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JP5138515B2 - 蒸気発生器、蒸気発生方法および基板処理装置 - Google Patents

蒸気発生器、蒸気発生方法および基板処理装置 Download PDF

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JP5138515B2 JP2008228752A JP2008228752A JP5138515B2 JP 5138515 B2 JP5138515 B2 JP 5138515B2 JP 2008228752 A JP2008228752 A JP 2008228752A JP 2008228752 A JP2008228752 A JP 2008228752A JP 5138515 B2 JP5138515 B2 JP 5138515B2
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Description

本発明は、イソプロピルアルコール(IPA)等の揮発性を有する有機溶剤の蒸気を発生させる蒸気発生器、蒸気発生方法および基板処理装置に関し、とりわけ、生成される有機溶剤の蒸気の濃度を高くすることができるとともに、有機溶剤の加熱を効率的に行うことができる蒸気発生器、蒸気発生方法および基板処理装置に関する。
一般に、半導体製造装置における製造工程においては、半導体ウエハやLCD用ガラス等の基板(以下、単に「ウエハ」ともいう。)を、薬液やリンス液等の洗浄液が貯留された洗浄槽に順次浸漬して洗浄を行う洗浄処理方法が広く採用されている。また、洗浄後のウエハの表面に例えばイソプロピルアルコール(IPA)等の揮発性を有する有機溶剤の蒸気を接触させて、この有機溶剤の蒸気をウエハの表面に凝縮あるいは吸着させ、その後N2ガス(窒素ガス)等の不活性ガスをウエハの表面に供給することによりウエハの表面にある水分の除去および乾燥を行う乾燥処理方法が知られている(例えば、特許文献1等参照)。
上述のような乾燥処理方法において、ウエハが収容されたチャンバーに有機溶剤の蒸気を供給するにあたり、有機溶剤の液体を加熱して蒸発させることにより有機溶剤の蒸気を生成するような蒸気発生器が用いられている。このような蒸気発生器としては、例えば特許文献2等に開示されるものが知られている。
特許文献2等に開示される従来の蒸気発生器は、ハロゲンランプ等の熱源ランプと、この熱源ランプを包囲するよう配置された、加熱されるべき有機溶剤の流体が流される螺旋形状の流路管とを備えている。そして、螺旋形状の流路管に有機溶剤の液体が流され、流路管が熱源ランプにより加熱されることにより流路管内を流れる有機溶剤の液体も加熱され、このことにより流路管内で有機溶剤の蒸気が生成されるようになっている。
特開2007−5479号公報 特開2007−17098号公報
特許文献2等に開示される従来の蒸気発生器においては、予め有機溶剤の液体とN2ガス等の不活性ガスとが混合され、この有機溶剤の液体と不活性ガスとの混合流体が流路管に送られるようになっている。ここで、不活性ガスは搬送ガス(キャリアガス)として機能する。しかしながら、このような蒸気発生器においては、流路管に送られる有機溶剤の液体には不活性ガスが混じっているため、有機溶剤が不活性ガスにより希釈され、流路管内で生成される有機溶剤の蒸気の濃度が低くなってしまうという問題がある。
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、流路管に供給される有機溶剤の液体に不活性ガスが混じらないようにしたので、流路管内で生成される有機溶剤の蒸気の濃度を高くすることができ、しかも、流路管が、一端から他端に向かうに従って(すなわち上流側から下流側に向かうに従って)その断面積が大きくなるよう構成されているので、不活性ガスが混じっていない有機溶剤の液体が流路管内で加熱されて蒸気となり、その体積が大きくなった場合でも、有機溶剤の液体状態、有機溶剤の液体と蒸気が混じった状態、および有機溶剤の蒸気状態の各々の状態において、熱効率を大きくすることができ、このため有機溶剤の加熱を効率的に行うことができるような蒸気発生器および蒸気発生方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、蒸気発生器により生成された濃度の高い有機溶剤の蒸気により基板の乾燥を行っているので、基板に対する有機溶剤の蒸気の吸着量が増加し、このことにより基板の乾燥時間を短縮するとともに有機溶剤の使用量を減らすことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
本発明の蒸気発生器は、有機溶剤の蒸気を発生させる蒸気発生器であって、流路管と、前記流路管の一端に有機溶剤の液体を供給する液体有機溶剤供給部と、前記流路管を加熱する加熱部と、を備え、前記流路管は、一端から他端に向かうに従ってその断面積が大きくなるよう構成されており、前記流路管の一端に供給された有機溶剤の液体が加熱されて当該流路管の他端から有機溶剤の蒸気が流出されるようになっており、前記流路管は、第1の断面積を有する第1の流路管部分と、前記第1の流路管部分よりも下流側に設けられ前記第1の断面積よりも大きい第2の断面積を有する第2の流路管部分とを有し、前記流路管における前記第1の流路管部分と前記第2の流路管部分との間の箇所に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部が設けられており、前記流路管の他端から、有機溶剤の蒸気と不活性ガスとが混合状態で流出されるようになっていることを特徴とする。
このような蒸気発生器によれば、流路管の一端に供給される有機溶剤の液体には不活性ガスが混じっていないので、流路管内で生成される有機溶剤の蒸気の濃度を高くすることができる。しかも、流路管は、一端から他端に向かうに従って、すなわち上流側から下流側に向かうに従ってその断面積が大きくなるよう構成されているので、不活性ガスが混じっていない有機溶剤の液体が流路管内で加熱されて蒸気となり、その体積が大きくなった場合でも、有機溶剤の液体状態、有機溶剤の液体と蒸気が混じった状態、および有機溶剤の蒸気状態の各々の状態において、熱効率を大きくすることができる。このため有機溶剤の加熱を効率的に行うことができる。
本発明の蒸気発生器においては、前記流路管は、前記第1の流路管部分よりも上流側に設けられ前記第1の断面積よりも小さい第3の断面積を有する第3の流路管部分を更に有することが好ましい。
本発明の蒸気発生器においては、前記有機溶剤はイソプロピルアルコールからなることが好ましい。
本発明の蒸気発生器においては、前記流路管は螺旋形状のものからなることが好ましい。
本発明の蒸気発生器においては、前記流路管の一端にパージ用不活性ガスを供給するパージ用不活性ガス供給部を更に備え、前記パージ用不活性ガス供給部から前記流路管に供給されるパージ用不活性ガスにより、前記流路管内に残存する有機溶剤が当該流路管の他端から排出されるようになっていることが好ましい。この場合、前記パージ用不活性ガスは窒素ガスであることがより好ましい。このような蒸気発生器によれば、有機溶剤の液体を蒸発させて有機溶剤の蒸気を生成する工程の後に、流路管の一端にパージ用不活性ガスを供給し、このパージ用不活性ガスにより、流路管内に残存する有機溶剤を流路管の他端から排出させることができる。このため、蒸気発生器により有機溶剤の蒸気を生成した後、当該蒸気発生器の使用を終了したときに、流路管内を清浄な状態とすることができる。
本発明の蒸気発生器においては、前記加熱部はランプヒータからなることが好ましい。あるいは、前記加熱部は誘導加熱型ヒータから構成されていてもよい。あるいは、前記加熱部は抵抗加熱式ヒータから構成されていてもよい。
本発明の蒸気発生方法は、有機溶剤の蒸気を発生させる蒸気発生方法であって、一端から他端に向かうに従ってその断面積が大きくなるような流路管を準備する工程と、前記流路管の一端に有機溶剤の液体を供給する工程と、前記流路管を加熱し、このことにより前記流路管の一端に供給された有機溶剤の液体を蒸発させて当該流路管の他端から有機溶剤の蒸気を流出させる工程と、を備え、前記流路管は、第1の断面積を有する第1の流路管部分と、前記第1の流路管部分よりも下流側に設けられ前記第1の断面積よりも大きい第2の断面積を有する第2の流路管部分とを有し、前記流路管における前記第1の流路管部分と前記第2の流路管部分との間の箇所に不活性ガスを供給し、前記流路管の他端から、有機溶剤の蒸気と不活性ガスとを混合状態で流出させることを特徴とする。
このような蒸気発生方法によれば、流路管の一端に供給される有機溶剤の液体には不活性ガスが混じっていないので、流路管内で生成される有機溶剤の蒸気の濃度を高くすることができる。しかも、流路管は、一端から他端に向かうに従って、すなわち上流側から下流側に向かうに従ってその断面積が大きくなるよう構成されているので、不活性ガスが混じっていない有機溶剤の液体が流路管内で加熱されて蒸気となり、その体積が大きくなった場合でも、有機溶剤の液体状態、有機溶剤の液体と蒸気が混じった状態、および有機溶剤の蒸気状態の各々の状態において、熱効率を大きくすることができる。このため有機溶剤の加熱を効率的に行うことができる。
本発明の蒸気発生方法においては、前記有機溶剤はイソプロピルアルコールからなることが好ましい。
本発明の蒸気発生方法においては、有機溶剤の液体を蒸発させて有機溶剤の蒸気を生成する工程の後に、前記流路管の一端にパージ用不活性ガスを供給し、このパージ用不活性ガスにより、前記流路管内に残存する有機溶剤を当該流路管の他端から排出させることが好ましい。このような蒸気発生方法によれば、有機溶剤の蒸気を発生させた後、流路管内を清浄な状態とすることができる。
本発明の基板処理装置は、基板の処理を行う基板処理装置であって、上述の蒸気発生器と、基板を収容し、この収容された基板の乾燥を行うチャンバーであって、前記蒸気発生器により生成された有機溶剤の蒸気が供給されるチャンバーと、を備えたことを特徴とする。このような基板処理装置によれば、蒸気発生器により生成される有機溶剤の蒸気の濃度が高くなるので、基板に対する有機溶剤の蒸気の吸着量が増加し、このことにより基板の乾燥時間を短縮するとともに有機溶剤の使用量を減らすことができる。
本発明の蒸気発生器および蒸気発生方法によれば、生成される有機溶剤の蒸気の濃度を高くすることができるとともに、有機溶剤の加熱を効率的に行うことができる。
また、本発明の基板処理装置によれば、基板に対する有機溶剤の蒸気の吸着量が増加し、このことにより基板の乾燥時間を短縮するとともに有機溶剤の使用量を減らすことができる。
以下、図面を参照して本発明の一の実施の形態について説明する。まず、本実施の形態に係る蒸気発生器について詳述する。ここで、図1乃至図4は、本実施の形態に係る蒸気発生器を示す図である。このうち、図1は、本実施の形態に係る蒸気発生器の概略を示す概略説明図であり、図2は、図1に示す蒸気発生器の構成を示す構成図である。また、図3は、本実施の形態に係る蒸気発生器の加熱部の他の構成の概略を示す構成図であり、図4は、本実施の形態に係る蒸気発生器の加熱部の更に他の構成の概略を示す構成図である。
本実施の形態に係る蒸気発生器10は、イソプロピルアルコール(IPA)等の揮発性を有する有機溶剤の液体を加熱して蒸発させることにより有機溶剤の蒸気を生成するものである。図1および図2に示すように、蒸気発生器10は、筒状容器12と、この筒状容器12の内部に設けられ、加熱されるべき有機溶剤が流される流路管14、16、18とを備えている。また、筒状容器12の内部には、各流路管14、16、18を加熱するためのハロゲンランプヒータ(加熱部)20、22、24がそれぞれ設けられている。以下、このような蒸気発生器10の各構成要素の詳細について述べる。
図1および図2に示すように、蒸気発生器10の筒状容器12の内部には、3本の流路管14、16、18が直列で配置されている。また、流路管14と流路管16との間には接続管15が設けられており、流路管16と流路管18との間には接続管17が設けられている。
各流路管14、16、18は、対応するハロゲンランプヒータ20、22、24を包囲するよう設けられており、その中心がハロゲンランプヒータ20、22、24の中心と略一致するような螺旋形状となっている。なお、各流路管14、16、18は螺旋形状のものに限定されることはなく、例えば略直線状に延びるものであってもよい。各流路管14、16、18は、それぞれ例えばステンレス管から構成されている。ここで、3本の流路管14、16、18は、流路管14、流路管16、流路管18の順に上流側から配置されている。そして、流路管14に有機溶剤の液体が供給され、この有機溶剤の液体は流路管14から流路管16、流路管18に順に流れ(すなわち、図2の左方から右方に有機溶剤の液体が流れ)、この際にハロゲンランプヒータ20、22、24により各流路管14、16、18が加熱されることによりこの有機溶剤の液体も加熱されて有機溶剤の蒸気となり、この有機溶剤の蒸気が流路管18から流出されるようになっている。
3本の流路管14、16、18のうち、最も上流側にある流路管14の直径よりも、この流路管14の下流側に設けられた流路管16の直径の方が大きくなっている。また、上流側から数えて2番目に設けられた流路管16の直径よりも、この流路管16の下流側に設けられた流路管18の直径の方が大きくなっている。より具体的には、流路管14の径は例えば約8分の1インチとなっており、流路管16の径は例えば約4分の1インチとなっており、流路管18の径は例えば約8分の3インチとなっている。このように、各流路管14、16、18は、下流側に向かうに従ってその断面積が大きくなるよう構成されている。
3本の流路管14、16、18のうち、流路管14内を流れるのは実質的に全て有機溶剤の液体となっており、流路管16内を流れるのは液体と蒸気が混在した状態の有機溶剤となっており、流路管18内を流れるのは実質的に有機溶剤の蒸気となっている。このように、各流路管14、16、18は、それぞれを流れる有機溶剤の状態に応じて、それぞれを流れる有機溶剤の状態の体積に応じた断面積となるように管の直径が設定されているので、各流路管14、16、18で有機溶剤の加熱を効率的に行うことができる。
なお、流路管としては、上述のような3本の流路管14、16、18からなるものに限定されることはない。他の流路管としては、下流側に向かうに従って徐々に広がるような末広がり形状の流路管を用いることもできる。
各ハロゲンランプヒータ20、22、24は、それぞれ螺旋形状の流路管14、16、18に包囲されており、筒状容器12の長手方向(図2の左右方向)に沿って略直線状に延びている。
図2に示すように、筒状容器12の内周面には断熱材26が取り付けられている。また、筒状容器12の両開口端部は、それぞれ断熱材26が取り付けられた端部材12a、12bにより閉塞されている。
図2に示すように、流路管14の上流側端部は、筒状容器12の一方の端部材12aを貫通して流体の流入口34を形成している。また、流路管18の下流側端部は、筒状容器12の他方の端部材12bを貫通して流体の流出口36を形成している。そして、流入口34を介して筒状容器12の外部から内部に送られた流体は、流路管14、流路管16、流路管18を順に流れ、流出口36を介して筒状容器12の外部に流出されるようになっている。
流入口34には液体有機溶剤供給管30aが接続されており、この液体有機溶剤供給管30aには液体有機溶剤供給源30が接続されている。そして、液体有機溶剤供給源30から液体有機溶剤供給管30aを介して液体の有機溶剤が流入口34に送られるようになっている。図2に示すように、液体有機溶剤供給管30aにはバルブ30bが介設されており、このバルブ30bにより液体有機溶剤供給源30から流入口34への有機溶剤の液体の供給が調整されるようになっている。このような液体有機溶剤供給源30、液体有機溶剤供給管30aおよびバルブ30bにより、流入口34を介して流路管14に有機溶剤の液体を供給する液体有機溶剤供給部が構成されている。
また、N2ガス(窒素ガス)等の不活性ガスを供給する不活性ガス供給源32が設置されており、この不活性ガス供給源32は不活性ガス供給管32aに接続されている。不活性ガス供給管32aは途中で第1の分岐管32bおよび第2の分岐管32cに分岐しており、第1の分岐管32bは液体有機溶剤供給管30aの途中箇所に接続されている。図2に示すように、第1の分岐管32bにはバルブ32dが介設されており、このバルブ32dにより不活性ガス供給源32から液体有機溶剤供給管30aへの不活性ガスの供給が調整されるようになっている。一方、不活性ガス供給管32aから分岐した第2の分岐管32cは、流路管16と流路管18との間にある接続管17に接続されている。
ここで、不活性ガス供給源32、不活性ガス供給管32aおよび第2の分岐管32cにより、接続管17に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部が構成されている。そして、液体有機溶剤供給源30から流入口34へ有機溶剤の液体が供給されるときに、不活性ガス供給源32から接続管17に不活性ガスを供給することにより、この接続管17で有機溶剤の蒸気と不活性ガスとが混合し、この有機溶剤の蒸気と不活性ガスとの混合流体は流路管18に送られ、最終的には流出口36からこの混合流体が流出されることとなる。
また、不活性ガス供給源32、不活性ガス供給管32a、第1の分岐管32bおよびバルブ32dにより、流入口34を介して流路管14に不活性ガスを供給するパージ用不活性ガス供給部が構成されている。そして、有機溶剤の液体を蒸発させて有機溶剤の蒸気を生成する工程の後に、バルブ32dを開くことにより流入口34を介して流路管14に不活性ガスを供給し、この不活性ガスにより、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤を流路管18から流出口36を介して排出させることができるようになっている。このように、上述のパージ用不活性ガス供給部により、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤を除去し、流路管14、16、18内を清浄な状態とすることができる。
また、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤をこれらの流路管から排出する間に、不活性ガス供給源32から第1の分岐管32bおよび第2の分岐管32cの両方に不活性ガスを送り、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤を不活性ガスにより排出するとともに、各ハロゲンランプヒータ20、22、24により各流路管14、16、18の内部を通る不活性ガスの加熱を行い、この加熱された不活性ガスを流出口36から排出させ、後述する基板処理装置のチャンバー内に送るようにしてもよい。
また、不活性ガスの加熱を行い、この加熱された不活性ガスを基板処理装置のチャンバー内に送るにあたり、上述のような方法の他に、以下の方法を用いることもできる。すなわち、最初に、バルブ32dを開くことにより流入口34を介して流路管14に不活性ガスを供給し、この不活性ガスにより、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤を流路管18から流出口36を介して排出させる。その後、バルブ32dを閉じるとともに不活性ガス供給源32から第2の分岐管32cを介して接続管17に不活性ガスを供給し、ハロゲンランプヒータ24により流路管18の内部を通る不活性ガスの加熱を行い、この加熱された不活性ガスを流出口36から排出させる。この場合、不活性ガスの加熱を行うにあたり、ハロゲンランプヒータ20、22をオフとすることができるので、消費電力を削減することができる。
また、第2の分岐管32cにバルブを介設してもよい。第2の分岐管32cにバルブを設けた場合には、不活性ガス供給源32から第2の分岐管32cを介して接続管17に不活性ガスを供給しない際に、第2の分岐管32cに設けられたバルブを閉じることにより、接続管17から第2の分岐管32cや不活性ガス供給管32aに有機溶剤の蒸気が流入することを防止することができる。
なお、本実施の形態の蒸気発生器において、流路管14、16、18を加熱するための加熱部としては、図1および図2に示すようなハロゲンランプヒータ20、22、24に限定されることはない。他の加熱部としては、例えば図3に示すように、誘導加熱型ヒータからなるものを用いてもよい。ここでは3本の流路管14、16、18のうち流路管14を例に説明すると、螺旋形状の流路管14としてステンレス管を用い、この螺旋形状の流路管14の周囲に絶縁体50を介してコイル52を設けている。そして、高周波電源54によりコイル52に高周波を印加することにより、螺旋形状の流路管14に対してコイル52の磁場を妨げる方向(図3の左方向)に誘導起電力を発生させ、流路管14に誘導電流が流れることによりそのジュール熱によって流路管14を加熱するようになっている。このような、コイル52および高周波電源54からなる誘導加熱型ヒータを用いることにより、流路管14の加熱を行うことができる。
また、流路管14、16、18を加熱するための加熱部の更に他の例としては、例えば図4に示すように、抵抗加熱式ヒータからなるものを用いてもよい。ここでは3本の流路管14、16、18のうち流路管14を例に説明すると、略直線状に延びる流路管14の周囲に帯状のリボンヒータやラバーヒータ、チューブ状のセラミックヒータなどの抵抗加熱式ヒータ56を巻き付ける。このような抵抗加熱式ヒータ56は、ニクロム線等の発熱導体56aに電流を流すことにより発熱を行うようになっている。ここで、抵抗加熱式ヒータ56を流路管14に巻き付けても、流路管14と抵抗加熱式ヒータ56との間に隙間ができる場合があるので、この隙間に導熱性を有する部材58を設けてもよい。
次に、図1および図2に示すような蒸気発生器10の動作について説明する。
まず、バルブ30bを開くことにより、液体有機溶剤供給源30から液体有機溶剤供給管30aを介して流入口34に有機溶剤の液体を供給する。また、ハロゲンランプヒータ20、22、24により、流路管14、16、18をそれぞれ加熱する。さらに、不活性ガス供給源32から不活性ガス供給管32a、第2の分岐管32cを介して接続管17に不活性ガスを供給する。この際に、バルブ32dは閉じている。
3本の流路管14、16、18のうち最も上流側にある流路管14に送られた有機溶剤の液体は、当該流路管14により加熱させられる。この際に、流路管14の内部において、有機溶剤は液体状態にある。この加熱させられた有機溶剤の液体は、接続管15を介して流路管16に送られ、この流路管16により更に加熱させられる。この際に、流路管16の上流側領域では有機溶剤は液体と蒸気が混じった状態にあり、流路管16の下流側領域では有機溶剤は蒸気状態にある(図1参照)。
そして、接続管17において、流路管16から送られた有機溶剤の蒸気と、第2の分岐管32cから送られた不活性ガスとが混合する。有機溶剤の蒸気と不活性ガスとの混合流体は流路管18に送られ、この流路管18により更に加熱させられる。この際に、流路管18の内部において、有機溶剤は蒸気状態にある。そして、流路管18から流出口36を介して有機溶剤の蒸気と不活性ガスとの混合流体が流出される。
上述のような、有機溶剤の液体を蒸発させて有機溶剤の蒸気を生成する工程の後に、流路管14、16、18から有機溶剤を除去するために、バルブ32dを開くことにより不活性ガス供給源32から不活性ガス供給管32aおよび第1の分岐管32bを介して流入口34に不活性ガスを供給する。この不活性ガスにより、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤を流路管18から流出口36を介して排出させることができる。このようにして、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤を除去し、流路管14、16、18内を清浄な状態とすることができる。
以上のように本実施の形態の蒸気発生器10および蒸気発生方法によれば、流路管14に供給される有機溶剤の液体には不活性ガスが混じっていないので、流路管14、16、18内で生成される有機溶剤の蒸気の濃度を高くすることができる。しかも、流路管14、16、18は、一端から他端に向かうに従って(すなわち上流側から下流側に向かうに従って)その断面積が大きくなるよう構成されている。このため、不活性ガスが混じっていない有機溶剤の液体が流路管14、16、18内で加熱されて蒸気となり、その体積が大きくなった場合でも、有機溶剤の液体状態、有機溶剤の液体と蒸気が混じった状態、および有機溶剤の蒸気状態の各々の状態において(図1参照)、熱効率を大きくすることができる。このことにより、有機溶剤の加熱を効率的に行うことができる。
また、流路管16と流路管18との間にある接続管17に不活性ガスを供給するようにし、流路管18の下流側端部にある流出口36から、有機溶剤の蒸気と不活性ガスとが混合状態で排出されるようにした。ここで、有機溶剤の蒸気がウエハW上で凝縮すると当該有機溶剤の体積が低下し、基板処理装置のチャンバー(後述)内の圧力が急激に低下するおそれがある。圧力が急激に低下すると、チャンバーや、チャンバー内部材の耐圧処理を強固にする必要が生じる。しかしながら、上述のような方法によれば、有機溶剤の蒸気に、所定量の不活性ガスを混合することにより、有機溶剤の凝縮に伴う急激な圧力低下を抑制することができるようになる。
また、有機溶剤の液体を蒸発させて有機溶剤の蒸気を生成する工程の後に、流路管14の上流側端部にある流入口34に不活性ガスを供給し、この不活性ガスにより、流路管14、16、18内に残存する有機溶剤を流路管18の下流側端部にある流出口36から排出させるようになっている。このため、蒸気発生器10により有機溶剤の蒸気を発生させた後、当該蒸気発生器10の使用を終了したときに、流路管14、16、18内を清浄な状態とすることができる。
次に、図1等に示すような蒸気発生器10を備えた基板処理装置60について図5を用いて説明する。図5は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置60の構成の概略を示す構成図である。
図5に示す基板処理装置60は、ウエハWの薬液処理や洗浄処理を行う液処理部62と、液処理部62の上方に設けられ、この液処理部62での洗浄処理が終了したウエハWの乾燥を行う乾燥処理部61とを備えている。ここで、液処理部62は、ウエハWに対して所定の薬液(例えば、希フッ酸水溶液(DHF)、アンモニア−過酸化水素水(APF)、硫酸−過酸化水素水(SPM)等)による処理を行い、その後に純水(DIW)により洗浄処理を行うようになっている。また、基板処理装置60は、複数(例えば50枚)のウエハWを保持することができるウエハガイド64を備えている。このウエハガイド64は、液処理部62と乾燥処理部61との間で移動(昇降)自在となっている。基板処理装置60の上方にはファンフィルターユニット(FFU、図示せず)が配設されており、このファンフィルターユニットにより基板処理装置60に清浄な空気がダウンフローとして供給されるようになっている。
図5に示すように、液処理部62は薬液や純水を貯留する貯留槽69を有している。この貯留槽69に薬液と純水とが交互に貯留され、ウエハWを薬液や純水に浸漬することによりウエハWの薬液処理や洗浄処理をそれぞれ行うようになっている。
乾燥処理部61には、ウエハWを収容するためのチャンバー65およびチャンバー65を内部に形成するチャンバー壁67が設けられている。
液処理部62に設けられた貯留槽69近傍の雰囲気と、乾燥処理部61に設けられたチャンバー65の雰囲気とは、これらの中間に水平方向にスライド自在に配置されたシャッター63によって隔離し、または連通させることができるようになっている。このシャッター63は、液処理部62の貯留槽69において液処理を行うときと、貯留槽69とチャンバー65との間でウエハWをウエハガイド64により移動させるときには、シャッターボックス66に収容され、貯留槽69近傍の雰囲気とチャンバー65の雰囲気とが連通状態となる。一方、シャッター63をチャンバー65の真下に配置した状態では、シャッター63の上面に設けられたシールリング63aがチャンバー壁67の下端に当接することにより、チャンバー65の下面開口が気密に閉塞されるようになっている。
チャンバー65の内部には、水蒸気とIPA(イソプロピルアルコール)の蒸気を混合してまたは単独でチャンバー65内に供給するための流体ノズル70が配置されている。流体ノズル70には配管80が接続されており、配管80は途中で配管80a、80bに分岐し、それぞれ純水供給源91およびIPA供給源92に接続されている。そして、配管80aに設けられた開閉バルブ82を開放し、流量制御バルブ85を操作することにより所定流量の純水が加熱器87に送られて、この加熱器87で純水が加熱されることにより水蒸気が生成される。同様に、配管80bに設けられた開閉バルブ83を開放し、流量制御バルブ86を操作することにより所定流量のIPAの液体が蒸気発生器10に送られて、この蒸気発生器10でIPAの液体が加熱されることによりIPAの蒸気が生成される。これらの水蒸気およびIPA蒸気は単独で、または配管80において混合され、流体ノズル70からチャンバー65内に噴射される。
また、チャンバー65の内部には、所定の温度に加熱されたN2ガス(窒素ガス)をチャンバー65内に噴射するためのN2ガスノズル71が設けられている。図5に示すように、N2ガス供給源93からは室温のN2ガスが開閉バルブ84を開放することにより加熱器88に供給されるようになっている。そして、加熱器88によりN2ガスが所定温度に加熱させられ、この加熱されたN2ガスをN2ガス供給ライン81を通してN2ガスノズル71からチャンバー65内に噴射させることができるようになっている。
また、チャンバー65の内部には、チャンバー65内の雰囲気ガスを排出するための排気ノズル72が設けられている。この排気ノズル72には、チャンバー65内からの自然排気を行うための自然排気ラインと、チャンバー65内からの強制排気を行うための強制排気ラインとが設けられている。
次に、上述のような基板処理装置60を用いたウエハWの処理方法について説明する。
最初に、液処理部62の貯留槽69と乾燥処理部61のチャンバー65とをシャッター63により隔離し、また、チャンバー65内をN2ガスで満たし、かつその内部圧力が大気圧と同じ状態とする。一方、貯留槽69に所定の薬液を貯留する。この状態で、ウエハガイド64は乾燥処理部61のチャンバー65内に配置されている。
そして、チャンバー65内へのN2ガスの供給を停止させ、外部の基板搬送装置(図示せず)からウエハガイド64に50枚のウエハWを受け渡す。その後、排気ノズル72から強制排気を行いながら、液処理部62の貯留槽69と乾燥処理部61のチャンバー65とが連通するようにシャッター63をスライドさせる。
続いてウエハガイド64を降下させて、保持したウエハWを貯留槽69に貯留された薬液に、所定時間、浸漬させる。この薬液によるウエハWの処理が終了したら、ウエハWを貯留槽69内に浸漬させたまま、純水を貯留槽69内に供給して、貯留槽69内の薬液を純水に置換し、ウエハWの洗浄処理を行う。なお、貯留槽69における薬液から純水への置換は、排液管69aを通して貯留槽69から薬液を排出し、その後に貯留槽69に純水を供給することによって行ってもよい。
ウエハWの薬液処理および洗浄処理が終了したら、チャンバー65からの排気を強制排気ラインから自然排気ラインに切り替え、所定温度に加熱されたN2ガスをN2ガスノズル71からチャンバー65内に供給し、チャンバー65内を加熱されたN2ガス雰囲気に保持する。このことにより、チャンバー65内が温められるとともにチャンバー壁67が温められて、後にIPA蒸気をチャンバー65内に供給した際に、チャンバー壁67でのIPA蒸気の結露を抑制することができる。
そして、チャンバー65内へ加熱されたN2ガスの供給を行った後に、流体ノズル70によりチャンバー65内に水蒸気の供給を行う。このことにより、チャンバー65内が水蒸気雰囲気で満たされる。その後、ウエハWをチャンバー65内に収容するために、ウエハガイド64の引き上げを開始する。ここで、ウエハWは水蒸気で満たされている空間に引き上げられるために乾燥することがないので、この段階でウエハWにウォーターマークが形成されることはない。
ウエハWがチャンバー65に収容される位置まで上昇したらウエハガイド64の引き上げを停止させ、シャッター63を閉じて貯留槽69とチャンバー65とを隔離する。そして、ウエハWをチャンバー65内の所定位置に保持したら、流体ノズル70によりチャンバー65内へのIPA蒸気の供給を開始する。このことにより、ウエハWの表面に付着している純水がIPAに置換される。このとき、ウエハWの表面の液の表面張力の変化が緩やかであるので、液膜の厚さにむらが生じることがなく、ウエハWに設けられた回路パターンの凸部にかかる表面張力のバランスも崩れ難いので、パターン倒れの発生を防止することができる。また、このようにウエハW面内で実質的に同時に乾燥を行うことにより、ウォーターマークの形成を抑制することができる。
所定時間、IPA蒸気を供給することによりウエハWの表面にIPAの液膜が形成されたら、チャンバー65内へのIPA蒸気の供給を停止し、続いてウエハWの乾燥処理を行う。この乾燥処理は、例えば、所定温度に加熱されたN2ガスをチャンバー65内に供給してウエハWの表面からIPAを揮発、蒸発させ、その後に室温のN2ガスをチャンバー65内に供給してウエハWを所定の温度に冷却するという手順により行うことができる。
なお、このような乾燥処理において、ウエハWの表面のIPAを均一に揮発させることにより、ウエハWに設けられた回路パターンの凸部にかかる表面張力のバランスが崩れ難く、これによりパターン倒れの発生を抑制することができる。さらに、ウエハWの表面にIPAのみが存在する状態から乾燥を行うために、ウォーターマークの形成も抑制することができる。
ウエハWの乾燥が終了したら、外部から図示しない基板搬送装置がウエハガイド64にアクセスして、ウエハWを基板処理装置60から搬出する。このようにして、基板処理装置60における一連のウエハWの処理が終了する。
上述のような基板処理装置60によれば、図1等に示すような蒸気発生器10を備えているので、この蒸気発生器10により生成されるIPA蒸気の濃度を高くすることができる。このため、ウエハWに対するIPA蒸気の吸着量が増加し、このことによりウエハWの乾燥時間を短縮するとともにIPAの使用量を減らすことができる。
本発明の一の実施の形態に係る蒸気発生器の概略を示す概略説明図である。 図1に示す蒸気発生器の構成を示す構成図である。 本実施の形態に係る蒸気発生器の加熱部の他の構成の概略を示す構成図である。 本実施の形態に係る蒸気発生器の加熱部の更に他の構成の概略を示す構成図である。 本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置の構成の概略を示す構成図である。
符号の説明
10 蒸気発生器
12 筒状容器
12a、12b 端部材
14、16、18 流路管
15、17 接続管
20、22、24 ハロゲンランプヒータ
26 断熱材
30 液体有機溶剤供給源
30a 液体有機溶剤供給管
30b バルブ
32 不活性ガス供給源
32a 不活性ガス供給管
32b 第1の分岐管
32c 第2の分岐管
32d バルブ
34 流入口
36 流出口
50 絶縁体
52 コイル
54 高周波電源
56 抵抗加熱式ヒータ
56a 発熱導体
58 部材
60 基板処理装置
61 乾燥処理部
62 液処理部
63 シャッター
63a シールリング
64 ウエハガイド
65 チャンバー
66 シャッターボックス
67 チャンバー壁
69 貯留槽
69a 排液管
70 流体ノズル
71 N2ガスノズル
72 排気ノズル
80、80a、80b 配管
81 N2ガス供給ライン
82 開閉バルブ
83 開閉バルブ
84 開閉バルブ
85 流量制御バルブ
86 流量制御バルブ
87 加熱器
88 加熱器
91 純水供給源
92 IPA供給源
93 N2ガス供給源

Claims (14)

  1. 有機溶剤の蒸気を発生させる蒸気発生器であって、
    流路管と、
    前記流路管の一端に有機溶剤の液体を供給する液体有機溶剤供給部と、
    前記流路管を加熱する加熱部と、
    を備え、
    前記流路管は、一端から他端に向かうに従ってその断面積が大きくなるよう構成されており、前記流路管の一端に供給された有機溶剤の液体が加熱されて当該流路管の他端から有機溶剤の蒸気が流出されるようになっており、
    前記流路管は、第1の断面積を有する第1の流路管部分と、前記第1の流路管部分よりも下流側に設けられ前記第1の断面積よりも大きい第2の断面積を有する第2の流路管部分とを有し、
    前記流路管における前記第1の流路管部分と前記第2の流路管部分との間の箇所に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部が設けられており、
    前記流路管の他端から、有機溶剤の蒸気と不活性ガスとが混合状態で流出されるようになっていることを特徴とする蒸気発生器。
  2. 前記流路管は、前記第1の流路管部分よりも上流側に設けられ前記第1の断面積よりも小さい第3の断面積を有する第3の流路管部分を更に有することを特徴とする請求項1記載の蒸気発生器。
  3. 前記有機溶剤はイソプロピルアルコールからなることを特徴とする請求項1または2記載の蒸気発生器。
  4. 前記流路管は螺旋形状のものからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
  5. 前記不活性ガスは窒素ガスであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
  6. 前記流路管の一端にパージ用不活性ガスを供給するパージ用不活性ガス供給部を更に備え、
    前記パージ用不活性ガス供給部から前記流路管に供給されるパージ用不活性ガスにより、前記流路管内に残存する有機溶剤が当該流路管の他端から排出されるようになっていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
  7. 前記パージ用不活性ガスは窒素ガスであることを特徴とする請求項6記載の蒸気発生器。
  8. 前記加熱部はランプヒータからなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
  9. 前記加熱部は誘導加熱型ヒータからなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
  10. 前記加熱部は抵抗加熱式ヒータからなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
  11. 有機溶剤の蒸気を発生させる蒸気発生方法であって、
    一端から他端に向かうに従ってその断面積が大きくなるような流路管を準備する工程と、
    前記流路管の一端に有機溶剤の液体を供給する工程と、
    前記流路管を加熱し、このことにより前記流路管の一端に供給された有機溶剤の液体を蒸発させて当該流路管の他端から有機溶剤の蒸気を流出させる工程と、
    を備え
    前記流路管は、第1の断面積を有する第1の流路管部分と、前記第1の流路管部分よりも下流側に設けられ前記第1の断面積よりも大きい第2の断面積を有する第2の流路管部分とを有し、
    前記流路管における前記第1の流路管部分と前記第2の流路管部分との間の箇所に不活性ガスを供給し、
    前記流路管の他端から、有機溶剤の蒸気と不活性ガスとを混合状態で流出させることを特徴とする蒸気発生方法。
  12. 前記有機溶剤はイソプロピルアルコールからなることを特徴とする請求項11記載の蒸気発生方法。
  13. 有機溶剤の液体を蒸発させて有機溶剤の蒸気を生成する工程の後に、前記流路管の一端にパージ用不活性ガスを供給し、このパージ用不活性ガスにより、前記流路管内に残存する有機溶剤を当該流路管の他端から排出させることを特徴とする請求項11または12に記載の蒸気発生方法。
  14. 基板の処理を行う基板処理装置であって、
    請求項1乃至10のいずれか一項に記載の蒸気発生器と、
    基板を収容し、この収容された基板の乾燥を行うチャンバーであって、前記蒸気発生器により生成された有機溶剤の蒸気が供給されるチャンバーと、
    を備えたことを特徴とする基板処理装置。
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