JP5264109B2 - 粉砕機及びトナーの製造方法 - Google Patents
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Description
(1)該回転子314及び固定子310の粉砕面の凸部頂点と凹部底面を直線で結んだ長さを、粉体投入口側311、中央部、粉体排出口側302で異ならせ、
(2)該回転子314及び固定子310の粉砕面の凸部頂点と凹部底面を直線で結んだ長さにおいて、粉体投入口側311及び粉体排出口側302より、中央部を長く取ることにより
高円形度のトナー粒子を、効率良く、安定的に、トナー生産性良く得られることを知見して本発明に至った。
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該回転子の凸部の頂点Raと凹部の底面Rbを直線で結んだ長さをRcとし、
該回転子の粉体投入口側のRcをARc、中央部のRcをBRc、粉体排出口側のRcをCRcとした場合、
該Rcが、BRc>ARc、及びBRc>CRcの関係にあり、
該ARc及びCRcと、該BRcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Mを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Mに、該冷媒流路Lから冷媒を別々に導入することを特徴とする粉砕機に関する。
また本発明は、被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、該固定子の表面と該回転子の表面とが所定の間隙を有して対向するように、該回転子の円周方向に該固定子が配置されることで粉砕ゾーンが形成され、該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転によって被粉砕物を粉砕する粉砕機において、
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該回転子の凸部の頂点Raと凹部の底面Rbを直線で結んだ長さをRcとし、
該回転子の粉体投入口側のRcをARc、中央部のRcをBRc、粉体排出口側のRcをCRcとした場合、
該Rcが、BRc>ARc、及びBRc>CRcの関係にあり、
該ARc及びCRcと、該BRcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Oを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Oから、冷媒流路Pに冷媒を別々に戻すことを特徴とする粉砕機に関する。
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該固定子の凸部頂点Laと凹部底面Lbを直線で結んだ長さをLcとし、
該固定子の粉体投入口側のLcをALc、中央部のLcをBLc、粉体排出口側のLcをCLcとした場合、
該Lcが、BLc>ALc、及びBLc>CLcの関係にあり、
該ALc及びCLcと、該BLcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Mを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Mに、該冷媒流路Lから冷媒を別々に導入することを特徴とする粉砕機に関する。
また本発明は、被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、該固定子の表面と該回転子の表面とが所定の間隙を有して対向するように、該回転子の円周方向に該固定子が配置されることで粉砕ゾーンが形成され、該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転によって被粉砕物を粉砕する粉砕機において、
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該固定子の凸部頂点Laと凹部底面Lbを直線で結んだ長さをLcとし、
該固定子の粉体投入口側のLcをALc、中央部のLcをBLc、粉体排出口側のLcをCLcとした場合、
該Lcが、BLc>ALc、及びBLc>CLcの関係にあり、
該ALc及びCLcと、該BLcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Oを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Oから、冷媒流路Pに冷媒を別々に戻すことを特徴とする粉砕機に関する。
該粉砕手段が上記構成の粉砕機であることを特徴とするトナーの製造方法に関する。
(1)該粉砕機内においてトナー粒子が滞留する時間が、複数回通しているため、トータルで長い。
(2)固定子に内包された回転子が高速回転する際に発生するエネルギーを、粉砕に使用するのではなく、表面改質に使用している。
該回転子314の粉体投入口側311のRcをARc、中央部のRcをBRc、粉体排出口側302のRcをCRcとした場合、
該Rcが、BRc>ARc、及びBRc>CRcの関係にあり、
該ARc及びCRcと、該BRcの差が、50μm以上300μm以下であることを特徴とする。
該固定子310の粉体投入口側311のLcをALc、中央部のLcをBLc、粉体排出口側302のLcをCLcとした場合、
該Lcが、BLc>ALc、及びBLc>CLcの関係にあり、
該ALc及びCLcと、該BLcの差が、50μm以上300μm以下であることを特徴とする。
該ARczは、該αの後方に、1/10RL以上1/4RL以下の範囲にあり、
該BRczは、該βを中心点として、前後1/4RL以上4/5RL以下の範囲にあり、
該CRczは、該γの前方に、1/4RL以上1/10RL以下の範囲にあることを特徴とする。
該ALczは、該αの後方に、1/10LL以上1/4LL以下の範囲にあり、
該BLczは、該βを中心点として、前後1/4LL以上4/5LL以下の範囲にあり、
該CLczは、該γの前方に、1/4lL以上1/10lL以下の範囲にあることを特徴とする。
該回転子314の粉体投入口側311のコーティング厚をARK、中央部のコーティング厚をBRK、粉体排出口側302のコーティング厚をCRKとした場合、
該回転子のコーティング厚が、BRK>ARK、或いはBRK>CRKの関係にあり、
該ARK及びCRKと、該BRKの差が、50μm以上300μm以下であることを特徴とする。
該固定子の粉体投入口側311のコーティング厚をALK、中央部のコーティング厚をBLK、粉体排出口側302のコーティング厚をCLKとした場合、
該固定子のコーティング厚が、BLK>ALK、或いはBLK>CLKの関係にあり、
該ALK及びCLKと、該BLKの差が、50μm以上300μm以下であることを特徴とする。
該ARKzは、該αの後方に、1/10RL以上1/4RL以下の範囲にあり、
該BRKzは、該βを中心点として、前後1/4RL以上4/5RL以下の範囲にあり、
該CRKzは、該γの前方に、1/4RL以上1/10RL以下の範囲にあることが好ましい。
該ALKzは、該αの後方に、1/10RL以上1/4RL以下の範囲にあり、
該BLKzは、該βを中心点として、前後1/4RL以上4/5RL以下の範囲にあり、
該CLKzは、該γの前方に、1/4RL以上1/10RL以下の範囲にあることが好ましい。
回転子314の表面積をG、
該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
回転子314の中心点pから回転子314の凹部底面rまでを直線で結んだ長さIpr、
回転子314の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さIpq、
とした場合、以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設けたことを特徴とする。
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
該回転子において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
該回転子314外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
該回転子外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
であることを特徴とする。
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク322内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク322外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク322外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有することを特徴とする。
回転子314の表面積をG、
該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
回転子314の中心点pから回転子314の凹部底面rまでを直線で結んだ長さIpr、
回転子314の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さIpq、
とした場合、以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設けることにより、該回転子314の高速回転に伴う、振動値を低減でき、高い冷却効率を得ることができる。
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
該回転子において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
該回転子外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
該回転子外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を具備していることが好ましい。
該冷媒流路は、粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を具備していることが好ましい。
該粉砕手段を、図1に示す粉砕機とし、
該回転子の凸部頂点Raと凹部底面Rbを直線で結んだ長さをRcとし、
該回転子の粉体投入口側のRcをARc、中央部のRcをBRc、粉体排出口側のRcをCRcとした場合、
該Rcが、BRc>ARc、及びBRc>CRcの関係にあり、
該ARc及びCRcと、該BRcの差が、50μm以上300μm以下である粉砕機で粉砕することを特徴とする。
該ARczは、該αの後方に、1/10RL以上1/4RL以下の範囲にあり、
該BRczは、該βを中心点として、前後1/4RL以上4/5RL以下の範囲にあり、
該CRczは、該γの前方に、1/4RL以上1/10RL以下の範囲にある粉砕機で粉砕することを特徴とする。
該回転子の粉体投入口側のコーティング厚をARK、中央部のコーティング厚をBRK、粉体排出口側のコーティング厚をCRKとした場合、
該回転子のコーティング厚が、BRK>ARK、或いはBRK>CRKの関係にあり、
該ARK及びCRKと、該BRKの差が、50μm以上300μm以下である粉砕することを特徴とする。
該ARKzは、該αの後方に、1/10RL以上1/4RL以下の範囲にあり、
該BRKzは、該βを中心点として、前後1/4RL以上4/5RL以下の範囲にあり、
該CRKzは、該γの前方に、1/4RL以上1/10RL以下の範囲にある粉砕機で粉砕することを特徴とする。
該粉砕手段を、図1に示す粉砕機とし、
該固定子の凸部頂点Laと凹部底面Lbを直線で結んだ長さをLcとし、
該固定子の粉体投入口側のLcをALc、中央部のLcをBLc、粉体排出口側のLcをCLcとした場合、
該Lcが、BLc>ALc、及びBLc>CLcの関係にあり、
該ALc及びCLcと、該BLcの差が、50μm以上300μm以下である粉砕機で粉砕することを特徴とする。
該固定子の粉体投入口側のコーティング厚をALK、中央部のコーティング厚をBLK、粉体排出口側のコーティング厚をCLKとした場合、
該固定子のコーティング厚が、BLK>ALK、或いはBLK>CLKの関係にあり、
該ALK及びCLKと、該BLKの差が、50μm以上300μm以下の範囲にある粉砕機で粉砕することを特徴とする。
該ALKzは、該αの後方に、1/10RL以上1/4RL以下の範囲にあり、
該BLKzは、該βを中心点として、前後1/4RL以上4/5RL以下の範囲にあり、
該CLKzは、該γの前方に、1/4RL以上1/10RL以下の範囲にある粉砕機で粉砕することを特徴とする。
該粉砕手段を、図1に示す粉砕機とし、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子314の表面積をG、
該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子314の中心点pから回転子314の凹部底面rまでを直線で結んだ長さIpr、
該回転子314の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さIpq、
とした場合、以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設けたことを特徴とする。
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路Pを有することを特徴とする。
粒度分布については、種々の方法によって測定できるが、本発明においてはコールターカウンターのマルチサイザーを用いて行った。
トナー粒子の平均円形度は、フロー式粒子像分析装置「FPIA−3000型」(シスメックス社製)によって、校正作業時の測定・解析条件で測定した。
示差熱分析測定装置(DSC測定装置),DSC−7(パーキンエルマー社製)を用い測定する。測定はASTM D3418−82に準じて行う。測定試料2乃至10mgを精秤してアルミパン中に入れ、リファレンスとして空のアルミパンを用い、測定温度範囲30〜200℃の間で、昇温速度10℃/minで常温常湿下で測定を行う。
示差走査熱量計(DSC測定装置),DSC−7(パーキンエルマー社製)を用いてASTM D3418−82に準じて測定する。
GPCによるクロマトグラムの分子量は次の条件で測定される。
結着樹脂の「酸価」は以下のように求められる。基本操作は、JIS−K0070に準ずる。
(a)溶剤エチルエーテル−エチルアルコール混液(1+1または2+1)またはベンゼン−エチルアルコール混液(1+1または2+1)で、これらの溶液は使用直前にフェノールフタレインを指示薬としてN/10水酸化カリウムエチルアルコール溶液で中和しておく。
(b)フェノールフタレイン溶液 フェノールフタレイン1gをエチルアルコール(95v/v%)100mlに溶かす。
(c)N/10水酸化カリウム−エチルアルコール溶液 水酸化カリウム7.0gをできるだけ少量の水に溶かしエチルアルコール(95v/v%)を加えて1リットルとし、2〜3日放置後ろ過する。標定はJIS K 8006(試薬の含量試験中滴定に関する基本事項)に準じて行う。
結着樹脂の「水酸基価」は以下のように求められる。基本操作は、JIS=K0070に準ずる。
(a)アセチル化試薬 無水酢酸25gをメスフラスコ100mlに入れ、ピリジンを加えて全量を100mlにし、十分に振りまぜる(場合によっては、ピリジンを追加しても良い)。アセチル化試薬は、湿気、炭酸ガスおよび酸の蒸気に触れないようにし、褐色びんに保存する。
(b)フェノールフタレイン溶液 フェノールフタレイン1gをエチルアルコール(95v/v%)100mlに溶かす。
(c)N/2水酸化カリウム−エチルアルコール溶液 水酸化カリウム35gをできるだけ少量の水に溶かし、エチルアルコール(95v/v%)を加えて1リットルとし、2〜3日間放置後ろ過する。標定はJIS K 8006によって行う。
試料0.5〜2.0gを丸底フラスコに正しくはかりとり、これにアセチル化試薬5mlを正しく加える。フラスコの口に小さな漏斗をかけ、95乃至100℃のグリセリン浴中に底部約1cmを浸して加熱する。このときフラスコの首が浴の熱をうけて温度が上がるのを防ぐために、中に丸い穴をあけた厚紙の円盤をフラスコの首の付根にかぶせる。
B:空試験のN/2水酸化カリウムエチルアルコール溶液の使用量(ml)
C:本試験のN/2水酸化カリウムエチルアルコール溶液の使用量(ml)
f:N/2水酸化カリウムエチルアルコール溶液のファクター
S:試料(g)
D:酸価 ]
(a)平均粒子径
走査型電子顕微鏡(30000倍)の写真を撮影し、フェレ径にて算出した。
(b)磁気特性
東英工業製振動試料型磁力計VSM−P7を使用して、外部磁場796kA/mにて測定した。
・ハイブリッド樹脂:100質量部
(スチレン、2−エチルヘキシルアクリレート、α−メチルスチレン、ポリオキシプロピレン(2.2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ポリオキシエチレン(2.2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、コハク酸、無水トリメリット酸、フマル酸からなるハイブリッド樹脂 重量平均分子量(Mw)81300、数平均分子量(Mn)3000、ピーク分子量(Mp)15400、Tg60℃)
・銅フタロシアニン顔料(C.I.ピグメンブルー15:3):4質量部
・パラフィンワックス(最大吸熱ピーク67℃):5質量部
・荷電制御剤(1,4−ジ−t−ブチルサリチル酸アルムニウム化合物):1質量部
上記の処方の材料を、ヘンシェルミキサーでよく混合した後、温度130℃に設定した2軸混練機にて混練した。得られた混練物を冷却し、粗粉砕機にて2mm以下に粗粉砕し、粗粉砕物を得た。
回転子314の外径(mm)=400
ディスク322の数=2
冷却孔Nの系統数=2
冷却孔Nの外径(mm)=10
回転子314内部に具備される冷却用冷媒流路によって形成される冷却面積H(mm2)/回転子314の表面積G(mm2)×100=81.8%
回転子の中心点pから回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さIpr(mm)−
回転子の中心点pから冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さIpq(mm)=18
ARc及びCRc:2.0mm未満
ARc及びCRcとBRcとの差:300μm
ARcz:αから後方に100mmの部分
BRcz:βを中心として前後100mmの部分
CRcz:γから前方に100mmの部分
得られた微粉砕品の平均円形度を、フロー式粒子像分析装置「FPIA−3000型」(シスメックス社製)を用いて測定した。評価基準は次の通りである。結果を表2に示す。
A:平均円形度0.945以上
B:平均円形度0.940以上0.945未満
C:平均円形度0.935以上0.940未満
D:平均円形度0.935未満
転写性は、4万枚耐久前後の画像を現像,転写し、感光体上の転写前のトナー量(単位面積あたり)と、転写材上のトナー量(単位面積あたり)をそれぞれ測定し、下式により求めた。評価基準は次の通りである。
転写率(%)=(転写材上のトナー量)/(感光体上の転写前のトナー量)×100
A:90%以上
B:88%以上、90%未満
C:86%以上、88%未満
D:85%以下
ドット再現性は、潜像電界によって電界が閉じ易く、再現しにくい小径(40μm)の孤立ドットパターンの画像をプリントアウトし、ドット100個に対するドット再現性を評価した。
A:非常に良好 100個中の欠損が2個以下
B:良好 100個中の欠損が3〜5個
C:実用可 100個中の欠損が6〜10個
D:実用不可 100個中の欠損が11個以上
本実施例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
ALc及びCLc:2.0mm未満
ALc及びCLcとBLcとの差:300μm
ALcz:αから後方に100mmの部分
BLcz:βを中心として前後100mmの部分
CLcz:γから前方に100mmの部分
本参考例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
本実施例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
ARk及びCRk:100μm
BRk:200μm
ARkz:αから後方に100mmの部分
BRkz:βを中心として前後100mmの部分
CRkz:γから前方に100mmの部分
本実施例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
ALk及びCLk:100μm
BLk:200μm
ALkz:αから後方に100mmの部分
BLkz:βを中心として前後100mmの部分
CLkz:γから前方に100mmの部分
本実施例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
αから後方50mm部分(=ARkz)に100μmコーティング(=ARk)
βを中心として前後50mm部分(=BRkz)に200μmコーティング(=BRk)
γから前方50mm部分(=CRkz)に100μmコーティング(=CRk)
その他の部分に150μmコーティング
本実施例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
αから後方50mm部分(=Alkz)に100μmコーティング(=ALk)
βを中心として前後50mm部分(=BLkz)に200μmコーティング(=BLk)
γから前方50mm部分(=CLkz)に100μmコーティング(=Clk)
その他の部分に150μmコーティング
本実施例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
αから後方50mm部分(=ARkz)に50μmコーティング(=ARk)
βを中心として前後50mm部分(=BRkz)に200μmコーティング(=BRk)
γから前方50mm部分(=CRkz)に50μmコーティング(=CRk)
αから後方50mmを超えた点から+50mmの部分に100μmコーティング
γから前方50mmを超えた点から−50mmの部分に100μmコーティング
その他の部分に150μmコーティング
本実施例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
αから後方50mm部分(=ALkz)に50μmコーティング(=ALk)
βを中心として前後50mm部分(=BLkz)に200μmコーティング(=BLk)
γから前方50mm部分(=CLkz)に50μmコーティング(=CLk)
αから後方50mmを超えた点から+50mmの部分に100μmコーティング
γから前方50mmを超えた点から−50mmの部分に100μmコーティング
その他の部分に150μmコーティング
本比較例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
ARk及びCRk:コーティングなし
BRk:30μm
BRkz:βを中心として前後100mmの部分
本比較例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
ARk及びCRk:コーティングなし
BRk:330μm
BRkz:βを中心として前後100mmの部分
本比較例においては、該回転子314の機器構成を実施例1と同様に設定した回転子を図1に示す機械式粉砕機301に組込み、粉砕を行った。その後、得られたトナー粒子を実施例1と同様に表面改質した。
ARk及びCRk:100μm
BRk:200μm
ARkz:αから後方に100mmの部分
BRkz:βを中心として前後100mmの部分
CRkz:γから前方に100mmの部分
31 冷却ジャケット
32 分散ローター
33 角型ディスク
34 ライナー
35 分級ローター
36 ガイドリング
37 原料投入口
38 原料供給弁
39 原料供給口
40 製品排出口
41 製品排出弁
42 製品抜取口
43 天板
44 微粉排出ケーシング
45 微粉排出口
46 冷風導入口
47 第一の空間
48 第二の空間
49 表面改質ゾーン
50 分級ゾーン
121 本体ケーシング
122 分級室
123 案内室
124 分級ローター
125 原料投入口
126 エアー投入口
128 周波数変換機
129 微粉排出管
130 微粉回収手段
131 吸引ファン
132 ホッパー
133 ローターリーバルブ
135 分散ルーバー
212 渦巻室
219 パイプ
220,359 デイストリビュータ
222,362 バグフィルター
224,364 吸引ブロワー
229,369 捕集サイクロン
240,380 ホッパー
301 機械式粉砕機
302 粉体排出口
310 固定子
311 粉体投入口
312 回転軸
313 ケーシング
314 回転子
315 定量供給機
316 ジャケット
317 冷却水供給口
318 冷却水排出口
319 冷風発生装置
320 後室
321 トナー粒子の輸送手段
322 コーティング層
Claims (7)
- 被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、該固定子の表面と該回転子の表面とが所定の間隙を有して対向するように、該回転子の円周方向に該固定子が配置されることで粉砕ゾーンが形成され、該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転によって被粉砕物を粉砕する粉砕機において、
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該回転子の凸部の頂点Raと凹部の底面Rbを直線で結んだ長さをRcとし、
該回転子の粉体投入口側のRcをARc、中央部のRcをBRc、粉体排出口側のRcをCRcとした場合、
該Rcが、BRc>ARc、及びBRc>CRcの関係にあり、
該ARc及びCRcと、該BRcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Mを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Mに、該冷媒流路Lから冷媒を別々に導入することを特徴とする粉砕機。 - 被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、該固定子の表面と該回転子の表面とが所定の間隙を有して対向するように、該回転子の円周方向に該固定子が配置されることで粉砕ゾーンが形成され、該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転によって被粉砕物を粉砕する粉砕機において、
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該回転子の凸部の頂点Raと凹部の底面Rbを直線で結んだ長さをRcとし、
該回転子の粉体投入口側のRcをARc、中央部のRcをBRc、粉体排出口側のRcをCRcとした場合、
該Rcが、BRc>ARc、及びBRc>CRcの関係にあり、
該ARc及びCRcと、該BRcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Oを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Oから、冷媒流路Pに冷媒を別々に戻すことを特徴とする粉砕機。 - 被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、該固定子の表面と該回転子の表面とが所定の間隙を有して対向するように、該回転子の円周方向に該固定子が配置されることで粉砕ゾーンが形成され、該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転によって被粉砕物を粉砕する粉砕機において、
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該固定子の凸部頂点Laと凹部底面Lbを直線で結んだ長さをLcとし、
該固定子の粉体投入口側のLcをALc、中央部のLcをBLc、粉体排出口側のLcをCLcとした場合、
該Lcが、BLc>ALc、及びBLc>CLcの関係にあり、
該ALc及びCLcと、該BLcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路Mを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Mに、該冷媒流路Lから冷媒を別々に導入することを特徴とする粉砕機。 - 被粉砕物を粉砕手段内に投入するための粉体投入口と、固定子と、中心回転軸に取り付けられた回転子と、粉砕された粉体を粉砕手段から排出するための粉体排出口とを少なくとも有し、該固定子の表面と該回転子の表面とが所定の間隙を有して対向するように、該回転子の円周方向に該固定子が配置されることで粉砕ゾーンが形成され、該粉砕ゾーンにおいて、該回転子の回転によって被粉砕物を粉砕する粉砕機において、
該固定子及び回転子は、いずれも複数の凸部と凹部とを有しており、
該固定子の凸部頂点Laと凹部底面Lbを直線で結んだ長さをLcとし、
該固定子の粉体投入口側のLcをALc、中央部のLcをBLc、粉体排出口側のLcをCLcとした場合、
該Lcが、BLc>ALc、及びBLc>CLcの関係にあり、
該ALc及びCLcと、該BLcの差が、50μm以上300μm以下であり、
該回転子は内部に冷却用の冷媒流路を具備し、
該回転子の表面積をG、該冷媒流路によって形成される冷却面積をH、
該回転子の中心点pから該回転子の凹部底面rまでを直線で結んだ長さをIpr、
該回転子の中心点pから該冷媒流路の最外殻qまでを直線で結んだ長さをIpq
とした場合、
以下の式(1)、(2)となるように、冷却用の冷媒流路を設け、
式(1) 75.5≦H/G×100≦300.0
式(2) 1.0mm≦Ipr−Ipq≦25.0mm
該冷媒流路は、
粉体投入口側或いは、粉体排出口側の一方向から、中心回転軸を介して、冷媒を導入するための冷媒流路L、
各ディスク内において外層部へ冷媒を搬送するための冷媒流路M、
各ディスク外層部を中心回転軸と並行に冷媒を搬送するための冷媒流路N、
各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路O、
冷媒導入方向に対して同方向域または逆方向への冷媒を排出するための冷媒流路P
を有し、
該各ディスク外層部から中心回転軸に向けて冷媒を搬送するための冷媒流路Oを、該ディスクの枚数に合せて独立して設け、
該ディスクの枚数に合せて独立して設けた該冷媒流路Oから、冷媒流路Pに冷媒を別々に戻すことを特徴とする粉砕機。 - 該回転子粉砕面又は該固定子粉砕面の、該凸部と該凸部との繰り返し距離が3.5mm未満である請求項1乃至4のいずれか一項に記載の粉砕機。
- 該回転子と固定子との間の最小間隔が0.5mm以上2.0mm以下である請求項1乃至5のいずれか一項に記載の粉砕機。
- 結着樹脂及び着色剤を少なくとも含有する混合物を溶融混練し、得られた混練物を冷却し、冷却物を粗粉砕し、粗粉砕物を粉砕手段で微粉砕して微粉砕物を得、得られた微粉砕物から重量平均粒径3乃至10μmのトナーを製造するトナーの製造方法において、
該粉砕手段が、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の粉砕機であることを特徴とするトナーの製造方法。
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