JP5235628B2 - 基板設計プログラム及び基板設計装置 - Google Patents
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- 238000013461 design Methods 0.000 title claims description 65
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 201
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 118
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 97
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 28
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 26
- 238000013075 data extraction Methods 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 356
- 230000006870 function Effects 0.000 description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 description 77
- 230000008569 process Effects 0.000 description 74
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 48
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 8
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 5
- ZJXLSCXDGPDZOL-UHFFFAOYSA-M sodium;2-[5-(4-chlorobenzoyl)-1,4-dimethylpyrrol-2-yl]acetate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].C1=C(CC([O-])=O)N(C)C(C(=O)C=2C=CC(Cl)=CC=2)=C1C ZJXLSCXDGPDZOL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
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Description
図1は、本実施形態に係る基板設計装置の要部構成を示すブロック図である。図1に示す通り、本実施形態に係る基板設計装置1は、設計装置本体11、入力装置12及び表示装置13を備えており、ユーザによる入力装置12を介した指示に応じて設計装置本体11がプリント基板の設計を行い、その結果を表示装置13に適宜表示するものである。
なお、このようなパターン修正部31によって実行されるパターン修正処理の詳細については後述する。
なお、このような配線ルール作成部33によって実行される配線ルール作成処理の詳細については後述する。
図2及び図3は、パターン修正部31によるパターン修正処理を表すフローチャートである。まず、図2に示すように、入力装置12を介してユーザによって差動インピーダンスの目標範囲(例えば90〜120Ω)が入力され(ステップS1)、さらに入力装置12を介してユーザによって修正領域が入力される(ステップS2)と、差動ペアデータ抽出部31aは、ユーザによって指定された修正領域に含まれる各組の差動ペア線路に関するパターンデータPDを差動ペアデータDPDとして抽出する(ステップS3)。
つまり、図5(a)の例では、ペア区間PS2、PS4、PS6が、パターン間隔が一定ではないペア区間として判断される。
上記のステップS12またはステップS13の終了後、ペア区間修正部31dは、図3に示すステップS18の処理に移行する。
次に、エラーチェック部32によるエラーチェック処理について説明する。図9は、エラーチェック部32によるエラーチェック処理を表すフローチャートである。まず、図9に示すように、入力装置12を介してユーザによって差動インピーダンスの目標範囲(例えば90〜120Ω)が入力され(ステップS31)、さらに入力装置12を介してユーザによって検査領域が入力される(ステップS32)と、差動ペアデータ抽出部32aは、ユーザによって指定された検査領域に含まれる各組の差動ペア線路に関するパターンデータPDを差動ペアデータDPDとして抽出する(ステップS33)。このステップS33の処理は、パターン修正処理のステップS3の処理と同様であるので説明を省略する。
次に、配線ルール作成部33による配線ルール作成処理について説明する。図10は、配線ルール作成部33による配線ルール作成処理を表すフローチャートである。まず、図10に示すように、入力装置12を介してユーザによって差動インピーダンスの目標範囲(例えば90〜120Ω)と、差動ペア線路の配線パターン層(具体的には差動ペア線路を形成したい層の番号)と、差動ペア線路の最小パターン間隔とが入力されると(ステップS51)、上下層候補決定部33aは、ハードディスク23に格納されている基板データBDを基に、指定された配線パターン層の上下に存在する層の内、配線パターン層に対して指定された最小パターン間隔より離れ、且つ最も近い層を配線パターン層の上下のベタパターン層の候補層として決定する(ステップS52)。
パターン幅候補算出部33bは、このように算出されたパターン幅Wの最小値Wmin〜最大値Wmaxをパターン幅の候補範囲とする。
次に、上述した基板設計装置1の変形例について説明する。上記実施形態における基板設計装置1は、ユーザによって指定された差動インピーダンスの目標範囲を基にパターン修正処理及びエラーチェック処理を行う場合を説明したが、配線ルールRD自体、元々差動インピーダンスが目標範囲に収まるように設定されたものであるので、配線ルールRDに基づいてパターン修正処理及びエラーチェック処理を行うことも可能である。本変形例では、配線ルールRDに基づいてパターン修正処理及びエラーチェック処理を行うことが可能な基板設計装置2について説明する。
図13及び図14は、パターン修正部51によるパターン修正処理を表すフローチャートである。まず、図13に示すように、入力装置12を介してユーザによって配線ルールRD(図11に示すように、差動ペア線路の配線パターン層と、パターン幅と、最小パターン間隔と、最大パターン間隔と、上下のベタパターン層とが対応付けられたデータ)が入力され(ステップS61)、さらに入力装置12を介してユーザによって修正領域が入力される(ステップS62)と、差動ペアデータ抽出部51aは、ユーザによって指定された修正領域に含まれる各組の差動ペア線路に関するパターンデータPDを差動ペアデータDPDとして抽出する(ステップS63)。
次に、エラーチェック部52によるエラーチェック処理について説明する。図16は、エラーチェック部52によるエラーチェック処理を表すフローチャートである。まず、図16に示すように、入力装置12を介してユーザによって配線ルールRDが入力され(ステップS91)、さらに入力装置12を介してユーザによって検査領域が入力される(ステップS92)と、差動ペアデータ抽出部52aは、ユーザによって指定された検査領域に含まれる各組の差動ペア線路に関するパターンデータPDを差動ペアデータDPDとして抽出する(ステップS93)。
Claims (6)
- プリント基板の設計情報である基板データを用いて差動ペア線路の配線パターンを含むプリント基板のパターン設計を行う際に使用される基板設計プログラムであって、
前記パターン設計の結果を示すパターンデータ及び前記基板データに基づいて、前記差動ペア線路の差動インピーダンスが目標範囲に収まるように、前記プリント基板における前記差動ペア線路の配線パターン層を他の層に変更するか、若しくはベタパターンの大きさを修正するかの少なくとも一方を実施するパターン修正機能をコンピュータに実現させることを特徴とする基板設計プログラム。 - 前記パターン修正機能では、ユーザによって指定された差動インピーダンスの目標範囲に収まるように、前記差動ペア線路の配線パターン層の変更、若しくは前記ベタパターンの大きさの修正の少なくとも一方を実施することを特徴とする請求項1記載の基板設計プログラム。
- 前記パターン修正機能は、
ユーザによって指定された修正領域に含まれる各組の差動ペア線路に関するパターンデータを差動ペアデータとして抽出する差動ペアデータ抽出機能と、
前記差動ペアデータを基に各組の差動ペア線路について、差動ペア線路を構成する1対のペア線路に沿って配線パターン層、パターン幅、パターン間隔及び隣接層のベタパターンの有無の少なくとも1つが変化する点を探索し、当該探索された点によって区分された区間をペア区間として抽出するペア区間抽出機能と、
前記ペア区間抽出機能にて抽出した各ペア区間について差動インピーダンスが影響を受ける距離に存在するベタパターンを抽出するベタパターン抽出機能と、
前記各ペア区間について、前記ベタパターン抽出機能にて抽出したベタパターンの内、差動ペア線路の配線パターン層と同層に存在するベタパターンの大きさを差動インピーダンスが影響を受けない大きさに修正すると共に、差動ペア線路の配線パターン層と隣接層のベタパターンとの間に存在する絶縁層の厚さに応じて配線パターン層の変更、若しくは前記隣接層のベタパターンの大きさの修正の少なくとも一方を実施するペア区間修正機能と、
を含むことを特徴とする請求項2記載の基板設計プログラム。 - 前記パターン修正機能では、前記差動インピーダンスが目標範囲に収まるように設定された差動ペア線路の配線ルールに基づいて、前記差動ペア線路の配線パターン層の変更、若しくは前記ベタパターンの大きさの修正の少なくとも一方を実施することを特徴とする請求項1記載の基板設計プログラム。
- 前記パターン修正機能は、
ユーザによって指定された修正領域に含まれる各組の差動ペア線路に関するパターンデータを差動ペアデータとして抽出する差動ペアデータ抽出機能と、
前記差動ペアデータを基に各組の差動ペア線路について、差動ペア線路を構成する1対のペア線路に沿って配線パターン層、パターン幅、パターン間隔及び隣接層のベタパターンの有無の少なくとも1つが変化する点を探索し、当該探索された隣り合う点によって区分された区間をペア区間として抽出するペア区間抽出機能と、
前記ペア区間抽出機能にて抽出した各ペア区間について配線パターンと平面的に重なるベタパターンが存在する層を抽出するベタ層抽出機能と、
前記各ペア区間について、前記配線ルールの中から、前記ベタ層抽出機能にて抽出した層が配線パターン層の上下のベタパターン層として設定された配線ルールを抽出するルール抽出機能と、
前記各ペア区間について、前記ルール抽出機能にて抽出した配線ルールに基づいて、前記差動ペア線路の配線パターン層の変更、若しくは前記ベタパターンの大きさの修正の少なくとも一方を実施するペア区間修正機能と、
を含むことを特徴とする請求項4記載の基板設計プログラム。 - プリント基板の設計情報である基板データを用いて差動ペア線路の配線パターンを含むプリント基板のパターン設計を行う基板設計装置であって、
請求項1〜5のいずれかに記載の基板設計プログラムを予め記憶する記憶部と、
前記記憶部から読み出した前記基板設計プログラムに従って、前記プリント基板のパターン修正を実行する演算処理部と、
を備えることを特徴とする基板設計装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008301322A JP5235628B2 (ja) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 基板設計プログラム及び基板設計装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008301322A JP5235628B2 (ja) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 基板設計プログラム及び基板設計装置 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013019920A Division JP5420777B2 (ja) | 2013-02-04 | 2013-02-04 | 基板設計プログラム及び基板設計装置 |
JP2013019919A Division JP5451915B2 (ja) | 2013-02-04 | 2013-02-04 | 基板設計プログラム及び基板設計装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010128700A JP2010128700A (ja) | 2010-06-10 |
JP5235628B2 true JP5235628B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=42329060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008301322A Active JP5235628B2 (ja) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 基板設計プログラム及び基板設計装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5235628B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11728283B2 (en) | 2020-08-10 | 2023-08-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Package substrate and semiconductor package including the same |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5286600B2 (ja) | 2010-08-30 | 2013-09-11 | 株式会社フジクラ | 差動信号伝送回路及びその製造方法 |
JP5707913B2 (ja) * | 2010-12-09 | 2015-04-30 | ソニー株式会社 | 送信装置および受信装置 |
JP6019657B2 (ja) * | 2012-03-26 | 2016-11-02 | 富士通株式会社 | 設計支援プログラム、設計支援方法、設計支援装置および製造方法 |
KR101880714B1 (ko) * | 2014-01-28 | 2018-07-20 | 가부시기가이샤즈겐 | 설계 지원 장치, 설계 지원 방법, 프로그램 및 메모리 매체 |
KR102133500B1 (ko) * | 2018-10-05 | 2020-07-13 | 국방과학연구소 | 회로 기판의 설계 방법 및 이를 수행하는 컴퓨터 프로그램을 기록한 컴퓨터로 판독 가능한 기록 매체 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004206325A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Toshiba Corp | 基板設計方法及び基板設計支援装置 |
JP2005032154A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Sony Chem Corp | プリント配線基板製造方法及びプリント配線基板、並びに特性インピーダンス算出装置、特性インピーダンス算出方法、及び特性インピーダンス算出プログラム |
JP2006018379A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Toshiba Corp | 情報処理装置および情報表示方法 |
-
2008
- 2008-11-26 JP JP2008301322A patent/JP5235628B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11728283B2 (en) | 2020-08-10 | 2023-08-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Package substrate and semiconductor package including the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010128700A (ja) | 2010-06-10 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
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