JP5829630B2 - 高流動性臭素化ポリスチレン組成物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
臭素化ポリスチレンは、安価で物性、外観及び成形性が優れ、電気特性、機械特性にも優れているため、難燃性を付与する難燃剤として幅広く使用されている。臭素化ポリスチレンを合成樹脂の難燃剤として使用する場合、樹脂自身の機械特性、電気特性などの物理特性、色相などの外観を失うことなく、樹脂に難燃性を付与できることが要求されることは言うまでもないことであるが、高温で樹脂に練り込んで使用することから、耐熱性、樹脂との相溶性などにおいても、優れていることが要求される。
近年、防災上の観点から、難燃剤の使用はさらに広範囲に及んでおり、樹脂への練り込みに際しての臭素化ポリスチレンの低流動性が問題になっている。よって、臭素化ポリスチレンには、前述した特性に加えて、流動性の改善が強く求められるようになってきた。
このような臭素化ポリスチレンの製造方法として、ポリスチレンを臭素化する方法と臭素化スチレンを重合してポリマーとする方法が知られているが、工業的にはポリスチレンを臭素化する方法が一般的である。
ところで、高分子化合物の流動性は、分子量によって決定されることはよく知られているが、臭素化ポリスチレンにおいても、例外ではない。しかしながら、臭素化ポリスチレンにおいて、分子量を下げていくと流動性は改善されるものの、高温での耐熱性が低下するという問題がある。そこで、臭素化により流動性と耐熱性を兼ね備えた臭素化ポリスチレンを得るためには、最適な分子量のポリスチレンを選択し、臭素化することが必要とされるが、市販品として安価に入手可能な分子量のポリスチレンは限られており、これらの要求性能を満たす安価な臭素化ポリスチレンを工業的に得ることは従来の方法では困難であった。
従来、ポリスチレンを臭素化して臭素化ポリスチレンを得る方法としては、有機溶媒中、触媒として二価及び/又は三価の鉄塩を用い、臭素により臭素化を行う方法(例えば、特許文献1)、又は三塩化アンチモンと同等の活性を有するルイス酸触媒を用いる方法(例えば、特許文献2)等が知られている。
また、ハロゲン系炭化水素溶媒中、触媒として酸化アンチモンを用い、塩化臭素により臭素化を行う方法が本出願人により提案されている(例えば、特許文献3)。
一方で、得られた臭素化ポリスチレンの物性の改善も種々検討されている。スチレン系樹脂との相溶性を改善する目的で、分子量の異なる臭素化ポリスチレンを混合した難燃剤が提案されている(例えば、特許文献4)。
さらに、流動性及び色値を改善する目的で、有機溶媒中、触媒としてハロゲン化アルミニウムを用い、臭素により臭素化を行い、20分以下で臭素化を停止する方法が提案されている(特許文献5)。
しかし、これらの従来技術は、いずれも高流動性を得ることを主な目的とするものではなく、上述のような臭素化ポリスチレンの流動性の問題の解決に関して何ら示唆を与えるものではない。唯一、特許文献5の方法では、流動性が改善されているものの、短時間で臭素化剤を全量フィードする必要があることから、スケールアップの困難性、反応温度制御の困難性及び急速に反応が進行した場合の危険性が懸念され、工業的に実施しようとする場合、多くの問題がある。
即ち、本発明は、以下のとおりである。
[1]重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンを臭素化して得られる高分子量臭素化ポリスチレンと、重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンを臭素化して得られる低分子量臭素化ポリスチレンとからなる臭素化ポリスチレン組成物であって、原料ポリスチレンにおいて、重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンが70〜99重量%であり、重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンが1〜30重量%であることを特徴とする、臭素化ポリスチレン組成物。
[2]臭素化ポリスチレン組成物の重量平均分子量が、7,000〜80,000である、[1]記載の臭素化ポリスチレン組成物。
[3]臭素化ポリスチレン組成物の重量平均分子量と数平均分子量との比(Mw/Mn)が、2.0〜5.0である、[1]又は[2]記載の臭素化ポリスチレン組成物。
[4]重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンのMw/Mnが、1.5〜4.0である、[1]〜[3]いずれかに記載の臭素化ポリスチレン組成物。
[5]重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンのMw/Mnが、2.5〜4.5である、[1]〜[4]いずれかに記載の臭素化ポリスチレン組成物。
[6]重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンが80〜85重量%であり、重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンが15〜20重量%である、[1]〜[5]いずれかに記載の臭素化ポリスチレン組成物。
[7](a1)重量平均分子量1万〜7万のポリスチレン70〜99重量%及び重量平均分子量500〜5,000のポリスチレン1〜30重量%を混合して、ポリスチレン混合物を得る工程、及び(b1)工程(a1)で得られたポリスチレン混合物を、触媒及び臭素化剤の存在下で臭素化する工程を含む、臭素化ポリスチレン組成物の製造方法。
[8]重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンが80〜85重量%であり、重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンが15〜20重量%である、[7]記載の製造方法。
[9](a2)重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンを、触媒及び臭素化剤の存在下で臭素化して、高分子量臭素化ポリスチレンを得る工程、(b2)重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンを、触媒及び臭素化剤の存在下で臭素化して、低分子量臭素化ポリスチレンを得る工程、及び(c2)工程(a2)で得られた高分子量臭素化ポリスチレン70〜99重量%及び工程(b2)で得られた低分子量臭素化ポリスチレン1〜30重量%を混合する工程を含む、臭素化ポリスチレン組成物の製造方法。
[10]高分子量臭素化ポリスチレンが80〜85重量%であり、低分子量臭素化ポリスチレンが15〜20重量%である、[9]記載の製造方法。
[11]重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンのMw/Mnが、1.5〜4.0である、[7]〜[10]いずれかに記載の製造方法。
[12]重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンのMw/Mnが、2.5〜4.5である、[7]〜[11]いずれかに記載の製造方法。
[13]触媒が酸化アンチモンである、[7]〜[12]いずれかに記載の製造方法。
[14]臭素化剤が塩化臭素である、[7]〜[13]いずれかに記載の製造方法。
本発明の臭素化ポリスチレン組成物は、重量平均分子量1万〜7万の高分子量ポリスチレンを臭素化して得られる高分子量臭素化ポリスチレンと、重量平均分子量500〜5,000の低分子量ポリスチレンを臭素化して得られる低分子量臭素化ポリスチレンとからなる、臭素化ポリスチレン組成物であって、原料ポリスチレンにおいて、重量平均分子量1万〜7万の高分子量ポリスチレンが70〜99重量%であり、重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンが1〜30重量%であることを特徴とする。
本発明において、臭素化ポリスチレン組成物の重量平均分子量は、7,000〜80,000であるのが好ましく、30,000〜50,000であるのがより好ましい。
また、本発明において、臭素化ポリスチレン組成物の分子量の分散度、すなわち臭素化ポリスチレン組成物の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が、2.0〜5.0であることが好ましい。このような範囲であれば、耐熱性を維持しながら、高い流動性が得られる点で好ましい。
本発明において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパミエーションクロマトグラフィ(GPC)の測定により求められた値である。
重量平均分子量が7万を超える重量平均分子量のポリスチレンを用いた場合は、耐熱性は維持されるものの、流動性が改善されない。また、重量平均分子量が1万未満のポリスチレンを用いた場合は、流動性は改善されるものの、難燃剤としての耐熱性が著しく低下する。入手の容易さを考慮すると、重量平均分子量3万〜7万のポリスチレンが好ましい。
本発明の高分子量ポリスチレンは、重量平均分子量及び数平均分子量の比(Mw/Mn)が、1.5〜4.0であり、1.5〜3.5であるのが好ましい。このような範囲のポリスチレンは入手が容易であり、臭素化した後の耐熱性も保持される。
このような高分子量ポリスチレンは、例えば、アルドリッチ社のポリスチレン及びDIC株式会社のエラスチレン200など、供給業者からの市販品として容易に入手可能である。
重量平均分子量が5,000を超えるポリスチレンを用いた場合は、流動性を改善するために多量に混合する必要があり、これにより耐熱性の低下を招く。また、重量平均分子量が500未満のポリスチレンを用いた場合は、難燃剤としての耐熱性が著しく低下する。組成物の耐熱性を維持したまま流動性を改善するためには、重量平均分子量1,000〜3,000のポリスチレンが好ましい。
本発明の低分子量ポリスチレンは、数平均分子量と重量平均分子量との比(Mw/Mn)が、2.5〜4.5であるのが好ましく、3.0〜4.0であるのがより好ましい。このような範囲のポリスチレンは入手が容易であり、臭素化した後の耐熱性も保持される。
このような低分子量ポリスチレンは、例えば、三洋化成工業株式会社のレジットS−94など、供給業者からの市販品として容易に入手可能である。
本発明の臭素化ポリスチレン組成物は、高分子量ポリスチレン及び低分子量ポリスチレンを予め所定の割合で混合した後、臭素化する方法によって得られるか、あるいは、高分子量ポリスチレン及び低分子量ポリスチレンをそれぞれ別々に臭素化した後、所定の割合で混合することによって得られる。いずれの方法によっても構わないが、高分子量ポリスチレン及び低分子量ポリスチレンを予め所定の割合で混合した後、臭素化する方法は、臭素化を一工程で済ませることができるため、工業的観点からより好ましい。
(a1)重量平均分子量1万〜7万のポリスチレン1〜30重量%及び重量平均分子量500〜5,000のポリスチレン70〜99重量%を混合して、ポリスチレン混合物を得る工程、及び
(b1)工程(a1)で得られたポリスチレン混合物を、触媒及び臭素化剤の存在下で臭素化する工程
を含む。
重量平均分子量1万〜7万のポリスチレン、すなわち高分子量ポリスチレンは、好ましいものも含め、前記のとおりである。重量平均分子量500〜5,000のポリスチレン、すなわち低分子量ポリスチレンは、好ましいものも含め、前記のとおりである。
工程(a1)における、重量平均分子量1万〜7万のポリスチレン及び重量平均分子量500〜5,000のポリスチレン、すなわち高分子量ポリスチレン及び低分子量ポリスチレンの含有量は、低分子量ポリスチレンが5〜20重量%であり、高分子量ポリスチレンが80〜95重量%であるのが好ましく、低分子量ポリスチレンが15〜20重量%であり、高分子量ポリスチレンが80〜85重量%であるのがさらに好ましい。このような範囲とすることで、耐熱性を維持したまま流動性が改善された臭素化ポリスチレン組成物が得られる。
反応溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、ハロゲン化炭化水素溶媒が好ましい。ハロゲン化炭化水素溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、エチレンジクロリド、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、及びモノクロルベンゼンなどの塩素化炭化水素;臭化メチレン、及びエチレンジブロミドなどの臭素化炭化水素が挙げられ、塩化メチレンがより好ましい。これらは単独で、又は2種類以上の溶媒を任意の割合で混合して用いてもよい。
反応溶媒の使用量は、全ポリスチレン(高分子量ポリスチレン及び低分子量ポリスチレン)に対して100〜1,000重量%が好ましく、350〜750重量%がより好ましい。
本発明の臭素化反応は、触媒及び臭素化剤の存在下で行うことができる。
触媒としては、一般的なルイス酸触媒や酸化アンチモン触媒を用いることができる。系中の水分が反応に影響しない点から、酸化アンチモン触媒、例えば三酸化二アンチモン、四酸化二アンチモン、及び五酸化二アンチモンが好ましい。これらの触媒は、単独で、又は2種類以上を任意の割合で混合して用いてもよい。
触媒の使用量は、臭素化反応に使用される全ポリスチレンのスチレン単位に対して1〜30モル%、好ましくは3〜10モル%である。
(a2)重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンを、触媒及び臭素化剤の存在下で臭素化して、高分子量臭素化ポリスチレンを得る工程、
(b2)重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンを、触媒及び臭素化剤の存在下で臭素化して、低分子量臭素化ポリスチレンを得る工程、及び
(c2)工程(a2)で得られた高分子量臭素化ポリスチレン70〜99重量%及び工程(b2)で得られた低分子量臭素化ポリスチレン1〜30重量%を混合する工程
を含む、臭素化ポリスチレン組成物の製造方法である。
工程(a2)及び工程(b2)における、重量平均分子量1万〜7万のポリスチレン(高分子量ポリスチレン)、重量平均分子量500〜5,000のポリスチレン(低分子量ポリスチレン)は、好ましいものを含め工程(a1)において記載されたとおりであり、臭素化反応のための条件は、好ましいものを含め工程(b1)において記載されたとおりである。
高分子量臭素化ポリスチレン及び低分子量臭素化ポリスチレンの含有量は、高分子量臭素化ポリスチレンが70〜99重量%、及び低分子量臭素化ポリスチレンが1〜30重量%であり、高分子量臭素化ポリスチレンが80〜95重量%、及び低分子量臭素化ポリスチレンが5〜20重量%であるのが好ましく、高分子量臭素化ポリスチレンが80〜85重量%、及び低分子量臭素化ポリスチレンが15〜20重量%であるのがより好ましい。このような範囲とすることで、流動性が改善された臭素化ポリスチレン組成物が得られる。
重量平均分子量:ゲル浸透クロマトグラフ法により測定した。予め、東ソー製標準ポリスチレンを用い、分子量約120万までの検量線を作成し、次に試料0.01gをテトラヒドロフラン10mlに溶解後、その10μlを東ソー製CCPMシステムに注入し、得られたクロマトグラフによりデータ処理装置を用いて標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を計算した。分析条件は以下の通りである。カラム(東ソー製TSK−Gel G4000Hxl×1、G3000Hxl×1、G2000Hxl×24本連結)、移動相(テトラヒドロフラン)、流速(1.0ml/min.)、カラム温度(40℃)、検出波長(UV254nm)。
臭素含量:JIS K 7299(フラスコ燃焼法)に準じる方法で測定した。
メルトフローレート(MFR):JIS K 7210に準拠して、240℃、2.16kg荷重、又は250℃、1.2kg荷重で測定した。
加熱減量:試料5.0gを正確に秤量し、アルミ皿に入れ、270℃に温調された熱風乾燥機(いすゞ製作所社製;EPPH−210S)中、0.5時間処理した。乾燥機投入前の重量に対する処理後の減量分を加熱減量(重量%)とした。
攪拌装置、コンデンサー、温度計及び塩素導入管を備えた1Lのガラス製四つ口フラスコに、塩化メチレン450ml及び臭素617.8gを加えて攪拌し、内温5℃以下まで冷却した。次いで、塩素導入管より1.0g/min.の速度で塩素を導入し、4.8時間かけて合計288.5gの塩素を加え、1497.3gの塩化臭素/塩化メチレン溶液を得た。塩素導入中の反応温度は0〜5℃であった。
攪拌装置、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた3Lのガラス製四つ口フラスコに、塩化メチレン840ml、ポリスチレン(アルドリッチ社製ポリスチレン、重量平均分子量:35,000、Mw/Mn=2.98(高分子量PS))285.0g及びポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))15.0gを加え、溶解/混合した後、三酸化二アンチモン33.2gを加え、反応温度10〜25℃にて、合成例1で得られた塩化臭素/塩化メチレン溶液1497.3gを滴下ロートより2時間かけて滴下した。滴下終了後、内温を20〜30℃に保持してさらに1時間反応させた。水900mlを追加し反応を終了させた後、20%ヒドラジン40gを用いて過剰の塩化臭素を還元した。得られた反応液を静置後、有機層を分液し、900mlの水を加えて洗浄した。洗浄後の有機層はメタノール6L中に滴下して結晶を析出させた。この結晶を濾過乾燥することで、臭素化ポリスチレンの粉体859.6gを得た。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表1に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(アルドリッチ社製ポリスチレン、重量平均分子量:35,000、Mw/Mn=2.98(高分子量PS))270.0g及びポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))30.0gに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表1に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(アルドリッチ社製ポリスチレン、重量平均分子量:35,000、Mw/Mn=2.98(高分子量PS))255.0g及びポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))45.0gに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表1に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(アルドリッチ社製ポリスチレン、重量平均分子量:35,000、Mw/Mn=2.98(高分子量PS))240.0g及びポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))60.0gに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表1に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(アルドリッチ社製ポリスチレン、重量平均分子量:35,000、Mw/Mn=2.98(高分子量PS))210.0g及びポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))90.0gに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表1に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(アルドリッチ社製ポリスチレン、重量平均分子量:35,000、Mw/Mn=2.98(高分子量PS))300.0gのみに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレン(高分子量Br−PS)の分析結果を表1に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(アルドリッチ社製ポリスチレン、重量平均分子量:35,000、Mw/Mn=2.98(高分子量PS))180.0g及びポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))120.0gに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表1に示す。
比較例1で得られた臭素化ポリスチレン(高分子量Br−PS)と、用いるポリスチレンをポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))300.0gのみに変更した以外は実施例1と同様の操作を行って得られた臭素化ポリスチレン(低分子量Br−PS、臭素含量:66.8%、重量平均分子量:3,888、Mw/Mn=3.44)とを、重量比で90:10となるように混合した。得られた混合物の分析結果を表2に示す。
高分子量Br−PSと低分子量Br−PSとの混合比を重量比で85:15に変更した以外は実施例6と同様の操作を行い、臭素化ポリスチレンの混合物を得た。得られた混合物の分析結果を表2に示す。
高分子量Br−PSと低分子量Br−PSの混合比を、重量比で80:20に変更した以外は実施例6と同様の操作を行い、臭素化ポリスチレンの混合物を得た。得られた混合物の分析結果を表2に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(DIC社製エラスチレン200、重量平均分子量:59,500、Mw/Mn=1.80(高分子量PS))276.0g及びポリスチレン(三洋化成工業社製レジットS−94、重量平均分子量:2,530、Mw/Mn=3.31(低分子量PS))24.0gに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表3に示す。
用いるポリスチレンをポリスチレン(DIC社製エラスチレン200、重量平均分子量:59,500、Mw/Mn=1.80(高分子量PS))300.0gのみに変更した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた臭素化ポリスチレンの分析結果を表3に示す。
Claims (6)
- (a1)重量平均分子量1万〜7万のポリスチレン70〜99重量%及び重量平均分子量500〜5,000のポリスチレン1〜30重量%を混合して、ポリスチレン混合物を得る工程、及び
(b1)工程(a1)で得られたポリスチレン混合物を、触媒及び臭素化剤の存在下で臭素化する工程
を含む、臭素化ポリスチレン組成物の製造方法。 - 重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンが80〜85重量%であり、重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンが15〜20重量%である、請求項1記載の製造方法。
- 重量平均分子量1万〜7万のポリスチレンのMw/Mnが、1.5〜4.0である、請求項1又は2記載の製造方法。
- 重量平均分子量500〜5,000のポリスチレンのMw/Mnが、2.5〜4.5である、請求項1〜3いずれか1項記載の製造方法。
- 触媒が酸化アンチモンである、請求項1〜4いずれか1項記載の製造方法。
- 臭素化剤が塩化臭素である、請求項1〜5いずれか1項記載の製造方法。
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