the heat insulating material 31 having a split structure can be developed around the hinge portion 33. By making the heat insulating material 31 and the heater 30 into a divided structure, the heating furnace 1 inside the heat insulating material 31 can be detached and the maintenance of the apparatus becomes easy.

図3において、加熱炉1内には、複数の隔壁部材7が設けられている。隔壁部材7は、加熱炉1内の搬入部11から搬出部12までの間を、前後方向に複数のゾーンに区画している。本実施形態では、5個の隔壁部材7によって、6つのゾーンA1−1,A1−2,A2−1,A2−2,A3−1,A3−1に区画している。
第1と第2のゾーンA1−1,A1−2は、昇温ゾーンA1であり、この内の第1ゾーンA1−1では、前記ガスカーテンが形成され、第2ゾーンA1−2では、その外周側に設けられたヒータ30により、炉内が加熱され、第2ゾーンA1−2を通過する被処理物Wの温度を高める。
In FIG. 3, a plurality of partition members 7 are provided in the heating furnace 1. The partition member 7 divides the space from the carry-in part 11 to the carry-out part 12 in the heating furnace 1 into a plurality of zones in the front-rear direction. In this embodiment, the five partition members 7 divide the zone into six zones A1-1, A1-2, A2-1, A2-2, A3-1, and A3-1.
The first and second zones A1-1 and A1-2 are the temperature rising zone A1, in which the gas curtain is formed in the first zone A1-1 and in the second zone A1-2. The inside of the furnace is heated by the heater 30 provided on the outer peripheral side, and the temperature of the workpiece W passing through the second zone A1-2 is increased.

第3と第4のゾーンA2−1,A2−2は、炉内温度が一定に維持される均熱ゾーンA2であり、その外周側に設けられたヒータ30により、炉内温度を例えば850〜900℃に維持し、均熱ゾーンA2を通過する被処理物の温度を一定に保つ。第3ゾーンA2−1では、拡散処理を行うためのガスが炉内に供給され、第4ゾーンA2−2では、前記ガスに含まれていた不純物がその表面に付着した被処理物に対して、実際の拡散処理が行われる。
第5と第6のゾーンA3−1,A3−2は、降温ゾーンA3であり、この内の第5ゾーンA3−1では、その外周側に設けられたヒータ30を用いて、炉内温度を所定の温度から徐々に降温させ、第6ゾーンA3−2では、前記ガスカーテンが形成される。
The third and fourth zones A2-1 and A2-2 are soaking zones A2 in which the furnace temperature is kept constant, and the furnace temperature is set to, for example, 850 to 580 by the heater 30 provided on the outer peripheral side thereof. The temperature of the workpiece passing through the soaking zone A2 is kept constant at 900 ° C. In 3rd zone A2-1, the gas for performing a diffusion process is supplied in a furnace, and in 4th zone A2-2, with respect to the to-be-processed object which the impurity contained in the said gas adhered to the surface Actual diffusion processing is performed.
The fifth and sixth zones A3-1 and A3-2 are the temperature drop zone A3. In the fifth zone A3-1, the temperature in the furnace is set using the heater 30 provided on the outer peripheral side thereof. The gas curtain is formed in the sixth zone A3-2 by gradually lowering the temperature from a predetermined temperature.

図7は、加熱炉1内を説明するための加熱炉1の横断面図である。図8は、隔壁部材7の斜視図である。図8に示しているカバー13については後に説明する。隔壁部材7は、板状の壁部7aと、この壁部7aの下部に固定され当該壁部7aを起立させる左右の脚部7bとを有している。壁部7aには、被処理物Wを載せた搬送台50の通過を許容する開口7cが形成されている。また、壁部7aには、複数の貫通穴7dが形成されており、後に説明する供給パイプ44の他に、温度センサのケーブル(収納管)、圧力センサのケーブル(収納管)、各ゾーンのガスをサンプリングするためのパイプ等を挿通させる。
各隔壁部材7は、前後方向に沿って移動可能として加熱炉1内に設置されており、各ゾーンの前後方向の長さを変更することができる。つまり、脚部7bが加熱炉1の底部に載った状態にあり、隔壁部材7は加熱炉1の内周面に永久的に固定されていない。
FIG. 7 is a cross-sectional view of the heating furnace 1 for explaining the inside of the heating furnace 1. FIG. 8 is a perspective view of the partition wall member 7. The cover 13 shown in FIG. 8 will be described later. The partition member 7 includes a plate-like wall portion 7a, and left and right leg portions 7b that are fixed to the lower portion of the wall portion 7a and raise the wall portion 7a. The wall 7a is formed with an opening 7c that allows passage of the transfer table 50 on which the workpiece W is placed. The wall 7a is formed with a plurality of through holes 7d. In addition to a supply pipe 44 described later, a temperature sensor cable (storage tube), a pressure sensor cable (storage tube), and each zone Insert pipes for sampling gas.
Each partition member 7 is installed in the heating furnace 1 so as to be movable along the front-rear direction, and the length of each zone in the front-rear direction can be changed. That is, the leg 7 b is placed on the bottom of the heating furnace 1, and the partition member 7 is not permanently fixed to the inner peripheral surface of the heating furnace 1.

[4.ガス給排装置4について]
図1において、ガス給排装置4は、加熱炉1内にガスを供給するガス供給装置41と、加熱炉1内のガスを当該加熱炉1外へ排出するガス排出装置42とを有している。
図3において、ガス供給装置41は、ガス源43と、このガス源43と接続され加熱炉1内へと延びている供給パイプ44とを備えている。本実施形態では、ガス源43から、搬入部11側を通過する複数本の供給パイプ44と、搬出部12側を通過する複数本の供給パイプ44とが設けられている。
[4. About the gas supply / discharge device 4]
In FIG. 1, the gas supply / discharge device 4 includes a gas supply device 41 that supplies gas into the heating furnace 1, and a gas discharge device 42 that discharges the gas in the heating furnace 1 to the outside of the heating furnace 1. Yes.
In FIG. 3, the gas supply device 41 includes a gas source 43 and a supply pipe 44 connected to the gas source 43 and extending into the heating furnace 1. In the present embodiment, a plurality of supply pipes 44 that pass from the gas source 43 to the carry-in unit 11 side and a plurality of supply pipes 44 that pass from the carry-out unit 12 side are provided.

各供給パイプ44には、ガスを噴出する噴出口(穴)が複数設けられており、供給パイプ44毎に噴出口の前後方向の位置が異なっている。また、供給パイプ44毎に種類の異なるガスがガス源43から送られ、供給パイプ44毎に異なる種類のガスを噴出する。このため、前後方向で複数存在しているゾーン毎に、異なるガスを供給することができる。また、ガス供給装置41は、各ゾーンに供給するガスの流量をゾーン毎で調整するバルブ49aを有している。   Each supply pipe 44 is provided with a plurality of jet outlets (holes) for jetting gas, and the positions of the jet outlets in the front-rear direction are different for each supply pipe 44. Further, different types of gas are sent from the gas source 43 for each supply pipe 44, and different types of gas are ejected for each supply pipe 44. For this reason, it is possible to supply different gases for each of a plurality of zones existing in the front-rear direction. The gas supply device 41 has a valve 49a that adjusts the flow rate of the gas supplied to each zone for each zone.

本実施形態(図3参照)では、第1ゾーンA1−1には、ガスカーテンを形成するために、窒素ガス(パージガス)が供給される。炉内を昇温させる第2ゾーンA1−2では、窒素及び酸素を含むガスが供給される。第3ゾーンA2−1には、拡散処理を行わせるためのガスとして、オキシ塩化リンと酸素とを含むガスが供給される。拡散処理が実際に行われる第4ゾーンA2−2には、窒素及び酸素を含むガスが供給される。炉内を降温させる第5ゾーンA3−1では、窒素ガスが供給される。そして、第6ゾーンA3−2には、ガスカーテンを形成するために、窒素ガス(パージガス)が供給される。なお、各ゾーンで噴出させるガスの種類は、処理内容等に応じて変更可能である。   In the present embodiment (see FIG. 3), nitrogen gas (purge gas) is supplied to the first zone A1-1 in order to form a gas curtain. In the second zone A1-2 for raising the temperature in the furnace, a gas containing nitrogen and oxygen is supplied. A gas containing phosphorus oxychloride and oxygen is supplied to the third zone A2-1 as a gas for performing the diffusion treatment. A gas containing nitrogen and oxygen is supplied to the fourth zone A2-2 where the diffusion treatment is actually performed. In the fifth zone A3-1 where the temperature in the furnace is lowered, nitrogen gas is supplied. The sixth zone A3-2 is supplied with nitrogen gas (purge gas) to form a gas curtain. In addition, the kind of gas ejected in each zone can be changed according to the processing content etc.

前記ガス供給装置41によれば、被処理物に対して拡散処理を行うための均熱ゾーンA2に、拡散処理のためのガスを供給することができると共に、昇温ゾーンA1及び降温ゾーンA3に所定のガスを供給することができる。
そして、均熱ゾーンA2において、第3ゾーンA2−1では、所定の濃度の不純物(オキシ塩化リン)を含むガス中に、被処理物を滞在させることにより、当該不純物を被処理物の表面に付着させる。そして、第4ゾーンA2−2では、被処理物に対して不純物を所定の分布(所定の拡散深さ)で拡散させる。
According to the gas supply device 41, the gas for the diffusion treatment can be supplied to the soaking zone A2 for performing the diffusion treatment on the object to be processed, and the temperature increase zone A1 and the temperature decrease zone A3. A predetermined gas can be supplied.
And in soaking zone A2, in 3rd zone A2-1, by making a to-be-processed object stay in the gas containing the impurity (phosphorus oxychloride) of predetermined density | concentration, the said impurity is made into the surface of a to-be-processed object. Adhere. And in 4th zone A2-2, an impurity is diffused with respect to a to-be-processed object by predetermined distribution (predetermined diffusion depth).

図9は、ガス排出装置42の説明図である。ガス排出装置42は、ガスを排出する排出器(ポンプ)47と、この排出器47と接続され加熱炉1内へと延びている排出パイプ48とを備えている。排出パイプ48の一部は、加熱炉1の底部に設置されている。排出器47から、搬入部11側を通過する複数本の排出パイプ48と、搬出部12側を通過する複数本の排出パイプ48とが設けられている。また、ガス排出装置42は、加熱炉1内から排出するガスの流量を、ゾーン毎に調整するバルブ49bを有している。   FIG. 9 is an explanatory diagram of the gas discharge device 42. The gas discharge device 42 includes a discharger (pump) 47 that discharges gas, and a discharge pipe 48 that is connected to the discharger 47 and extends into the heating furnace 1. A part of the discharge pipe 48 is installed at the bottom of the heating furnace 1. From the discharger 47, a plurality of discharge pipes 48 passing through the carry-in part 11 side and a plurality of discharge pipes 48 passing through the carry-out part 12 side are provided. Further, the gas discharge device 42 has a valve 49b for adjusting the flow rate of the gas discharged from the heating furnace 1 for each zone.

図10は、加熱炉1の底部の説明図である。加熱炉1内において、前記排出パイプ48それぞれには、ガスを吸引する吸引口(穴)48aが複数設けられており、排出パイプ48毎に吸引口48aの前後方向の位置が異なっている。また、排出パイプ44毎で異なる種類のガスを吸引し、排出パイプ48毎に種類の異なるガスが流れる。このため、ゾーン毎で異なるガスを炉外に排出することができる。   FIG. 10 is an explanatory diagram of the bottom of the heating furnace 1. In the heating furnace 1, each of the discharge pipes 48 is provided with a plurality of suction ports (holes) 48 a for sucking gas, and the positions of the suction ports 48 a in the front-rear direction are different for each discharge pipe 48. Further, different types of gas are sucked for each discharge pipe 44, and different types of gas flow for each discharge pipe 48. For this reason, different gas for every zone can be discharged | emitted out of a furnace.

加熱炉1の底部には、排気構造部45が設けられており、この排気構造部45は、加熱炉1内のガスを加熱炉1外へ導出する排気流路46を内部に有している。本実施形態では、排気流路46は前記排出パイプ48からなる。つまり、排気構造部45内に、排出パイプ48が格納されている。
排気構造部45は、前後方向に長い左右の側壁45bと、前後方向に長い上壁45aとを有し、3本の排出パイプ48を格納している箱体からなる。そして、上壁45aには、複数の貫通穴45cが形成されている。各ゾーンのガスは、この貫通穴45c及び前記吸引口48aを通過し、加熱炉1の外部へ排出される。
An exhaust structure 45 is provided at the bottom of the heating furnace 1, and the exhaust structure 45 has an exhaust passage 46 for leading the gas in the heating furnace 1 out of the heating furnace 1. . In the present embodiment, the exhaust passage 46 includes the discharge pipe 48. That is, the exhaust pipe 48 is stored in the exhaust structure 45.
The exhaust structure 45 includes a box body that has left and right side walls 45 b that are long in the front-rear direction and an upper wall 45 a that is long in the front-rear direction, and stores three discharge pipes 48. A plurality of through holes 45c are formed in the upper wall 45a. The gas in each zone passes through the through hole 45c and the suction port 48a and is discharged to the outside of the heating furnace 1.

本実施形態のガス排出装置42(図9参照)の場合、第1ゾーンA1−1では、ガスカーテンを形成した窒素ガスを吸引する。第2ゾーンA1−2では、炉内に供給された窒素及び酸素を含むガスが吸引される。第3ゾーンA2−1では、拡散処理を行わせるためのガス(オキシ塩化リンと酸素とを含むガス)が吸引される。拡散処理を行う第4ゾーンA2−2では、炉内に供給された窒素及び酸素を含むガスが吸引される。第5ゾーンA3−1では、炉内に供給された窒素ガスが吸引される。そして、第6ゾーンA3−2では、ガスカーテンを形成した窒素ガスが吸引される。
このガス排出装置42によれば、拡散処理を行うための均熱ゾーンA2の余剰のガスを排出することができると共に、昇温ゾーンA1及び降温ゾーンA3のガスを排出することができる。
In the case of the gas discharge device 42 (see FIG. 9) of the present embodiment, in the first zone A1-1, nitrogen gas forming a gas curtain is sucked. In the second zone A1-2, a gas containing nitrogen and oxygen supplied into the furnace is sucked. In the third zone A2-1, a gas (gas containing phosphorus oxychloride and oxygen) for performing the diffusion treatment is sucked. In the fourth zone A2-2 where the diffusion treatment is performed, a gas containing nitrogen and oxygen supplied into the furnace is sucked. In the fifth zone A3-1, nitrogen gas supplied into the furnace is sucked. And in 6th zone A3-2, the nitrogen gas which formed the gas curtain is attracted | sucked.
According to the gas discharge device 42, it is possible to discharge excess gas in the soaking zone A2 for performing the diffusion treatment, and it is possible to discharge the gas in the temperature raising zone A1 and the temperature lowering zone A3.

以上のように、前記ガス排出装置42及び前記ガス供給装置41を備えたガス給排装置4は、ゾーン毎に個別にガスを供給すると共に、ゾーン毎に個別にガスを排出することができる。
また、ガス供給装置41の供給パイプ44は、取り外し可能であり、噴出口の配置パターンが異なる供給パイプ44に交換することができる。また、排気構造部45の上壁45a及び排出パイプ48は取り外し可能であり、貫通穴45c及び吸引口48aの配置パターンが異なる上壁45a及び排出パイプ48に交換することができる。
As described above, the gas supply / discharge device 4 including the gas discharge device 42 and the gas supply device 41 can supply the gas individually for each zone and discharge the gas individually for each zone.
Moreover, the supply pipe 44 of the gas supply apparatus 41 is removable, and can be exchanged for a supply pipe 44 having a different arrangement pattern of the ejection ports. Moreover, the upper wall 45a and the exhaust pipe 48 of the exhaust structure 45 can be removed, and can be exchanged for the upper wall 45a and the exhaust pipe 48 having different arrangement patterns of the through holes 45c and the suction ports 48a.

また、排気構造部45は、加熱炉内1のガスを外部へ排出する機能の他に、搬送台50をガイドする機能を有している。
図9に示しているように、排気構造部45は、加熱炉1内において、前後方向に沿って直線的にかつ連続して配置されている。また、この排気構造部45は、加熱炉1外(図3参照)のゾーンA0とゾーンA4にも延長されている。このように、排気構造部45は、搬送台50の搬送方向に沿って直線的に配置されており、搬送装置2によって搬送される複数の搬送台50を前後方向に沿って搬入部11から搬出部12へと導くことができる。
Further, the exhaust structure 45 has a function of guiding the transfer table 50 in addition to the function of discharging the gas in the heating furnace 1 to the outside.
As shown in FIG. 9, the exhaust structure portion 45 is arranged linearly and continuously along the front-rear direction in the heating furnace 1. The exhaust structure 45 is also extended to the zone A0 and the zone A4 outside the heating furnace 1 (see FIG. 3). In this way, the exhaust structure unit 45 is linearly arranged along the conveyance direction of the conveyance table 50, and the plurality of conveyance tables 50 conveyed by the conveyance device 2 are carried out from the carry-in unit 11 along the front-rear direction. To the part 12.

このガイド機能について具体的に説明する。図10に示しているように、排気構造部45は、左右の側壁45b、上壁45aの他に、前後方向に長い底板45dを有している。底板45dの左右両側には、側壁45bから左右の両側方へ延びかつ前後方向に連続している走行面45eが形成されている。搬送台50の左右の車輪部52は、前記走行面45を転がり、搬送台50は左右の側壁45b及び上壁45aを跨いだ状態にある。
また、後にも説明するが、搬送台50は、側壁45bに摺接するガイドブロック53を有しており、このガイドブロック53によって、搬送台50は排気構造部45に沿って直線的に誘導される。
以上のように、ガスの排出機能を有している排気構造部45を、搬送台50を前後方向に導くガイドとして兼用することができる。
This guide function will be specifically described. As shown in FIG. 10, the exhaust structure 45 includes a bottom plate 45d that is long in the front-rear direction, in addition to the left and right side walls 45b and the upper wall 45a. On both the left and right sides of the bottom plate 45d, there are formed running surfaces 45e extending from the side wall 45b to the left and right sides and continuing in the front-rear direction. The left and right wheel portions 52 of the transport table 50 roll on the traveling surface 45, and the transport table 50 is in a state of straddling the left and right side walls 45b and the upper wall 45a.
As will be described later, the transport table 50 includes a guide block 53 that is in sliding contact with the side wall 45 b, and the transport table 50 is linearly guided along the exhaust structure 45 by the guide block 53. .
As described above, the exhaust structure 45 having a gas discharge function can also be used as a guide for guiding the transport table 50 in the front-rear direction.

排気構造部45は、前後方向に複数に分割可能である。図9の実施形態では、上壁45a及び側壁45bは、ゾーンの分割数と同じ6分割であり、その分割位置が、ゾーンの境界と一致している。底板45dは、中央で分割され、2分割の構造である。上壁45a及び側壁45bは、2分割された底板45dそれぞれに固定可能である。底板45d同士の分割部(接合面)は、組み立てを容易とするためにテーパ面45fとなっている。接合面をテーパ面45とすることにより、接合面は、車輪部52の進行方向に対して傾斜し、車輪部52は、スムーズに接合面上を乗り越えることができる。   The exhaust structure 45 can be divided into a plurality of parts in the front-rear direction. In the embodiment of FIG. 9, the upper wall 45a and the side wall 45b have the same six divisions as the number of zone divisions, and the division positions coincide with the zone boundaries. The bottom plate 45d is divided at the center and has a two-part structure. The upper wall 45a and the side wall 45b can be fixed to each of the two divided bottom plates 45d. A split portion (joint surface) between the bottom plates 45d is a tapered surface 45f for easy assembly. By setting the joint surface to the tapered surface 45, the joint surface is inclined with respect to the traveling direction of the wheel portion 52, and the wheel portion 52 can smoothly get over the joint surface.

[5.制御装置5について]
制御装置5は、処理装置(CPU)及び記憶装置を有するコンピュータによって構成されており、記憶装置に記憶させたコンピュータプログラムを前記処理装置が実行することで、搬送装置2(駆動装置24)、加熱装置2(ヒータ30)等の各装置が制御される。
例えば、加熱装置3は、ゾーンA1−2,A2−1,A2−2,A3−1それぞれの温度を検出する温度センサを有しており、この温度センサの検出結果に基づいて、制御装置5は各ヒータ30を制御することにより、各ゾーンの炉内の温度を個別に調整する。この制御装置5の機能により、加熱炉1内の雰囲気温度を、ゾーン毎に精度良く制御することが可能となる。
[5. About Control Device 5]
The control device 5 is configured by a computer having a processing device (CPU) and a storage device, and the processing device executes a computer program stored in the storage device, whereby the transfer device 2 (drive device 24), heating Each device such as the device 2 (heater 30) is controlled.
For example, the heating device 3 includes temperature sensors that detect the temperatures of the zones A1-2, A2-1, A2-2, and A3-1, and the control device 5 is based on the detection results of the temperature sensors. Controls each heater 30 to individually adjust the temperature in the furnace of each zone. With the function of the control device 5, the atmospheric temperature in the heating furnace 1 can be accurately controlled for each zone.

また、ガス給排装置4は、ゾーンA1−2,A2−1,A2−2,A3−1それぞれの圧力を検出する圧力センサを有しており、この圧力センサの検出結果に基づいて、制御装置5は、炉内に供給するガスの流量(供給流量を調整する前記バルブ49a:図3)及び炉内から排出するガスの流量(排出流量を調整する前記バルブ49b:図9)の一方又は双方を制御することにより、各ゾーンの炉内の圧力を個別に調整する。この制御装置5の機能により、加熱炉1内の圧力を、ゾーン毎に精度良く制御することが可能となる。
[6.拡散処理装置が備えているその他の構成について]
In addition, the gas supply / discharge device 4 includes pressure sensors that detect the pressures of the zones A1-2, A2-1, A2-2, and A3-1, and control is performed based on the detection results of the pressure sensors. The apparatus 5 includes one of a flow rate of gas supplied into the furnace (the valve 49a for adjusting the supply flow rate: FIG. 3) and a flow rate of gas discharged from the furnace (the valve 49b for adjusting the discharge flow rate: FIG. 9) or By controlling both, the pressure in the furnace of each zone is adjusted individually. With the function of the control device 5, the pressure in the heating furnace 1 can be accurately controlled for each zone.
[6. Regarding other configurations of the diffusion processing apparatus]

図3において、ガス供給装置41の供給パイプ44は、加熱炉1の上部に配置され、ガス排出装置42の排出パイプ48は加熱炉1の下部に設置されていることから、加熱炉1内において、ガスは上部から下部へと各ゾーンで広がりながら流れる。
そこで、拡散処理を行うためのゾーンである、第3ゾーンA2−1及び第4ゾーンA2−2では、当該ゾーンA2−1,A2−2において搬送台が通過する搬送路14(図8参照)を、上から及び左右両側から覆うカバー13が設けられている。このカバー13は、前後方向に隣り合う隔壁部材7,7間に設置される。カバー13の上部及び左右の両側部には、多数の貫通穴15が形成されており、供給パイプ44から噴出されたガスは、この貫通穴15を通過し、排出パイプ48から排出される。
In FIG. 3, the supply pipe 44 of the gas supply device 41 is disposed in the upper part of the heating furnace 1, and the discharge pipe 48 of the gas discharge apparatus 42 is installed in the lower part of the heating furnace 1. Gas flows while spreading in each zone from the top to the bottom.
Therefore, in the third zone A2-1 and the fourth zone A2-2, which are zones for performing the diffusion process, the transport path 14 through which the transport table passes in the zones A2-1 and A2-2 (see FIG. 8). A cover 13 is provided to cover from above and from both the left and right sides. This cover 13 is installed between partition members 7 and 7 adjacent in the front-rear direction. A large number of through holes 15 are formed in the upper part of the cover 13 and on the left and right sides, and the gas ejected from the supply pipe 44 passes through the through holes 15 and is discharged from the discharge pipe 48.

前記ゾーンA2−1,A2−2では、前記のとおり、加熱炉1の上部から供給されたガスは広がりながら下部(搬送台50)側へと流れ、ガスの流れに乱れが生じることがあるが、前記カバー13によれば、貫通穴15を通過するガスは整流され、ガスの流れの乱れを防ぎ、搬送台50に載せた被処理物Wの周囲のガス濃度(雰囲気)を均質化することができる。このため、拡散処理した複数の被処理物Wをより一層、均質化することが可能となる。   In the zones A2-1 and A2-2, as described above, the gas supplied from the upper part of the heating furnace 1 flows toward the lower part (conveying table 50) while spreading, and the gas flow may be disturbed. According to the cover 13, the gas passing through the through hole 15 is rectified to prevent the gas flow from being disturbed, and to homogenize the gas concentration (atmosphere) around the workpiece W placed on the transfer table 50. Can do. For this reason, it becomes possible to homogenize the several to-be-processed object W which carried out the diffusion process much more.

また、図3において、前記のとおり、加熱炉1内は、隔壁部材7によって、搬入部11側から昇温ゾーンA1、均熱ゾーンA2及び降温ゾーンA3に区画されている。
そこで、降温ゾーンA3の第6ゾーンA3−2の窒素ガスを、昇温ゾーンA1の第1ゾーンA1−1に供給するバイパス流路17が設けられている。バイパス流路17はパイプからなる。さらに、第6ゾーンA3−2の外周側には、窒素ガスを強制的に排出するためのファン18が設置されており、このファン18によって排出した窒素ガスが、前記バイパス流路17を通って第1ゾーンA1−1に供給される。なお、バイパス流路17は、ガスカーテンを形成するために窒素ガスを流している供給パイプ44に繋がっており、バイパス流路17内の窒素ガスが、第1ゾーンA1−1に供給する窒素ガスに、混ざるようにしてもよい。なお、第6ゾーンA3−2は降温ゾーンA3に含まれており、加熱された後の被処理物Wが通過することから、当該第6ゾーンA3−2の窒素ガスは、第1ゾーンA1−1の窒素ガスよりも高温である。
In FIG. 3, as described above, the inside of the heating furnace 1 is partitioned by the partition wall member 7 into the temperature rising zone A1, the temperature equalizing zone A2, and the temperature decreasing zone A3 from the carry-in portion 11 side.
Therefore, a bypass passage 17 is provided for supplying nitrogen gas in the sixth zone A3-2 in the temperature lowering zone A3 to the first zone A1-1 in the temperature raising zone A1. The bypass flow path 17 consists of a pipe. Further, a fan 18 for forcibly discharging nitrogen gas is installed on the outer peripheral side of the sixth zone A3-2. The nitrogen gas discharged by the fan 18 passes through the bypass flow path 17. Supplied to the first zone A1-1. The bypass channel 17 is connected to a supply pipe 44 through which nitrogen gas flows to form a gas curtain, and the nitrogen gas in the bypass channel 17 is supplied to the first zone A1-1. Alternatively, they may be mixed. Note that the sixth zone A3-2 is included in the temperature drop zone A3, and since the workpiece W after being heated passes through, the nitrogen gas in the sixth zone A3-2 is the first zone A1-. 1 higher than the nitrogen gas.

このバイパス流路17によれば、第6ゾーンA3−2(高温となった被処理物W)の廃熱を、第1ゾーンA1−1に与えることができ、第2ゾーンA1−2で加熱する被処理物を、この廃熱によって予備加熱することができ、被処理物を加熱するために必要となる消費電力の削減が可能となる。   According to this bypass flow path 17, the waste heat of 6th zone A3-2 (to-be-processed object W used as high temperature) can be given to 1st zone A1-1, and it heats by 2nd zone A1-2. The object to be processed can be preheated by this waste heat, and the power consumption required for heating the object to be processed can be reduced.

また、廃熱利用のために、ガス排出装置42の排出パイプ48のうち、高温となったガスを流している排出パイプ48(例えば均熱ゾーンA2のガスを流す排出パイプ48)と、ガス供給装置41の供給パイプ44のうち、オキシ塩化リンを含むガスを流す供給パイプ44とを併設し、これらパイプ48,44を、共通する断熱材で包囲する構成としてもよい。この場合、排出パイプ48の熱を、オキシ塩化リンを含むガスに与えることができ、オキシ塩化リンの凝縮を防ぐために必要となるヒータの消費電力の削減が可能となる。なお、併設させるパイプ48,44は、加熱炉1外に存在しているものである。   Further, among the exhaust pipes 48 of the gas exhaust device 42, for the purpose of using waste heat, the exhaust pipe 48 (for example, the exhaust pipe 48 for flowing the gas in the soaking zone A2) through which the gas that has reached a high temperature flows is supplied. Of the supply pipes 44 of the apparatus 41, a supply pipe 44 for flowing a gas containing phosphorus oxychloride may be provided side by side, and the pipes 48 and 44 may be surrounded by a common heat insulating material. In this case, the heat of the discharge pipe 48 can be given to the gas containing phosphorus oxychloride, and the power consumption of the heater necessary for preventing the condensation of phosphorus oxychloride can be reduced. The pipes 48 and 44 to be provided side by side exist outside the heating furnace 1.

[7.搬送台50の構成について]
搬送台50についてさらに説明する。図2と図10において、搬送台50は、被処理物Wを載せる本体部51と、加熱炉1の底面(底板45d)を転がる車輪部52とを備えている。搬送台50は、高温となる加熱炉1内を通過することから、耐熱性を要し、このために、本体部51及び車輪部52は全て、ガラス又はセラミックスからなり、例えば、石英ガラスや窒化珪素からなる。
[7. Regarding the configuration of the carrier 50]
The transport table 50 will be further described. 2 and 10, the transport table 50 includes a main body portion 51 on which the workpiece W is placed and a wheel portion 52 that rolls on the bottom surface (bottom plate 45 d) of the heating furnace 1. Since the transport table 50 passes through the heating furnace 1 that is at a high temperature, it requires heat resistance. For this reason, the main body 51 and the wheel 52 are all made of glass or ceramics, for example, quartz glass or nitriding. Made of silicon.

本体部51は、棒部材51aによって直方体形状の枠体として構成され被処理物Wの左右の側端を保持する上部61と、上部61で保持された被処理物Wを下から支える下部62とを有している。上部61の左右両側にある棒部材51aには、複数の縦溝63が形成されており、この縦溝63に被処理物Wの側端が挟み入れられることで、被処理物Wは起立した姿勢に保持される。そして、下部62が有している前後方向に延びた棒部材51a上に、被処理物Wが載った状態となる。本体部51には、100枚程度の被処理物Wを載せることができる。   The main body 51 is configured by a bar member 51a as a rectangular parallelepiped frame, and includes an upper portion 61 that holds the left and right side edges of the workpiece W, and a lower portion 62 that supports the workpiece W held by the upper portion 61 from below. have. A plurality of vertical grooves 63 are formed in the bar members 51a on both the left and right sides of the upper portion 61, and the workpiece W is erected by sandwiching the side ends of the workpiece W in the vertical grooves 63. Held in posture. And the to-be-processed object W will be in the state mounted on the bar member 51a extended in the front-back direction which the lower part 62 has. About 100 workpieces W can be placed on the main body 51.

車輪部52は、本体部51の前後左右の4箇所に設けられており、各車輪部52は、転がり軸受60を有している。図2及び図11において、各車輪部52は、前記下部62の左右両側に固定されたガイドブロック53から左右方向外側に向かって突出している車軸56と、この車軸56に取り付けられ外周面に凹曲面からなる内転動面57aを有する内輪57と、この内輪57の径方向外側に設けられ内周面に外転動面58aを有する外輪58と、内輪57と外輪58との間に介在し内外の転動面57a,58aを転動する複数の玉(転動体)59とを備えている。
本実施形態では、内輪57、外輪58及び玉59を有する転がり軸受60は、アンギュラ玉軸受である。また、外輪58が、加熱炉1の底面(底板45d)を転がる部材として用いられている。さらに、転がり軸受60は、玉59を保持する保持器を有しておらず、総玉軸受からなる。
The wheel portions 52 are provided at four positions on the front, rear, left and right of the main body portion 51, and each wheel portion 52 has a rolling bearing 60. 2 and 11, each wheel portion 52 includes an axle 56 that protrudes outward in the left-right direction from a guide block 53 that is fixed to the left and right sides of the lower portion 62, and a recessed portion on the outer peripheral surface that is attached to the axle 56. An inner ring 57 having a curved inner rolling surface 57a, an outer ring 58 provided on the radially outer side of the inner ring 57 and having an outer rolling surface 58a on the inner circumferential surface, and the inner ring 57 and the outer ring 58 are interposed. A plurality of balls (rolling elements) 59 that roll on the inner and outer rolling surfaces 57a and 58a are provided.
In the present embodiment, the rolling bearing 60 having the inner ring 57, the outer ring 58 and the ball 59 is an angular ball bearing. Moreover, the outer ring | wheel 58 is used as a member which rolls the bottom face (bottom plate 45d) of the heating furnace 1. FIG. Furthermore, the rolling bearing 60 does not have a cage for holding the balls 59, and is a full ball bearing.

車軸56の先端部には上下方向に貫通している穴56aが形成されており、この穴56aにピン65が挿し入れられている。ピン65の頭部65aは車軸56の外周面から突出した状態にあり、内輪57は、この頭部65aとガイドブロック53との間に設けられ、内輪57は、左右方向両側に抜け止めされた状態で車軸56に取り付けられている。このピン65により、内輪57の脱落を防止すると共に、転がり軸受60の組み立てが可能となり、また、メンテナンスのために分解可能となる。   A hole 56a penetrating in the vertical direction is formed at the tip of the axle 56, and a pin 65 is inserted into the hole 56a. The head 65a of the pin 65 protrudes from the outer peripheral surface of the axle 56, the inner ring 57 is provided between the head 65a and the guide block 53, and the inner ring 57 is prevented from coming off on both sides in the left-right direction. It is attached to the axle 56 in a state. The pin 65 prevents the inner ring 57 from falling off and enables the rolling bearing 60 to be assembled and disassembled for maintenance.

外輪58は、左右方向内側(図11では左側)の肩部58bが、玉59と下部62(ガイドブロック53)との間に位置することにより、左右方向両側へ抜け止めされる。
外輪58の左右方向外側(図11では右側)の肩部58cの内径D1は、外軌道面58aの内径とほぼ同一、又は、当該内径よりも大きく設定されている。これは、前記のとおり、転がり軸受60は耐熱性の高い材質であり、当該材質は一般的に線膨張係数が小さいためである。つまり、例えば常温の環境で使用する一般的な深溝転がり軸受では、鋼材が用いられ、熱膨張を利用して転がり軸受の組み立てが可能であるが、線膨張係数が小さい材質からなる転がり軸受は、組み立てが困難となる。しかし、本実施形態の転がり軸受60によれば、玉59を内輪57と外輪58との間に組み入れる作業が簡単となる。
The outer ring 58 is prevented from coming off to both sides in the left-right direction by the shoulder 58b on the inner side in the left-right direction (left side in FIG. 11) being positioned between the ball 59 and the lower part 62 (guide block 53).
An inner diameter D1 of a shoulder portion 58c on the outer side in the left-right direction (right side in FIG. 11) of the outer ring 58 is set to be substantially the same as or larger than the inner diameter of the outer raceway surface 58a. This is because, as described above, the rolling bearing 60 is a material having high heat resistance, and the material generally has a small coefficient of linear expansion. That is, for example, in a general deep groove rolling bearing used in a normal temperature environment, a steel material is used, and the rolling bearing can be assembled using thermal expansion, but a rolling bearing made of a material having a small linear expansion coefficient is Assembling becomes difficult. However, according to the rolling bearing 60 of the present embodiment, the work of incorporating the ball 59 between the inner ring 57 and the outer ring 58 is simplified.

図10において、前記のとおり、加熱炉1の底部には、排気構造部45が設けられており、この排気構造部45は、搬送台50の搬送方向に沿って直線的に配置されている。
搬送台50の本体部51は、この排気構造部45の上方に位置しており、ガイドブロック53は、排気構造部45(側壁45b)の左右両側との間に隙間を有して配置されている。左右のガイドブロック53,53の間には空間部が形成されており、左右のガイドブロック53それぞれに、独立して回転する車輪部52が設けられている。つまり、左右の車輪部52,52で共通する長い車軸を有していない。
このため、ガイドブロック53,53の間の前記空間部に、排気構造部45が位置することができる。さらに、拡散処理装置とは異なる場所において、被処理物Wを搬送台50から取り出すための搬送ロボットのアームを、前記空間部に位置させることができ、搬送ロボットによる作業の自動化に役立つ。
In FIG. 10, as described above, the exhaust structure 45 is provided at the bottom of the heating furnace 1, and the exhaust structure 45 is linearly arranged along the transport direction of the transport table 50.
The main body 51 of the transport base 50 is located above the exhaust structure 45, and the guide block 53 is disposed with a gap between the left and right sides of the exhaust structure 45 (side wall 45b). Yes. A space portion is formed between the left and right guide blocks 53 and 53, and a wheel portion 52 that rotates independently is provided in each of the left and right guide blocks 53. That is, it does not have a long axle common to the left and right wheel portions 52, 52.
For this reason, the exhaust structure 45 can be located in the space between the guide blocks 53 and 53. Further, the arm of the transfer robot for taking out the workpiece W from the transfer table 50 can be positioned in the space at a place different from the diffusion processing apparatus, which is useful for automating the operation by the transfer robot.

ガイドブロック53及び排気構造部45により、搬送台50は、排気構造部45を左右に跨ぐ状態となり、搬送装置2によって搬送される搬送台50は、前後方向に導かれる。排気構造部45の左右の側壁45bに、ガイドブロック53が接触することで、搬送台50は左右方向に脱線せずに導かれる。また、ガイドブロック53の側壁45bへの接触部は、図2に示しているように、前後方向両側から中央部53aに向かって隆起する傾斜面53bとなっている。これにより、側壁45bへの接触面積を狭くし、接触抵抗を小さくしている。
また、図7に示しているように、車輪部52は、被処理物Wの下に位置し、当該被処理物Wの幅よりも狭い範囲内に設置されている。これにより、搬送台50が左右方向に大きくなるのを防いでいる。
Due to the guide block 53 and the exhaust structure portion 45, the transport table 50 is placed across the exhaust structure portion 45 from side to side, and the transport table 50 transported by the transport device 2 is guided in the front-rear direction. When the guide block 53 comes into contact with the left and right side walls 45b of the exhaust structure 45, the transport table 50 is guided without derailing in the left-right direction. Moreover, as shown in FIG. 2, the contact part to the side wall 45b of the guide block 53 is the inclined surface 53b which protrudes toward the center part 53a from the front-back direction both sides. Thereby, the contact area to the side wall 45b is narrowed, and the contact resistance is reduced.
Further, as shown in FIG. 7, the wheel portion 52 is located below the workpiece W and is installed in a range narrower than the width of the workpiece W. Thereby, the conveyance stand 50 is prevented from becoming large in the left-right direction.

図3において、搬送台50の前後方向の長さは、隔壁部材7によって区画された各ゾーンの前後方向の長さよりも小さく設定されている。本実施形態では、隔壁部材7が等間隔に設置されていることにより、各ゾーンは同じ長さに設定されており、しかも、各ゾーンの長さと、2台の搬送台50の全長とが、同じとなっている。
この構成によれば、各搬送台50は、連続する3つのゾーンに跨って位置することがない。例えば、オキシ塩化リンを含むガスが供給される第3ゾーンA2−1、拡散処理が実際に行われる第4ゾーンA2−2及び降温が行われる第5ゾーンA3−1に、1台の搬送台50が跨ることがない。
In FIG. 3, the length in the front-rear direction of the transport table 50 is set to be smaller than the length in the front-rear direction of each zone defined by the partition member 7. In the present embodiment, the partition members 7 are installed at equal intervals, so that each zone is set to the same length, and the length of each zone and the total length of the two transport tables 50 are as follows: It is the same.
According to this structure, each conveyance stand 50 is not located over three continuous zones. For example, one transport table is provided in the third zone A2-1 to which a gas containing phosphorus oxychloride is supplied, the fourth zone A2-2 in which the diffusion treatment is actually performed, and the fifth zone A3-1 in which the temperature is lowered. 50 does not straddle.

さらに、押し込み駆動部21による、搬送台50の押し込みストロークSを(図4、図5参照)、搬送台50の長さとほぼ同一とし、ストローク毎で、搬送台50の前後方向の端部(一方側)が、ゾーン間の境界部と一致する(図3の状態)。
これにより、1回の押し込みストロークSにより、搬送台50を1台ずつ、各ゾーンへ搬入し、かつ、搬送台50を1台ずつ、各ゾーンから搬出させることが可能となる。
そして、ストローク毎で、同じ搬送台50に載った被処理物Wの全てを、例えば、第4ゾーンA2−2に配置させることが可能となる。このため、同じ搬送台50に載せた全ての被処理物Wに対して、第4ゾーンA2−2で同じ雰囲気の条件により拡散処理が行われ、これら複数の被処理物Wの品質を均一にすることができる。なお、本実施形態では、ストローク毎に、2台の搬送台50が、各ゾーンに位置する。
Further, the pushing stroke S of the transport table 50 by the push-in driving unit 21 (see FIGS. 4 and 5) is made substantially the same as the length of the transport table 50, and the end of the transport table 50 in the front-rear direction (one side) Side) coincides with the boundary between zones (the state in FIG. 3).
As a result, it is possible to carry the carriage 50 into each zone one by one and to carry out the carriage 50 from each zone one by one by the pushing stroke S.
And it becomes possible to arrange | position all the to-be-processed objects W mounted on the same conveyance stand 50 in 4th zone A2-2 for every stroke, for example. For this reason, the diffusion treatment is performed on all the workpieces W placed on the same conveyance table 50 under the same atmosphere conditions in the fourth zone A2-2, and the quality of the plurality of workpieces W is made uniform. can do. In the present embodiment, two transport tables 50 are located in each zone for each stroke.

図12は、列を成して搬送される2台の搬送台50,50を横から見た図である。右側の搬送台50は、前記プッシャー22側(左側)にある隣りの搬送台50の前端部と接触し、当該前端部によって押され、搬出部12側(右側)へと進む。さらに、図示しないが、この右側の搬送台50は、搬出部12側にある隣の搬送台50の後端部と、接触し、当該後端部を押し、隣の搬送台50を進める。
このように、複数の搬送台50は、前後方向に列を成して加熱炉1内を搬送されるが、隣り合う搬送台50,50それぞれに載っている被処理物W,Wの間には、搬送台50を構成する棒部材51a,51aによって、前後方向に大きな隙間が生じる。この隙間は、同じ搬送台50に載せた被処理物W,W間のピッチよりも大きい。
このような隙間が存在していると、当該隙間によって、加熱炉1内のガスの流れに乱れが発生し、搬送台50の端部側に載せられた被処理物Wと、中央部に載せられた被処理物Wとの間で、処理品質にバラツキが生じるおそれがある。
FIG. 12 is a side view of the two transport tables 50, 50 transported in a row. The right conveyance table 50 comes into contact with the front end portion of the adjacent conveyance table 50 on the pusher 22 side (left side), is pushed by the front end portion, and proceeds to the unloading portion 12 side (right side). Further, although not shown in the drawings, the right conveyance table 50 comes into contact with the rear end portion of the adjacent conveyance table 50 on the carry-out unit 12 side, pushes the rear end portion, and advances the adjacent conveyance table 50.
As described above, the plurality of transfer tables 50 are conveyed in the heating furnace 1 in a row in the front-rear direction, but between the workpieces W and W mounted on the adjacent transfer tables 50 and 50, respectively. A large gap is generated in the front-rear direction by the bar members 51a, 51a constituting the transport table 50. This gap is larger than the pitch between the workpieces W and W placed on the same transport table 50.
If such a gap exists, the gas flow in the heating furnace 1 is disturbed by the gap, and is placed on the workpiece W placed on the end side of the transfer table 50 and the central portion. There is a possibility that the processing quality may vary with the processed object W.

そこで、各搬送台50の前後方向の両端部には、スペーサ54が設けられている。スペーサ54は、本体部51に一体的に取り付けられる。スペーサ54は、本体部51に取り付けられる縦長の第1部54aと、この第1部54aの上端から水平方向に延びている第2部54bとを有している。この第2部54bの上面は、本体部51に支持された被処理物Wの上面と同じ高さに位置し、さらに、第2部54bの左右方向の幅は、当該被処理物Wの左右方向の幅と同じである。   Therefore, spacers 54 are provided at both ends in the front-rear direction of each transport base 50. The spacer 54 is integrally attached to the main body 51. The spacer 54 has a vertically long first portion 54a attached to the main body 51, and a second portion 54b extending in the horizontal direction from the upper end of the first portion 54a. The upper surface of the second portion 54b is located at the same height as the upper surface of the workpiece W supported by the main body 51, and the width in the left-right direction of the second portion 54b is the left and right of the workpiece W. It is the same as the width of the direction.

このスペーサ54,54によって、加熱炉1内で、一方(図12では左側)の搬送台50に載せている被処理物Wと、その隣りの他方(図12では右側)の搬送台50に載っている被処理物Wとの間に生じる大きな隙間が、埋められた状態となる。このため、スペーサ54によって、加熱炉1内のガスの流れの乱れを防ぐことができ、拡散処理において、被処理物Wの処理品質の均一化が可能となる。また、搬送台50それぞれにおいて、スペーサ54の第2部54bを、作業者が掴む取っ手として用いることができる。   With the spacers 54, 54, in the heating furnace 1, the workpiece W placed on one (the left side in FIG. 12) carrier table 50 and the other adjacent (right side in FIG. 12) carrier table 50. A large gap generated between the workpiece W and the workpiece W is filled. For this reason, it is possible to prevent the gas flow in the heating furnace 1 from being disturbed by the spacer 54, and the processing quality of the workpiece W can be made uniform in the diffusion processing. Further, in each of the transport tables 50, the second portion 54b of the spacer 54 can be used as a handle that an operator holds.

また、図10において、搬送台50は、加熱炉1の底面(底板45dの上面)に接触するブラシ55を有している。さらに、本実施形態では、排気構造部45(上壁45aの上面)に接触するブラシ55も有している。これらブラシ55は、搬送台50の下部に取り付けられており、搬送装置2によって搬送台50を搬送すると、ブラシ55によって、加熱炉1の底面及び排気構造部45の上面に堆積している異物を、加熱炉1外に掃き出すことができる。ブラシ55は、石英からなる繊維の束によって構成されている。   In addition, in FIG. 10, the transport table 50 includes a brush 55 that contacts the bottom surface of the heating furnace 1 (the top surface of the bottom plate 45 d). Furthermore, in this embodiment, it also has the brush 55 which contacts the exhaust structure part 45 (upper surface of the upper wall 45a). These brushes 55 are attached to the lower part of the transport table 50, and when the transport device 2 transports the transport table 50, the brush 55 removes foreign matter deposited on the bottom surface of the heating furnace 1 and the upper surface of the exhaust structure 45. It can be swept out of the heating furnace 1. The brush 55 is constituted by a bundle of fibers made of quartz.

[8.本実施形態の連続拡散処理装置について]
以上のように構成された連続拡散処理装置によれば、搬送台50に載せた被処理物Wを、加熱炉1内を搬送しながら拡散処理することができ、被処理物Wの拡散処理が連続的に実行され、従来のバッチ式と比べて、生産性を高めることができる。例えばバッチ式の4倍の処理能力を有することができる。
そして、搬送装置2の押し込み駆動部21は、搬入部11の上流側に位置する搬送台50を押すことにより、この搬送台50を順次、加熱炉1内へ搬入すると共に、この搬入した搬送台50によって、先に搬入されている搬送台50を搬出部12側へ押して加熱炉1内を列状として搬送することができる。このため、搬送装置2を、加熱炉1内に設置する必要がなく、加熱炉1外に設置することができる。この結果、被処理物Wの大きさとは関係のない要因によって、加熱炉1が大きくなるのを防ぐことができ、装置全体が大型化するのを防止することが可能となる。
さらに、加熱炉1内は高温となるため、従来では、搬送装置のうち加熱炉内に設置される部分については、高温に耐えるための構成や材質が必要であったが、本実施形態では、搬送装置2を、加熱炉1内に設置する必要がないため、このような構成や材質は不要となる。
[8. Regarding the continuous diffusion processing apparatus of this embodiment]
According to the continuous diffusion processing apparatus configured as described above, the object to be processed W placed on the transfer table 50 can be diffused while being conveyed in the heating furnace 1, and the diffusion process of the object to be processed W can be performed. Continuously executed, productivity can be increased compared to the conventional batch system. For example, it can have a processing capacity four times that of a batch system.
Then, the pushing drive unit 21 of the transfer device 2 pushes the transfer table 50 positioned on the upstream side of the carry-in unit 11 to sequentially transfer the transfer table 50 into the heating furnace 1, and the transferred transfer table 50, the carrier 50 previously carried in can be pushed toward the carry-out unit 12 to be conveyed in the heating furnace 1 in a row. For this reason, it is not necessary to install the conveying apparatus 2 in the heating furnace 1 and can be installed outside the heating furnace 1. As a result, it is possible to prevent the heating furnace 1 from becoming large due to factors unrelated to the size of the workpiece W, and it is possible to prevent the entire apparatus from becoming large.
Furthermore, since the inside of the heating furnace 1 is at a high temperature, conventionally, for the portion installed in the heating furnace of the transfer device, a configuration and a material for withstanding the high temperature are necessary, but in this embodiment, Since it is not necessary to install the conveying apparatus 2 in the heating furnace 1, such a structure and material are unnecessary.

また、加熱炉1内は、隔壁部材7によって複数のゾーンに区画されており、ゾーン毎に個別にガスが供給されると共に、ゾーン毎に個別にガスが排出される。このため、各ゾーンでは、被処理物Wに対して処理内容や処理条件をそれぞれ異ならせることができる。
具体的には、第3ゾーンA2―1では、拡散処理のためのガスが供給され、第4ゾーンA2−2は、区画された領域にほぼ密閉される。このため、第3ゾーンA2−1におけるガス濃度等の雰囲気を、精度良く制御することが可能となり、また、第4ゾーンA2−2の雰囲気を、精度良く制御することが可能となり、品質の高い被処理物Wを得ることが可能となる。さらに、全ての被処理物Wが、同じ熱履歴及び同じガス履歴を有することができ、品質を一定に維持することができる。
Moreover, the inside of the heating furnace 1 is divided into a plurality of zones by the partition member 7, and the gas is individually supplied for each zone and the gas is individually discharged for each zone. For this reason, in each zone, the processing content and processing conditions can be made different for the workpiece W.
Specifically, in the third zone A2-1, gas for diffusion treatment is supplied, and the fourth zone A2-2 is almost sealed in the partitioned area. Therefore, the atmosphere such as the gas concentration in the third zone A2-1 can be controlled with high accuracy, and the atmosphere in the fourth zone A2-2 can be controlled with high accuracy, so that the quality is high. The workpiece W can be obtained. Furthermore, all the workpieces W can have the same heat history and the same gas history, and the quality can be kept constant.

また、従来のバッチ式の拡散処理装置では、拡散処理の前後に、昇温と降温とが必要となり、エネルギーロスが大きかったが、本実施形態の拡散処理装置によれば、ゾーン毎に炉内温度を一定に保つことができるため、省エネルギーに貢献することができる。
さらに、昇温ゾーンA1及び均熱ゾーンA2では、降温の必要がないため、断熱性能の高い断熱材を用いることができ、加熱装置3における消費電力を低減することが可能となる。
In addition, in the conventional batch type diffusion treatment apparatus, it was necessary to raise and lower the temperature before and after the diffusion treatment, and the energy loss was large. However, according to the diffusion treatment apparatus of this embodiment, the inside of the furnace Since the temperature can be kept constant, it can contribute to energy saving.
Furthermore, in temperature rising zone A1 and soaking zone A2, since there is no need for temperature fall, a heat insulating material with high heat insulation performance can be used, and the power consumption in the heating apparatus 3 can be reduced.

また、搬送台50は、加熱炉1の底面を転がる車輪部52を備えているので、摺動を伴う従来の構成に比べて、加熱炉1内での摩耗による粉塵の発生を抑えることができる。つまり、搬送台50上の被処理物Wを搬送する際に、当該被処理物Wの処理品質に悪影響を与えるような粉塵の発生を抑えることが可能となる。   Moreover, since the conveyance stand 50 is equipped with the wheel part 52 which rolls the bottom face of the heating furnace 1, generation | occurrence | production of the dust by abrasion in the heating furnace 1 can be suppressed compared with the conventional structure with sliding. . That is, it is possible to suppress the generation of dust that adversely affects the processing quality of the processing object W when the processing object W on the transport table 50 is transported.

本発明の拡散処理装置は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。加熱炉1の断面を円形として説明したが、円形以外に矩形であってもよい。なお、円形とした場合、図7に示しているように、矩形の被処理物Wと、加熱炉1の内周面との間のデッドスペースに、車輪部52や搬送台50をガイドする排気構造部45を配置することができ、加熱炉1内の空間を有効に利用することができる。
また、各ゾーンの長さ(つまり、隣り合う隔壁部材7,7間の距離)が、2台の搬送台50の全長と同一である場合を説明したが、これ以外であってもよく、各ゾーンの長さを、n台(n=自然数)の搬送台50の全長と同一としてもよい。
The diffusion processing apparatus of the present invention is not limited to the form shown in the drawings, but may be other forms within the scope of the present invention. Although the cross section of the heating furnace 1 has been described as a circle, a rectangle other than a circle may be used. In the case of a circular shape, as shown in FIG. 7, exhaust that guides the wheel portion 52 and the carrier 50 in a dead space between the rectangular workpiece W and the inner peripheral surface of the heating furnace 1. The structure part 45 can be arrange | positioned and the space in the heating furnace 1 can be utilized effectively.
Moreover, although the case where the length of each zone (that is, the distance between the adjacent partition members 7 and 7) is the same as the total length of the two transport tables 50 has been described, other lengths may be used. The length of the zone may be the same as the total length of the n (n = natural number) transport tables 50.

1:加熱炉、 2:搬送装置、 3:加熱装置、 4:ガス給排装置、 5:制御装置、 7:隔壁部材、 11:搬入部、 12:搬出部、 13:カバー、 14:搬送路、 15:貫通穴、 17:バイパス流路、 21:押し込み駆動部、 30:ヒータ、 31:断熱材、 32:分割面、 41:ガス供給装置、 42:ガス排出装置、 45:排気構造部、 46:排気流路、 50:搬送台、 A1:昇温ゾーン、 A2:均熱ゾーン、 A3:降温ゾーン、 S:ストローク、 L:搬送台の長さ、 W:被処理物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1: Heating furnace, 2: Conveyance apparatus, 3: Heating apparatus, 4: Gas supply / discharge apparatus, 5: Control apparatus, 7: Partition member, 11: Carry-in part, 12: Carry-out part, 13: Cover, 14: Conveyance path 15: Through hole, 17: Bypass flow path, 21: Push-in drive unit, 30: Heater, 31: Insulating material, 32: Dividing surface, 41: Gas supply device, 42: Gas discharge device, 45: Exhaust structure unit, 46: Exhaust flow path, 50: Transfer table, A1: Temperature increase zone, A2: Heat equalization zone, A3: Temperature decrease zone, S: Stroke, L: Length of transfer table, W: Workpiece

Claims (5)

複数枚の板状の被処理物を載せる搬送台と、
前記搬送台を搬入する搬入部から当該搬送台を搬出する搬出部まで直線状に延びる筒状の加熱炉と、
前記加熱炉内に前記搬送台を前記搬入部から順次搬入し、当該加熱炉内を搬送した前記搬送台を前記搬出部から順次搬出する搬送装置と、
前記加熱炉内のガスを炉外に排出するための排出パイプと、
前記排出パイプに接続されたガス排出装置と、
前記加熱炉内を通過する前記搬送台に載せた前記被処理物を加熱する加熱装置とを備え、
前記加熱炉内の前記搬入部から前記搬出部までの間を、被処理物に対してそれぞれ異なる処理を施すための複数のゾーンに分け、
前記排出パイプは、前記加熱炉内から搬入部および搬出部の外側まで延びて、加熱炉内のガスを炉外に排出するように構成され、
前記排出パイプには、前記加熱炉内のガスを吸引するための吸引口が前記各ゾーン毎に設けられ、
前記排出パイプは、夫々前記加熱炉の外部で反転し当該加熱炉の延在方向に沿って中心方向に相互に接近するように延び、前記ガス排出装置によって、加熱炉内のガスを当該中心位置の近傍から外部に排出するように構成されることを特徴とする連続拡散処理装置。
A transport table on which a plurality of plate-shaped workpieces are placed;
A cylindrical heating furnace extending linearly from a carry-in section for carrying in the carry table to a carry-out section for carrying out the carry table;
A transfer device that sequentially carries the transfer table into the heating furnace from the carry-in unit, and sequentially carries out the transfer table that has been transferred through the heating furnace from the carry-out unit;
A discharge pipe for discharging the gas in the heating furnace to the outside of the furnace;
A gas discharge device connected to the discharge pipe;
A heating device for heating the object to be processed placed on the transfer table passing through the heating furnace,
The space from the carry-in part to the carry-out part in the heating furnace is divided into a plurality of zones for performing different treatments on the workpieces,
The discharge pipe extends from the inside of the heating furnace to the outside of the carry-in part and the carry-out part, and is configured to discharge the gas in the heating furnace to the outside of the furnace,
The exhaust pipe is provided with a suction port for sucking the gas in the heating furnace for each zone,
The exhaust pipe extends as reversed outside of each said heating furnace toward each other toward the center along the extending direction of the furnace, by the gas discharge device, the center position of the gas in the heating furnace A continuous diffusion treatment apparatus, characterized in that it is configured to discharge from the vicinity of the outside to the outside.
前記ガス排出装置は、前記加熱炉の外部に設けられたガス排出器を有し、前記各排出パイプの両端部と前記ガス排出器は排出ガスの流量を調整するためのバルブを介して接続され、
制御装置と、前記ゾーン毎にそれぞれの圧力を検出するセンサとを有し、前記排出ガス用のバルブを制御することによって各ゾーンにおける加熱炉内の圧力を個別に調整する請求項1記載の連続拡散処理装置。
The gas discharge device has a gas discharge device provided outside the heating furnace, and both ends of each discharge pipe and the gas discharge device are connected via a valve for adjusting the flow rate of the discharge gas. ,
The continuous apparatus according to claim 1, further comprising a control device and a sensor for detecting each pressure for each of the zones, and individually adjusting the pressure in the heating furnace in each zone by controlling the exhaust gas valve. Diffusion processing device.
前記搬送台は、その底部に当該搬送台の移動を補助する一対の移動手段を有し、前記排出パイプは、加熱炉内において、前記一対の移動手段の間に配置されている請求項1又は2に記載の連続拡散処理装置。   The said conveyance stand has a pair of moving means which assists the movement of the said conveyance stand in the bottom part, The said discharge pipe is arrange | positioned between the said pair of movement means in a heating furnace. 2. The continuous diffusion treatment apparatus according to 2. 前記排出パイプを内部に格納する箱体が備えられる排気構造部を有し、
当該排気構造部は、前記一対の移動手段の間に配置され、上端を覆う上壁にガスが流入する貫通穴が形成され、前記加熱炉内のガスが当該貫通穴を通過して前記排出パイプの吸引口に流入する請求項1〜3のいずれか一項に記載の連続拡散処理装置。
An exhaust structure provided with a box for storing the discharge pipe therein;
The exhaust structure is disposed between the pair of moving means, a through hole through which gas flows is formed in an upper wall covering an upper end, and the gas in the heating furnace passes through the through hole and passes through the exhaust pipe. The continuous-diffusion processing apparatus as described in any one of Claims 1-3 which flows in into the suction port.
前記排気構造部の、前記搬送台の搬送方向に向かって左右の側面が、当該搬送台の一対の移動手段を搬送方向に直線的に誘導するガイド機能を有する請求項4に記載の連続拡散処理装置。   The continuous diffusion process according to claim 4, wherein left and right side surfaces of the exhaust structure portion in the transport direction of the transport table have a guide function for linearly guiding a pair of moving means of the transport table in the transport direction. apparatus.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5242075A (en) * 1975-09-29 1977-04-01 Nippon Denso Co Ltd Device for controlling gas atmosphere in semiconductor producing equip ment
JPS54103750U (en) * 1977-12-29 1979-07-21
JPS6029295B2 (en) * 1979-08-16 1985-07-10 舜平 山崎 Non-single crystal film formation method
JPS60146339U (en) * 1984-03-09 1985-09-28 シャープ株式会社 Semiconductor wafer heat treatment equipment
JPH01228123A (en) * 1988-03-09 1989-09-12 Fujitsu Ltd Processor for semiconductor device
JPH0395632U (en) * 1990-01-11 1991-09-30
JP2723795B2 (en) * 1994-02-22 1998-03-09 九州日本電気株式会社 Horizontal processing furnace
JP3103718B2 (en) * 1994-05-30 2000-10-30 京セラ株式会社 Equipment for forming semiconductor junctions for solar cells
JP3359474B2 (en) * 1995-09-28 2002-12-24 京セラ株式会社 Horizontal heat treatment equipment
JPH09148259A (en) * 1995-11-24 1997-06-06 Nec Kyushu Ltd Lateral reactor
JPH09181008A (en) * 1995-12-25 1997-07-11 Fuji Electric Co Ltd Semiconductor device manufacturing apparatus

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