JP4534591B2 - 高純度シュウ酸水溶液の回収方法 - Google Patents
高純度シュウ酸水溶液の回収方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4534591B2 JP4534591B2 JP2004146086A JP2004146086A JP4534591B2 JP 4534591 B2 JP4534591 B2 JP 4534591B2 JP 2004146086 A JP2004146086 A JP 2004146086A JP 2004146086 A JP2004146086 A JP 2004146086A JP 4534591 B2 JP4534591 B2 JP 4534591B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxalic acid
- aqueous solution
- exchange resin
- anion exchange
- indium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 119
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 title claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 title claims description 13
- 238000011084 recovery Methods 0.000 title description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 23
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 claims description 20
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 3
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- APCLRHPWFCQIMG-UHFFFAOYSA-N 4-(5,6-dimethoxy-1-benzothiophen-2-yl)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC2=C1SC(C(=O)CCC(O)=O)=C2 APCLRHPWFCQIMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940125791 MSA-2 Drugs 0.000 description 1
- 108010057081 Merozoite Surface Protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 101710162106 Merozoite surface antigen 2 Proteins 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100083855 Rattus norvegicus Pou2f3 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 101150040893 skn-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D15/00—Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
- B01D15/08—Selective adsorption, e.g. chromatography
- B01D15/26—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism
- B01D15/36—Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism involving ionic interaction, e.g. ion-exchange, ion-pair, ion-suppression or ion-exclusion
- B01D15/361—Ion-exchange
- B01D15/363—Anion-exchange
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、高純度シュウ酸水溶液の回収方法に関し、詳しくは、インジウム含有被エッチング材を処理したシュウ酸エッチング廃液から溶解した金属成分を分離して高純度のシュウ酸水溶液を回収する方法に関する。
液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置などの透明電極としては、インジウム含有被エッチング材、例えば、酸化インジウム―酸化錫（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ、以下ＩＴＯと略す。）膜を所定のパターンにエッチン処理したものが使用されている。
すなわち、ＩＴＯ透明電極は、ガラス等の基板上にＩＴＯ膜を形成し、レジストマスクを施し、ＩＴＯ膜をエッチング処理して形成される。そして、ＩＴＯ膜のエッチング液として、シュウ酸水溶液の使用が知られている。
特開２００２−１２４５０６号公報
しかしながら、上述の方法では、エッチング廃液が廃棄処理されているため、エッチング処理コストが高くなると共に、環境の悪化が問題となる。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、インジウム含有被エッチング材を処理したシュウ酸エッチング廃液から高純度シュウ酸水溶液の回収方法を提供することにある。
本発明の要旨は、インジウム含有被エッチング材を処理したシュウ酸エッチング廃液から溶解した金属成分を分離して高純度のシュウ酸水溶液を回収するにあたり、シュウ酸エッチング廃液と、強塩基性陰イオン交換樹脂をシュウ酸で接触処理することにより得られるシュウ酸形陰イオン交換樹脂とを接触処理させることから成る高純度シュウ酸水溶液の回収方法に存する。
本発明の方法によれば、高純度のシュウ酸水溶液が回収でき、そして、エッチング液として再利用できるため、エッチング処理におけるシュウ酸の使用量を軽減することが出来、その結果、透明電極の製造コストを低減することが出来る。
以下、本発明を詳細に説明する。本発明の回収方法は、インジウム含有被エッチング材を処理したシュウ酸エッチング廃液を陰イオン交換樹脂と接触処理させることにより、溶解した金属成分を分離して高純度のシュウ酸水溶液を回収する方法である。
具体的には、エッチング工程からシュウ酸エッチング液の全量または一部を抜出し、陰イオン交換樹脂と接触処理して金属成分、例えば、インジウム、錫などを陰イオン交換樹脂に吸着させて、高純度シュウ酸水溶液を回収する。そして、回収された高純度シュウ酸水溶液は、シュウ酸エッチング液として再利用する。
本発明で処理するシュウ酸エッチング廃液は、ＩＴＯ膜などのインジウム含有被エッチング材をシュウ酸溶液でエッチン処理した際に生ずる廃液である。このシュウ酸エッチング廃液には、インジウム、錫などの金属成分がアニオン化してシュウ酸の錯体化合物として存在する。
シュウ酸エッチング廃液におけるシュウ酸濃度は、通常３重量％以上、好ましくは３〜１０重量％、より好ましくは３〜７重量％である。シュウ酸濃度が３重量％未満の場合は、エッチング廃液に含まれている金属成分のアニオン化錯体化合物の生成が不十分で、陰イオン交換樹脂によって高純度のシュウ酸水溶液を回収することが出来ない。
陰イオン交換樹脂との接触処理は、カラムに充填された陰イオン交換樹脂を使用して行うことが好ましい。また、使用される陰イオン交換樹脂は、シュウ酸形陰イオン交換樹脂であり、強塩基性陰イオン交換樹脂をシュウ酸で接触処理することにより得られる。
強塩基性陰イオン交換樹脂としてシュウ酸形陰イオン交換樹脂を使用することにより、廃液処理の最初からシュウ酸が回収でき、そのままエッチング液として再利用することが出来る。
強塩基性陰イオン交換樹脂としては、４級アンモニウム基を交換基として有する樹脂が使用でき、例えば、三菱化学（株）製のダイヤイオンSA10A（商品名）、ダイヤイオンSA20A（商品名）、ダイヤイオンPA316（商品名）、ダイヤイオンPA416（商品名）、ローム アンド ハッス社製のAmberlite IRA400（商品名）、Amberlite IRA410（商品名）、Amberlite IRA900（商品名）、Amberlite IRA910（商品名）、ザ ダウ ケミカル社製のDowex SBR（商品名）、Dowex SAR（商品名）、Dowex MSA-1（商品名）、Dowex MSA-2（商品名）が挙げられる。
金属成分の吸着が飽和状態となった陰イオン交換樹脂は、公知の方法、例えば、焼成して金属酸化物として回収する。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
実施例１
５％シュウ酸溶液１．０Ｌに対しインジウム（Ｉｎ）を１．６４ｇ、スズ（Ｓｎ）を０．１５ｇの割合で溶解し、インジウム濃度１．６４ｇ／Ｌ、スズ濃度０．１５ｇ／Ｌのシュウ酸溶液を作成し、これをエッチング廃液とした。
５％シュウ酸溶液１．０Ｌに対しインジウム（Ｉｎ）を１．６４ｇ、スズ（Ｓｎ）を０．１５ｇの割合で溶解し、インジウム濃度１．６４ｇ／Ｌ、スズ濃度０．１５ｇ／Ｌのシュウ酸溶液を作成し、これをエッチング廃液とした。
別に、ガラスカラム（内径１５ｍｍ×高さ４５０ｍｍ）にＯＨ形の強塩基性陰イオン交換樹脂（ダイヤイオンＳＡＮ−１、三菱化学（株）製）３０ｍｌを充填し、表１に示すような条件で強塩基性陰イオン交換樹脂のイオン形をＯＨ形からシュウ酸形へ変換した。
シュウ酸形とした陰イオン交換樹脂に対しエッチング廃液１．５Ｌを９０ｍｌ／ｈで通液し、流出した処理液を採取した。処理液のインジウム、スズ濃度をＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分析装置）で測定した。処理液のインジウム、スズ濃度変化を図１に示す。なお、横軸は、単位樹脂量当たりの処理液量（Ｌ／Ｌ−樹脂）、および、縦軸は、インジウム又はスズの処理液濃度（ｍｇ／Ｌ）を示す。図１中、インジウムの濃度変化をＡ−１で示し、スズの濃度変化をＡ−２で示す。
比較例１
実施例１において、イオン交換樹脂をH形の強酸性陽イオン交換樹脂（SKN１、三菱化学（株）製）に変えた（シュウ酸処理は行わず）以外は、実施例１と同様にしてエッチング廃液の処理を行った。処理液のインジウム、スズ濃度変化を図１に示す。図１中、インジウムの濃度変化をＢ−１で示し、スズの濃度変化をＢ−２で示す。
実施例１において、イオン交換樹脂をH形の強酸性陽イオン交換樹脂（SKN１、三菱化学（株）製）に変えた（シュウ酸処理は行わず）以外は、実施例１と同様にしてエッチング廃液の処理を行った。処理液のインジウム、スズ濃度変化を図１に示す。図１中、インジウムの濃度変化をＢ−１で示し、スズの濃度変化をＢ−２で示す。
図１から、強塩基性陰イオン交換樹脂を使用した場合、シュウ酸エッチング廃液中の金属成分が吸着・除去されるが、陽イオン交換樹脂を使用した場合は、殆ど吸着されていないことが明らかである。
Claims (1)
- インジウム含有被エッチング材を処理したシュウ酸エッチング廃液から溶解した金属成分を分離して高純度のシュウ酸水溶液を回収する方法であって、シュウ酸エッチング廃液と、強塩基性陰イオン交換樹脂をシュウ酸で接触処理することにより得られるシュウ酸形陰イオン交換樹脂とを接触処理させることを特徴とする高純度シュウ酸水溶液の回収方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004146086A JP4534591B2 (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 高純度シュウ酸水溶液の回収方法 |
| TW94115241A TWI380953B (zh) | 2004-05-17 | 2005-05-11 | Recovery of High Purity Oxalic Acid Aqueous Solution |
| KR20050040697A KR101206174B1 (ko) | 2004-05-17 | 2005-05-16 | 고순도 옥살산 수용액의 회수 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004146086A JP4534591B2 (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 高純度シュウ酸水溶液の回収方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005325082A JP2005325082A (ja) | 2005-11-24 |
| JP4534591B2 true JP4534591B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=35471719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004146086A Expired - Fee Related JP4534591B2 (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 高純度シュウ酸水溶液の回収方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4534591B2 (ja) |
| KR (1) | KR101206174B1 (ja) |
| TW (1) | TWI380953B (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4643541B2 (ja) * | 2006-10-17 | 2011-03-02 | 東亞合成株式会社 | 塩化第一鉄液中からのインジウム化合物の製造方法 |
| JP5817123B2 (ja) * | 2011-01-18 | 2015-11-18 | 栗田工業株式会社 | シュウ酸インジウム水溶液からのシュウ酸イオンの回収装置、及びシュウ酸インジウム水溶液からのシュウ酸イオンの回収方法 |
| CN102703699B (zh) * | 2012-06-26 | 2013-12-04 | 西部鑫兴金属材料有限公司 | 一种高铅含铼钼精矿处理后酸性废液的循环利用方法 |
| CN102935298A (zh) * | 2012-11-28 | 2013-02-20 | 湖北益泰药业有限公司 | 一种草酸精制母液的回收方法 |
| CN113929226A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-01-14 | 西安泰金工业电化学技术有限公司 | 一种草酸废液回收系统及回收方法 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102033A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | 有機酸の回収方法 |
| JPH05339197A (ja) * | 1992-06-10 | 1993-12-21 | Asahi Glass Co Ltd | しゅう酸の分離回収方法 |
| JPH06322563A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-22 | Tsurumi Soda Co Ltd | エッチング廃液処理方法 |
| JPH07141932A (ja) * | 1993-11-18 | 1995-06-02 | Kanto Chem Co Inc | 透明導電膜のエッチング液組成物 |
| JPH1192840A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Daiichi Kigensokagaku Kogyo Co Ltd | ジルコニウムの精製方法 |
| JP2001040434A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | インジウムの回収・精製法 |
| JP2002124506A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-26 | Toshiba Corp | 酸化インジウム錫膜用エッチング液およびエッチング方法 |
| JP2003155361A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-27 | Asahi Glass Engineering Co Ltd | 陰イオン交換膜の製造方法 |
| JP2004130175A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Mitsubishi Materials Corp | 金属錯体溶液からの金属イオンの分離方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3589937B2 (ja) | 2000-04-21 | 2004-11-17 | シャープ株式会社 | 廃液晶パネルの処理方法 |
-
2004
- 2004-05-17 JP JP2004146086A patent/JP4534591B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-05-11 TW TW94115241A patent/TWI380953B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-05-16 KR KR20050040697A patent/KR101206174B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102033A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | 有機酸の回収方法 |
| JPH05339197A (ja) * | 1992-06-10 | 1993-12-21 | Asahi Glass Co Ltd | しゅう酸の分離回収方法 |
| JPH06322563A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-22 | Tsurumi Soda Co Ltd | エッチング廃液処理方法 |
| JPH07141932A (ja) * | 1993-11-18 | 1995-06-02 | Kanto Chem Co Inc | 透明導電膜のエッチング液組成物 |
| JPH1192840A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Daiichi Kigensokagaku Kogyo Co Ltd | ジルコニウムの精製方法 |
| JP2001040434A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | インジウムの回収・精製法 |
| JP2002124506A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-26 | Toshiba Corp | 酸化インジウム錫膜用エッチング液およびエッチング方法 |
| JP2003155361A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-27 | Asahi Glass Engineering Co Ltd | 陰イオン交換膜の製造方法 |
| JP2004130175A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Mitsubishi Materials Corp | 金属錯体溶液からの金属イオンの分離方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005325082A (ja) | 2005-11-24 |
| TWI380953B (zh) | 2013-01-01 |
| TW200600464A (en) | 2006-01-01 |
| KR101206174B1 (ko) | 2012-11-28 |
| KR20060047945A (ko) | 2006-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11046634B2 (en) | High-purity carboxylic acid ester and method for producing same | |
| JP2008031004A (ja) | 水酸化アルカリ金属の高純度製造方法 | |
| JP5887279B2 (ja) | テトラアルキルアンモニウム塩の製造方法、及びそれを原料とした水酸化テトラアルキルアンモニウムの製造方法 | |
| JP4534591B2 (ja) | 高純度シュウ酸水溶液の回収方法 | |
| JP2020001955A (ja) | 精製塩酸の製造方法 | |
| JP4843491B2 (ja) | インジウム吸着剤及びインジウムの分別方法 | |
| JP5483958B2 (ja) | 水酸化テトラアルキルアンモニウムの製造方法 | |
| JP2008031014A (ja) | 水酸化アルカリ金属の高純度製造方法 | |
| JP5042090B2 (ja) | 高純度酸化亜鉛粉末の製造方法 | |
| JP2009084673A (ja) | 特定金属イオンの選択的分離回収方法 | |
| JP2008031009A (ja) | 高純度水酸化アルカリ金属の製造方法 | |
| JP4996172B2 (ja) | 高純度水酸化アルカリ金属の製造方法 | |
| JP4745936B2 (ja) | 塩化第一鉄液の製造方法 | |
| JP2008050197A (ja) | 高純度水酸化アルカリ金属の製造方法 | |
| JP2009102679A (ja) | インジウムの回収方法 | |
| JP2010053370A (ja) | インジウムの回収方法 | |
| CN1103104A (zh) | 从水合肼中除去杂质的方法 | |
| JP4643541B2 (ja) | 塩化第一鉄液中からのインジウム化合物の製造方法 | |
| JP2008100126A (ja) | 塩化第一鉄液の製造方法 | |
| JP3364308B2 (ja) | 排水処理方法及びその装置 | |
| JP2008081792A (ja) | インジウムの回収方法 | |
| JP2010053369A (ja) | インジウムの回収方法 | |
| JP2008100850A (ja) | インジウム含有塩化第一鉄液中からのインジウムの製造方法 | |
| JP4172994B2 (ja) | 陰イオン性鉄塩素錯体の除去方法および高純度鉄の製造方法 | |
| CN118387909A (zh) | 一种提高树脂吸附镓效率的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070405 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100219 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100309 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100427 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100525 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100607 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4534591 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140625 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |