JP5122607B2 - 平面摺動機構 - Google Patents
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また、複数の浅溝は、10μm以下のピッチで形成されていているので、潤滑流体の側方漏れを一層生じ難くして、動圧の発生効果をさらに高めることができる。その結果、側方での圧力降下を少なくして、ローリング誤差を小さくすることができる。
さらに、浅溝は、1μm以下の深さに形成されている。すなわち、一般的な動圧溝のオーダー(数μmから数十μm)よりも小さいサイズに浅溝を形成することで、動圧発生時の浮上量の変動を減少でき、剛性を向上させることができ、特に膜厚が1μm以下となる摺動域において優れた動圧効果を発揮して高剛性の流体膜を形成することができる。
3 流体導入溝
4 浅溝
5 溝構成体
Wa 溝深さ(流体導入溝)
Wb 溝深さ(浅溝)
Wc 油膜厚み
S 対称軸
Claims (3)
- 相対する平面間で潤滑流体の膜を介して相対回転摺動を行って、内径側と外径側とをシールする平面摺動機構であって、
前記何れか一方の平面に、内径側又は外径側の一方に開口し、かつその開口部と径方向逆方向の端部が平面内に存在して、開口側からの潤滑流体を前記相対する平面間のリング状の摺動部位に導入する流体導入溝と、
前記流体導入溝よりも浅く、前記流体導入溝に連通するとともに、相対する前記他方の平面の摺動方向に対して平行または90°未満の傾斜角で傾斜する向きに周期性を有する複数の浅溝とを備え、
前記1つの流体導入溝と、これに連通する複数の浅溝とで溝構成体を構成し、この溝構成体を、半径方向軸を対称軸とする線対称に配置し、
前記複数の浅溝は、10μm以下のピッチで形成され、かつ、1μm以下の深さに形成されている平面摺動機構。 - 前記複数の浅溝は円周方向又は回転方向の接線方向に配置されている請求項1に記載の平面摺動機構。
- 前記複数の浅溝は、加工閾値近傍の照射強度で直線偏光のレーザを前記一方の平面に照射し、該照射部分をオーバーラップさせながら走査することで自己組織的に形成されたものである請求項1又は2に記載の平面摺動機構。
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