JP4530951B2 - Dielectric constant measurement method and open-ended half-wavelength coplanar line resonator - Google Patents
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Description
本発明は誘電定数測定方法及び両端開放形半波長コプレナーラインに関するもので、特に誘電体薄膜の10GHz以上のマイクロ波、ミリ波領域における比誘電率の直流電圧依存性の測定に適した誘電定数測定方法及び両端開放形半波長コプレナーライン共振器に関するものである。 The present invention relates to a dielectric constant measuring method and a half-wavelength coplanar line having open ends, and particularly suitable for measuring the direct current voltage dependence of the relative dielectric constant of a dielectric thin film in the microwave and millimeter wave regions of 10 GHz or higher. The present invention relates to a measurement method and an open-ended half-wavelength coplanar line resonator.
近年、高誘電率薄膜における比誘電率の直流電圧依存性を利用した高周波回路の開発や、このための薄膜誘電体材料の開発が盛んに行われている。これらの高周波回路や材料の開発のために、高誘電率薄膜の比誘電率、誘電正接、比誘電率の直流電圧依存性をマイクロ波やミリ波で測定する技術が求められている。高誘電率薄膜の比誘電率、誘電正接をマイクロ波からミリ波で測定する方法として、非特許文献1に高誘電率薄膜でコンデンサを構成し、コンデンサのS11(反射の大きさを示すSパラメター)の測定から比誘電率、誘電正接を測定する方法が報告されている(非特許文献1参照)。
しかしながら、非特許文献1の測定方法においては、高誘電率薄膜コンデンサの周辺や測定端子であるプローバーと高誘電率薄膜コンデンサの間に生じる電気的寄生パラメターの補正の仕方により、比誘電率や誘電正接の測定結果が変化するという問題がある。又、比誘電率の直流電圧依存性は通常1MHz以下の周波数で測定されており、マイクロ波やミリ波における測定方法は報告されていない。 However, in the measurement method of Non-Patent Document 1, the relative permittivity and dielectric constant are determined depending on how the electric parasitic parameter generated between the prober and the high dielectric constant thin film capacitor around the high dielectric constant thin film capacitor is corrected. There is a problem that the measurement result of tangent changes. Further, the direct current voltage dependency of the dielectric constant is usually measured at a frequency of 1 MHz or less, and no measurement method using microwaves or millimeter waves has been reported.
従って、本発明は、誘電率薄膜の誘電定数をマイクロ波やミリ波で高精度に測定できる誘電定数測定方法及び両端開放形半波長コプレナーライン共振器を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a dielectric constant measuring method and an open-ended half-wavelength coplanar line resonator capable of measuring the dielectric constant of a dielectric constant thin film with high accuracy using microwaves or millimeter waves.
本発明の誘電定数測定方法は、誘電体基板上に配置された直線状の中心導体の長さ方向の両端と、該中心導体と間隔を開けて該中心導体の周囲を囲むように前記誘電体基板上に配置されたグラウンド導体との間の少なくとも一方に、厚み方向の両端面に電極が形成された測定試料が配置されて、一方の前記電極が前記中心導体に接続され、他方の前記電極が前記グラウンド導体に接続された両端開放形半波長コプレナーライン共振器を励振させる共振器励振工程と、前記両端開放形半波長コプレナーライン共振器の共振周波数及び/又は無負荷Q値を測定する測定工程と、前記共振周波数及び/又は無負荷Q値の測定値から前記測定試料の厚み方向における誘電定数を算出する算出工程とを具備することを特徴とする。
Yuden constant measurement method of the present invention, the dielectric so as to surround the both ends in the longitudinal direction of the arranged linear central conductor on a dielectric substrate, the periphery of said central conductor to open the said central conductor and spacing in at least one hand between the deployed ground conductor on the body substrate, and the measurement sample electrode on both end surfaces in the thickness direction is formed is arranged, is one of the electrodes is connected to said center conductor, a resonator excitation step of the other of said electrodes to excite both end open type half-wavelength coplanar line resonators connected to said ground conductor, said end open type half-wavelength coplanar line resonator of the resonance frequency and / or free a measuring step of measuring the load Q value, characterized by comprising a calculation step of calculating the dielectric constant in the thickness direction of the measurement sample from the measured values of the resonant frequency and / or unloaded Q value.
このような誘電定数測定方法によれば、コプレナーライン共振器の開放部に測定試料による平行平板コンデンサを形成することができるので、測定試料の面に対する垂直方向(厚み方向)の誘電定数を測定できる。さらに、誘電率測定のための共振器と試料を平面回路として一体に作製できるため、立体共振器を利用する場合に比べ、共振器形成に伴う測定誤差を最小限に抑制できる。
According to such a dielectric constant measurement method, a parallel plate capacitor can be formed from the measurement sample in the open part of the coplanar line resonator, so the dielectric constant in the direction perpendicular to the surface of the measurement sample (thickness direction) is measured. it can. Furthermore, it is possible to integrally manufactured as planar circuit resonator and a sample for dielectric constant measurement, compared to the case of using the three-dimensional resonator can be suppressed to a minimum measurement errors associated with the resonator formed.
本発明の誘電定数測定方法は、測定すべき誘電定数が比誘電率、又は誘電正接である場合に好適に用いることができる。即ち、コプレナーライン共振器の開放部には電界が最も強く分布するので、開放部に測定試料を配設することにより、測定試料の比誘電率を効果的に共振器の共振周波数へ反映させ、かつ試料の誘電正接を効果的に共振器の無負荷Q値に反映させることができるからである。又、コプレナーライン共振器の開放部では磁界が最も弱くなるので、測定試料が透磁率(磁性)を持つ場合でも、透磁率による共振周波数の変化を最小限に抑制して、比誘電率を精度良く測定できるからである。
Yuden constant measurement method of the present invention, the dielectric constant of the dielectric constant to be measured, or can be suitably used in the case of a dielectric loss tangent. That is, since the electric field is most strongly distributed in the open part of the coplanar line resonator, the relative permittivity of the measurement sample is effectively reflected in the resonance frequency of the resonator by arranging the measurement sample in the open part. This is because the dielectric loss tangent of the sample can be effectively reflected in the unloaded Q value of the resonator. In addition, since the magnetic field is the weakest at the open part of the coplanar line resonator, even if the measurement sample has magnetic permeability (magnetism), the change in the resonance frequency due to the magnetic permeability is suppressed to the minimum, and the relative dielectric constant is increased. This is because it can be measured with high accuracy.
本発明の誘電定数測定方法は、測定試料が厚さ50μm以下のセラミックス、又は有機
系誘電体である場合に特に有効である。一般に厚さ50μm以下のセラミックス、又は有機系誘電体、又は薄膜の誘電特性を空洞共振器等の立体回路共振器で測定する場合、測定試料が自立できないので測定が困難となる。本発明の測定方法では、誘電体基板上に測定試料、電極を一体に形成して誘電定数を測定できるので、測定試料の作製が容易である。
Yuden constant measurement method of the present invention is particularly effective when the measurement sample is thick 50μm following ceramics, or an organic based dielectric. In general, when the dielectric properties of ceramics, organic dielectrics, or thin films having a thickness of 50 μm or less are measured with a three-dimensional circuit resonator such as a cavity resonator, the measurement sample cannot stand by itself, which makes measurement difficult. In the measurement method of the present invention, the measurement sample and the electrode are integrally formed on the dielectric substrate, and the dielectric constant can be measured. Therefore, the measurement sample can be easily produced.
さらに、厚さ50μm以下のセラミックス、又は有機系誘電体、又は薄膜の誘電特性を平面回路の共振器で測定する場合、導体損が大きくなるため無負荷Q値が低下し、測定が困難となる。しかしながら、本発明の誘電定数の測定方法によれば、電流が最も強く流れる共振器の中央部では中心導体とグラウンド導体の間隔を、ストリップライン共振器や、マイクロストリップライン共振器に比べて広げることができるので、導体損を抑制することができる。このことにより、導体損による共振器の無負荷Qの低下を抑制でき、測定精度の改善を図ることができる。
Furthermore, when measuring the dielectric properties of ceramics, organic dielectrics, or thin films with a thickness of 50 μm or less with a resonator of a planar circuit, the conductor loss increases and the unloaded Q value decreases, making measurement difficult. . However, according to the measuring method of Yuden constants of the present invention, the distance between the center conductor and the ground conductor in the central portion of the resonator in which a current flows most strongly, and the strip line resonator, spread compared to the microstrip line resonator Therefore, conductor loss can be suppressed. As a result, it is possible to suppress the decrease in the unloaded Q of the resonator due to the conductor loss, and it is possible to improve the measurement accuracy.
本発明の誘電定数測定方法は、測定試料が厚さ5μm以下の誘電体薄膜である場合にさらに有効となる。一般に誘電体薄膜の誘電的特性は、基板の影響を受けて変化することが知られている。さらに誘電体薄膜が電気回路の中で利用される場合、基板の同一面内に対向する電極(例えば櫛形電極)を形成し、コンデンサとする場合と、誘電体薄膜の上下に電極を形成して平行平板コンデンサとして使用する場合がある。前者の場合、誘電体基板上に形成された誘電体薄膜の面方向の誘電特性が重要であり、後者の場合、導体上(下部電極上)に形成された誘電体薄膜の面に対して垂直方向(厚み方向)の誘電特性が重要である。
Yuden constant measurement method of the present invention will become more effective when the measurement sample is less dielectric film thickness 5 [mu] m. In general, it is known that the dielectric properties of a dielectric thin film change under the influence of a substrate. Furthermore, when a dielectric thin film is used in an electric circuit, opposing electrodes (for example, comb electrodes) are formed on the same surface of the substrate to form a capacitor, and electrodes are formed above and below the dielectric thin film. It may be used as a parallel plate capacitor. In the former case, the dielectric properties in the surface direction of the dielectric thin film formed on the dielectric substrate are important. In the latter case, the dielectric film is perpendicular to the surface of the dielectric thin film formed on the conductor (on the lower electrode). The dielectric properties in the direction (thickness direction) are important.
本発明の誘電定数測定方法を誘電体薄膜に適用した場合、導体上(下部電極上)に形成された誘電体薄膜の面に対して垂直方向の誘電特性と、その電圧依存性の測定が可能である。
If the Yuden constant measuring method of the present invention is applied to the dielectric thin film, and the dielectric characteristics in a direction perpendicular to the plane of the dielectric thin film formed on the conductor (the lower electrode), its voltage dependence of the measurement Is possible.
本発明の誘電定数の計算方法は、両端開放形半波長コプレナーライン共振器の共振周波数f0及び無負荷Q値Quを測定し、これらのデータを用いて、FEM(有限要素法)等の数値解析により、測定試料の比誘電率と誘電正接等の誘電定数を算出できる。 Calculation of the dielectric constant of the present invention measures the resonance frequency f 0 and the unloaded Q value Q u of the open ends form a half-wavelength coplanar line resonator, using these data, FEM (finite element method) Through the numerical analysis, it is possible to calculate the dielectric constant such as the relative dielectric constant and dielectric loss tangent of the measurement sample.
測定試料の比誘電率の算出のためには、想定される範囲で比誘電率と共振周波数の関係をFEM(有限要素法)等の数値解析で求めておき、この関係を適当な関数で近似し、この近似関数と共振周波数f0の測定値から比誘電率を算出する。また、誘電正接の算出のためには、共振器の形状因子Gや測定試料と誘電体基板のそれぞれの電界エネルギー集中率PeをFEM等で計算し、このG、PeとQuの測定値から試料の誘電正接を算出する。 In order to calculate the relative permittivity of the measurement sample, the relationship between the relative permittivity and the resonance frequency is obtained by numerical analysis such as FEM (finite element method) within an assumed range, and this relationship is approximated by an appropriate function. and to calculate the dielectric constant from the measured values of the resonance frequency f 0 and the approximate function. In order to calculate the dielectric loss tangent, the resonator form factor G and the electric field energy concentration rate Pe of each of the measurement sample and the dielectric substrate are calculated by FEM, and the sample is calculated from the measured values of G, Pe and Qu. Is calculated.
本発明の両端開放形半波長コプレナーライン共振器は、誘電体基板上に配置された直線状の中心導体の長さ方向の両端と、該中心導体と間隔を開けて該中心導体の周囲を囲むように前記誘電体基板上に配置されたグラウンド導体との間の少なくとも一方に、厚み方向の両端面に電極が形成された測定試料が配置されて、一方の前記電極が前記中心導体に接続され、他方の前記電極が前記グラウンド導体に接続されていることを特徴とする。
An open-ended half-wavelength coplanar line resonator according to the present invention has both ends in the length direction of a linear center conductor disposed on a dielectric substrate, and a periphery of the center conductor spaced from the center conductor. at least one hand, and the measurement sample electrode on both end surfaces in the thickness direction is formed is arranged, one of the electrodes is the center between the dielectric substrate on the arranged ground conductor so as to surround is connected to the conductor, the other of said electrodes, characterized in Tei Rukoto connected to the ground conductor.
このような両端開放形半波長コプレナーライン共振器では、上述した測定方法に有効に用いることができるだけでなく、セラミックス薄層や誘電体薄膜を利用したフィルタ等の電子部品の基本構造となる共振器としても有効である。 In such an open-ended half-wavelength coplanar line resonator, not only can it be used effectively in the measurement method described above, but also a resonance that is the basic structure of electronic parts such as filters using ceramic thin layers and dielectric thin films. It is also effective as a vessel.
このような両端開放形半波長コプレナーライン共振器では、通常の両端開放型半波長コプレナーライン共振器に比較して、両端部のキャパシタンスを大きくできるため、フィルタ等の小型化に有効である。また、通常の両端開放型半波長コプレナーライン共振器に比較して、導体損を小さくできるので、低損失化に有効である。 Such a double-ended open half-wavelength coplanar line resonator can increase the capacitance at both ends compared to a normal open-ended half-wavelength coplanar line resonator, and is therefore effective for downsizing filters and the like. . In addition, the conductor loss can be reduced as compared with a normal open-ended half-wavelength coplanar line resonator, which is effective in reducing the loss.
本発明の誘電定数測定方法によれば、測定試料(誘電体薄膜)の面に対して垂直方向(厚み方向)の誘電定数と、その電圧依存性の測定が可能である。
According to the dielectric constant measuring method of the present invention, the dielectric constant of the measurement perpendicular to the plane of the constant sample (dielectric thin film) (thickness direction), it is possible that voltage dependence of the measurement.
(測定試料の面方向における誘電定数測定方法)
面方向における誘電定数測定方法を、測定試料が薄膜の場合を例にして、図1を用いて説明する。
(Dielectric constant measurement method in the surface direction of the measurement sample)
A method for measuring the dielectric constant in the plane direction will be described with reference to FIG. 1, taking as an example the case where the measurement sample is a thin film.
誘電体基板の上に形成された誘電体薄膜の面方向の誘電特性と、その電圧依存性の測定を行なうために、図1に示す両端開放形半波長コプレナーライン共振器A1を作製する。この両端開放形半波長コプレナーライン共振器は、誘電体基板1と中心導体2とグラウンド導体3と測定試料4とを具備して構成されている。
In order to measure the dielectric properties in the plane direction of the dielectric thin film formed on the dielectric substrate and the voltage dependence thereof, the open-ended half-wavelength coplanar line resonator A1 shown in FIG. 1 is fabricated. This open-ended half-wavelength coplanar line resonator includes a dielectric substrate 1, a
誘電体基板1の上面に、中心導体2とグラウンド導体3が形成されており、さらに開放部の両方に、中心導体2とグラウンド導体3に一部が被さるように誘電体薄膜の測定試料4を形成する。即ち、誘電体基板1の上面に、内部が開口した矩形枠状のグラウンド導体3が形成されており、この開口部における誘電体基板1上には直線状の中心導体2が形成されている。この中心導体2の両端とグラウンド導体3とは離間しており、これらの2箇所の開放部には測定試料4が充填されている。即ち、中心導体2の両端とグラウンド導体3との間には、測定試料4が充填され、さらに測定試料4は、解放部の周囲の中心導体2、グラウンド導体3上面にも積層されている。
A
誘電体基板1はサファイア基板等が望ましく、その上面にAuやPt等の中心薄膜導体2とグラウンド薄膜導体3がスパッタ等で形成され、さらに開放部の両方に、中心導体2とグラウンド導体3に一部が被さるように誘電体薄膜からなる測定試料4をスパッタ等で形成する。
The dielectric substrate 1 is preferably a sapphire substrate or the like. A central
次に測定工程について述べる。一方の同軸ケーブル6の先端に形成されたループアンテナ7で共振器A1を励振し、他方のループアンテナ7で検波し、ネットワークアナライザー等の測定器で共振周波数f0と無負荷Q値Quを測定する。共振周波数f0より測定試料4の比誘電率ε’を、無負荷Q値Quより測定試料4の誘電正接tanδを計算する。比誘電率ε’と誘電正接tanδの直流電圧依存性を求める場合は、中心導体2とグラウンド導体3の間に直流電圧を印加して共振周波数f0と無負荷Q値Quの直流電圧依存性を測定し、比誘電率ε’と誘電正接tanδの直流電圧依存性を計算する。
Next, the measurement process will be described. Exciting the resonator A1 with the
(測定試料の厚さ方向における誘電定数測定方法)
本発明の誘電定数測定方法を、測定試料が薄膜の場合を例にして、図2を用いて説明する。
(Dielectric constant measurement method in the thickness direction of the measurement sample)
The dielectric constant measuring method of the present invention will be described with reference to FIG. 2, taking as an example the case where the measurement sample is a thin film.
測定試料の面に対して垂直方向(厚さ方向)の誘電特性と、その電圧依存性の測定を行なう場合、図2に示す両端開放形半波長コプレナーライン共振器A2を作製する。この両端開放形半波長コプレナーライン共振器A2は、誘電体基板1と、中心導体2と、グラウンド導体3と、測定試料14と、上部電極5を具備して構成されている。
When measuring dielectric characteristics in the direction perpendicular to the surface of the measurement sample (thickness direction) and voltage dependency thereof, the open-ended half-wavelength coplanar line resonator A2 shown in FIG. 2 is fabricated. This open both-end half-wavelength coplanar line resonator A2 includes a dielectric substrate 1, a
誘電体基板1の上面に、中心導体2とグラウンド導体3が形成されており、さらに開放部の両方に、中心導体2に一部が被さるように誘電体薄膜の測定試料14が形成されている。この測定試料14とグラウンド導体3との間に、上部電極5が配置されており、この上部電極5は、グラウンド導体3の上面及び測定試料14の上面にも形成され、測定試料14は下面が中心導体2の一部である電極上に形成され、上面には、上部電極5が形成され、上部電極5はグラウンド導体3に接続している。
A
測定工程では、上記と同様に、一方の同軸ケーブル6の先端に形成されたループアンテナ7で共振器を励振し、他方のループアンテナ7で検波し、ネットワークアナライザー等の測定器で共振周波数f0と無負荷Q値Quを測定する。
In the measurement process, similarly to the above, the resonator is excited by the
図1、図2に示す両端開放形半波長コプレナーライン共振器の放射損が無視できない場合には、図3に示すように、共振器を囲む遮蔽導体9を設置することが望ましい。この遮蔽導体9は、共振器全体を囲むように構成され、中空矩形構造などが好適である。 When the radiation loss of the open-ended half-wavelength coplanar line resonator shown in FIGS. 1 and 2 cannot be ignored, it is desirable to install a shielding conductor 9 surrounding the resonator as shown in FIG. The shield conductor 9 is configured to surround the entire resonator, and a hollow rectangular structure or the like is preferable.
次に誘電定数の算出方法について説明する。まず、共振器の共振周波数f0の測定値から、有限要素法(FEM)やモードマッチング法などの数値解析により、測定試料4の比誘電率ε’を求める。ここでは有限要素法を用いる場合について述べる。図1で示される両端開放形半波長コプレナーライン共振器の共振周波数f0は、測定試料4の比誘電率ε’、幅W、長さL、厚さt、誘電体基板1の比誘電率ε’s、中心導体2とグラウンド3の厚さtc、中心導体2の幅Wc、長さLc、中心導体2の両端とグラウンド導体3の間隔dの関数となっている。従って、W、L、t、ε’s、tc、Wc、Lc、dを測定値、あるいは設計値に固定し、測定試料4の比誘電率ε’を予想される範囲で数点設定し、対応する共振周波数f0を有限要素法で計算する。これらの計算結果から、共振周波数f0と比誘電率ε’の関係を適当な関数で近似し、この近似式とf0の測定値から、ε’を計算する。
Next, a method for calculating the dielectric constant will be described. First, the relative dielectric constant ε ′ of the measurement sample 4 is obtained from the measured value of the resonance frequency f 0 of the resonator by numerical analysis such as a finite element method (FEM) or a mode matching method. Here, the case where the finite element method is used will be described. The resonance frequency f 0 of the open-ended half-wavelength coplanar line resonator shown in FIG. 1 is the relative permittivity ε ′, width W, length L, thickness t of the measurement sample 4, and the relative dielectric constant of the dielectric substrate 1. It is a function of the ratio ε ′s, the thickness tc of the
次に、無負荷Q値Quの測定値から、測定試料4の誘電正接tanδを下記式1により求める。
式1において、μは導体の透磁率であり、非磁性導体では、μは真空の透磁率μ0=4π×10−7H/mに等しい。Peは測定試料4内の電界エネルギーの集中率、Pesは誘電体基板1内の電界エネルギーの集中率、Gは共振器の形状因子であり、非特許文献2「J. Krupka, K. Derzakowski, A. Abramowicz, M.E. Tobar and R.G. Geyer, “Use of whispering-gallery modes for complex permittivity determinations of ultra-low-loss dielectric materials,” IEEE Trans. Microwave Theory Tech., vol. 47, pp.752-759, June 1999」に記載されている。tanδsは誘電体基板の誘電正接である。
In Equation 1, μ is the magnetic permeability of the conductor, and for a nonmagnetic conductor, μ is equal to the vacuum magnetic permeability μ 0 = 4π × 10 −7 H / m. P e is concentration ratios of electric field energy in the sample 4, P es the concentration ratios of electric field energy in the dielectric substrate 1, G is a shape factor of the resonator,
電界エネルギーの集中率は、共振器に蓄えられる電界エネルギーに対する、個々の部分に蓄えられる電界エネルギーの分率として定義される。PeとPesは次式2で与えられる。
式1のGはリング共振器の形状因子を示すもので、次式4で与えられる。
式2、3、4は、有限要素法(FEM)やモードマッチング法などの数値解析法により求める。
計算されたPe、Pes、Gと、別法による導電率σの測定値あるいは文献値、さらに別法によるtanδsの測定値あるいは文献値を式1に代入し、tanδを求める。 Calculated P e, P es, and G, measurements or literature value of the conductivity σ by alternative, yet substituting the measured values or the literature values for tan [delta s by alternative to Formula 1, obtaining the tan [delta.
σを求める別法としては「A. Nakayama, Y. Terashi, H. Uchimura and, A. Fukuura, “Conductivity measurement at the interface between the sintered conductor and dielectric substrate at microwave frequencies,” IEEE Trans. Microwave Theory Tech., vol. MTT-50, No.7, pp. 1665-1674, July 2002. 」が望ましい。また、tanδsを求める別法としてはJIS−R1641:2002が望ましい。 Another method for obtaining σ is “A. Nakayama, Y. Terashi, H. Uchimura and, A. Fukuura,“ Conductivity measurement at the interface between the sintered conductor and dielectric substrate at microwave frequencies, ”IEEE Trans. Microwave Theory Tech. , vol. MTT-50, No.7, pp. 1665-1674, July 2002. " As another method for obtaining the tanδ s JIS-R1641: 2002 it is preferable.
1・・・基板
2・・・中心導体
3・・・グラウンド導体
4、14・・・測定試料
5・・・上部電極
A1、A2・・・両端開放形半波長コプレナーライン共振器
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