JP5138515B2 - 蒸気発生器、蒸気発生方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
12 筒状容器
12a、12b 端部材
14、16、18 流路管
15、17 接続管
20、22、24 ハロゲンランプヒータ
26 断熱材
30 液体有機溶剤供給源
30a 液体有機溶剤供給管
30b バルブ
32 不活性ガス供給源
32a 不活性ガス供給管
32b 第1の分岐管
32c 第2の分岐管
32d バルブ
34 流入口
36 流出口
50 絶縁体
52 コイル
54 高周波電源
56 抵抗加熱式ヒータ
56a 発熱導体
58 部材
60 基板処理装置
61 乾燥処理部
62 液処理部
63 シャッター
63a シールリング
64 ウエハガイド
65 チャンバー
66 シャッターボックス
67 チャンバー壁
69 貯留槽
69a 排液管
70 流体ノズル
71 N2ガスノズル
72 排気ノズル
80、80a、80b 配管
81 N2ガス供給ライン
82 開閉バルブ
83 開閉バルブ
84 開閉バルブ
85 流量制御バルブ
86 流量制御バルブ
87 加熱器
88 加熱器
91 純水供給源
92 IPA供給源
93 N2ガス供給源
Claims (14)
- 有機溶剤の蒸気を発生させる蒸気発生器であって、
流路管と、
前記流路管の一端に有機溶剤の液体を供給する液体有機溶剤供給部と、
前記流路管を加熱する加熱部と、
を備え、
前記流路管は、一端から他端に向かうに従ってその断面積が大きくなるよう構成されており、前記流路管の一端に供給された有機溶剤の液体が加熱されて当該流路管の他端から有機溶剤の蒸気が流出されるようになっており、
前記流路管は、第1の断面積を有する第1の流路管部分と、前記第1の流路管部分よりも下流側に設けられ前記第1の断面積よりも大きい第2の断面積を有する第2の流路管部分とを有し、
前記流路管における前記第1の流路管部分と前記第2の流路管部分との間の箇所に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部が設けられており、
前記流路管の他端から、有機溶剤の蒸気と不活性ガスとが混合状態で流出されるようになっていることを特徴とする蒸気発生器。 - 前記流路管は、前記第1の流路管部分よりも上流側に設けられ前記第1の断面積よりも小さい第3の断面積を有する第3の流路管部分を更に有することを特徴とする請求項1記載の蒸気発生器。
- 前記有機溶剤はイソプロピルアルコールからなることを特徴とする請求項1または2記載の蒸気発生器。
- 前記流路管は螺旋形状のものからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
- 前記不活性ガスは窒素ガスであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
- 前記流路管の一端にパージ用不活性ガスを供給するパージ用不活性ガス供給部を更に備え、
前記パージ用不活性ガス供給部から前記流路管に供給されるパージ用不活性ガスにより、前記流路管内に残存する有機溶剤が当該流路管の他端から排出されるようになっていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の蒸気発生器。 - 前記パージ用不活性ガスは窒素ガスであることを特徴とする請求項6記載の蒸気発生器。
- 前記加熱部はランプヒータからなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
- 前記加熱部は誘導加熱型ヒータからなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
- 前記加熱部は抵抗加熱式ヒータからなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸気発生器。
- 有機溶剤の蒸気を発生させる蒸気発生方法であって、
一端から他端に向かうに従ってその断面積が大きくなるような流路管を準備する工程と、
前記流路管の一端に有機溶剤の液体を供給する工程と、
前記流路管を加熱し、このことにより前記流路管の一端に供給された有機溶剤の液体を蒸発させて当該流路管の他端から有機溶剤の蒸気を流出させる工程と、
を備え、
前記流路管は、第1の断面積を有する第1の流路管部分と、前記第1の流路管部分よりも下流側に設けられ前記第1の断面積よりも大きい第2の断面積を有する第2の流路管部分とを有し、
前記流路管における前記第1の流路管部分と前記第2の流路管部分との間の箇所に不活性ガスを供給し、
前記流路管の他端から、有機溶剤の蒸気と不活性ガスとを混合状態で流出させることを特徴とする蒸気発生方法。 - 前記有機溶剤はイソプロピルアルコールからなることを特徴とする請求項11記載の蒸気発生方法。
- 有機溶剤の液体を蒸発させて有機溶剤の蒸気を生成する工程の後に、前記流路管の一端にパージ用不活性ガスを供給し、このパージ用不活性ガスにより、前記流路管内に残存する有機溶剤を当該流路管の他端から排出させることを特徴とする請求項11または12に記載の蒸気発生方法。
- 基板の処理を行う基板処理装置であって、
請求項1乃至10のいずれか一項に記載の蒸気発生器と、
基板を収容し、この収容された基板の乾燥を行うチャンバーであって、前記蒸気発生器により生成された有機溶剤の蒸気が供給されるチャンバーと、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
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