JP2011064425A - Heat treatment device - Google Patents
Heat treatment device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011064425A JP2011064425A JP2009216937A JP2009216937A JP2011064425A JP 2011064425 A JP2011064425 A JP 2011064425A JP 2009216937 A JP2009216937 A JP 2009216937A JP 2009216937 A JP2009216937 A JP 2009216937A JP 2011064425 A JP2011064425 A JP 2011064425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- purge gas
- workpiece
- exhaust
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims abstract description 83
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 193
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
Description
本発明は、炉内を進行させながらワークを熱処理する熱処理装置に関する。 The present invention relates to a heat treatment apparatus for heat-treating a workpiece while moving in a furnace.
炉内でワークを熱処理する熱処理装置として、炉内が複数の領域に区画され、区画された領域毎でワークの周囲の雰囲気(温度やガス濃度等)を異ならせた状態で、前記各領域にワークをコンベアによって順次搬送することにより、当該ワークを熱処理する装置が知られている。
このような熱処理装置として、例えば特許文献1に示しているように、炉内で区画されたある領域におけるガス濃度を検出し、目標のガス濃度となるように、当該領域の前後に設けられた排気口の開度を制御する熱処理装置がある。
As a heat treatment apparatus for heat-treating the workpiece in the furnace, the furnace is divided into a plurality of regions, and the atmosphere (temperature, gas concentration, etc.) around the workpiece is different for each divided region. 2. Description of the Related Art An apparatus that heats a workpiece by sequentially conveying the workpiece by a conveyor is known.
As such a heat treatment apparatus, for example, as shown in Patent Document 1, the gas concentration in a certain region partitioned in the furnace is detected, and is provided before and after the region so as to be the target gas concentration. There is a heat treatment device that controls the opening degree of the exhaust port.
特許文献1に記載の装置によれば、炉内で区画された領域のガス濃度が、目標のガス濃度となるように制御されることから、当該領域の雰囲気を安定させることができる。
また、炉内でワークを熱処理する他の熱処理装置として、次のようなものが考えられる。すなわち、図6に示しているように、区画される複数の領域A1,A2・・・それぞれに所定の処理ガスを供給するガス導入部90と、区画される複数の領域A1,A2・・・それぞれからガスを排気する排気部91とを備え、ワークWの進行方向に関してガス導入部90の前後に排気部91,91が設けられている装置が考えられる。
この装置によれば、ガス導入部90によって所定の処理ガスを、例えば領域A1に供給し、この領域A1の前後から排気部91によってガスを排気することができる。この構成により、排気部91を境にして、領域毎で雰囲気が異なるように炉内を複数に区画しようとしている。
According to the apparatus described in Patent Document 1, since the gas concentration in the region partitioned in the furnace is controlled to be the target gas concentration, the atmosphere in the region can be stabilized.
Moreover, the following can be considered as another heat treatment apparatus for heat-treating the workpiece in the furnace. That is, as shown in FIG. 6, a plurality of partitioned areas A1, A2,..., A
According to this apparatus, a predetermined processing gas can be supplied to the region A1, for example, by the
しかし、図6に示している装置の構成では、例えば領域A1のガスが、その上流側及び下流側の排気部91,91によって完全に排気されずに、領域A1のガスの一部が、上流側や下流側にある他の領域に流れてしまうおそれがある。この場合、例えば、領域A1のガスの一部が、他の領域A2のガスと混ざり、領域A2が全体として目的とする雰囲気(例えばガス種、組成、流量等)とすることができない。そうすると、ワークWに対して、領域A2で所望の熱処理を行うことができない。
However, in the configuration of the apparatus shown in FIG. 6, for example, the gas in the region A1 is not completely exhausted by the
また、図6に示しているように、処理ガスを供給するガス導入部90の導入口90aの前方及び後方に、ガスを排気するための排気部91の排気口91aが配置されているので、必要な熱処理に応じて、例えば、一つの領域A1における処理ガスの供給量を増加させると、その下流側の排気部91による排気量を増加させる必要が生じ、この排気量の増加が原因となってその下流側の領域A2の雰囲気に影響を与えてしまうおそれがある。つまり、従来の構成では、隣りの領域の影響を受けやすく、また、領域を個別に調整することができず、各領域におけるガスの導入と排気とのバランス調整、すなわち、領域毎の雰囲気の調整が難しい。
Further, as shown in FIG. 6, the
したがって、このような熱処理装置では、区画する領域を分離(雰囲気を分離)する性能を高めることが望まれている。
そこで、本発明は、導入した処理ガスが領域間で混ざることを防止することが可能となる熱処理装置を提供することを目的とする。
Therefore, in such a heat treatment apparatus, it is desired to improve the performance of separating the partitioned areas (separating the atmosphere).
Therefore, an object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus capable of preventing the introduced processing gas from being mixed between regions.
前記目的を達成するための本発明の熱処理装置は、ワークの周囲の雰囲気が領域毎で異なるように炉内が複数の領域に区画され、区画された各領域を順にワークが進行し当該ワークを熱処理する熱処理装置であって、区画される複数の前記領域それぞれに処理ガスを供給するガス導入部と、区画される複数の前記領域それぞれの雰囲気ガスを排気する排気部と、隣り合う前記領域間に設けられ前記ワークの上方から下方に向けてパージガスを噴出する噴出口を有しているパージガス供給部とを備えていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the heat treatment apparatus of the present invention is configured such that the furnace is partitioned into a plurality of regions so that the atmosphere around the workpieces is different for each region. A heat treatment apparatus for performing a heat treatment, wherein a gas introduction unit that supplies a processing gas to each of the plurality of partitioned regions, an exhaust unit that exhausts atmospheric gas of each of the plurality of partitioned regions, and the adjacent regions And a purge gas supply unit having a jet port for jetting purge gas from above to below the workpiece.
本発明によれば、パージガス供給部は、隣り合う領域間に設けられた噴出口からワークの上方から下方に向けてパージガスを噴出することにより、このパージガスによって隣り合う領域を分離して、隣り合う領域間でガスが混ざり合うことを防止することが可能となる。また、パージガスによる領域の分離は、例えばワークを載せて搬送するためのコンベアによる影響を受けずに効果的に行うことが可能となる。
そして、このようにパージガスによって分離した各領域において、ガス導入部が処理ガスを供給し、当該各領域それぞれの雰囲気ガスを排気部が排気することにより、各領域の雰囲気を所望の状態に維持することができる。
According to the present invention, the purge gas supply unit separates adjacent regions by the purge gas by ejecting the purge gas from the jet port provided between the adjacent regions from the upper side to the lower side of the workpiece, and is adjacent to the purge region. It is possible to prevent gas from being mixed between the regions. Further, the separation of the area by the purge gas can be effectively performed without being influenced by the conveyor for carrying and transferring the work, for example.
And in each area | region isolate | separated by purge gas in this way, a gas introduction part supplies process gas, and an exhaust part exhausts the atmospheric gas of each said area | region, and maintains the atmosphere of each area | region in a desired state. be able to.
また、本発明の前記構成によれば、領域毎にガス導入部及び排気部が設けられていて、前記パージガスによって分離した各領域は独立した状態とすることができ、さらに、一つの領域のガス導入部及び排気部は、他の領域のガス導入部及び排気部に対して独立して作動することにより、領域毎での処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整が可能となる。したがって、例えば必要な熱処理に応じて、一つの領域で処理ガスの供給量を変更しても、この変更に応じて当該一つの領域の排気部による雰囲気ガスの排気量を調整すればよい。このように、各領域における処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整、すなわち、領域毎の雰囲気の調整は容易となることから、一つの領域で処理ガスの供給量を変更しても、隣りの領域に与える影響を抑えることができ、各領域を分離した状態が保たれる。 Further, according to the configuration of the present invention, the gas introduction part and the exhaust part are provided for each region, and each region separated by the purge gas can be in an independent state. The introduction part and the exhaust part operate independently with respect to the gas introduction part and the exhaust part in other regions, so that it is possible to adjust the balance between the introduction of the processing gas and the exhaust of the atmospheric gas in each region. Therefore, for example, even if the supply amount of the processing gas is changed in one region according to the necessary heat treatment, the exhaust amount of the atmospheric gas by the exhaust part in the one region may be adjusted according to this change. As described above, since it is easy to adjust the balance between the introduction of the processing gas and the exhaust of the atmospheric gas in each region, that is, the adjustment of the atmosphere for each region, it is possible to change the supply amount of the processing gas in one region. The influence on adjacent regions can be suppressed, and the state where each region is separated is maintained.
また、前記ガス導入部において前記処理ガスを放出する導入口と、前記排気部において前記雰囲気ガスを吸引する排気口とは、前記ワークの進行方向に関して同じ区間に配置されているのが好ましい。
この場合、導入口から放出された処理ガスに由来する雰囲気ガスは、ワークの進行方向に関して同じ区間で、排気口から吸引されるので、当該雰囲気ガスが隣りの領域に侵入し難くなる。
Moreover, it is preferable that the introduction port for discharging the processing gas in the gas introduction unit and the exhaust port for sucking the atmospheric gas in the exhaust unit are arranged in the same section with respect to the traveling direction of the workpiece.
In this case, the atmospheric gas derived from the processing gas discharged from the inlet port is sucked from the exhaust port in the same section with respect to the traveling direction of the workpiece, so that the atmospheric gas does not easily enter the adjacent region.
また、前記ガス導入部による単位時間当たりの処理ガス供給量と、前記排気部による単位時間当たりの雰囲気ガス排気量とが、同等に設定されているのが好ましい。
例えば、雰囲気ガス排気量に比べて処理ガス供給量が多すぎると、ガスが隣りの領域に流れ込みやすくなるが、この構成によれば、この流れ込みを防ぐことが可能となる。
Further, it is preferable that the processing gas supply amount per unit time by the gas introduction unit and the atmospheric gas exhaust amount per unit time by the exhaust unit are set to be equal.
For example, if the processing gas supply amount is too large compared to the atmospheric gas exhaust amount, the gas easily flows into the adjacent region, but according to this configuration, it is possible to prevent this inflow.
また、前記パージガス供給部は、前記パージガスを噴出する第一の噴出口と、当該第一の噴出口よりもワークの進行方向下流側に設けられ前記パージガスを噴出する第二の噴出口と、前記第一の噴出口と前記第二の噴出口との間に設けられ前記パージガスを吸引する吸引口とを有しているのが好ましい。
この構成によれば、パージガスを噴出する第一の噴出口と第二の噴出口との間に吸引口が設けられているので、ワークを処理する領域に供給した処理ガスに由来する雰囲気ガスが、前記吸引口から排気されるのを防ぐことができる。
Further, the purge gas supply unit includes a first jet port for jetting the purge gas, a second jet port for jetting the purge gas provided downstream of the first jet port in the moving direction of the workpiece, It is preferable to have a suction port provided between the first jet port and the second jet port for sucking the purge gas.
According to this configuration, since the suction port is provided between the first jet port for ejecting the purge gas and the second jet port, the atmospheric gas derived from the processing gas supplied to the region for processing the workpiece is The exhaust from the suction port can be prevented.
また、この場合において、前記第一の噴出口と前記第二の噴出口とから噴出される前記パージガスの単位時間当たりのパージガス噴出量と、前記吸引口から吸引する前記パージガスの単位時間当たりのパージガス吸引量とが、同等に設定されているのが好ましい。
この場合、第一の噴出口及び第二の噴出口から噴出したパージガスの全てを、吸引口によって吸引しようとすることができるので、処理ガスが導入される領域にパージガスが流れるのを防ぐことができ、パージガスが当該領域の処理ガスに混ざって当該領域の雰囲気に影響を与えることを防ぐことができる。
In this case, the purge gas ejection amount per unit time of the purge gas ejected from the first ejection port and the second ejection port, and the purge gas per unit time of the purge gas sucked from the suction port The suction amount is preferably set to be equal.
In this case, since all the purge gas ejected from the first ejection port and the second ejection port can be sucked by the suction port, it is possible to prevent the purge gas from flowing into the region where the processing gas is introduced. It is possible to prevent the purge gas from being mixed with the processing gas in the region and affecting the atmosphere in the region.
本発明の熱処理装置によれば、パージガスによって隣り合う領域を分離する性能が高まるので、隣り合う領域間でガスが混ざり合うことを防止することが可能となり、各領域の雰囲気を所望の状態に維持することができる。このため、ワークに対して領域毎で所望の熱処理を行うことができる。
また、本発明の熱処理装置によれば、領域毎にガス導入部及び排気部が設けられていて、領域毎に雰囲気の調整が可能となることから、領域毎で理想的な雰囲気を実現することができ、隣り合う領域間での干渉が防止される。
そして、本発明は、雰囲気を領域毎に厳密に分離することが必要となる場合に特に有用となる。
According to the heat treatment apparatus of the present invention, the ability to separate adjacent regions with a purge gas is enhanced, so that it is possible to prevent gas from being mixed between adjacent regions, and the atmosphere in each region is maintained in a desired state. can do. For this reason, a desired heat treatment can be performed on the workpiece for each region.
Further, according to the heat treatment apparatus of the present invention, the gas introduction part and the exhaust part are provided for each region, and the atmosphere can be adjusted for each region, so that an ideal atmosphere can be realized for each region. And interference between adjacent regions is prevented.
The present invention is particularly useful when it is necessary to strictly separate the atmosphere for each region.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の熱処理装置の一部を示している縦断面図である。この熱処理装置は、一方向に長い熱処理炉(加熱室)1を備え、この熱処理炉1内に酸素等を含む処理ガスが供給され、当該処理ガスによって炉内に形成される雰囲気中でワーク(被処理物)Wが熱処理される。熱処理炉1内には、メッシュベルト9aを有するコンベア装置9が設けられていて、ワークWはメッシュベルト9aに載置された状態で搬送されながら、熱処理が行われる。なお、ワークWの進行方向(以下、ワーク進行方向という)と熱処理炉1の長手方向とは同方向である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a part of the heat treatment apparatus of the present invention. This heat treatment apparatus includes a heat treatment furnace (heating chamber) 1 that is long in one direction, a processing gas containing oxygen or the like is supplied into the heat treatment furnace 1, and a workpiece (in a atmosphere formed in the furnace by the processing gas ( The object to be processed (W) is heat-treated. A
図1に示している熱処理装置では、熱処理炉1の左側にワークWの投入口(図示せず)が設けられていて、右側にワークWの排出口(図示せず)が設けられている。ワークWは投入口から次々と投入され、これらワークWは熱処理炉1内で熱処理される。すなわち、この熱処理装置は連続式である。
熱処理炉1は、その内部が複数の領域A0,A1,A2・・・に区画されていて、領域A0,A1,A2・・・毎でワークWの周囲の温度と処理ガスによって領域内に形成される雰囲気とが異なるように調整可能として構成されている。そして、区画された各領域を順に前記コンベア装置9によってワークWが進行し、当該ワークWは各領域の温度と雰囲気とに応じた熱処理が施される。
In the heat treatment apparatus shown in FIG. 1, a work W inlet (not shown) is provided on the left side of the heat treatment furnace 1, and a work W discharge port (not shown) is provided on the right side. The workpieces W are sequentially loaded from the loading port, and these workpieces W are heat-treated in the heat treatment furnace 1. That is, this heat treatment apparatus is a continuous type.
The inside of the heat treatment furnace 1 is divided into a plurality of regions A0, A1, A2,..., And is formed in the region by the temperature around the workpiece W and the processing gas in each region A0, A1, A2,. It is configured to be adjustable so as to be different from the atmosphere to be performed. And the workpiece | work W advances in order by the said
また、熱処理装置は、区画される複数の領域A0,A1,A2・・・それぞれに処理ガスを供給するガス導入部2と、区画される複数の領域A0,A1,A2・・・それぞれに存在している雰囲気ガスを外部に排気する排気部3とを更に備えている。
ガス導入部2は区画される領域毎に設けられていて、各ガス導入部2は、ワークWを熱処理するための処理ガス源、圧力調整弁及び流量計等を有する送出装置21と、熱処理炉1内に設置され送出装置21から処理ガスが供給される導入管22とを備えている。そして、この導入管22から処理ガスが熱処理炉1内に供給される。
各ガス導入部2の送出装置21は、他の領域に設けられている送出装置21と独立して作動することができる。そして、複数の領域それぞれには、異なる組成や流量に設定された処理ガスが供給可能とされている。
Further, the heat treatment apparatus is present in each of the plurality of divided areas A0, A1, A2,... And an exhaust section 3 for exhausting the atmospheric gas being discharged to the outside.
The
The
図2は、図1のII−II矢視の横断面図である。導入管22は、熱処理炉1の横断方向に長い管状の部材であり、ワークWの載置面(メッシュベルト9aの上面)に対向して配置され、かつ、導入管22の長手方向は、当該載置面に投影するとワーク進行方向に直交する方向となる。そして、導入管22には、下方に開口し処理ガスをワークWの上方から下方に向かって放出する導入口23が形成されている。なお、図1に示している各ガス導入部2は、送出装置21から分岐した複数の導入管22を有している。すなわち、複数で一組となる導入管22により、一つの処理ガス用管ユニット25が構成されている。導入管22同士は平行の配置にある。
2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. The
前記排気部3は区画される領域毎に設けられていて、各排気部3は、各領域に存在していた雰囲気ガスを外部へと排気する際に通過させる排気管32と、各領域に存在していた雰囲気ガスを排気管32を通じて外部へ排気する機能を備えたエジェクター等を有する排気装置31とを備えている。図2において、排気管32は、各領域の幅方向両側に設置されていて、排気管32には、各領域の幅方向中央に向かって開口し、雰囲気ガスを吸引する排気口(排気孔)33が複数形成されている。各排気部3の排気装置31は、他の領域に設けられている排気装置31と独立して作動することができる。
The exhaust part 3 is provided for each partitioned area, and each exhaust part 3 exists in each area, and an
そして、図1に示しているように、ガス導入部2が有している導入口23と、排気部3が有している排気口33とは、ワーク進行方向に関して同じ区間に配置されている。すなわち、各区間内の領域において、導入口23はワークWの上方に位置し、排気口33はワークWの側方に位置しているが、ワーク進行方向に関して、排気口33が存在している範囲内に、導入口23が配置されている。各領域において、一つの排気部3に対して一つのガス導入部2が設けられていて、相互で専用のガス導入部2及び排気部3の関係にある。
And as shown in FIG. 1, the
そして、熱処理炉1内を複数の領域に区画し、各領域でワークWの周囲における処理ガスの組成や流量等による雰囲気の混合を防止するために、熱処理装置は、更に、隣り合う(雰囲気の混合を防止させる)領域間に設けられた噴出口17a,17bを有し、当該噴出口17a,17bから当該領域間にパージガスを噴出するパージガス供給部7を備えている。パージガスは例えば窒素ガスである。すなわち、パージガスは、噴出口17a,17bから、ワークWの上方から下方に向かって噴出される。
Then, in order to divide the inside of the heat treatment furnace 1 into a plurality of regions and prevent mixing of the atmosphere due to the composition and flow rate of the processing gas around the workpiece W in each region, the heat treatment apparatus is further adjacent (atmosphere of the atmosphere). A purge gas supply unit 7 is provided which has
パージガス供給部7は、パージガス源、圧力調整弁及び流量計等を有する供給装置11と、熱処理炉1内に設置され供給装置11からパージガスが供給される第一の供給管部12aと第二の供給管部12bとを備えている。そして、第一の供給管部12aには、下方となるワークWの載置面へパージガスを噴出する第一の噴出口17aが形成され、第二の供給管部12bには、下方となるワークWの載置面へパージガスを噴出する第二の噴出口17bが形成されている。
The purge gas supply unit 7 includes a
さらに、パージガス供給部7は、前記噴出口17a,17bから噴出されたパージガスを吸入して外部へと排気する際に通過させる吸入管部13と、当該パージガスを吸入管部13を通じて外部へ排気する機能を備えたエジェクター等を有する排出装置14とを備えている。そして、吸入管部13には、下方に開口していて、パージガスを吸引する吸引口18が形成されている。
各供給装置11及び各排出装置14は、他の領域に設けられている供給装置11及び排出装置14と独立して作動することができる。
Further, the purge gas supply unit 7 sucks the purge gas ejected from the
Each
図3は、図1のIII−III矢視の横断面図であり、図4は、図1のIV−IV矢視の横断面図である。各パージガス供給部7が備えている第一の供給管部12aと第二の供給管部12bと吸入管部13とは、熱処理炉1の横断方向に長い管状の部材であり、図1の実施形態では、これら管部12a,12b,13は一体として形成され、これら管部12a,12b,13によってパージガス用管ユニット15を構成している。このパージガス用管ユニット15は、処理ガス用の前記導入管22と平行の配置にある。
3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. 1, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. The first
図1において、前記パージガス用管ユニット15では、第二の供給管部12bの第二の噴出口17bは、第一の供給管部12aの第一の噴出口17aよりもワーク進行方向下流側に設けられ、第一の噴出口17aと第二の噴出口17bとの間に吸引口18が設けられている。
また、第一の噴出口17a、第二の噴出口17b及び吸引口18は、高さ方向について同一レベルに設けられていて、さらに、処理ガス用の前記導入管22の導入口23よりも低い位置に設けられている。
In FIG. 1, in the purge
Further, the
パージガス用管ユニット15は区画される領域間毎に設けられている。すなわち、ワーク進行方向に隣り合う前記処理ガス用管ユニット25,25の間に、一つのパージガス用管ユニット15が設けられていて、パージガス用管ユニット15は、処理ガス用管ユニット25とワーク進行方向に関して重複しないで、異なる位置に設けられている。
なお、各処理ガス用管ユニット25は、複数に区画する領域A0,A1,A2・・・毎(各領域の範囲内)に設けられている。さらに、排気部3の排気管32に形成されている排気口33も、複数に区画する領域A1,A2・・・毎に設けられていて、パージガス用管ユニット15は、排気口33ともワーク進行方向に関して重複しないで、異なる位置に設けられている。
The purge
Each processing
以上の構成を備えた熱処理装置によれば、図1において左側にあるパージガス供給部7の第一の供給管部12aの噴出口17a及び第二の供給管部12bの噴出口17bから、パージガスをワークWの載置面(メッシュベルト9aの上面)に対して噴出することにより、ワーク進行方向上流側の領域A0と、ワーク進行方向下流側の領域A1とを分離することができ、領域A1において導入管22から導入された処理ガスに由来する雰囲気ガスが、領域A0へ流れることを防止することができる。
According to the heat treatment apparatus having the above-described configuration, purge gas is supplied from the
さらに、図1において中央にあるパージガス供給部7の第一の供給管部12aの噴出口17a及び第二の供給管部12bの噴出口17bから、パージガスをワークWの上方から下方へと載置面に対して噴出することにより、ワーク進行方向上流側の領域A1と、ワーク進行方向下流側の領域A2とを分離することができ、領域A1と領域A2とにおいてそれぞれ導入された処理ガスが、他の領域へ流れることを防止することができ、領域A1と領域A2との間で雰囲気ガスが混ざり合うことを防止することができる。以下、同様に、領域A2と領域A3とも分離され、雰囲気ガスが混ざり合うことを防止することができる。
Further, the purge gas is placed from the upper side to the lower side of the workpiece W from the
この結果、図5に示しているように、各領域A0,A1,A2,A3・・・で雰囲気ガスを異ならせることができ、かつ、パージガス供給部7のパージガス用管ユニット15の位置を境界として、雰囲気ガスを異ならせた領域に分離することができる。しかも、本発明によれば、領域間の分離性能が高いことから、各領域A0,A1,A2,A3・・・それぞれで、当該領域の全域にわたって、均一な雰囲気を得ることができる。
As a result, as shown in FIG. 5, the atmosphere gas can be made different in each region A0, A1, A2, A3... And the position of the purge
このように、前記パージガス供給部7によれば、雰囲気を異ならせる領域間に設けられたパージガス用管ユニット15の噴出口17a,17bから、当該領域間にパージガスを噴出することにより、このパージガスによって隣り合う領域を分離する性能が高まり、隣り合う領域間で雰囲気ガスが混ざり合うことを防止することが可能となる。
そして、このようにパージガスによって分離した領域それぞれにおいて、ガス導入部2の導入管22から処理ガスを供給し、当該領域内の雰囲気ガスを排気部3の排気管32から外部へと排気することにより、各領域の雰囲気ガスを所望の状態に維持することができる。この結果、ワークWに対して領域毎で所望の雰囲気によって熱処理を行うことができ、不良品の発生を低減することが可能となる。さらに、ワークWの種類によれば、一つの領域において熱処理して発生したバインダーが、他の領域に流出することを防止することができる。
Thus, according to the purge gas supply unit 7, the purge gas is ejected between the
And in each area | region isolate | separated by purge gas in this way, process gas is supplied from the
また、図1の実施形態によれば、一つの領域(例えば領域A1)に設置されたガス導入部2の導入管22に形成された導入口23と、当該一つの領域に設置された排気部3の排気管32に形成された排気口33とは、ワーク進行方向に関して同じ区間に配置されているので、導入口23から放出された処理ガスは、ワーク進行方向に関して同じ区間で、排気口33から吸引される。このため、一つの領域(領域A1)に放出された処理ガスが、隣りの領域(領域A0、領域A2)に侵入し難くなり、領域の分離性能をさらに向上させることができる。
Further, according to the embodiment of FIG. 1, the
また、図6により説明したように従来の構成では、隣りの領域の影響を受けやすく、領域を個別に調整することができず、各領域における処理ガスの導入と排気とのバランス調整、すなわち、領域毎の雰囲気の調整が難しかった。 In addition, as described with reference to FIG. 6, the conventional configuration is easily influenced by adjacent regions, and the regions cannot be adjusted individually, and the balance adjustment between the introduction and exhaust of the processing gas in each region, that is, It was difficult to adjust the atmosphere for each area.
しかし、本発明によれば、パージガス供給部7から供給するパージガスによって分離させた各領域は独立した状態とすることができ、さらに、領域毎にガス導入部2及び排気部3が設けられているので、処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整が容易となる。なお、処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整は、前記のとおり、各ガス導入部2の送出装置21及び各排気部3の排気装置31を調整することによって実現される。また、各ガス導入部2の送出装置21及び各排気部3の排気装置31は、他の領域にある送出装置21及び他の領域にある排気装置31と独立して作動することから、処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整は容易である。
However, according to the present invention, the regions separated by the purge gas supplied from the purge gas supply unit 7 can be made independent, and the
また、図1において、パージガス供給部7のパージガス用管ユニット15において、吸引口18の前後に、パージガスを噴出する第一の噴出口17aと第二の噴出口17bが設けられているので、ガス導入部2が供給した処理ガスが、吸引口18から排気されるのを防止することができる。すなわち、吸引口18が、ワークWを熱処理する領域の雰囲気に影響を与えることを防ぐことができる。
In FIG. 1, the purge
さらに、このパージガス供給部7において、供給装置11及び排出装置14の供給量及び排出量を調整することによって、第一の噴出口17aと第二の噴出口17bとから噴出される(総計の)パージガスの単位時間当たりのパージガス噴出量と、吸引口18から吸引するパージガスの単位時間当たりのパージガス吸引量とが、同等に設定されている。
この設定によれば、第一の噴出口17a及び第二の噴出口17bから噴出したパージガスの全てを、吸引口18によって吸引しようとすることができるので、ガス導入部2によって処理ガスが導入される領域に、パージガスが流れるのを防ぐことができ、パージガスが当該領域の処理ガスに混ざって当該領域の雰囲気に影響を与えることを防ぐことができる。
Further, in the purge gas supply unit 7, the supply amount and the discharge amount of the
According to this setting, since all of the purge gas ejected from the
また、処理ガス用のガス導入部2と排気部3とについても、送出装置21と排気装置31との供給量及び排出量を調整することによって、ガス導入部2による単位時間当たりの処理ガス供給量と、排気部3による単位時間当たりの雰囲気ガス排気量とが、同等に設定されている。
例えば、雰囲気ガス排気量に比べて処理ガス供給量が多すぎると、雰囲気ガスが隣りの領域に流れ込みやすくなるが、この設定によれば、この流れ込みを防ぐことが可能となる。
Further, with respect to the
For example, if the processing gas supply amount is too large compared to the atmospheric gas exhaust amount, the atmospheric gas is likely to flow into the adjacent region. However, according to this setting, this flow can be prevented.
また、本発明の熱処理装置は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。例えば、ガス導入部2の導入管22に関して、前記実施形態では複数本を備えた構成としたが、1本であってもよく、また、排気部3の排気管32に関して、前記実施形態では、各領域の左右それぞれに一つとし、当該排気管32から炉内へと通じる排気口33が複数形成されている構成としたが、排気管32を左右それぞれに複数本を設置した構成であってもよい。さらに、導入口23は、熱処理炉1の側壁や上壁に設けられていてもよい。
また、パージガス用管ユニット15に関して、それぞれの管部が独立した構成であってもよい。
また、コンベア装置9のベルトはメッシュでなくてもよく、さらには、コンベア装置9はベルト式以外にワイヤ式、ローラ式、ウォーキングビーム式等の他の方式によるものであってもよい。また、ワークWの搬送は、搬送面に直接ワークWが載った状態とする以外に、ワークWを載せたトレーを搬送面に載せてもよい。
なお、ワークWは、金属、半導体、セラミックス等の材質やその形態を問わず、熱処理の際にワークW周辺の雰囲気の管理を厳密に行う必要がある場合に、本発明を好適に使用することができる。
In addition, the heat treatment apparatus of the present invention is not limited to the illustrated form, and may be of other forms within the scope of the present invention. For example, regarding the
Further, the purge
Further, the belt of the
Note that the present invention is preferably used when the work W needs to strictly manage the atmosphere around the work W during heat treatment regardless of the material and form of metal, semiconductor, ceramics, etc. Can do.
1:熱処理炉、 2:ガス導入部、 3:排気部、 7:パージガス供給部、 17a:第一の噴出口、 17b:第二の噴出口、 18:吸引口、 23:導入口、 33:排気口、 W:ワーク 1: heat treatment furnace, 2: gas introduction unit, 3: exhaust unit, 7: purge gas supply unit, 17a: first jet port, 17b: second jet port, 18: suction port, 23: introduction port, 33: Exhaust port, W: Workpiece
Claims (5)
区画された複数の前記領域それぞれに処理ガスを供給するガス導入部と、
区画された複数の前記領域それぞれの雰囲気ガスを排気する排気部と、
隣り合う前記領域間に設けられ前記ワークの上方から下方に向けてパージガスを噴出する噴出口を有しているパージガス供給部と、
を備えていることを特徴とする熱処理装置。 The furnace is partitioned into a plurality of regions so that the atmosphere around the workpiece is different for each region, and the workpiece advances in order in each partitioned region and heat-treats the workpiece,
A gas introduction part for supplying a processing gas to each of the plurality of partitioned regions;
An exhaust section for exhausting the atmosphere gas of each of the plurality of partitioned regions;
A purge gas supply unit provided between the adjacent regions and having a jet port for jetting purge gas from above to below the workpiece;
A heat treatment apparatus comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009216937A JP5688216B2 (en) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | Heat treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009216937A JP5688216B2 (en) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | Heat treatment equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011064425A true JP2011064425A (en) | 2011-03-31 |
JP5688216B2 JP5688216B2 (en) | 2015-03-25 |
Family
ID=43950863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009216937A Active JP5688216B2 (en) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | Heat treatment equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5688216B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016158335A1 (en) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 住友電工焼結合金株式会社 | Conveying-type heat treatment device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07207348A (en) * | 1994-01-18 | 1995-08-08 | Nippon Steel Corp | Method for separating atmosphere in continuous annealing furnace |
JPH09194950A (en) * | 1995-06-15 | 1997-07-29 | Nippon Steel Corp | Continuous heat treatment furnace using different kind of atmospheric gas and continuous heat treatment furnace |
JP2002286374A (en) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Tokyo Weld Co Ltd | Muffle furnace |
JP2008180487A (en) * | 2006-12-22 | 2008-08-07 | Chubu Ueringu Co Ltd | Heat treatment apparatus |
-
2009
- 2009-09-18 JP JP2009216937A patent/JP5688216B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07207348A (en) * | 1994-01-18 | 1995-08-08 | Nippon Steel Corp | Method for separating atmosphere in continuous annealing furnace |
JPH09194950A (en) * | 1995-06-15 | 1997-07-29 | Nippon Steel Corp | Continuous heat treatment furnace using different kind of atmospheric gas and continuous heat treatment furnace |
JP2002286374A (en) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Tokyo Weld Co Ltd | Muffle furnace |
JP2008180487A (en) * | 2006-12-22 | 2008-08-07 | Chubu Ueringu Co Ltd | Heat treatment apparatus |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016158335A1 (en) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 住友電工焼結合金株式会社 | Conveying-type heat treatment device |
JPWO2016158335A1 (en) * | 2015-03-27 | 2018-01-25 | 住友電工焼結合金株式会社 | Conveying heat treatment equipment |
US10480859B2 (en) | 2015-03-27 | 2019-11-19 | Sumitomo Electric Sintered Alloy, Ltd. | Carrier-type heat-treatment apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5688216B2 (en) | 2015-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI285136B (en) | Substrate processing equipment | |
JP2023052066A (en) | Device and method for thermally or thermochemically treating material | |
JP2009147260A (en) | Substrate processing apparatus | |
KR101147711B1 (en) | Apparatus and method for drying articles that have been treated | |
JP6258892B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP5688216B2 (en) | Heat treatment equipment | |
JPWO2017068625A1 (en) | Deposition equipment | |
JP4850775B2 (en) | Substrate processing equipment | |
WO2010137286A1 (en) | Calcination device | |
JP5654796B2 (en) | Continuous diffusion processing equipment | |
JP4498774B2 (en) | Semiconductor manufacturing equipment | |
JP5468318B2 (en) | Heat treatment furnace | |
JP2003109994A (en) | Substrate treatment device | |
JP2007222165A (en) | Circulating body in cigarette strand-producing machine | |
JP2016198255A (en) | Heat treatment device | |
KR20150024250A (en) | Heat treatment furnace | |
JP5429534B2 (en) | Pusher type continuous firing furnace | |
JP7070140B2 (en) | Smelter for slabs and method for smelting slabs | |
JP6905672B2 (en) | Glass substrate manufacturing method | |
JP2020094726A (en) | Dryer | |
JP2007317700A (en) | Surface-treating apparatus and surface treatment method | |
JP5985576B2 (en) | Continuous diffusion processing equipment | |
JP4349581B2 (en) | Fluid dryer | |
CN114682548A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP6289149B2 (en) | Heat treatment furnace |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120703 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140526 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150126 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5688216 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |