JP5368196B2 - Sheet peeling apparatus and peeling method - Google Patents
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Description
本発明は、シート剥離装置及び剥離方法に係り、更に詳しくは、接着シートを被着体に押し付けて当該被着体の浮き上がりを防止して剥離することのできるシート剥離装置及び剥離方法に関する。 The present invention relates to a sheet peeling apparatus and a peeling method, and more particularly, to a sheet peeling apparatus and a peeling method that can peel an adhesive sheet against an adherend to prevent the adherend from being lifted.
近時、半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)にあっては、ウエハ直径が大型化する一方、極薄研削が求められる傾向がある。このため、極薄に研削されたウエハの搬送において、ウエハはその自重によって反り返ったような状態で搬送されるため、割れてしまうという不都合がある。ここで、かかる不都合を回避すべく、特許文献1に開示される形態としたウエハが利用される。同文献では、ウエハの外縁側の厚みが、それ以外の領域の厚みより相対的に大きくなるように研削することにより凹部を形成するとともに、ウエハの外縁に沿って凸部を形成することで補強材の役目をし、ウエハが損傷することを防止できるようになっている。 Recently, semiconductor wafers (hereinafter simply referred to as “wafers”) tend to require ultra-thin grinding while the wafer diameter increases. For this reason, in transporting a wafer that has been ground to an extremely thin thickness, the wafer is transported in a state of being warped by its own weight, so that there is a disadvantage that the wafer is broken. Here, in order to avoid such inconvenience, a wafer having a form disclosed in Patent Document 1 is used. In the same document, the concave portion is formed by grinding so that the thickness of the outer edge side of the wafer is relatively larger than the thickness of the other region, and the convex portion is formed along the outer edge of the wafer. It serves as a material to prevent the wafer from being damaged.
上記のようにウエハを研削するときには、その回路面に保護用の接着シートが貼付され、研削工程を経た後に当該接着シートはウエハから剥離される。このような接着シートの剥離装置としては、例えば、特許文献2に開示されている。同装置は、剥離中に折り返される接着シートをウエハ側に押圧可能な板状の押え手段を備え、接着シートの折り返し姿勢を維持しながら剥離するように構成されている。 When grinding a wafer as described above, a protective adhesive sheet is affixed to the circuit surface, and the adhesive sheet is peeled off from the wafer after a grinding process. Such an adhesive sheet peeling apparatus is disclosed in, for example, Patent Document 2. The apparatus includes plate-like pressing means that can press the adhesive sheet folded back during peeling to the wafer side, and is configured to peel while maintaining the folded posture of the adhesive sheet.
しかしながら、前記特許文献2のような剥離装置で、特許文献1のようなウエハに対し、凹部底面が何にも支持されていない状態で接着シートを剥離する場合、凹部底面は外周の凸部で支えられているため、この凸部の間隔が広い領域になると、図4に示されるように、接着シートSの弾性復元力Fにより、凹部底が同図中下方に撓むように変形し、ウエハWに割れCが生じてしまう、という不都合を招来する。ちなみに、凹部底面を支持可能なテーブルを採用すれば、このような不都合は解消されるが、テーブルに接触することで凹部底面に傷を付けてしまい、半導体チップの歩留を低下させてしまう、という不都合を招来する。 However, when the adhesive sheet is peeled off from the wafer as in Patent Document 1 in a state where the bottom surface of the recess is not supported by anything with the peeling device as in Patent Document 2, the bottom surface of the recess is a convex portion on the outer periphery. When the interval between the convex portions becomes a wide region because it is supported, the bottom of the concave portion is deformed so as to bend downward in the drawing by the elastic restoring force F of the adhesive sheet S as shown in FIG. This causes the inconvenience that cracks C will occur. By the way, if a table that can support the bottom surface of the recess is adopted, such inconvenience is eliminated, but the bottom surface of the recess is damaged by contacting the table, and the yield of the semiconductor chip is reduced. Inconvenience.
[発明の目的]
本発明は、外縁に沿って凸部が形成されたウエハに割れ等の損傷が生じることを防止しつつ接着シートを剥離することのできるシート剥離装置及び剥離方法を提供することにある。
[Object of invention]
An object of the present invention is to provide a sheet peeling apparatus and a peeling method capable of peeling an adhesive sheet while preventing damage such as cracks from occurring on a wafer having convex portions formed along an outer edge.
前記目的を達成するため、本発明は、半導体ウエハの一方の面に貼付された接着シートを剥離用テープを介して当該半導体ウエハから剥離するシート剥離装置において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部と、当該凸部の内側に形成される凹部を他方の面に備え、
前記凹部によって前記凸部の内側に空間が形成される状態で前記半導体ウエハを他方の面側から支持するテーブルと、前記一方の面側に前記剥離用テープを繰り出す繰出手段と、剥離用テープを接着シートに貼付する貼付手段と、剥離用テープと半導体ウエハとを相対移動させることで接着シートを剥離する移動手段と、剥離中に折り返される接着シートを半導体ウエハ側に押圧可能な押え手段とを備え、
前記押え手段は、接着シートの折り返し縁上に位置可能に設けられるとともに、前記半導体ウエハに対して離間接近することで、前記接着シートの弾性復元力によって前記半導体ウエハが押圧される押圧力を剥離部位に応じて調整し、当該半導体ウエハの凹部が割れることを防止可能な押圧力制御手段を備える、という構成を採っている
。
To achieve the above object, the present invention provides a sheet peeling apparatus for peeling an adhesive sheet attached to one surface of a semiconductor wafer from the semiconductor wafer via a peeling tape.
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and a concave portion formed inside the convex portion on the other surface,
A table for supporting the semiconductor wafer from the other surface side in a state where a space is formed inside the convex portion by the concave portion, a feeding means for feeding the peeling tape to the one surface side, and a peeling tape. A sticking means for sticking to the adhesive sheet, a moving means for peeling the adhesive sheet by relatively moving the peeling tape and the semiconductor wafer, and a pressing means capable of pressing the adhesive sheet folded back during the peeling to the semiconductor wafer side. Prepared,
The pressing means is provided so as to be positioned on the folded edge of the adhesive sheet, and by separating and approaching the semiconductor wafer, the pressing force that presses the semiconductor wafer by the elastic restoring force of the adhesive sheet is peeled off. A configuration is adopted in which a pressing force control means is provided which can be adjusted according to the part and can prevent the concave portion of the semiconductor wafer from cracking .
更に、本発明の剥離方法は、半導体ウエハの一方の面に貼付された接着シートを剥離用テープを介して当該半導体ウエハから剥離するシート剥離方法において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部と、当該凸部の内側に形成される凹部を他方の面に備え、
前記凹部によって前記凸部の内側に空間が形成される状態で前記半導体ウエハを他方の面側から支持する工程と、
前記一方の面側に剥離用テープを繰り出す工程と、
前記剥離用テープを接着シートに貼付する工程と、
前記剥離用テープと被着体とを相対移動させることで折り返される接着シートの折り返し縁を押え手段で半導体ウエハ側に押圧する工程と、
前記押え手段を前記半導体ウエハに対して離間接近させることで、接着シートの弾性復元力によって前記半導体ウエハが押圧される押圧力を剥離部位に応じて調整し、当該半導体ウエハの凹部が割れることを防止しながら接着シートを半導体ウエハから剥離する工程とを備える、という方法を採っている。
Furthermore, the peeling method of the present invention is a sheet peeling method for peeling an adhesive sheet affixed to one surface of a semiconductor wafer from the semiconductor wafer via a peeling tape.
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and a concave portion formed inside the convex portion on the other surface,
Supporting the semiconductor wafer from the other surface side in a state where a space is formed inside the convex portion by the concave portion;
A step of feeding a peeling tape to the one surface side ;
Attaching the release tape to the adhesive sheet;
Pressing the folded edge of the adhesive sheet folded by moving the peeling tape and the adherend relative to the semiconductor wafer side with a pressing means ;
By adjusting the pressing means to be separated from and approaching the semiconductor wafer, the pressing force by which the semiconductor wafer is pressed by the elastic restoring force of the adhesive sheet is adjusted according to the peeling site, and the recess of the semiconductor wafer is broken. And a step of peeling the adhesive sheet from the semiconductor wafer while preventing it.
本発明によれば、押圧力制御手段が折り返される接着シートの弾性復元力によってウエハに付与される押圧力を剥離部位に応じて制御可能なので、ウエハにおける凸部の間隔が広い領域になっても、従来のように、ウエハの凹部底が撓むように変形して、ウエハが損傷することを防止することが可能となる。 According to the present invention, the pressing force applied to the wafer by the elastic restoring force of the adhesive sheet that is folded back by the pressing force control means can be controlled according to the peeled portion, so that even if the interval between the convex portions on the wafer becomes a wide region. As in the prior art, it is possible to prevent the wafer from being damaged by being deformed so that the concave bottom of the wafer is bent.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1〜図3において、シート剥離装置10は、一方の面(図1中上面)に接着シートSが貼付された半導体ウエハWを支持するテーブル11と、接着シートSを剥離するための帯状の剥離用テープPTを繰り出す繰出手段12と、剥離用テープPTを所定長さ毎に切断する切断手段13と、剥離用テープPTのリード端側が接着シートSの外周から外側に突出する状態で剥離用テープPTを接着シートSに貼付する貼付手段14と、剥離用テープPTのリード端側を保持するチャックからなる保持手段15と、この保持手段15を図1中左右方向に移動させる移動手段を構成する図示しない単軸ロボットと、テーブル11を図1中左右方向に移動させる移動手段を構成する単軸ロボット16と、テーブル11の上方に設けられた押え手段18とを備えて構成されている。なお、剥離用テープPTは感熱接着性の接着テープを採用している。
1 to 3, the sheet peeling apparatus 10 includes a table 11 that supports a semiconductor wafer W having an adhesive sheet S attached to one surface (upper surface in FIG. 1), and a belt-like shape for peeling the adhesive sheet S. The feeding means 12 for feeding the peeling tape PT, the cutting means 13 for cutting the peeling tape PT every predetermined length, and the peeling tape PT with the lead end side protruding outward from the outer periphery of the adhesive sheet S An attaching means 14 for attaching the tape PT to the adhesive sheet S, a
前記ウエハWは、平面視円形であって、他方の面(図1中下面)側が研削されることで形成された平面視円形の凹部W1と、この凹部W1の外周に連なる凸部W2とを備えている。従って、凸部W2は、ウエハWの外縁側の厚みを、それ以外の領域すなわち凹部W1形成領域の厚みより大きくすることでウエハWの外縁に沿って円形に形成される。また、ウエハWは、凹部W1が形成された面側からマウント用シートMSを介してリングフレームRFと一体化されている。 The wafer W has a circular shape in plan view, and has a concave portion W1 having a circular shape in plan view formed by grinding the other surface (the lower surface in FIG. 1), and a convex portion W2 connected to the outer periphery of the concave portion W1. I have. Therefore, the convex portion W2 is formed in a circle along the outer edge of the wafer W by making the thickness of the outer edge side of the wafer W larger than the thickness of the other region, that is, the concave portion W1 formation region. Further, the wafer W is integrated with the ring frame RF from the surface side where the recess W1 is formed via the mounting sheet MS.
前記テーブル11の上面には、図示しない吸引口が設けられ、マウント用シートMSを介してウエハWを支持可能になっている。 A suction port (not shown) is provided on the upper surface of the table 11 so that the wafer W can be supported via the mounting sheet MS.
前記繰出手段12は、フレームFに支持されるとともに、剥離用テープPTを繰出可能に支持する支持ローラ21と、モータMの駆動によって剥離用テープPTに繰出力を付与する駆動ローラ22と、当該駆動ローラ22との間に剥離用テープPTを挟み込むピンチローラ23と、フレームFの下端部に位置するガイドローラ24と、上面に凹部を有し、軸25とコイルばね26とブッシュ27とを介して常時図1中左側に付勢されているテープ案内板28とを備えて構成されている。
The feeding means 12 is supported by the frame F and supports the peeling tape PT so that the peeling tape PT can be fed, a
前記切断手段13は、カッター刃30と、当該カッター刃30を上下方向に進退させるシリンダ31と、このシリンダ31を図1中紙面直交方向に移動可能に支持するシリンダ32とにより構成されている。
The cutting means 13 includes a
前記貼付手段14は、ヒートブロック35と、当該ヒートブロック35を上下方向に進退させるシリンダ36とにより構成され、ヒートブロック35の下端で剥離用テープPTを接着シートSの外周部に接着するようになっている。
The affixing means 14 includes a
前記押え手段18は、接着シートSの接着面に当接して転動可能な押圧ローラ42と、この押圧ローラ42を上下動可能に支持する押圧力制御手段としての直動モータ43とを備え、図示しない単軸ロボットを介して図1中左右方向に移動可能となっている。押え手段18は、直動モータ43を作動して押圧ローラ42を下降させることにより、剥離中に折り返される接着シートSをウエハW側すなわち図1中下方に押圧可能となる。また、直動モータ43は、接着シートSの剥離中、剥離の進行に応じて押圧ローラ42を上下動させることで、接着シートSの弾性復元力によってウエハWが押圧される押圧力を制御する機能を備えている。具体的には、図2及び図3に示されるように、押圧ローラ42は、半円弧状をなす接着シートSの折り返し縁の最高位置SA上に位置して、剥離される接着シートSをウエハW側に付勢しながら、剥離部位に応じて、つまり、剥離の進行に応じて押圧ローラ42を上下動させる。また、直動モータ43は、押圧力を制御するための移動量を予め記憶する機能と、記憶された移動量に応じて押圧ローラ42を上下動させる機能とを備えている。なお、押圧ローラ42は、接着シートSの接着面に当接しても当該接着シートSが貼付されないように、フッ素樹脂やシリコーン樹脂がコーティングされている。
The pressing
次に、本実施形態におけるシート剥離装置10によるシート剥離方法について説明する。 Next, the sheet peeling method by the sheet peeling apparatus 10 in this embodiment is demonstrated.
初期設定によって、図1に示されるように、剥離用テープPTのリード端が、テープ案内板28の凹部上方に位置するようにセットされることとする。
By the initial setting, as shown in FIG. 1, the lead end of the peeling tape PT is set so as to be positioned above the concave portion of the
一方の面に接着シートSが貼付され、他方の面側からマウント用シートMSを介してリングフレームRFと一体化されたウエハWが、図示しない移載装置によってテーブル11の上面所定位置に載置されると、保持手段15が図1中右側に移動し、テープ案内板28を右側に移動させて剥離用テープPTのリード端側を挟み込んだ後、左側に移動して剥離用テープPTを引き出す。
An adhesive sheet S is attached to one surface, and a wafer W integrated with the ring frame RF via the mounting sheet MS from the other surface is placed at a predetermined position on the upper surface of the table 11 by a transfer device (not shown). Then, the holding means 15 moves to the right side in FIG. 1, moves the
次いで、ヒートブロック35が下降して剥離用テープPTを接着シートSの外周部分に押し付けて貼付する。その後、シリンダ31、32を介して、カッター刃30が下降して図1中紙面直交方向に移動することで、剥離用テープPTがテープ案内板28の凹部上方で切断される。
Next, the
次いで、図2に示されるように、保持手段15が図示しない単軸ロボットによって図中右方向に移動されるとともに、押圧ローラ42も図中右方向に移動されて接着シートSの折り返し縁(最高位置SA)上に位置するように制御される。その後、単軸ロボット16と、保持手段15を移動させる図示しない単軸ロボットとを同速で反対方向(図2中矢印方向)に作動させ、接着シートSに貼付された剥離用テープPTと、ウエハWとを左右方向に相対移動させることで、接着シートSが折り返されてウエハWから剥離される。このとき、図2及び図3に示されるように、押圧ローラ42は、剥離される接着シートSの最高位置SA上に位置して接着シートSに押圧力を付与する。これにより、ウエハWを下方に押付ながら接着シートSを剥離することができ、ウエハWが浮き上がって割れてしまうことを防止できる。そして、剥離用テープPTとウエハWとを更に相対移動させ、接着シートSをウエハWから完全に剥離する。なお、図2及び図3では、テーブル11を基準としているため、押え手段18が図中右方向へ移動しているように描かれているが、実際には、テーブル11と保持手段15とが同速で反対方向に移動しているため、押え手段18は、左右方向へ移動はしていない。
Next, as shown in FIG. 2, the holding means 15 is moved rightward in the figure by a single-axis robot (not shown), and the
ここで、ウエハWは、外縁に沿って形成された凸部W2だけで支えられているため、剥離が進行するに連れて凸部W2の間隔が徐々に広くなる(ウエハWの中心を過ぎると徐々に狭くなる)。このようなウエハWに対して、押圧ローラ42のウエハWからの距離を一定にしておくと、ウエハWは、従来例で示したように接着シートSの弾性復元力によって、その押圧力に耐え切れなくなって割れてしまう。そこで、直動モータ43が予め記憶された移動量(剥離部位)に応じて押圧ローラ42を上下動させる。つまり、押圧ローラ42は、剥離初期段階からウエハWの中心に至るまでは、直動モータ43によって、徐々にウエハWから遠ざかるように上方へ移動され、ウエハWの中心から剥離終期段階に至るまでは、徐々にウエハWに近付くように下方へ移動される。これにより、接着シートSの弾性復元力によってウエハWに押圧力が付与されても、当該ウエハWが割れることなく接着シートSを剥離することができる。
Here, since the wafer W is supported only by the protrusions W2 formed along the outer edge, the interval between the protrusions W2 gradually increases as the separation progresses (after passing the center of the wafer W). Gradually narrowing). When the distance of the
従って、このような実施形態によれば、接着シートSの剥離中、押圧ローラ42が接着シートSの最高位置SAに位置し、当該接着シートSをウエハW側に押え付けながら剥離することで、ウエハWが剥離される接着シートSに引っ張られて上方に持ち上げられて割れるようなことはなくなる。しかも、直動モータ43により押圧ローラ42が剥離部位に応じて上下動することで、凸部W2の間隔が広くなった位置で、接着シートSの弾性復元力によってウエハWが押圧されて割れることもなくなる。
Therefore, according to such an embodiment, during peeling of the adhesive sheet S, the pressing
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
As described above, the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
In other words, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention, the shape, position, or With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.
Therefore, the description limited to the shape disclosed above is an example for easy understanding of the present invention, and does not limit the present invention. The description by the name of the member which remove | excluded one part or all part is included in this invention.
例えば、前記実施形態と同様の機能、作用を有する限りにおいて、単軸ロボット16やシリンダ31、32、36、直動モータ43は、他の単軸ロボット、直動モータ、エアシリンダ、油圧シリンダ等の駆動手段に代えてもよい。
For example, as long as it has the same functions and operations as those of the above-described embodiment, the single-
更に、移動手段による接着シートS剥離時の剥離用テープPTとウエハWと相対移動は、テーブル11及び保持手段15の少なくとも一方を移動させることにより行えばよい。
また、押え手段18を図1中左右に移動することなく、押圧ローラ42の下方に接着シートSの前記最高位置SAが位置するよう移動手段を作動させてもよい。
更に、直動モータ43が予め記憶した移動量に応じて押圧ローラ42を上下動させて押圧力を制御する以外に、直動モータ43にトルク検知可能なものを採用することで、折り返し縁の幅が大きくなるに連れてその弾性復元力が大きくなるのを検知して、その押圧力が所定値になるように制御してもよい。
更に、剥離用テープPTは感圧接着性の接着テープであってもよい。
また、半導体ウエハは、シリコンウエハや化合物ウエハであってもよい。
更に、繰出手段12や貼付手段14は、前記実施形態で示したもの以外のもので構成してもよく、繰出手段12は剥離用テープPTを繰り出せる限りにおいて、貼付手段14は、接着シートSに剥離用テープPTが貼付できる限りにおいて何ら限定されるものではない。
Further, the relative movement between the peeling tape PT and the wafer W at the time of peeling the adhesive sheet S by the moving means may be performed by moving at least one of the table 11 and the holding means 15.
Further, the moving means may be operated so that the highest position SA of the adhesive sheet S is positioned below the pressing
Further, in addition to controlling the pressing force by moving the
Further, the peeling tape PT may be a pressure sensitive adhesive tape.
The semiconductor wafer may be a silicon wafer or a compound wafer.
Further, the feeding means 12 and the sticking means 14 may be configured by other than those shown in the above embodiment, and the sticking means 14 is attached to the adhesive sheet S as long as the feeding means 12 can feed the peeling tape PT. It is not limited at all as long as the peeling tape PT can be attached.
10 シート剥離装置
12 繰出手段
14 貼付手段
16 単軸ロボット(移動手段)
18 押え手段
43 直動モータ(押圧力制御手段)
PT 剥離用テープ
S 接着シート
W 半導体ウエハ
W1 凸部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Sheet peeling apparatus 12 Feeding means 14 Sticking means 16 Single axis robot (moving means)
18 Pressing means 43 Linear motion motor (Pressing force control means)
PT peeling tape S adhesive sheet W semiconductor wafer W1 convex part
Claims (2)
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部と、当該凸部の内側に形成される凹部を他方の面に備え、
前記凹部によって前記凸部の内側に空間が形成される状態で前記半導体ウエハを他方の面側から支持するテーブルと、前記一方の面側に前記剥離用テープを繰り出す繰出手段と、剥離用テープを接着シートに貼付する貼付手段と、剥離用テープと半導体ウエハとを相対移動させることで接着シートを剥離する移動手段と、剥離中に折り返される接着シートを半導体ウエハ側に押圧可能な押え手段とを備え、
前記押え手段は、接着シートの折り返し縁上に位置可能に設けられるとともに、前記半導体ウエハに対して離間接近することで、前記接着シートの弾性復元力によって前記半導体ウエハが押圧される押圧力を剥離部位に応じて調整し、当該半導体ウエハの凹部が割れることを防止可能な押圧力制御手段を備えていることを特徴とするシート剥離装置。 In a sheet peeling apparatus for peeling an adhesive sheet attached to one surface of a semiconductor wafer from the semiconductor wafer via a peeling tape,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and a concave portion formed inside the convex portion on the other surface,
A table for supporting the semiconductor wafer from the other surface side in a state where a space is formed inside the convex portion by the concave portion, a feeding means for feeding the peeling tape to the one surface side, and a peeling tape. A sticking means for sticking to the adhesive sheet, a moving means for peeling the adhesive sheet by relatively moving the peeling tape and the semiconductor wafer, and a pressing means capable of pressing the adhesive sheet folded back during the peeling to the semiconductor wafer side. Prepared,
The pressing means is provided so as to be positioned on the folded edge of the adhesive sheet, and by separating and approaching the semiconductor wafer, the pressing force that presses the semiconductor wafer by the elastic restoring force of the adhesive sheet is peeled off. A sheet peeling apparatus comprising a pressing force control means that can be adjusted according to a part and can prevent the concave portion of the semiconductor wafer from cracking .
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部と、当該凸部の内側に形成される凹部を他方の面に備え、
前記凹部によって前記凸部の内側に空間が形成される状態で前記半導体ウエハを他方の面側から支持する工程と、
前記一方の面側に剥離用テープを繰り出す工程と、
前記剥離用テープを接着シートに貼付する工程と、
前記剥離用テープと被着体とを相対移動させることで折り返される接着シートの折り返し縁を押え手段で半導体ウエハ側に押圧する工程と、
前記押え手段を前記半導体ウエハに対して離間接近させることで、接着シートの弾性復元力によって前記半導体ウエハが押圧される押圧力を剥離部位に応じて調整し、当該半導体ウエハの凹部が割れることを防止しながら接着シートを半導体ウエハから剥離する工程とを備えていることを特徴とするシート剥離方法。 In the sheet peeling method of peeling the adhesive sheet affixed to one surface of the semiconductor wafer from the semiconductor wafer via the peeling tape,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and a concave portion formed inside the convex portion on the other surface,
Supporting the semiconductor wafer from the other surface side in a state where a space is formed inside the convex portion by the concave portion;
A step of feeding a peeling tape to the one surface side ;
Attaching the release tape to the adhesive sheet;
Pressing the folded edge of the adhesive sheet folded by moving the peeling tape and the adherend relative to the semiconductor wafer side with a pressing means ;
By adjusting the pressing means to be separated from and approaching the semiconductor wafer, the pressing force by which the semiconductor wafer is pressed by the elastic restoring force of the adhesive sheet is adjusted according to the peeling site, and the recess of the semiconductor wafer is broken. And a step of peeling the adhesive sheet from the semiconductor wafer while preventing it.
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