JP5767734B2 - 電力用半導体装置 - Google Patents
電力用半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5767734B2 JP5767734B2 JP2014093462A JP2014093462A JP5767734B2 JP 5767734 B2 JP5767734 B2 JP 5767734B2 JP 2014093462 A JP2014093462 A JP 2014093462A JP 2014093462 A JP2014093462 A JP 2014093462A JP 5767734 B2 JP5767734 B2 JP 5767734B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- node
- voltage
- transistor
- semiconductor device
- control circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 53
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 claims description 24
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 19
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 11
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 8
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/16—Modifications for eliminating interference voltages or currents
- H03K17/161—Modifications for eliminating interference voltages or currents in field-effect transistor switches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/07—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration the components having an active region in common
- H01L27/0705—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration the components having an active region in common comprising components of the field effect type
- H01L27/0711—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration the components having an active region in common comprising components of the field effect type in combination with bipolar transistors and diodes, or capacitors, or resistors
- H01L27/0716—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration the components having an active region in common comprising components of the field effect type in combination with bipolar transistors and diodes, or capacitors, or resistors in combination with vertical bipolar transistors and diodes, or capacitors, or resistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/04—Modifications for accelerating switching
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/08—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
- H03K17/081—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/08—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
- H03K17/082—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit
- H03K17/0822—Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit in field-effect transistor switches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7801—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
- H01L29/7802—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
- H01L29/7813—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors with trench gate electrode, e.g. UMOS transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7833—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with lightly doped drain or source extension, e.g. LDD MOSFET's; DDD MOSFET's
- H01L29/7835—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with lightly doped drain or source extension, e.g. LDD MOSFET's; DDD MOSFET's with asymmetrical source and drain regions, e.g. lateral high-voltage MISFETs with drain offset region, extended drain MISFETs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Continuous-Control Power Sources That Use Transistors (AREA)
Description
図6は、本実施の形態に係る電力用半導体装置1の構成を概略的に示すブロック図である。電力用半導体装置1は、電源端子TV、入力端子TI、及び出力端子TOを備えている。出力端子TOは負荷20の一端に接続され、負荷20の他端はグランド端子TGAに接続される。電源端子TVには、電源電圧VCCが供給される。入力端子TIには、パワーON信号PWRが入力される。そのパワーON信号PWRの活性化に応答して、電力用半導体装置1はONし、出力端子TOを通して負荷20に電力を供給する。
図7は、本実施の形態に係る電力用半導体装置1の動作を示すタイミングチャートである。以下、図6及び図7を参照して、電力用半導体装置1の基本的な動作を説明する。その動作を説明するにあたり、4つの期間(フェーズ):ターンオン期間PA、ON期間PB、ターンオフ期間PC、及びOFF期間PD、を考える。
時刻t1において、パワーON信号PWRが活性化され、LowレベルからHighレベルに変わる。それに応答して、制御回路100は、第1ノードN1を充電し始める。
ON期間PBにおける制御は、ターンオン期間PAの場合と同様である。第1ノードN1の電圧は、電源電圧VCCよりも高い高電圧で安定する。出力ノードNZの電圧は、電源電圧VCC近傍で安定する。出力トランジスタ10は、安定的にONしている。
時刻t3において、パワーON信号PWRが非活性化され、HighレベルからLowレベルに変わる。それに応答して、制御回路100は、第1ノードN1の充電を停止する。
OFF期間PDにおいても、制御回路100は、第1ゲートノードNAの電圧をHighレベルに設定し、第1放電経路DPAを活性化する。また、制御回路100は、第2ゲートノードNB及び第3ノードN3の電圧をHighレベルに設定し、第2放電経路DPBを非活性化する。
次に、パワーONの最中に負荷異常が発生した場合(例えば、負荷20がショートして過電流状態となる)を考える。図示されない検出回路(過電流検出回路や過温度検出回路)によって負荷異常が検出されると、出力トランジスタ10の破壊を防ぐために、制御回路100は、「高速放電」を実施する。
次に、OFF期間PDにおいて、ダンプサージ等の印加によって、電源電圧VCCの急峻な増加が発生した場合を考える。図7に示される例では、OFF期間PDの最中の時刻t8において、ダンプサージが電源端子TVに印加される。本実施の形態によれば、OFF期間PDの最中にダンプサージが電源端子TVに印加されても、寄生バイポーラトランジスタQ1はONしない。図8を参照して、そのメカニズムを説明する。
図9は、本実施の形態に係る電力用半導体装置1の変形例を示すブロック図である。本変形例では、逆流防止素子50として、ダイオード51の代わりに、PチャネルMOSFET52の寄生ダイオード53が用いられる。このPチャネルMOSFET52のドレイン、ソース及びゲートは、それぞれ、第3ノードN3、第2ノードN2及び第3ノードN3に接続されている。また、PチャネルMOSFET52のバックゲートは、電源端子TVに接続されている。これにより、図9に示されるように、PチャネルMOSFET52のバックゲート−ソース間に寄生ダイオード53が形成される。
図10は、本実施の形態に係る電力用半導体装置1の回路構成の一例を示している。既出の説明と重複する説明は適宜省略される。
Claims (10)
- 電源端子と出力端子との間に接続された出力トランジスタと、
ドレインが前記出力トランジスタのゲートに接続された第1ノードに接続され、ソースが前記出力端子に接続された第1放電トランジスタと、
ドレインが前記第1ノードに接続され、ソース及びバックゲートが第2ノードに接続された第2放電トランジスタと、
前記第2ノードと第3ノードとの間に接続され、前記第3ノードから前記第2ノードへの電流の流れを防止する逆流防止素子と、
入力端子に入力される入力信号に応答して、前記第1ノードの充放電、前記第1放電トランジスタのON/OFF、前記第2放電トランジスタのON/OFF及び前記第3ノードと接地端子との間の接続を制御する制御回路と
を具備し、
前記制御回路は、前記入力信号が活性化されると、前記第3ノードと前記接地端子との間に接続されたトランジスタをONすると共に、負荷異常の有無に応じて前記第1ノードの充電、前記第1放電トランジスタのON/OFF及び前記第2放電トランジスタのON/OFFを制御し、
前記制御回路は、前記入力信号が非活性化されると、前記第1ノードの充電を停止し、前記第1放電トランジスタ及び前記第2放電トランジスタをONし、前記第3ノードと前記接地端子との間に接続された前記トランジスタをOFFする
電力用半導体装置。 - 請求項1に記載の電力用半導体装置であって、
前記制御回路は、前記第3ノードの電圧を制御する電圧制御回路を備え、
前記電圧制御回路は、
前記トランジスタと、
前記第3ノードに電流を供給する第1定電流源と、
アノードが前記第3ノードに接続され、カソードが前記電源端子に接続されたツェナーダイオードと、
前記第3ノードと第4ノードの間に接続され、前記第3ノードから前記第4ノードに電流を流すように構成された第2定電流源と
を備えており、
前記トランジスタが、前記第4ノードと前記接地端子の間に接続された
電力用半導体装置。 - 請求項1に記載の電力用半導体装置であって、
前記制御回路は、前記入力信号に応答して前記第3ノードの電圧を制御する電圧制御回路を備え、
前記電圧制御回路は、
前記第3ノードに電流を供給する第1定電流源と、
前記トランジスタであって、ドレインが前記接地端子に接続され、ソースが前記第3ノードに接続され、ゲートが第4ノードに接続されるPチャネルMOSFETと、
アノードが前記第4ノードに接続され、カソードが前記電源端子に接続されたツェナーダイオードと、
前記入力信号に応答してON/OFFされ、ドレインが前記第4ノードに接続され、ソースが接地端子に接続されたNチャネルMOSFET
とを備えている
電力用半導体装置。 - 請求項1に記載の電力用半導体装置であって、
前記制御回路は、前記入力信号が非活性化されると、前記第2放電トランジスタのゲート電圧をHighレベルに設定し、前記第2放電トランジスタのゲート−ソース電圧を閾値電圧未満に設定する
電力用半導体装置。 - 請求項4に記載の電力用半導体装置であって、
前記制御回路は、前記入力信号が非活性化されると、前記第3ノードの電圧を前記第2放電トランジスタのゲート電圧と同じレベルに設定する
電力用半導体装置。 - 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の電力用半導体装置であって、
前記出力トランジスタ、前記第1放電トランジスタ、前記第2放電トランジスタ、前記逆流防止素子及び前記制御回路が形成されている半導体基板が、前記電源端子に接続されている
電力用半導体装置。 - 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電力用半導体装置であって、
前記制御回路は、前記入力信号が非活性化されると、前記第3ノードの電圧を前記第2放電トランジスタのゲート電圧と同じHighレベルに設定する
電力用半導体装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の電力用半導体装置であって、
前記第2放電トランジスタは、寄生バイポーラトランジスタを有し、
前記寄生バイポーラトランジスタのコレクタ、エミッタ及びベースは、それぞれ、前記電源端子、前記第1ノード、前記第2放電トランジスタの前記バックゲートに接続されている
電力用半導体装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の電力用半導体装置であって、
前記逆流防止素子は、アノードが前記第2ノードに接続され、カソードが前記第3ノードに接続されたダイオードを含む
電力用半導体装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の電力用半導体装置であって、
前記逆流防止素子は、ドレインが前記第3ノードに接続され、ソースが前記第2ノードに接続され、ゲートが前記第3ノードに接続され、バックゲートが前記電源端子に接続されたPチャネルMOSFETを含む
電力用半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014093462A JP5767734B2 (ja) | 2011-04-04 | 2014-04-30 | 電力用半導体装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011082518 | 2011-04-04 | ||
JP2011082518 | 2011-04-04 | ||
JP2014093462A JP5767734B2 (ja) | 2011-04-04 | 2014-04-30 | 電力用半導体装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013508828A Division JP5539587B2 (ja) | 2011-04-04 | 2012-03-28 | 電力用半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014168093A JP2014168093A (ja) | 2014-09-11 |
JP5767734B2 true JP5767734B2 (ja) | 2015-08-19 |
Family
ID=46969052
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013508828A Active JP5539587B2 (ja) | 2011-04-04 | 2012-03-28 | 電力用半導体装置 |
JP2014093462A Active JP5767734B2 (ja) | 2011-04-04 | 2014-04-30 | 電力用半導体装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013508828A Active JP5539587B2 (ja) | 2011-04-04 | 2012-03-28 | 電力用半導体装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8884682B2 (ja) |
JP (2) | JP5539587B2 (ja) |
WO (1) | WO2012137651A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6117640B2 (ja) * | 2013-07-19 | 2017-04-19 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置及び駆動システム |
JP2015046507A (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-12 | 株式会社東芝 | Esd保護回路 |
KR102287635B1 (ko) * | 2015-02-17 | 2021-08-10 | 한국전자통신연구원 | 길이가 16200이며, 부호율이 3/15인 ldpc 부호어 및 256-심볼 맵핑을 위한 비트 인터리버 및 이를 이용한 비트 인터리빙 방법 |
FR3048288B1 (fr) * | 2016-02-25 | 2018-03-23 | Stmicroelectronics (Crolles 2) Sas | Detecteur electronique integre de variations de potentiel a haute sensibilite |
JP6370952B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2018-08-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2019115166A (ja) * | 2017-12-22 | 2019-07-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP7342542B2 (ja) * | 2019-09-06 | 2023-09-12 | 富士電機株式会社 | ドライバ回路および半導体装置 |
US11329643B2 (en) * | 2019-09-06 | 2022-05-10 | Fuji Electric Co., Ltd. | Driver circuit and semiconductor device |
US20230016629A1 (en) * | 2019-12-26 | 2023-01-19 | Hitachi Astemo, Ltd. | Load drive device |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0354435B1 (en) * | 1988-08-12 | 1995-12-20 | Hitachi, Ltd. | A drive circuit for an insulated gate transistor; and its use in a switching circuit, a current switching apparatus and an induction motor system |
JP2669117B2 (ja) * | 1990-07-19 | 1997-10-27 | 富士電機株式会社 | 電圧駆動形半導体素子の駆動回路 |
JPH04364784A (ja) | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Fuji Electric Co Ltd | Mos型半導体素子駆動回路 |
JP3537061B2 (ja) * | 1995-04-18 | 2004-06-14 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
US6066963A (en) * | 1997-09-29 | 2000-05-23 | Cypress Semiconductor Corp | MOS output driver, and circuit and method of controlling same |
JP2002076865A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-15 | Toshiba Microelectronics Corp | 半導体集積回路装置 |
JP2002084174A (ja) | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Denso Corp | 負荷駆動回路 |
JP4390515B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2009-12-24 | Necエレクトロニクス株式会社 | 出力mosトランジスタの過電圧保護回路 |
JP4895623B2 (ja) * | 2006-01-25 | 2012-03-14 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 電力供給制御装置 |
JP5067786B2 (ja) * | 2007-01-12 | 2012-11-07 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 電力用半導体装置 |
JP4528321B2 (ja) * | 2007-09-26 | 2010-08-18 | シャープ株式会社 | スイッチング回路、回路、並びにスイッチング回路及び駆動パルス生成回路を含む回路 |
JP5266029B2 (ja) | 2007-12-14 | 2013-08-21 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 負荷駆動装置 |
JP5315026B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2013-10-16 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP5383426B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2014-01-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 異常検出時急速放電回路 |
-
2012
- 2012-03-28 WO PCT/JP2012/058207 patent/WO2012137651A1/ja active Application Filing
- 2012-03-28 US US14/009,380 patent/US8884682B2/en active Active
- 2012-03-28 JP JP2013508828A patent/JP5539587B2/ja active Active
-
2014
- 2014-04-30 JP JP2014093462A patent/JP5767734B2/ja active Active
- 2014-10-07 US US14/508,432 patent/US9503073B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012137651A1 (ja) | 2012-10-11 |
US8884682B2 (en) | 2014-11-11 |
JPWO2012137651A1 (ja) | 2014-07-28 |
US20140022001A1 (en) | 2014-01-23 |
US20150022247A1 (en) | 2015-01-22 |
US9503073B2 (en) | 2016-11-22 |
JP5539587B2 (ja) | 2014-07-02 |
JP2014168093A (ja) | 2014-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5767734B2 (ja) | 電力用半導体装置 | |
JP5759831B2 (ja) | 電力用半導体装置及びその動作方法 | |
US7535283B2 (en) | Gate drive circuit, semiconductor module and method for driving switching element | |
US8044699B1 (en) | Differential high voltage level shifter | |
TWI568179B (zh) | 高壓閘極驅動電路 | |
JP6603287B2 (ja) | 構成可能なクランプ回路 | |
JP5383426B2 (ja) | 異常検出時急速放電回路 | |
JP6468150B2 (ja) | 負荷駆動装置 | |
WO2010021082A1 (ja) | 電力用半導体素子の駆動回路 | |
JP2009534845A (ja) | 電力状態の検出によるesdクランプ制御 | |
JP2013251671A (ja) | 半導体装置 | |
JP2016059036A (ja) | 短絡保護用の回路、システム、及び方法 | |
JP2013026838A (ja) | アクティブクランプ回路 | |
US20130320956A1 (en) | Level shifter circuit and gate driver circuit including the same | |
JP2017079534A (ja) | ゲート制御回路 | |
CN109075693B (zh) | 功率元件的驱动电路 | |
JP2012034079A (ja) | 絶縁ゲート型デバイスの駆動回路 | |
JP2012186605A (ja) | 電力用半導体素子の駆動保護回路 | |
JP3539757B2 (ja) | BiCMOS駆動回路を有する電子回路 | |
JP5034919B2 (ja) | 温度センサ回路 | |
JP6847641B2 (ja) | ゲート駆動回路 | |
CN114204926A (zh) | 半导体装置 | |
JP2014112925A (ja) | 絶縁ゲート型デバイスの駆動回路 | |
JP5772308B2 (ja) | スイッチング素子の保護回路 | |
CN115314038A (zh) | 基于SiC功率器件的门级缓冲电路 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150310 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150312 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150507 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150609 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5767734 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |