JP2003155361A - 陰イオン交換膜の製造方法 - Google Patents
陰イオン交換膜の製造方法Info
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Abstract
造できる陰イオン交換膜の製造方法の提供。 【解決手段】陰イオン交換基または陰イオン交換基に変
換できる活性基を有する芳香族環を含む重合体1の25
〜95質量%と、陰イオン交換基または陰イオン交換基
に変換できる活性基を有しない重合体5〜75質量%と
を混合し、得られた組成物を膜状に成形する陰イオン交
換膜の製造方法。重合体1を構成する繰返し単位の芳香
族環と、重合体1を構成する別の繰返し単位の芳香族環
または重合体2の架橋部位を架橋させる工程、および重
合体1が陰イオン交換基に変換できる活性基を有する場
合は、該活性基を陰イオン交換基に変換する工程を含
む。
Description
製造方法、特には拡散透析、電気透析、または電解に用
いられ、電池用の隔膜として使用できる陰イオン交換膜
の製造方法に関する。
クロルメチル化スチレンとジビニルベンゼンとの共重合
体をアミノ化して得られた陰イオン交換体、またはビニ
ルピリジンとジビニルベンゼンとの共重合体を4級ピリ
ジニウム化して得られた陰イオン交換体がある。これら
の陰イオン交換体は、耐薬品性、耐熱性、イオン交換性
に優れ、かつ、架橋剤となるジビニルベンゼンの含有量
を変えることによりイオン交換特性や選択透過性を制御
できることから、様々な用途に用いられ、多様な品種が
合成されてきた。
な回収、酸化性金属を含有する酸の回収、アルミニウム
工業におけるエッチング廃液からのリン酸の回収、工業
塩並みの安価な食塩を製造するための海水濃縮、電解質
や有機物を含有する水溶液の電解等、新しい用途におい
ては、イオン交換膜は低い電気抵抗で水移動量が少な
く、耐蝕性を有することが要求される。
体からなるイオン交換膜では上記の要求に対応できない
問題があった。すなわち、電気抵抗を低下させるために
はイオン交換容量を増大させ含水率を増加させる必要が
あるが、そのためにクロロメチル化スチレンまたはビニ
ルピリジンの含有量を増加させ、架橋剤となるジビニル
ベンゼンの含有量を低減させると、得られるイオン交換
膜は機械的強度の低下に加え、選択透過性および耐蝕性
が低下し、水の移動量が増大する。また、電気抵抗を低
下させる別の手段としては膜厚を薄くする方法がある
が、スチレン−ジビニルベンゼン系共重合体からなるイ
オン交換膜は、機械的強度、特に脆さの点から厚さを1
00μm以下にするのが困難である。
等の分離膜においては、機械的強度および加工性の優れ
たエンジニアリングプラスチック系の材料が使用されて
いる。特に耐薬品性が優れたポリスルホン系重合体から
なる膜については、イオン交換基が導入されたものは限
外濾過膜や逆浸透膜での透過性の改良に用いられ、イオ
ン選択透過性が付与されたものはイオン交換膜への適用
が検討されてきた。例えば、式(a)からなる繰り返し
単位を有するポリスルホンのクロロメチル化物から合成
された陰イオン交換膜が、J.Membrane Sc
ience,22(1985)325〜332に記載さ
れている。しかし、このポリスルホン系重合体からなる
イオン交換膜は、イオン交換容量を増加させて電気抵抗
を低下させようとすると、イオン選択透過性、機械的強
度および耐久性が低下する問題があった。
するポリスルホンとそのブロモメチル化物との混合物か
ら作製された陰イオン交換膜が、[繊維と工業]44巻
1号11頁(1988)に記載されているが、この膜は
イオン交換容量を一定に制御できる効果はあるものの、
実用面で従来のスチレン−ジビニルベンゼン系共重合体
からなる陰イオン交換膜に代替できるものではなかっ
た。
スルホン系のブロック共重合体を使用し、イオン交換基
をブロック的に導入した陰イオン交換体(特開平2−2
11257号)が提案され、そのような陰イオン交換体
を使用した実用的な陰イオン交換膜(特開平2−265
929号、特開平2−269745号)が提案された。
また、ポリスルホン系重合体のクロロメチル化物をポリ
アミンで反応させた架橋構造を有する陰イオン交換体
(特開平2−68146号)が提案され、この架橋構造
を有する耐蝕性に優れた陰イオン交換膜(特開平6−8
0799号、特開平6−172559号、特開平6−2
71688号)が提案された。
択透過性および耐薬品性を有し、従来のスチレン−ジビ
ニルベンゼン系共重合体からなる陰イオン交換膜では使
用できなかった用途にも使用できるようになった。しか
し、過マンガン酸やペルオキシバナジン酸等の酸化性の
高い酸や、高濃度のアルカリ等を含有する溶液からの酸
またはアルカリの回収の用途については、耐久性が充分
ではなく、更なる耐久性の高い陰イオン交換膜が要望さ
れていた。また、イオン交換基および架橋構造をブロッ
ク的に導入した特定の共重合体を使用するため、製造コ
ストが高く、安価な商品として提供できない問題があっ
た。
透過性が高く、酸化性の高い水溶液中における耐久性に
優れ、かつ安価で製造できる陰イオン交換膜の製造方法
の提供を目的とする。
基または陰イオン交換基に変換できる活性基を有し、芳
香族環を含む重合体(以下重合体1という)25〜95
質量%と、陰イオン交換基または陰イオン交換基に変換
できる活性基を有しない重合体(以下重合体2という)
5〜75質量%とを混合し、得られた組成物を膜状に成
形する陰イオン交換膜の製造方法であって、重合体1を
構成する繰返し単位の芳香族環と、重合体1を構成する
別の繰返し単位の芳香族環または重合体2の架橋部位と
を架橋させる工程、および重合体1が陰イオン交換基に
変換できる活性基を有する重合体の場合は、該活性基を
陰イオン交換基に変換する工程を含む陰イオン交換膜の
製造方法を提供する。
交換膜は、単独で膜にしたときにイオンを選択的に透過
する重合体1とイオンを透過しない重合体2との混合物
からなり、重合体1と重合体2とが均一に混合され、重
合体1を構成する繰返し単位の芳香族環と、重合体1を
構成する別の繰返し単位の芳香族環または重合体2の架
橋部位とが架橋されることにより、均一な混合状態が安
定に保たれ、高いイオン選択透過性と高い耐久性を発現
すると考えられる。ここで、重合体2が芳香族炭化水素
化合物である場合は、芳香族環が架橋部位となる(芳香
族環に結合した水素が置換される。)。
膜は、重合体1と重合体2とが混合されたものであるの
で、従来使用されてきた共重合体からなる膜と比べ使用
できる重合体の種類が多く、安価で製造できる。
合体1の25〜95質量%と重合体2の5〜75質量%
とを混合する。重合体1が25質量%未満である場合は
イオン選択透過性が低く、95%を超える場合は機械的
性質や耐久性が不充分である。特には重合体1の40〜
90質量%と重合体2の10〜60質量%とを混合する
ことが好ましく、さらには重合体1の50〜80質量%
と重合体2の20〜50質量%とを混合することが好ま
しい。
要があることから、相溶性のよいものを用いる。例え
ば、重合体1と重合体2の組み合わせとしては、ハロア
ルキル化したスチレン系共重合体とハロアルキル化して
いないスチレン系共重合体、ハロアルキル化したスチレ
ン系共重合体と塩化ビニル系重合体、ビニルピリジン系
共重合体とスチレン系共重合体、ビニルピリジン系共重
合体と塩化ビニル系共重合体、ビニルイミダゾール系共
重合体とスチレン系共重合体、ビニルアニリン共重合体
とスチレン系共重合体、ハロアルキル化したポリスルホ
ン系重合体とハロアルキル化していないポリスルホン系
重合体が挙げられる。
よび耐薬品性が優れている観点から、主鎖が芳香族環と
連結基で結合された構造単位を有する重合体であって、
主鎖の芳香環の少なくとも1個の水素原子が、陰イオン
交換基または陰イオン交換基に変換できる活性基で置換
されたものが好ましい。上記連結基としては、以下のも
のが挙げられる。
系重合体、ポリフェニレンオキシド系重合体、ポリアリ
レート系重合体、ポリエーテルケトン系重合体、ポリイ
ミド系重合体が挙げられる。なかでもポリスルホン系重
合体はイオン交換基を導入しやすく、耐薬品性に優れる
ことから特に好ましい。
1で示される繰り返し単位を有する重合体が好ましい。
重合体1として式1で示される繰返し単位を有する重合
体を用いる場合は、相溶性、機械的性質、耐薬品性の点
から重合体2として式2で示される重合体を用いるのが
好ましい。
たはPh−C(CH3)2−Phであり、Phはフェニ
レン基である。ただし、Wにおいて芳香族環に結合した
水素原子の少なくとも1個は−(CH2)sX(sは1
〜5の整数、XはCl、Br、I、ヒドロキシル基また
は−NR1R2)で置換されてなる。ここで、R1〜R
5は互いに同一または異なる水素、炭素数1〜5のアル
キル基または炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基であ
る。Q1およびQ2は互いに同一または異なる炭素数1
〜8の炭化水素基またはフッ素原子を示す。a、bは0
〜4の整数、a+bは0〜8である。なお、式1におい
て、Xの一部は−NR3R4R5+A−で置換されてい
てもよい。ここで、R3〜R5は互いに同一または異な
る水素、炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜5
のヒドロキシアルキル基、Aはアニオンである。
O、O−Ph−O、O−Ph−Ph−O、O−Ph−C
(CH3)2−Ph−O、Sであり、Phはフェニレン
基である。mは10〜100であり、nは0〜100で
ある。
位を有する重合体であって、XがCl、Br、Iまたは
ヒドロキシル基であるものは、後の架橋反応の際の反応
性がよいことから好ましく用いられる。なかでもXがC
l、BrまたはIであるもの、すなわち芳香族環にハロ
アルキル基が導入された式1で示される繰返し単位を有
する重合体1は、この架橋反応の反応性が優れることか
ら特に好ましい。具体的には以下の繰返し単位を有する
重合体のハロアルキル化物が好ましい。
O−、(2)−Ph−SO2−Ph−O−Ph−Ph−
O−、(3)−Ph−SO2−Ph−O−Ph−C(C
H3)2−Ph−O−、(4)−(Ph−SO2−Ph
−O−Ph−Ph−O)−(Ph−SO2−Ph−S)
−、(5)−(Ph−SO2−Ph−O−Ph−Ph−
O)−(Ph−SO2−Ph−O)−、(6)−(Ph
−SO2−Ph−O−Ph−C(CH3)2−Ph−
O)−(Ph−SO2−Ph−S)−、(7)−(Ph
−SO2−Ph−O−Ph−C(CH3)2−Ph−
O)−(Ph−SO2−Ph−O)−。
るハロアルキル化された重合体1に対し、重合体2とし
て以下の式で示される重合体を混合するのが好ましい。
これら重合体1と重合体2の組み合わせは任意に選択で
きる。
m−、(9)−(Ph−SO2−Ph−S)m−、(1
0)−(Ph−SO2−Ph−O−Ph−O)m−、
(11)−(Ph−SO2−Ph−O−Ph−Ph−
O)m−、(12)−(Ph−SO2−Ph−O−Ph
−C(CH3)2−O)m−、(13)−(Ph−SO
2−Ph−O−Ph−Ph−O)m−(Ph−SO2−
Ph−S)n−、(14)−(Ph−SO2−Ph−O
−Ph−Ph−O)m−(Ph−SO2−Ph−O)n
−、(15)−(Ph−SO2−Ph−O−Ph−C
(CH3)2−Ph−O)m−(Ph−SO2−Ph−
S)n−、(16)−(Ph−SO2−Ph−O−Ph
−C(CH3)2−Ph−O)m−(Ph−SO2−P
h−O)n−。
返し単位を有し、XがClである重合体であり、重合体
2が(8)で示される重合体である場合は、原料の入手
が容易であり、イオン選択透過性および耐久性に優れた
膜を安価に製造できることから特に好ましい。このとき
Xの一部は−NR3R4R5+A−で置換されていても
よく、具体的には90mol%以下の範囲で置換されて
いてもよい。
繰り返し単位を有し、XがCl、BrまたはIである重
合体である場合は、重合体1と重合体2との混合物にお
ける−(CH2)SX基の含有量を1.0〜4.0mm
ol/gとするのが好ましい。−(CH2)SX基の含
有量がこの範囲である場合はポリアミンとの反応性が高
く、得られる膜のイオン選択透過性および耐久性が良好
である。−(CH2) SX基の含有量は特には1.2〜
3.8mmol/g、さらには1.5〜3.0mmol
/gであるのが好ましい。
を均一に混合することが重要である。均一に混合する方
法としては、加熱混練や溶液混合等が採用できるが、陰
イオン交換基および陰イオン交換基に変換できる活性基
は一般的に熱分解しやすいことから、常温で溶液混合す
ることが好ましく、特には重合体1と重合体2とをそれ
らの共通の溶媒に溶解して混合する方法が好ましい。
の混合物を膜状に成形するが、この成形方法としてはキ
ャスト製膜が好ましい。なお、膜状への成形は架橋する
前に行ってもよく、後に行ってもよい。
り返し単位の芳香族環と重合体1を構成する別の繰り返
し単位の芳香族環とを架橋させる。例えば、重合体1が
式1で示される繰返し単位を有する重合体であって、X
がCl、Br、Iまたはヒドロキシルである場合は、以
下の方法により架橋反応と陰イオン交換基の導入を行う
ことができる。 (1)加熱処理またはフリーデルクラフト反応により上
記置換基の一部を架橋させ、次いで、残りの置換基をア
ミンと反応させて陰イオン交換基を導入する方法。 (2)上記置換基をポリアミンと反応させ、陰イオン交
換基の導入とともに架橋する方法。
炭化水素化合物である場合は、重合体1を構成する繰り
返し単位の芳香族環は重合体1を構成する別の繰り返し
単位の芳香族環と架橋するだけでなく、重合体2を構成
する繰り返し単位の芳香族環とも架橋する。
位を有する重合体であって、Xが−NR1R2である場
合は、ジハロゲン化アルキレン等で4級アンモニウム塩
基に変換するとともに架橋する方法が用いられる。
有する重合体であって、XがCl、BrまたはIであ
り、重合体2が式2で示される重合体であるときは、ポ
リアミンを用いて架橋させるのが好ましい。ここで、ポ
リアミンとしては、エチレンジアミン、ジエチレントリ
アミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペン
タミン、ポリエチレンイミン、フェニレンジアミン等の
第1〜第2アミンからなる化合物、N,N,N′N′−
テトラメチルジアミノメタン、N,N,N′,N′−テ
トラメチル−1,2−ジアミノエタン、N,N,N′,
N′−テトラメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,
N,N′,N′−テトラメチル−1,6−ジアミノヘキ
サン、N,N,N′,N′−テトラメチルベンジジン、
N,N,N′,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、ポリビニルピリジン、ポリクロロ
メチレンの第1〜第2アミノ化物等が使用される。
メチレン基の数を変えることにより膜物性の制御を容易
に行えること、入手が容易なことから式3で示される、
第1〜第3アミンを分子末端に2個有するポリアミン
(式3においてtは1〜5の整数、Rは水素原子、炭素
数1〜5のアルキル基またはヒドロキシアルキル基。)
を用いるのが、特に好ましい。 (R)2N−(CH2)t−N(R)2 ・・・式3。
の具体例を示す。 (1)式4で示される繰り返し単位を有する重合体(式
1で示される繰り返し単位を有する重合体の前駆体。式
4において、W、Q1、Q2、aおよびbは式1と同じ
である。ただし、Wの芳香族環は−(CH2)sX基を
有しない。以下、式4の重合体という)の芳香族環にハ
ロアルキル基を導入した後、重合体2と混合し、ハロア
ルキル基をモノアミンおよびポリアミンと反応させる方
法。 (2)式4の重合体と、式2におけるYがOまたはSで
ある重合体2とを混合した後、式4の重合体の芳香族環
に選択的にハロアルキル基を導入し、ハロアルキル基を
モノアミンおよびポリアミンと反応させる方法。
1と重合体2の混合物の固有粘度は、0.1〜3dL/
g、特には0.2〜2dL/g、さらには0.4〜1.
5dL/gが適当である。
メチル基、ブロモメチル基、3−ブロモプロピル基、4
−ブロモブチル基、5−ブロモペンチル基等が挙げられ
るが、反応が容易である点でクロロメチル基が好まし
い。クロロメチル基を導入する場合は、例えばトリクロ
ロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
の溶媒中で、式4の重合体と、(クロロメチル)メチル
エーテル、1,4−ビス(クロロメトキシ)ブタン、1
−クロロメトキシ−4−クロロブタン、またはホルマリ
ン−塩化水素系、パラホルムアルデヒド−塩化水素系等
の求核性クロロメチル化剤とを反応させる。このとき触
媒として塩化スズ等を用いることができる。
が導入された、重合体1である式4の重合体と重合体2
との混合物をモノアミンおよびポリアミンと反応させ、
このアミノ化の前または後にキャスト製膜することによ
り陰イオン交換膜が得られる。この方法の具体例を以下
に挙げる。 (1)ハロアルキル基が導入された式4の重合体(重合
体1)と重合体2とを溶媒に溶解し、モノアミンを一定
量添加してハロアルキル基の所定量と反応させた後キャ
スト製膜し、得られた膜をポリアミン溶液中に浸漬して
残部のハロアルキル基をポリアミンと反応させる方法。
重合体(重合体1)を溶媒に溶解し、モノアミンを一定
量添加してハロアルキル基の所定量と反応させた溶液
と、重合体2を溶解させた溶液とを混合した後、キャス
ト製膜し、得られた膜をポリアミン溶液中に浸漬して残
部のハロアルキル基をポリアミンと反応させる方法。 (3)ハロアルキル基が導入された式4の重合体(重合
体1)と重合体2とを溶媒に溶解し、モノアミンとポリ
アミンの混合溶液を一定量添加してハロアルキル基と反
応させた後、キャスト製膜する方法。
重合体(重合体1)と重合体2とを溶媒に溶解し、キャ
スト製膜した後、得られた膜をモノアミンとポリアミン
の混合溶液中に浸漬してハロアルキル基と反応させる方
法。 なかでも、モノアミンと反応させるハロルキル基と、ポ
リアミンと反応させるハロアルキル基の比率を精度よく
コントロールする必要がある場合は、(1)または
(2)の方法が好ましい。
ミンが使用できるが、反応性やイオン交換基としての化
学的安定性の点で第3アミンが好ましい。具体的には、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ンなどのトリアルキルアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N−メチルピロールなどの芳香族アミン、N−メチ
ルピロリジン、N−メチルモルホリンなどの複素環アミ
ン、N−メチル−N,N−ジエタノールアミン、N,N
−ジメチル−N−エタノールアミン、トリエタノールア
ミンなどのアルコールアミンが挙げられる。なかでも、
トリメチルアミンは低い電気抵抗の膜が得られることか
ら好ましく用いられる。なお、好ましいポリアミンにつ
いては前述した通りである。
交換膜の好ましいイオン交換容量は、用途により異なる
が、1.0〜3.5ミリ当量/g乾燥樹脂となるように
選定するのが好ましい。イオン交換容量が1.0ミリ当
量/g乾燥樹脂より小さいと電気抵抗が高くなり、3.
5ミリ当量/g乾燥樹脂より大きいとイオン選択透過性
が低下し、水移動量が増加する。
イオン交換膜を陽イオン交換膜の少なくとも片面に積層
させた積層膜は、水素イオン選択透過膜として有効であ
り、電気透析により水素イオンおよびその他の陽イオン
を含有する酸水溶液から酸を選択的に濃縮回収する場合
に好ましく用いられる。上記積層膜における陽イオン交
換膜としては、イオン交換容量が1.0〜3.8ミリ当
量/g乾燥樹脂であり、膜厚が10〜200μmである
ものが好ましい。また、積層させる陰イオン交換膜の膜
厚は0.1〜10μmとするのが好ましい。
陰イオン交換膜としては、25℃の0.5mol/L硫
酸中における比抵抗が50〜6000Ω・cmであるも
のが好ましい。上記比抵抗がこの範囲である場合は、イ
オン選択透過性が優れる。したがって、拡散透析による
酸の回収においては、金属イオン等の不純物イオンのリ
ークが少なく酸を高純度で回収できる。また、電気透析
や電解においても不純物のリークが少なく、電流効率の
低下が起こりにくい。イオン透過選択性および耐久性を
重視する用途については、上記比抵抗が300〜300
0Ω・cmである陰イオン交換膜が好ましく、イオン選
択透過性を特に重視する用途については、上記比抵抗が
60〜300Ω・cmである陰イオン交換膜が好まし
い。
陰イオン交換膜としては、25℃の0.5mol/L硫
酸中における面積抵抗が0.1〜20Ω・cm2である
ものが好ましい。面積抵抗は陰イオン交換膜の比抵抗に
応じて膜厚を変えることにより上記範囲内にできる。こ
こで、面積抵抗は膜を0.5mol/Lの硫酸中で平衡
にし、1000Hzの交流でLCRメータによって測定
した値である。面積抵抗が上記範囲である膜を用いた場
合は、電気透析による電解質の濃縮において、高い電流
効率で運転でき、得られる電解質の濃度を高くできる。
また、電解においても高い電流効率で運転できる。
る用途については0.1〜2Ω・cm2であるのが好ま
しく、イオン選択性や少ない水移動量を重視する用途に
ついては1〜10Ω・cm2であるのが好ましく、水素
イオンの低い透過性を重視する用途については5〜20
Ω・cm2であるのが好ましい。
交換膜は、上記範囲の面積抵抗とすることにより、低い
電気抵抗と、高いイオン選択性、少ない水移動量、優れ
た耐蝕性、高い機械的強度という相反する特性を両立さ
せることができる。面積抵抗を上記範囲とするためには
陰イオン交換膜の膜厚を薄くすることが有効である。好
ましい膜厚は陰イオン交換膜の用途および使用条件等に
より異なるが、0.1〜50μm、特には1〜25μm
である。この膜厚の範囲内で上記面積抵抗を0.1〜2
0Ω・cm2とするのが好ましい。
交換膜はイオン交換膜単独でも使用できるが、膜厚が薄
く、使用膜面積が大きい場合は、取り扱いの点から陰イ
オン交換膜を基材と積層して用いることが好ましい。積
層させる基材、積層方法としては、特開平2−2659
29号、特開平6−80799号に記載の多孔性基材、
積層方法等が好ましい。例えば、多孔性基材としては、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエ
チレン等の不織布や、延伸展開法によって得られる微多
孔膜が好ましく、積層方法としては、陰イオン交換体の
前駆体からなる溶液を接着剤として使用し、あらかじめ
作製した陰イオン交換膜と多孔性基材とを。いわゆるウ
エットラミネート法で接着する方法が好ましい。
交換膜は、陰イオン交換膜の一方の面に酸を含有する水
溶液(以下、酸水溶液)を接触させ、もう一方の面に水
または上記酸水溶液より濃度の低い酸水溶液を接触させ
て、拡散透析により酸を回収する酸の回収方法に好まし
く使用できる。本発明の陰イオン交換膜を用いることに
より、高純度の酸を安定して効率よく回収できる。特
に、面積抵抗が0.2〜2.0Ω・cm2である本発明
の陰イオン交換膜は酸の透過性が大きく、金属イオンの
リークが低いので酸の拡散透析に好ましく使用される。
〜5mmのスペーサーネットを交互に配置し、酸を含有
する原液が供給される室と、水が供給される室とが交互
に区画されるようにし、酸を含有する原液と水とを、各
室に膜有効面積1m2に対して0.7〜5L/hの速度
で供給して酸を回収することが好ましい。このとき運転
温度は25〜60℃が好ましい。25℃より低い場合は
酸の透過速度が低下する。60℃より高い場合は、室枠
やスペーサーの材質に耐熱性が必要となり高価になるの
で特殊の用途以外には好ましくない。
イオン交換膜は、陰極と陽極との間に陽イオン交換膜ま
たは水素イオン選択透過膜と、陰イオン交換膜とを交互
に配置し、電解質溶液を通液しながら電圧を印加して電
気透析により電解質を濃縮する方法に好ましく使用でき
る。
と陰極を備える陰極室との間に、複数の陽イオン交換膜
と陰イオン交換膜とを交互に配置し、陽極側が陰イオン
交換膜で区画され陰極側が陽イオン交換膜で区画された
脱塩室と、陽極側が陽イオン交換膜で区画され陰極側が
陰イオン交換膜で区画された濃縮室とを交互に2〜30
0組程度配置する。脱塩室には電解質を含有する原液を
原液タンクから循環させ、濃縮室には濃縮された電解質
を回収するための電解質液を循環しながら電流を流すこ
とにより濃縮回収を行う。各脱塩室および各濃縮室に
は、限界電流密度以下の電流値となるように0.2〜2
V程度の電圧を印加することが好ましい。
イオン交換膜は、陰極と陽極との間に陽イオン交換膜お
よび陰イオン交換膜を、陰極側が陽イオン交換膜となる
ように配置し、電解質溶液、または有機物を含有する水
溶液を通液しながら電圧を印加して電解する電解方法、
または、陰極と陽極との間に陰イオン交換膜のみを配置
して、電解質溶液、または有機物を含有する水溶液を通
液しながら電圧を印加して電解する電解方法に好ましく
使用できる。本発明の陰イオン交換膜を用いることによ
り、高い電流効率で安定して運転できる。
陽イオン交換膜および陰イオン交換膜を、陰極側が陽イ
オン交換膜となるように配置してなる場合は、陽イオン
交換膜と陰イオン交換膜で区画された中間室に、陰極と
陽極との間に陰イオン交換膜のみを配置してなる場合は
陰極室に、電解質溶液または有機物を含有する水溶液を
通液しながら電圧を印加して電解する。このとき好まし
い電圧は、電解反応により異なるが、電解反応が充分に
起こる0.2〜10Vが好ましい。
イオン交換膜は、耐蝕性に優れることから、正極と負極
が隔膜により分離され、正極と負極に正極液と負極液を
通液して酸化還元反応を行い、充放電するレドックスフ
ロー電池用の隔膜としても使用できる。
比較例(例2、例4)を説明する。 例1 重合体1の前駆体として、式5で示される芳香族ポリス
ルホン重合体(アモコジャパン社商品名:レーデルR5
000NT)を準備した。この重合体の固有粘度は0.
65dL/gであった。
ラクロロエタン1020mLに溶解し、クロロメチルメ
チルエーテル400gおよび無水塩化スズ4.5gを添
加し、80℃にて6時間かけてクロロメチル化反応を行
った。反応終了後、メタノール5000mLを用いて反
応生成物を沈殿させ、これを洗浄し、クロロメチル化重
合体(1)を得た。このクロロメチル化重合体(1)に
おけるクロロメチル基の含有量は3.84ミリ当量/g
であり、クロロメチル基をすべてトリメチルアミンで反
応させた場合のイオン交換容量は3.1ミリ当量/g乾
燥樹脂であった。
部と、重合体2であるポリエーテルスルホン(住友化学
工業社商品名:PES5200P)29質量部からなる
重合体の混合物をN,N−ジメチルホルムアミド(以
下、DMFという)に溶解し、該重合体の混合物を15
質量%含有する溶液を調整した。なお、この重合体の混
合物におけるクロロメチル基の含有量は2.7mmol
/gであり、クロロメチル基をすべてトリメチルアミン
で反応させた場合のイオン交換容量は2.3ミリ当量/
g乾燥樹脂であった。
ら、1mol/LのトリメチルアミンのDMF溶液と、
2−メトキシエタノールとの混合物(混合比率は質量比
で、1mol/LのトリメチルアミンのDMF溶液/2
−メトキシエタノール=97/3)をゆっくりと滴下し
た。このようにして、クロロメチル基の40mol%が
トリメチルアミンと反応したアミノ化溶液Aを得た。
0℃にて2時間乾燥し、厚さ20μmのキャスト膜Aを
作製した。次いで、キャスト膜Aを0.75mol/L
のN,N,N′,N'−テトラメチル−1,2−ジアミ
ノプロパンのメタノール溶液に55℃で24時間浸漬し
て、残存するクロロメチル基をこのジアミン化合物と反
応させた。ジアミン処理膜Aの25℃の0.5mol/
L硫酸中における比抵抗は200Ω・cmであり、面積
抵抗は0.5Ω・cm2であった。
5200P)29質量部を使用しない以外、例1と同様
にしてクロロメチル化重合体(1)のみからなる、クロ
ロメチル基の40mol%がトリメチルアミンと反応し
たアミノ化溶液Bを作製し、厚さ20μmのキャスト膜
Bを作製した。次いで、例1と同様にしてキャスト膜B
よりジアミン処理膜Bを得た。ジアミン処理膜は脆く、
25℃の0.5mol/L硫酸中における比抵抗は15
0Ω・cmであり、面積抵抗は0.3Ω・cm2であっ
た。
クロロジフェニルスルホン0.324molとを反応さ
せ、芳香族ポリスルホンのユニットからなるp=10の
プリカーサー0.36molを合成し、次いで該プリカ
ーサー0.36molと4,4′−ジクロロジフェニル
スルホン0.235molと4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン0.18molとを反応させ、式6で
示される芳香族ポリスルホン−ポリエーテルスルホンの
ブロック共重合体215gを得た。ただし、p=qであ
る。このブロック共重合体の固有粘度は0.53dL/
gであった。
クロロメチル化し、クロロメチル化共重合体(2)を得
た。このクロロメチル化共重合体(2)におけるクロロ
メチル基の含有量は2.7mmol/gであり、クロロ
メチル基をすべてトリメチルアミンで反応させた場合の
イオン交換容量は2.3ミリ当量/g乾燥樹脂であっ
た。次に、このクロロメチル化重合体(2)90質量部
と、重合体2であるポリエーテルスルホン(住友化学工
業社商品名:PES5200P)10質量部からなる重
合体の混合物をDMFに溶解し、該重合体の混合物を1
5質量%含有する溶液を調整した。なお、この重合体の
混合物におけるクロロメチル基の含有量は2.4mmo
l/gであり、クロロメチル基を全てトリメチルアミン
で反応させた場合のイオン交換容量は2.1ミリ当量/
g乾燥樹脂であった。
の43mol%がトリメチルアミンと反応したアミノ化
溶液Cを得、厚さ20μmのキャスト膜Cを作製し、ジ
アミン処理膜Cとした。ジアミン処理膜Cの25℃の
0.5mol/L硫酸中における比抵抗は200Ω・c
mであり、面積抵抗は0.5Ω・cm2であった。
5200P)10質量部を使用しない以外、例3と同様
にしてクロロメチル化重合体(2)のみからなる、クロ
ロメチル基の40mol%がトリメチルアミンと反応し
たアミノ化溶液Dを得、厚さ20μmのキャスト膜Dを
作製し、ジアミン処理膜Dとした。ジアミン処理膜Dの
25℃の0.5mol/L硫酸中における比抵抗は20
0Ω・cmであり、面積抵抗は0.5Ω・cm2であっ
た。
理膜を用意した。また、これらのジアミン処理膜を、メ
タバナジン酸アンモニウムの飽和液100部と、30質
量%の過酸化水素水5部との混合液中にて25℃で1日
浸漬した後、充分に水洗したもの(ジアミン処理膜
A’、B’、C’、D’)を用意した。
ようにして拡散透析による酸の回収を行った。膜を各々
2室セルに組み、膜の一方に0.5mol/Lのアルミ
ニウムイオンを含有する3mol/Lの硫酸を仕込み、
もう一方に水を仕込んだ。水側に拡散した酸とアルミニ
ウムイオンの濃度を測定し、酸の透過係数(mol・m
−2・h−1・(mol/L)−1)、アルミニウムイ
オンの透過係数(mol・m−2・h−1・(mol/
L)−1)、透過係数比(アルミニウムイオン/酸)を
求めた。結果を表1に示す。
Cは、他のジアミン処理膜と比べてイオン選択透過性が
高く、耐酸化性に優れていることがわかる。
ン交換膜は、イオン選択透過性、耐薬品性および機械的
性質に優れる。また、使用する重合体の入手が容易なこ
とから膜を安価に供給できる。さらに、比較的高い比抵
抗を有し、特定の面積抵抗を有する膜とすることによ
り、拡散透析による酸の回収においては高純度の酸を効
率よく回収でき、電気透析や電解による電解質の濃縮に
おいては、濃縮濃度および電流効率の向上が図られる。
また、本発明の製造方法により得られる陰イオン交換膜
は、耐蝕性に優れることから酸化還元反応を利用したレ
ドックスフロー電池の隔膜としても有効である。
Claims (7)
- 【請求項1】陰イオン交換基または陰イオン交換基に変
換できる活性基を有し、芳香族環を含む重合体(以下重
合体1という)25〜95質量%と、陰イオン交換基ま
たは陰イオン交換基に変換できる活性基を有しない重合
体(以下重合体2という)5〜75質量%とを混合し、
得られた組成物を膜状に成形する陰イオン交換膜の製造
方法であって、重合体1を構成する繰返し単位の芳香族
環と、重合体1を構成する別の繰返し単位の芳香族環ま
たは重合体2の架橋部位とを架橋させる工程、および重
合体1が陰イオン交換基に変換できる活性基を有する重
合体の場合は、該活性基を陰イオン交換基に変換する工
程を含む陰イオン交換膜の製造方法。 - 【請求項2】重合体1が式1で示される繰り返し単位を
有する重合体であり、重合体2が式2で示される重合体
である請求項1記載の陰イオン交換膜の製造方法。 【化1】 式1において、WはPh、Ph−Ph、またはPh−C
(CH3)2−Phであり、Phはフェニレン基であ
る。ただし、Wにおいて芳香族環に結合した水素原子の
少なくとも1個は−(CH2)sX(sは1〜5の整
数、XはCl、Br、I、ヒドロキシル基または−NR
1R2)で置換されてなる。ここで、R1およびR2は
互いに同一または異なる水素、炭素数1〜5のアルキル
基または炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基である。
Q1およびQ2は互いに同一または異なる炭素数1〜8
の炭化水素基またはフッ素原子を示す。a、bは0〜4
の整数、a+bは0〜8である。式2において、Yおよ
びZは互いに異なるO、O−Ph−O、O−Ph−Ph
−O、O−Ph−C(CH3)2−Ph−O、Sであ
り、Phはフェニレン基である。mは10〜100であ
り、nは0〜100である。 - 【請求項3】重合体1が、式1で示される繰り返し単位
におけるWがPh−Phであり、X基がClである重合
体であり、重合体2が、式2で示される重合体における
YがOであり、n=0である重合体である請求項2記載
の陰イオン交換膜の製造方法。 - 【請求項4】重合体1が、式1で示される繰り返し単位
を有し、XがCl、BrまたはIである重合体であっ
て、重合体1と重合体2との混合物における−(C
H2)sX基の含有量が1.0〜4.0mmol/gで
ある請求項2記載の陰イオン交換膜の製造方法。 - 【請求項5】重合体1を構成する繰返し単位の芳香族環
と重合体1を構成する別の繰返し単位の芳香族環とをポ
リアミンで架橋させる工程を含む請求項1〜4いずれか
記載の陰イオン交換膜の製造方法。 - 【請求項6】ポリアミンが式3で示される化合物である
請求項5記載の陰イオン交換膜の製造方法。 (R)2N−(CH2)t−N(R)2 ・・・式3 式3においてtは1〜5の整数。Rは水素原子、炭素数
1〜5のアルキル基、または炭素数1〜5のヒドロキシ
アルキル基。 - 【請求項7】25℃の0.5mol/L硫酸中における
比抵抗が50〜6000Ω・cmであり、面積抵抗が
0.1〜20Ω・cm2である請求項1〜6いずれか記
載の陰イオン交換膜の製造方法。
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