JP4986985B2 - 光記録方法、光記録媒体 - Google Patents
光記録方法、光記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4986985B2 JP4986985B2 JP2008335172A JP2008335172A JP4986985B2 JP 4986985 B2 JP4986985 B2 JP 4986985B2 JP 2008335172 A JP2008335172 A JP 2008335172A JP 2008335172 A JP2008335172 A JP 2008335172A JP 4986985 B2 JP4986985 B2 JP 4986985B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- pulse
- length
- power
- speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 297
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 114
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 80
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 104
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 82
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 42
- 230000008859 change Effects 0.000 description 36
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 33
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 32
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 31
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 27
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 21
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 20
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 20
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 15
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 12
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000012782 phase change material Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- -1 Al and Si Chemical class 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000606504 Drosophila melanogaster Tyrosine-protein kinase-like otk Proteins 0.000 description 1
- 208000011738 Lichen planopilaris Diseases 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002668 Pd-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- BIXHRBFZLLFBFL-UHFFFAOYSA-N germanium nitride Chemical compound N#[Ge]N([Ge]#N)[Ge]#N BIXHRBFZLLFBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005338 heat storage Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 208000011797 pustulosis palmaris et plantaris Diseases 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000005236 sound signal Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B20/00—Signal processing not specific to the method of recording or reproducing; Circuits therefor
- G11B20/10—Digital recording or reproducing
- G11B20/10009—Improvement or modification of read or write signals
- G11B20/10222—Improvement or modification of read or write signals clock-related aspects, e.g. phase or frequency adjustment or bit synchronisation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
- G11B7/00456—Recording strategies, e.g. pulse sequences
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/006—Overwriting
- G11B7/0062—Overwriting strategies, e.g. recording pulse sequences with erasing level used for phase-change media
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/125—Optical beam sources therefor, e.g. laser control circuitry specially adapted for optical storage devices; Modulators, e.g. means for controlling the size or intensity of optical spots or optical traces
- G11B7/126—Circuits, methods or arrangements for laser control or stabilisation
- G11B7/1263—Power control during transducing, e.g. by monitoring
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24314—Metals or metalloids group 15 elements (e.g. Sb, Bi)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24316—Metals or metalloids group 16 elements (i.e. chalcogenides, Se, Te)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B20/00—Signal processing not specific to the method of recording or reproducing; Circuits therefor
- G11B20/10—Digital recording or reproducing
- G11B2020/10898—Overwriting or replacing recorded data
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/002—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier
- G11B7/0037—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier with discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
- G11B7/00454—Recording involving phase-change effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
先ず、本発明の光記録方法の第1実施例について説明する。図4は本発明の光記録方法の第1実施例に係る分割パルス系列を説明するための図である。
本発明に使用した光記録媒体は、図8に示す光記録媒体AAのように、基板1上に第1保護層(下部誘電体層)2、記録層3、第2保護層(上部誘電体層)4、反射層5、保護膜6を順次積層したものである。ここで記録又は再生用レーザ光は基板1の入射面1a側から照射される(照射方向L)。
また、これらの基板1は、記録層3、保護層2、4、反射層5、保護膜6などを積層した後、2枚の基板1を背中合わせにして、エアーサンドイッチ構造、エアーインシデント構造、密着貼り合わせ構造としても良い。また、上記第1及び第2の保護層2、4は、記録時に基板1、記録層3などが熱によって変形して記録特性が劣化することを防止するなど、基板1、記録層3を熱から保護する効果、光学的な干渉効果により、再生時の信号コントラストを改善する効果がある。
第2保護層4は、C/N、消去率などの記録特性、安定に多数回の書き換えが可能なことから、0.5〜50nmの範囲が好ましい。
まず、保護層2、4、記録層3、反射層5などを基板1上に積層する方法としては、公知の真空中での薄膜形成法、例えば真空蒸着法(抵抗加熱型や電子ビーム型)、イオンプレーティング法、スパッタリング法(直流や交流スパッタリング、反応性スパッタリング)などが挙げられる。特に、組成、膜厚のコントロールが容易であることから、スパッタリング法が好ましい。
記録層3は、実際に記録を行う前に、あらかじめレーザ光、キセノンフラッシュランプなどの光を照射し、結晶化させておくことが好ましい。
また、記録膜組成の定量分析には、シーメンス社製の蛍光X線分析装置SRS303を用いた。
各層は、直径が120mm、板厚が0.6mmのポリカーボネイト樹脂製の基板1上に形成した。基板1にはトラックピッチが0.74μmで空溝が形成されている。この溝深さは25nmであり、グルーブ幅とランド幅の比は、およそ40:60であった。
また、6倍速における14Tのレーザ出射後のパルス波形を図14(a)に示す。これより、パルスが完全に立ち下がり、矩形に近い形になっていることが分かる。
記録条件の各パルスの幅は、4倍速での記録では、At3=0.95[T]、Atod=0.75[T]を、6倍速での記録ではAt3=0.80[T]、Atod=0.95[T]にした他は第1実施例と同様の記録ストラテジで記録を行った。
6倍速記録において、3Tスペースの次の3T、4T、5T以上のマーク長トップパルスAtのディレイ時間α3l(T)をそれぞれ、α33=α34=0.1、α35=0.2、4Tスペースの次の3T、4T、5T以上のマーク長トップパルスAtのディレイ時間α4l(T)をそれぞれ、α43=α44=0.2、α45=0.3、5T以上スペースの次の3T、4T、5T以上のマーク長トップパルスAtのディレイ時間α5l(T)をそれぞれ、α53=α54=0.3、α55=0.4にした他は第2実施例と同様の記録ストラテジで記録を行った。
記録層3として3元素単一合金ターゲットIn−Sb−TeとSb単体ターゲットのコスパッタにより組成比:In5Sb74Te21の他は第1実施例と同様の光記録媒体を作製した。また線速度14m/sでの記録おいて、記録条件の各パルスの幅はAt3=1.10[T]、At4=1.50[T]、Atod=1.00[T]、Atev=1.50[T]、Am=1.00[T]、C=0.30[T]の記録ストラテジで4倍速記録を行った。第2実施例と同様に4倍速での測定をしたところ、図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3として3元素単一合金ターゲットIn−Sb−TeとSb単体ターゲットのコスパッタにより組成比:In5Sb79Te16の他は第1実施例と同様の光記録媒体を作製した。また線速度21m/sでの記録おいて、記録条件の各パルスの幅はAt3=0.80[T]、At4=1.00[T]、Atod=0.65[T]、Atev=1.00[T]、Am=0.80[T]、C=1.50[T]の記録ストラテジで6倍速記録を行った。第2実施例と同様に6倍速での測定をしたところ、図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてIn−Sb−Teの3元素単一合金ターゲットとGeターゲットのコスパッタにより(組成比:In2Sb80Te18)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてIn−Sb−Teの3元素単一合金ターゲットとGeターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge4In5Sb75Te16)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとAgターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Ag1)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとTiターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Ti1)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとSiターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Si1)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとAlターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Al1)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとBiターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb74Te16Bi2)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとGaターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb74Te16Ga2)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。
従来のマルチパルスストラテジ(図1)において、4倍速ではTtop=0.30[T]、Tmp=0.30[T]、Tcl=1.50[T]、Pw/Pe=20.0/9.0mWを、6倍速ではTtop=0.5[T]、Tmp=0.40[T]、Tcl=0.80[T]、Pw/Pe=22.5/8.5mWを用い第2実施例と同様の光記録媒体で記録を行った。しかし、図9のとおり、4倍速、6倍速のそれぞれのジッタは9.9%、16.2%、変調度はそれぞれ50%、41%と第1実施例〜第13実施例比べて変調度が著しく劣っていた(6倍速記録のアイパターンは図12(b)参照)。
ODS'00のTechnical Digest PD1の、n(マーク長)=偶数の場合には記録パワーを印可するパルス数NをN=n/2、n=奇数の場合にはN=(n−1)/2にしていた記録ストラテジ(図2)において、4倍速、6倍速で最適パルス幅を用い第2実施例と同様の光記録媒体で記録を行った。しかし、図9のとおり、4倍速、6倍速のそれぞれのジッタは10.4%、15.2%、変調度はそれぞれ70%、66%と第1実施例〜第13実施例と比べて6倍速のジッタが著しく劣っていた。
Pulstec社製MSG2B信号発生器に組み込まれている2T内で変調させるストラテジ(図3)を用い、4倍速、6倍速で最適パルス幅を用い第2実施例と同様の光記録媒体で記録を行った。しかし、図9のとおり、4倍速、6倍速のそれぞれのジッタは12.7%、16.2%、変調度はそれぞれ69%、64%と第1実施例〜第13実施例と比べてジッタが著しく劣っていた。
記録層3としてIn−Sb−Teの3元素単一合金ターゲットとSbターゲットのコスパッタにより(組成比:In5Sb72Te23)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。しかし、本発明の記録パルスストラテジが有効になる高線速の4倍速以上では、結晶化速度が足りなくスペース部にマークの一部が形成され、良好な記録が出来なかった。
記録層3としてIn−Sb−Teの3元素単一合金ターゲットとSbターゲットのコスパッタにより(組成比:In5Sb80Te15)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。しかし、図9のとおり、DVD規格の60%である変調度が十分に得られず、良好な記録が出来なかった。
記録層3としてIn−Sb−Teの3元素単一合金ターゲットとGeターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge7In5Sb72Te16)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり第2実施例とほぼ同等の特性が得られた。しかし、図9のとおり、4倍速、6倍速のそれぞれのジッタは14.1%、17.3%、変調度はそれぞれ71%、68%と第1実施例〜第13実施例と比べてジッタが著しく劣っていた。
記録層3としてSb−Teの2元素単一合金ターゲットとSbターゲットのコスパッタにより(組成比:Sb80Te20)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。しかし、4倍速、6倍速記録ともに良好な記録特性は得られたが、保存特性(80℃における加速試験)で結晶化(マーク消滅)し、著しく劣っていた。
記録層3としてIn−Sb−Teの3元素単一合金ターゲットとCoターゲットのコスパッタにより(組成比:In5Sb76Te17Co2)作成した他は第2実施例と同様の光記録媒体を作製した。第2実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図9のとおり、ジッタがそれぞれ17.4%、20.3%と第1実施例〜第13実施例と比べてジッタが著しく劣っていた。
比較例1においては従来のマルチパルスストラテジ(図1)を使用しているので、レーザーの立ち上がり及び立ち下がり特性(図14(b))の影響で、記録のために振幅が十分に得られず、これによって、記録すべきマークが完全にアモルファス化することかできないために、変調度が50%、41%と著しく劣った結果となったと考えることができる。
従って、この方法は、本実施例の記録速度の領域では不適である。
(1)記録信号3T(長さ3Tの矩形パルス)は、ピークパワーPwであるトップパルスAt3として、バイアスパワーPbであるBt3+クーリング区間であるCとして記録する(図4参照)。
尚ここにおけるクーリング区間Cは後端のマークのエッジを形成するために必要なクーリングパルス区間の一部の区間であり、媒体の物理特性や記録の線速度等によって決定される要素時間区間である。
つまり、5T以上の記録信号においては、奇数Tの記録信号においては記録信号3Tの場合に準じたトップパルスAtodとBtodに続いて、2Tに対応するマルチパルスAmを追加する。そして、このマルチパルス(中間パルス)Amの数は、Am=(n−3)/2とする。
Am=(n−k)/2 (1式)
k=3(kは記録特性によって決定される係数)(n:記録信号T間隔であり、その数値が奇数の場合)となる。
偶数Tの記録信号においては記録信号4Tの場合に準じたトップパルスAtevとBtevに続いて、2Tに対応するマルチパルスAmを追加する。そして、このマルチパルスAmの数は、Am=(n−4)/2とする。
Am=(n−k)/2 (2式)
k=4(kは記録特性によって決定される係数)(n:記録信号T間隔であり、その数値が偶数の場合)となる。
この数式を奇数偶数で共通なものとすると、
Am=INT((n−k)/2) (3式)
k=3(kは記録特性によって決定される係数)(n:記録信号T間隔)(Am:0を含む正の整数)となる。
この図から分かるように、記録のためのトップパルスを奇数T(長さTの奇数倍の長さ)の記録信号と、偶数T(長さTの偶数倍の長さ)の記録信号とで交互に切り替えることと、隣同士の記録信号Tによってマルチパルス(中間パルス)の位相を反転する、又は、1T分位相をシフトすることと、記録信号が2T増加する度に、2T周期の1つのマルチパルス(中間パルス)を追加することにより、各記録信号Tの後端を形成する記録パルスの波形を同一にすることができ、ジッタの改善を行うことができた。
DVD等に用いられている8−16変調においては、3Tから11T及び14Tを有しいているが、図15においては、記録信号は3Tから10Tまでを記載している。これは、本説明から分かるように、同じ考え方で記録パルスを生成することができるからである。
また、本実施例においては、記録ストラテジの基本的な構成を示したが、次のような改良もある。
a) 記録信号nTのトップパルスの時間Atnをn=3、n=4、n=5、n≧6(n:正数)の場合のようにTのパラーメータをnによって増やす(At3<At5<Atodまた、At4<Atev)。
b) At3T、At4T、At5T、AtodT、AtevTマークのトップパルスの先端のタイミングのディレイ時間αを、それぞれの長さnTのマークにおいて、α=3、α=4、α=5、α≧6のように変更しても良い。
c) At3T、At4T、At5T、AtodT、AtevTマークのトップパルスの先端のタイミングのディレイ時間を、長さnTのマークの前にあるスペース長αTにおいて、α=3、α=4、α=5、α≧6のようにαのパラーメータを増やしても良い。
e) 記録信号nTによって、複数あるマルチパルス(中間パルス)Amのうちの最初のマルチパルスAmの先端のタイミングを変更する。
f) 記録信号nTによって、複数あるマルチパルス(中間パルス)Amのうちの最後のマルチパルスAmの後端のタイミングを変更する。
g) 記録信号nTによって、複数あるマルチパルス(中間パルス)Amのうちの最後のマルチパルスAmの後端のバイアス区間Cを変更する。
h) 媒体の種類等によって、マルチパルス(中間パルス)Amとバイアス区間Bmの2Tの間におけるデューティを変更する。
i) a−hのいずれか1つ又はこれら複数の組み合わせにより、特性を改善することができる。
次に本発明の光記録方法の第2実施例について説明する。
本発明においては、記録クロックの高速化に伴い、クロックの2周期分である2Tをマルチパルスの周期とする説明を行ったが、より、高速な記録を行う場合、例えばDVD−RWの16倍速等の場合には、更に、マルチパルスの周期を生成するためにクロック周期を長くした記録が必要になってくる。つまり、3Tや4T・・・pT(p:2以上の整数)をマルチパルスの周期とすることが必要になる。これに従って、上記の考え方をより一般化する。
図4と図15において、マルチパルスは記録クロックの2分周(p=2)を用いており、最小の周期の記録データ3Tと4Tの加熱パルスは、5T以上のデータのストラテジを形成するに当たって、奇数と偶数のデータの関係として、奇数データについては奇数である3Tの加熱パルスを、偶数データについては偶数である4Tの加熱パルスをストラテジーの先頭の加熱パルスとしている。
正確には、記録データnTが3の倍数の場合はm=(n−3)/3となり、記録データnTが3の倍数+1の場合はm=(n−4)/3となり、記録データnTが3の倍数+2の場合はm=(n−5)/3となる。
従って、一般的には、m=(n−k)/3(k=3,4又は5)となる。
ここで、8−16変調においては、前記したとおり記録再生特性の実験結果からkが3以上の場合に良好な特性が得られることが分かった。
次に、本発明の光記録方法の第1,2実施例を用いて光記録媒体(光記録媒体AA)に記録するための光記録媒体記録装置の一実施例である情報記録再生装置について、図16を用いて説明する。
即ち、駆動電流源30中のPw、Pbが加熱パワー駆動部及び冷却パワー駆動部、Peが消去パワー駆動部として機能する。
そして、消去部分である消去パルス制御信号も消去パルス生成部22により生成し、LDドライブ部26で前述のPw、Pb、Peなる各々の発光パワーとなるように設定された駆動電流源30をスイッチングすることで、記録パルス列のLD発光波形を得ることができる。
これらのパルス群によって全体の記録マルチパルス列が構成される。
また、これらの実施の形態では、記録マークデータを生成する記録変調方式がEFM系の場合への適用例として説明したが、1−7変調方式等にも適用可能である。
次に本発明の光記録方法の第3実施例について説明する。
1) 従来のマルチパルスストラテジの記録パルス系列(図3)に示すように、記録信号の2T目に記録パルスの先端を合わせる方法では、この記録パルスの最後端を記録信号の後端に合せるタイミングの調整で(1/2T)が必要となる結果、回路規模が大きくなる。
図17は本発明の光記録方法の第3実施例に係る分割パルス系列を説明するための図である。
本発明におけるパルス系列を用い、記録条件の各パルスの幅を、線速度14m/s(以下、4倍速)での記録では、At3= At0=0.85[T]、At4=At1=1.10[T]、At5=At2=1.30[T]、Am=0.95[T]、C=1.00[T]を用い、21m/s(以下、6倍速)での記録ではAt3=At0=0.90[T]、At4=At1=1.50[T]、At5=At2=1.80[T]、Am=0.90[T]、C=0.50[T]の記録ストラテジを用いた(図17参照)。また記録パワーPwと消去パワーPeは4倍速と6倍速でそれぞれPw/Pe=18.0/9.0mW、Pw/Pe=22.5/10.5mWを選択し、ボトムパワーはともに0.5mWを使用し、それぞれ隣接トラックを含め10回オーバーライトを行った。
6倍速記録において、3Tスペースの次の3T、4T、5T以上のマーク長トップパルスAtのディレイ時間のデュティーσ(T)をそれぞれ、0.1、0.2、0.2、4Tスペースの次の3T、4T、5T以上のマーク長トップパルスAtのディレイ時間のデュティーσ(T)をそれぞれ、0.2、0.2、0.3、5T以上スペースの次の3T、4T、5T以上のマーク長トップパルスAtのディレイ時間のデュティーσ(T)をそれぞれ、0.3、0.3、0.4にした他は第21実施例と同様の記録ストラテジで記録を行った。
第21実施例と同様の測定をしたところ、6倍速記録において図21のとおり、ジッタは9.8%と、第21実施例以上の特性が得られた。
記録層3として3元素単一合金ターゲットIn−Sb−TeとSb単体ターゲットのコスパッタにより組成比:In5Sb74Te21の他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。また線速度14m/sでの記録おいて、記録条件の各パルスの幅はAt3= At0=1.00[T]、At4=At1=1.40[T]、At5=At2=1.50[T]、Am=1.10[T]、C=0.50[T]の記録ストラテジで4倍速記録を行った。第21実施例と同様に4倍速での測定をしたところ、図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3として3元素単一合金ターゲットIn−Sb−TeとSb単体ターゲットのコスパッタにより組成比:In5Sb79Te16の他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。また線速度21m/sでの記録おいて、記録条件の各パルスの幅はAt3= At0=0.75[T]、At4=At1=1.00[T]、At5=At2=1.10[T]、Am=0.85[T]、C=1.20[T]を用い、21m/s(以下、6倍速)の記録ストラテジで6倍速記録を行った。第21実施例と同様に6倍速での測定をしたところ、図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてSb−Teの2元素単一合金ターゲットとGeターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge2Sb80Te18)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてIn−Sb−Teの3元素単一合金ターゲットとGeターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge4In5Sb75Te16)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとAgターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Ag1)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとTiターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Ti1)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとSiターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Si1)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとAlターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb76Te17Al1)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとBiターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb74Te16Bi2)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
記録層3としてGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットとGaターゲットのコスパッタにより(組成比:Ge1In5Sb74Te16Ga2)作成した他は第21実施例と同様の光記録媒体を作製した。第21実施例と同様の測定をしたところ、4倍速、6倍速記録のいずれにおいても図21のとおり第21実施例とほぼ同等の特性が得られた。
(1)記録信号3T(長さ3Tの矩形パルス)は、ピークパワーPwであるトップパルスAt3として、バイアスパワーPbであるBt3+クーリング区間であるCとして記録する(図17参照)。
尚ここにおけるクーリング区間Cは後端のマークのエッジを形成するために必要なクーリングパルス区間の一部の区間であり、媒体の物理特性や記録の線速度等によって決定される要素時間区間である。
つまり、6T以上の記録信号においては、n=3l(l:自然数)の記録信号においては記録信号3Tの場合に準じたトップパルスAt0とBt0に続いて、3Tに対応するマルチパルスAmを追加する。そして、このマルチパルスAmの数は、m=(n−3)/3とする。
m=(n−k)/3 (4式)
k=3(n:記録信号T間隔であり、その数値が3lの場合)となる。
m=(n−k)/3 (5式)
k=4(n:記録信号T間隔であり、その数値が3l+1の場合)となる。
m=(n−k)/3 (6式)
k=5(n:記録信号T間隔であり、その数値が3l+2の場合)となる。
この数式を3l、3l+1、3l+2で共通なものとすると、
m=INT((n−3)/3) (7式)
(n:記録信号T間隔)(m:0を含む正の整数)となる。
この図から分かるように、記録のためのトップパルスを3l(長さTの3l倍の長さ)の記録信号と、3l+1(長さTの3l+1倍の長さ)の記録信号と、3l+2(長さTの3l+2倍の長さ)の記録信号とで交互に切り替えることと、隣同士の記録信号Tによってマルチパルス(中間パルス)の位相を120度反転する、又は、1T分位相をシフトすることと、記録信号が3T増加する度に、3T周期の1つのマルチパルス(中間パルス)を追加することにより、各記録信号Tの後端を形成する記録パルスの波形を同一にすることができ、ジッタの改善を行うことができた。
a) 記録信号nTのトップパルスの時間Atnをn=3、n=4、n=5、n≧6(n:正数)の場合のようにTのパラーメータをnによって増やす(例えばAt3<At6<At9)。
b) At3T、At4T、At5T、At0T、At1T、At2Tマークのトップパルスの先端のタイミングのディレイ時間αを、それぞれの長さnTのマークにおいて、α=3、α=4、α=5、α≧6のように変更しても良い。
d) 詳細は図示しないが、記録信号nTによって、トップパルスの後端のタイミングを変更する。
e) 記録信号nTによって、複数あるマルチパルス(中間パルス)Amのうちの最初のマルチパルスAmの先端のタイミングを変更する。
g) 記録信号nTによって、複数あるマルチパルス(中間パルス)Amのうちの最後のマルチパルスAmの後端のバイアス区間Cを変更する。
h) 媒体の種類等によって、マルチパルス(中間パルス)Amとバイアス区間Bmの3Tの間におけるデューティを変更する。
i) a−hのいずれか1つ又はこれら複数の組み合わせにより、特性を改善することができる。
次に、前述した本発明の光記録方法の第3実施例を用いて光記録媒体(光記録媒体AA)に記録するための光記録媒体記録装置の一実施例である情報記録再生装置について、図16を用いて説明する。前述したものと同一構成部分には同一符号を付しその説明を省略する。図4に示した第1実施例の光記録方法と異なる点についてのみ記す。
これらのパルス群によって全体の記録マルチパルス列が構成される。
また、これらの実施例では、記録マークデータを生成する記録変調方式がEFM系の場合への適用例として説明したが、1−7変調方式等にも適用可能である。
m=(n−k)/p (8式)
(k:正の整数であり媒体等の特性によって決定される係数)
(m:小数点以下を切り捨てられた0を含む正の整数)
として表すことができる。
また、本発明は、記録クロックを3分周するのみならず、記録速度に応じて記録クロックを2分周や4分周やそれ以上にしても効果があり、例えばp=2(記録クロックを2分周した場合)ではk=3,4を用いたパルスとして、偶数と奇数のデータの長さに応じて、それぞれの先頭パルスに引き続いて、データの後端の位置に相当するパルスの位相関係が同じになるように、2クロック周期に対して1/2の位相に相当する1クロック分シフトさせることにより、位相関係が調整されている。
次に、本発明の光ディスク及び光ディスク記録再生装置の一実施例について説明する。
本発明の光ディスクは、光ディスクの高倍速化が急速に進み、その度に規格を変更することによる環境エネルギーの消費と装置の設計変更等を招くことが無く、標準化をスムーズに行うことができることにより市場の進化のスピードを促進し、また、それぞれの倍速に対応したディスクにおいて、情報の無駄を無くし、効率よく冗長度を上げることができ、領域を有効活用するための構成を有している。
まず、本発明の光ディスクの実施例である高密度な光ディスクにおいてはその種類や記録時の線速度の変化に応じて、記録レーザ波形を最適形状に補正することについて説明する。
この記録データは8−16変調信号の入力波形の一例であり、Tはデータを記録するための記録クロックのクロック周期である。ここでマークを形成すべく8Tと3Tに対応する記録信号のパワーレベルは記録部の記録パワーPoと、消去部の消去パワーPeと、記録パワー中のマルチパルスTmpと記録から消去に切り換わる時点のクーリングパルスTclのバイアスパワーPbを出射する。バイアスパワーPbは、DVD−RWの場合再生パワーと同じ値である。また、記録のタイミングのストラテジは記録先頭部のTtopと、マルチパルスTmpのデューティとクーリングパルスTclの時間を最適に決定することにより最適な記録を行うことができる。
また、図24のID7は、図29のn+1が7であるときであり、フィールドID5のパートBの図27と同様に、2倍速のフィールドID値(7)と、ライトストラテジコード2と倍速値が記載されている。このライトストラテジコード2は図22とは異なる波形の場合のストラテジのTtop、Tmp、Tclの推奨する時間情報が記載されている。
以上の各部の全体制御は、システムコントローラ112が行っている。
図34はRMD(レコーディングマネージメントデータ(記録管理情報))の内容を示している。
図35は本発明の光記録方法の第4実施例に用いられる第1の記録ストラテジを説明するための図である。
図37(a)及び37(b)に示すように、この記録ストラテジによる再生ジッタは前記の結果とほぼ同等な結果を示したが、この波形から分かるように、3Tの波形の傾きに対して4T、5Tの傾きが異なり、これが記録回数によっても変化することが分かった。この結果から、媒体上で形成されている記録マークの大きさが3T、4T、5Tで適正でないことが想像される。これにより、媒体のトラック中心における再生ジッタはそれほど悪くないものの、オフトラックした場合には、記録マークの大きさが3T、4T、5Tで異なることにより、ジッタが悪化する等の課題が発生した。また、この波形に基づいて2値データにするために、2値化するスライスレベルが多少変化しただけでジッタ値が大きく悪化する等の回路的課題も発生した。
そこで、前記した第1の記録ストラテジ波形(図35)をさらに改良したのが、図36に示す第2の記録ストラテジ波形である。
同図の(a)は3Tマークに対応した記録ストラテジ波形、同図の(b)は偶数マーク(4T,6T,8T,10T,14Tの各マーク)波形に対応した記録ストラテジ波形、同図の(c)は奇数マーク(5T,7T,9T,11Tの各マーク)波形に対応した記録ストラテジ波形をそれぞれ示す。
3Tマークの形成に対応した記録ストラテジ波形は、図36の(a)に示すように、先頭パルスの長さ区間T3と、先頭パルスの長さを調整する区間dT3と、後端のクーリングパワー区間3Tclを有している。3Tマークに対応した記録ストラテジ波形は第1、第2の記録ストラテジ波形ともに同一形状。
図37(c)及び37(d)に示すように、この記録ストラテジによる再生ジッタは前記第1の記録ストラテジ波形(図35)の結果とほぼ同等か少し改善された結果を示したが、この波形から分かるように、3Tの波形の傾きに対して4T、5Tの傾きが異なることはなく、記録回数によっても変化しないことが分かった。この結果から、媒体上で形成されている記録マークの大きさも3T、4T、5Tで適正になったことが想像される。これにより、媒体のトラック中心からオフトラックした場合の3T、4T、5Tの記録マークのジッタが悪化する等の課題は解決した。
次に、本発明の光ディスク及び光ディスク記録再生装置の他の実施例について説明する。
フィールドID5のパートBは、図27に示すように、フィールドID値とライトストラテジーコード2と倍速値(×1)に対応する情報が記載されている。
倍速値は、このディスクが何倍速で記録できるか示すものであり、倍速値(例えば1倍速の時の線速度が3.49m/sである場合は、3.49の数値または倍速値の1またはこれを16進数にコード化した値が以降においても記載される)と好ましくは記録最適情報(記録の条件を決定するための記録信号を再生したときの再生信号の振幅の中で長いTに対する短いTの位置を示すβまたはアシンメトリー値(記録最適情報))の推奨値が以降の倍速値の領域にも記載されている。
1a レーザ入射面
2 下側誘電体層(第1保護層)
3 記録層
3Tcl クーリングパワー区間
4 上側誘電体層(第2保護層)
5 反射層
6 保護膜
19 マーク長カウンタ(判定手段)
21 加熱パルス生成部(先頭パルス生成手段)
22 消去パルス生成部
23 マルチパルス生成部(マルチパルス生成手段)
24 エッジセレクタ
25 パルスエッジ生成部
110 キー入力部
112 システムコントローラ
114 信号処理部
116 サーボプロセッサ
118 ドライバ
120 スピンドルモータ
124 ピックアップ
126 プリアンプ
128 一時記憶メモリ
130 デコーダ
149 サーボエラー信号生成回路
150 アンプ
152 イコライザ
154 PLL回路
156 ジッタ生成回路
158 レーザ駆動回路
160 波形補正回路
162 切換回路
164 テストパターン発生回路
166 温度検出回路
170 アシンメトリ検出回路
171 PLL回路
172 ウォブル検出回路
173 アドレス検出回路
174 タイミング生成回路
AA 相変化型光ディスク、ディスク(光記録媒体)
dT3 先頭パルスの長さを調整する区間
eTcl,oTcl クーリングパワーの区間
Pb 冷却パワー(バイアスパワー)
Pe 消去パワー
Pw 加熱パワー(記録パワー)
T クロック周期
T3 先頭パルスの長さ区間
Tmp マルチパルス期間
Tmp−eTdlp2,Tmp+oTdlp2 後端の記録パルスの区間
(2T−Tmp)−eTdlp1,(2T−Tmp)+oTdlp1 バイアスパワー区間
Claims (4)
- 照射レーザ光のレーザパワーを記録パワーPw、消去パワーPe、バイアスパワーPb(ただしPw>Pe>Pb)の3値で変調して、長さnT(n:3以上の整数、T:データを記録するためのクロック周期)のデータに対応したマークを形成する際に、データを記録するためのクロックを2分周したクロックを基本とする記録ストラテジを用いた光記録方法であって、
前記2分周したクロックの長さと、それぞれの記録データの長さの関係に基づいて、記録マークを形成するための分割された記録パルス中に、先端の記録パルスと、中間の記録パルスと、後端の記録パルスとを含み、
前記中間の記録パルスは前記先端の記録パルスと同一のパルス幅であり、前記後端の記録パルスの前のバイアスパワー区間と、前記後端の記録パルスの区間と、前記後端の記録パルスの後のクーリングパワーの区間の3つの時間区間を、前記2分周周期である偶数と奇数の記録データによって変更することを含むことを特徴とする光記録方法。 - 照射レーザ光のレーザパワーを記録パワーPw、消去パワーPe、バイアスパワーPb(ただしPw>Pe>Pb)の3値で変調して、長さnT(n:3以上の整数、T:データを記録するためのクロック周期)のデータに対応したマークを形成する際に、データを記録するためのクロックを2分周したクロックを基本とする記録ストラテジを用いた光記録方法であって、
前記2分周したクロックの長さと、それぞれの記録データの長さの関係に基づいて、記録マークを形成するための分割された記録パルス中に、3Tマークを形成するための、先頭パルスの長さ区間T3と、先頭パルスの長さを調整する区間dT3と、後端のクーリングパワー区間3Tclと、4T以上の偶数または奇数のマークを形成するための、先端の記録パルスTmpと、1または複数の中間の記録パルスTmpと、後端の記録パルスとを含み、
偶数の記録データの長さのための、前記後端の記録パルスの前のバイアスパワー区間(2T−Tmp)−eTdlp1と、前記後端の記録パルスの区間Tmp−eTdlp2と、前記後端の記録パルスの後のクーリングパワーの区間eTclの3つの時間区間と、奇数の記録データの長さのための、前記後端の記録パルスの前のバイアスパワー区間(2T−Tmp)+oTdlp1と、前記後端の記録パルスの区間Tmp+oTdlp2と、前記後端の記録パルスの後のクーリングパワーの区間oTclの3つの時間区間とを含むことを特徴とする光記録方法。 - 照射レーザ光のレーザパワーを記録パワーPw、消去パワーPe、バイアスパワーPb(ただしPw>Pe>Pb)の3値で変調して、長さnT(n:3以上の整数、T:データを記録するためのクロック周期)のデータに対応したマークを形成する際に、データを記録するためのクロックを2分周したクロックを基本とする記録ストラテジを用いた光記録装置であって、
前記2分周したクロックの長さと、それぞれの記録データの長さの関係に基づいて、記録マークを形成するための分割された記録パルス中に、先端の記録パルスと、中間の記録パルスと、後端の記録パルスとを含み、
前記中間の記録パルスは前記先端の記録パルスと同一のパルス幅であり、前記後端の記録パルスの前のバイアスパワー区間と、前記後端の記録パルスの区間と、前記後端の記録パルスの後のクーリングパワーの区間の3つの時間区間を、前記2分周周期である偶数と奇数の記録データによって変更することを含むことを特徴とする光記録装置。 - 照射レーザ光のレーザパワーを記録パワーPw、消去パワーPe、バイアスパワーPb(ただしPw>Pe>Pb)の3値で変調して、長さnT(n:3以上の整数、T:データを記録するためのクロック周期)のデータに対応したマークを形成する際に、データを記録するためのクロックを2分周したクロックを基本とする記録ストラテジを用いた光記録装置であって、
前記2分周したクロックの長さと、それぞれの記録データの長さの関係に基づいて、記録マークを形成するための分割された記録パルス中に、3Tマークを形成するための、先頭パルスの長さ区間T3と、先頭パルスの長さを調整する区間dT3と、後端のクーリングパワー区間3Tclと、4T以上の偶数または奇数のマークを形成するための、先端の記録パルスTmpと、1または複数の中間の記録パルスTmpと、後端の記録パルスとを含み、
偶数の記録データの長さのための、前記後端の記録パルスの前のバイアスパワー区間(2T−Tmp)−eTdlp1と、前記後端の記録パルスの区間Tmp−eTdlp2と、前記後端の記録パルスの後のクーリングパワーの区間eTclの3つの時間区間と、奇数の記録データの長さのための、前記後端の記録パルスの前のバイアスパワー区間(2T−Tmp)+oTdlp1と、前記後端の記録パルスの区間Tmp+oTdlp2と、前記後端の記録パルスの後のクーリングパワーの区間oTclの3つの時間区間とを含むことを特徴とする光記録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008335172A JP4986985B2 (ja) | 2003-02-19 | 2008-12-26 | 光記録方法、光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003040793 | 2003-02-19 | ||
JP2003040793 | 2003-02-19 | ||
JP2003077216 | 2003-03-20 | ||
JP2003077216 | 2003-03-20 | ||
JP2003107494 | 2003-04-11 | ||
JP2003107494 | 2003-04-11 | ||
JP2003289786 | 2003-08-08 | ||
JP2003289786 | 2003-08-08 | ||
JP2003309693 | 2003-09-02 | ||
JP2003309693 | 2003-09-02 | ||
JP2008335172A JP4986985B2 (ja) | 2003-02-19 | 2008-12-26 | 光記録方法、光記録媒体 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005502759A Division JPWO2004075181A1 (ja) | 2003-02-19 | 2004-02-19 | 光記録方法、光記録媒体、光記録媒体記録装置、光記録装置、光ディスク、光ディスク記録再生装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010166944A Division JP2010267375A (ja) | 2003-02-19 | 2010-07-26 | 光ディスク記録再生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009070561A JP2009070561A (ja) | 2009-04-02 |
JP4986985B2 true JP4986985B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=32913281
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005502759A Withdrawn JPWO2004075181A1 (ja) | 2003-02-19 | 2004-02-19 | 光記録方法、光記録媒体、光記録媒体記録装置、光記録装置、光ディスク、光ディスク記録再生装置 |
JP2008335172A Expired - Lifetime JP4986985B2 (ja) | 2003-02-19 | 2008-12-26 | 光記録方法、光記録媒体 |
JP2010166944A Pending JP2010267375A (ja) | 2003-02-19 | 2010-07-26 | 光ディスク記録再生装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005502759A Withdrawn JPWO2004075181A1 (ja) | 2003-02-19 | 2004-02-19 | 光記録方法、光記録媒体、光記録媒体記録装置、光記録装置、光ディスク、光ディスク記録再生装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010166944A Pending JP2010267375A (ja) | 2003-02-19 | 2010-07-26 | 光ディスク記録再生装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9025424B2 (ja) |
EP (2) | EP1596374B1 (ja) |
JP (3) | JPWO2004075181A1 (ja) |
KR (1) | KR100659685B1 (ja) |
CN (6) | CN101286324B (ja) |
WO (1) | WO2004075181A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1596374B1 (en) * | 2003-02-19 | 2011-10-12 | Victor Company Of Japan, Limited | Optical recording method and optical recording apparatus |
KR100687997B1 (ko) | 2003-04-04 | 2007-02-27 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 기록 매체로의 데이터 기록 방법 및 장치 |
JP4395396B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2010-01-06 | 太陽誘電株式会社 | 光情報記録装置 |
JP2006236420A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Toshiba Corp | 記憶媒体、再生方法及び記録方法 |
JP2006236421A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Toshiba Corp | 記憶媒体、再生方法及び記録方法 |
EP1875467A2 (en) * | 2005-04-15 | 2008-01-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Recording system for setting write strategy |
CN101189665B (zh) * | 2005-06-03 | 2012-09-05 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于在光盘的信息层中记录标记的方法和设备 |
US8268371B2 (en) * | 2005-08-22 | 2012-09-18 | Kraft Foods Global Brands Llc | Degradable chewing gum |
JP2007317343A (ja) | 2006-04-28 | 2007-12-06 | Sharp Corp | 記録パラメータ設定装置、そのプログラムおよび該プログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体、情報記録媒体、ならびに記録パラメータ設定方法 |
US20080298201A1 (en) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Method and program for obtaining and setting of recording setting information, and data recording/playback device |
JP2009266277A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Nec Corp | 情報記録装置及び記録条件調整方法 |
CN102947829B (zh) * | 2010-06-18 | 2016-03-16 | 三菱电机株式会社 | 数据处理装置以及数据处理方法 |
JP2012069215A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Hitachi-Lg Data Storage Inc | 光ディスク装置、情報記録方法及び光ディスク |
CN102134698B (zh) * | 2010-12-31 | 2013-01-02 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 用于相变存储器的Al-Sb-Te系列相变材料及其制备方法 |
JP2012169012A (ja) * | 2011-02-15 | 2012-09-06 | Sony Corp | 記録装置、原盤製造装置、光ディスク記録媒体製造方法 |
KR101683730B1 (ko) * | 2015-07-13 | 2016-12-07 | 현대오트론 주식회사 | 속도 구간을 이용한 타이어 압력 모니터링 장치 및 그 방법 |
DE102018210034A1 (de) * | 2018-06-20 | 2019-12-24 | Mahle International Gmbh | Verfahren zum digitalen Steuern einer Heizanordnung und die Heizanordnung |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2560298B2 (ja) | 1986-12-23 | 1996-12-04 | ヤマハ株式会社 | 光デイスク記録装置 |
JP2765938B2 (ja) | 1989-04-19 | 1998-06-18 | 株式会社日立製作所 | 情報の書き換え方法 |
JP3266971B2 (ja) | 1992-03-23 | 2002-03-18 | 松下電器産業株式会社 | 光学情報の記録方法 |
JPH087277A (ja) | 1994-06-23 | 1996-01-12 | Hitachi Ltd | 情報の記録方法及び記録装置 |
JP3171103B2 (ja) | 1995-03-31 | 2001-05-28 | 三菱化学株式会社 | 光記録方法および光記録媒体 |
JP3138610B2 (ja) | 1995-04-13 | 2001-02-26 | 株式会社リコー | 相変化型光ディスク用記録方法 |
JP3081551B2 (ja) | 1995-04-14 | 2000-08-28 | 株式会社リコー | 情報記録再生方法 |
EP1020850B1 (en) * | 1995-10-09 | 2002-01-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Recording method and recording unit for optical information |
JPH09134525A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-20 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方式 |
JP3608926B2 (ja) | 1996-12-26 | 2005-01-12 | 株式会社日立製作所 | 情報記録装置 |
JPH10289461A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Hitachi Ltd | 情報記録再生装置及び情報記録方法 |
JPH11175976A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Hitachi Ltd | 情報記録装置 |
JP2000195110A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Teijin Ltd | 相変化型光記録媒体の製造方法 |
KR100491831B1 (ko) * | 1999-05-19 | 2005-05-27 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | 광기록방법 및 광기록매체 |
JP4419110B2 (ja) | 1999-09-09 | 2010-02-24 | 日本ビクター株式会社 | 情報記録媒体、情報記録媒体記録方法、情報記録媒体記録装置、情報記録媒体再生方法、および情報記録媒体再生装置 |
US6459666B1 (en) * | 1999-09-06 | 2002-10-01 | Ricoh Company, Ltd. | Information recording apparatus and method |
JP2001209940A (ja) * | 1999-11-16 | 2001-08-03 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク記録再生装置、光ディスク記録再生方法および光ディスク |
JP3714117B2 (ja) | 2000-02-21 | 2005-11-09 | 日本ビクター株式会社 | プリピット検出装置、プリピット検出方法、位置及び周波数信号の検出回路 |
JP3793437B2 (ja) * | 2000-10-10 | 2006-07-05 | Tdk株式会社 | 光記録方法および光記録媒体 |
KR100399998B1 (ko) * | 2001-01-09 | 2003-09-29 | 삼성전자주식회사 | 틸트 보상 방법 및 그 장치 |
JP2002245624A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-30 | Tdk Corp | 光記録方法、光記録装置および光記録媒体 |
JP2002288828A (ja) | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Ricoh Co Ltd | 光記録方法および光記録媒体 |
JP2002312934A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-25 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方法及び情報記録装置 |
JP4480295B2 (ja) * | 2001-05-02 | 2010-06-16 | 株式会社リコー | 情報記録方法、情報記録装置及び情報処理装置 |
EP1249834B1 (en) * | 2001-04-12 | 2012-09-12 | Ricoh Company, Ltd. | Information recording with effective pulse control scheme |
JP2002358646A (ja) | 2001-05-30 | 2002-12-13 | Hitachi Ltd | 光学的情報記録再生方式、およびその記録媒体と装置 |
JP2003030833A (ja) | 2001-07-13 | 2003-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光記録媒体、光記録媒体の記録方法及び光記録媒体の記録装置 |
JP2003030836A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-31 | Hitachi Maxell Ltd | 情報の記録方法、情報記録媒体及び情報記録装置 |
JP2003045036A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-14 | Toshiba Corp | 光ディスク、光ディスク記録再生装置及び光ディスク記録再生方法 |
JP4560251B2 (ja) * | 2001-09-10 | 2010-10-13 | パイオニア株式会社 | 情報記録装置および情報記録方法 |
US7106680B2 (en) * | 2002-05-10 | 2006-09-12 | Ricoh Company, Ltd. | Device and method for recording data to optical disk using multi-pulse to enhance power pulse |
JP2004046966A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体、記録条件決定方法、光情報記録装置及び情報処理装置 |
US7260044B2 (en) * | 2002-09-06 | 2007-08-21 | Ricoh Company, Ltd. | Recording method for a phase-change optical recording medium |
EP1596374B1 (en) * | 2003-02-19 | 2011-10-12 | Victor Company Of Japan, Limited | Optical recording method and optical recording apparatus |
JP2004310954A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Sony Corp | 光ディスク装置及びその制御方法 |
-
2004
- 2004-02-19 EP EP04712706A patent/EP1596374B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 US US10/545,321 patent/US9025424B2/en active Active
- 2004-02-19 CN CN2008100837453A patent/CN101286324B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 KR KR1020057015434A patent/KR100659685B1/ko active IP Right Grant
- 2004-02-19 JP JP2005502759A patent/JPWO2004075181A1/ja not_active Withdrawn
- 2004-02-19 CN CN2008101316010A patent/CN101339783B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-19 CN CN2008101316025A patent/CN101339777B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 CN CN2010101985534A patent/CN101840708B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 WO PCT/JP2004/001869 patent/WO2004075181A1/ja active Application Filing
- 2004-02-19 CN CNB2004800045810A patent/CN100411025C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-19 EP EP10197371A patent/EP2299441A3/en not_active Withdrawn
- 2004-02-19 CN CN2008100837449A patent/CN101276605B/zh not_active Expired - Lifetime
-
2008
- 2008-12-26 JP JP2008335172A patent/JP4986985B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2010
- 2010-07-26 JP JP2010166944A patent/JP2010267375A/ja active Pending
-
2015
- 2015-04-06 US US14/679,045 patent/US9418694B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101276605B (zh) | 2012-11-21 |
CN1751341A (zh) | 2006-03-22 |
CN101286324A (zh) | 2008-10-15 |
CN101840708A (zh) | 2010-09-22 |
CN101840708B (zh) | 2012-01-11 |
JP2009070561A (ja) | 2009-04-02 |
EP2299441A3 (en) | 2011-07-13 |
CN101286324B (zh) | 2011-06-15 |
EP1596374A1 (en) | 2005-11-16 |
US9025424B2 (en) | 2015-05-05 |
JPWO2004075181A1 (ja) | 2006-06-01 |
CN101339777B (zh) | 2013-03-20 |
EP1596374B1 (en) | 2011-10-12 |
CN101276605A (zh) | 2008-10-01 |
CN100411025C (zh) | 2008-08-13 |
US20150279409A1 (en) | 2015-10-01 |
CN101339777A (zh) | 2009-01-07 |
CN101339783B (zh) | 2011-01-12 |
JP2010267375A (ja) | 2010-11-25 |
EP2299441A2 (en) | 2011-03-23 |
KR20050101346A (ko) | 2005-10-21 |
US20060140094A1 (en) | 2006-06-29 |
EP1596374A4 (en) | 2009-01-14 |
KR100659685B1 (ko) | 2006-12-21 |
US9418694B2 (en) | 2016-08-16 |
CN101339783A (zh) | 2009-01-07 |
WO2004075181A1 (ja) | 2004-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4986985B2 (ja) | 光記録方法、光記録媒体 | |
US7858167B2 (en) | Rewritable optical recording medium and optical recording method | |
EP1381033B1 (en) | Optical information recording medium, method for determining recording condition, optical information recording apparatus, and information processing apparatus | |
JP2005228383A (ja) | 光記録媒体への情報記録方法及び情報記録装置 | |
US7376065B2 (en) | Optical recording method, optical recording apparatus and optical storage medium | |
US7668071B2 (en) | Phase-change optical recording medium having tracking signal smaller than saturation value | |
WO2005022517A1 (ja) | 光記録ディスク | |
US7903519B2 (en) | Recording mark formation method, information recording device, information recording method, and information recording medium | |
US7715293B2 (en) | Optical recording medium and method of recording to the same | |
US20050063272A1 (en) | Method for recording data in an optical recording disc and an apparatus for recording data in an optical recording disc | |
JP2005243218A (ja) | 光記録媒体 | |
TWI277961B (en) | Optical storage medium, optical recording method and optical recording apparatus | |
JP2005243213A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2005243210A (ja) | 光記録方法、光記録装置及び光記録媒体 | |
JP2005243212A (ja) | 光記録方法、光記録装置及び光記録媒体 | |
JP2005243217A (ja) | 光記録媒体、光記録方法及び光記録装置 | |
JP2009059450A (ja) | 情報記録媒体 | |
JP2005004800A (ja) | 情報記録方法、情報記録装置及び情報記録媒体 | |
JP2006040337A (ja) | 光情報記録方法、光情報記録装置及び光情報記録媒体 | |
JP2007257809A (ja) | 光記録媒体及び光記録方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100728 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100817 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101104 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20101111 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20101210 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20111012 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120329 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120424 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4986985 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |