[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP4408399B2 - 切削ブレードの製造方法 - Google Patents

切削ブレードの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4408399B2
JP4408399B2 JP2004202012A JP2004202012A JP4408399B2 JP 4408399 B2 JP4408399 B2 JP 4408399B2 JP 2004202012 A JP2004202012 A JP 2004202012A JP 2004202012 A JP2004202012 A JP 2004202012A JP 4408399 B2 JP4408399 B2 JP 4408399B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circular base
cutting
cutting blade
semiconductor wafer
outer peripheral
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2004202012A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006021285A (ja
Inventor
啓一 梶山
祐士 新田
歩 岡野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2004202012A priority Critical patent/JP4408399B2/ja
Priority to CNB2005100818887A priority patent/CN100509223C/zh
Publication of JP2006021285A publication Critical patent/JP2006021285A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4408399B2 publication Critical patent/JP4408399B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削ブレード製造方法に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等の回路を形成する。そして、半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断することにより回路が形成された領域を分割して個々の半導体チップを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のストリートに沿った切断は、通常、ダイサーと称されている切削装置によって行われている。この切削装置は、半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するための切削手段と、チャックテーブルと切削手段とを相対的に移動せしめる切削送り手段とを具備している。切削手段は、回転スピンドルと該スピンドルに装着された切削ブレードおよび回転スピンドルを回転駆動する駆動機構を備えたスピンドルユニットを含んでいる。切削ブレードは、円形基台と該円形基台の側面に装着され砥粒をメッキで固定して形成した電鋳砥粒層からなる環状の切れ刃とを具備し、該環状の切れ刃が該円形基台の外周縁より突出して構成されている。(例えば、特許文献1参照。)
特開2000−190155公報
而して、ガリウム砒素、リチウムタンタレート、シリコン、サファイヤ等の難削材によって形成された被加工物を上記切削ブレードによって切削すると、切れ刃の目潰れが起き易く、頻繁に切れ刃のドレッシングを行わなければならず、生産性が悪いという問題がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、難削材からなる被加工物であっても効率よく切削することができる切削ブレード製造方法を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、円形基台と該円形基台の一側面に装着され砥粒をメッキで固定した電鋳砥粒層からなる環状の切れ刃とを具備し、該環状の切れ刃が該円形基台の外周縁から突出して構成された切削ブレード製造方法であって、
該円形基台の一側面外周部に同心円状に複数の溝を形成する溝形成工程と、
該円形基台の一側面外周部に砥粒をメッキで固定した電鋳砥粒層を形成する電着砥粒層形成工程と、
該電着砥粒層が形成された該円形基台の外周部をエッチングして除去し、該円形基台の外周縁より該電鋳砥粒層からなる切れ刃を突出せしめるエッチング工程と、を含む、
ことを特徴とする切削ブレードの製造方法が提供される。
本発明による切削ブレードは、切れ刃の側面に同心円状の複数の溝が形成されているので、この溝を通して切削液を切削点(加工点)に供給することができるため、冷却効率が向上するとともに、自生発刃作用が促進されて切削効率が向上する。従って、本発明による切削ブレードは、難削材であっても効率よく切削することができる。
以下、本発明に従って構成され切削ブレードおよび切削ブレードの製造方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して、更に詳細に説明する。
図1には、本発明に従って構成された切削ブレードを装備して切削装置の斜視図が示されている。図示の実施形態における切削装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2内には、被加工物を保持するチャックテーブル3が切削送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設されている。チャックテーブル3は、吸着チャック支持台31と、該吸着チャック支持台31上に配設された吸着チャック32を具備しており、該吸着チャック32の上面である保持面上に被加工物を図示しない吸引手段を作動することによって吸引保持するようになっている。また、チャックテーブル3は、図示しない回転機構によって回転可能に構成されている。なお、チャックテーブル31には、被加工物として後述する半導体ウエーハを保護テープを介して支持する支持フレームを固定するためのクランプ機構33が配設されている。
図示の実施形態における切削装置は、切削手段としてのスピンドルユニット4を具備している。スピンドルユニット4は、図示しない移動基台に装着され割り出し方向である矢印Yで示す方向および切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整されるスピンドルハウジング41と、該スピンドルハウジング41に回転自在に支持された回転スピンドル42と、該回転スピンドル42の前端部に装着された切削ブレード43とを具備している。なお、切削ブレード43については、後で詳細に説明する。
また、図示の実施形態における切削装置は、上記チャックテーブル3上に保持された後述する被加工物組立体の被加工物の表面を撮像し、上記切削ブレード43によって切削すべき領域を検出するためのアライメント手段6を具備している。このアライメント手段6は、顕微鏡やCCDカメラ等の光学手段からなる撮像手段を具備している。また、切削装置は、アライメント手段6によって撮像された画像を表示する表示手段7を具備している。
上記装置ハウジング2におけるカセット載置領域8aには、被加工物を収容するカセットを載置するカセット載置テーブル8が配設されている。このカセット載置テーブル8は、図示しない昇降手段によって上下方向に移動可能に構成されている。カセット載置テーブル8上には、被加工物を収容するカセット9が載置される。カセット9には、被加工物としての半導体ウエーハ10が収容される。半導体ウエーハ10は、表面に格子状のストリートが形成されており、この格子状のストリートによって区画された複数の矩形領域に回路が形成されている。このように形成された半導体ウエーハ10は、環状の支持フレーム11に装着された保護テープ12の表面に裏面が貼着された状態でカセット9に収容される。
また、図示の実施形態における切削装置は、カセット載置テーブル8上に載置されたカセット9に収容されている半導体ウエーハ10(環状のフレーム11に保護テープ12を介して支持されている状態)を仮置きテーブル14に搬出する搬出手段15と、仮置きテーブル14に搬出された半導体ウエーハ10を上記チャックテーブル3上に搬送する搬送手段16と、チャックテーブル3上で切削加工された半導体ウエーハ10を洗浄する洗浄手段17と、チャックテーブル3上で切削加工された半導体ウエーハ10を洗浄手段17へ搬送する洗浄搬送手段18を具備している。
以上のように構成された切削装置の作動について、簡単に説明する。
カセット載置テーブル8上に載置されたカセット9の所定位置に収容されている半導体ウエーハ10は、図示しない昇降手段によってカセット載置テーブル8が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、搬出手段15が進退作動して搬出位置に位置付けられた半導体ウエーハ10を仮置きテーブル14上に搬出する。仮置きテーブル14に搬出された半導体ウエーハ10は、搬送手段16の旋回動作によって上記チャックテーブル3上に搬送される。チャックテーブル3上に半導体ウエーハ10が載置されたならば、図示しない吸引手段が作動して半導体ウエーハ10をチャックテーブル3上に吸引保持する。また、半導体ウエーハ10を保護テープ12を介して支持する支持フレーム11は、上記クランプ機構33によって固定される。このようにして半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル3は、アライメント手段6の直下まで移動せしめられる。チャックテーブル3がアライメント手段6の直下に位置付けられると、アライメント手段6によって半導体ウエーハ10に形成されているストリートが検出され、スピンドルユニット4を割り出し方向である矢印Y方向に移動調節してストリートと切削ブレード43との精密位置合わせ作業が行われる。
その後、切削ブレード43を矢印Zで示す方向に所定量切り込み送りし所定の方向に回転させつつ、半導体ウエーハ10を吸引保持したチャックテーブル3を切削送り方向である矢印Xで示す方向(切削ブレード43の回転軸と直交する方向)に所定の切削送り速度で移動することにより、チャックテーブル3上に保持された半導体ウエーハ10は切削ブレード43により所定のストリートに沿って切断される。半導体ウエーハ10を所定のストリートに沿って切断したら、チャックテーブル3を矢印Yで示す方向にストリートの間隔だけ割り出し送りし、上記切断作業を実施する。そして、半導体ウエーハ10の所定方向に延在するストリートの全てに沿って切断作業を実施したならば、チャックテーブル3を90度回転させて、半導体ウエーハ10の所定方向と直交する方向に延在するストリートに沿って切削作業を実行することにより、半導体ウエーハ10に格子状に形成された全てのストリートが切削されて個々のチップに分割される。なお、分割されたチップは、保護テープ12の作用によってバラバラにはならず、フレーム11に支持されたウエーハ10の状態が維持されている。
上述したように半導体ウエーハ10のストリートに沿って切断作業が終了したら、半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル3は最初に半導体ウエーハ10を吸引保持した位置に戻される。そして、半導体ウエーハ10の吸引保持を解除する。次に、半導体ウエーハ10は洗浄搬送手段18によって洗浄手段17に搬送される。洗浄手段17に搬送された半導体ウエーハ10は、ここで洗浄および乾燥される。このようにして洗浄および乾燥された半導体ウエーハ10は、搬送手段16によって仮置きテーブル14に搬出される。そして、半導体ウエーハ10は、搬出手段14によってカセット9の所定位置に収納される。従って、搬出手段14は、加工後の半導体ウエーハ10をカセット9に搬入する搬入手段としての機能も備えている。上述した構成および作用は、切削ブレード43を除いて本発明における新規な特徴を有するものではなく、従って従来周知の構成でよい。
次に、本発明によって構成された切削ブレード43の一実施形態について、図2を参照して説明する。
図示の実施形態における切削ブレード43は、円形基台431と、該円形基台431の一側面(図2において右側面)の外周部に装着された環状の切れ刃432とからなっている。環状の切れ刃432は、粒径が0.5〜6μmのダイヤモンド砥粒をメッキで固定して形成した電鋳砥粒層によって形成されており、円形基台431の外周縁より突出して構成されている。なお、環状の切れ刃432の厚さ(t)は30〜50μm、円形基台431の外周縁からの突出量(h)は760〜1200μmに設定されている。 このように構成された環状の切れ刃432の両側面には、それぞれ同心円状に複数の溝432aが形成されている。環状の切れ刃432の一方の側面に形成される複数の溝432aと他方の側面に形成される複数の溝432aは、互いに交互に形成されている。なお、複数の溝432aは、幅(b)が80〜120μm、深さ(c)が3〜10μm程度が適当である。
次に、上記のように構成された切削ブレード43の製造方法について、図3乃至図7を参照して説明する。
切削ブレードを構成する円形基台431は、図3に示すようにアルミニウムによって円形状に形成されている。円形基台431の一方の面431a(図3において上側の面)は平面に形成され、他方の面431b(図3において下側に面)はテーパー状に形成されている。このように形成された円形基台431の一方の面431aの外周部には、同心円状に複数の溝431cを切削加工によって形成する(溝形成工程)。この複数の溝431cを形成する円形基台431の外周部の幅(h0)は、760〜1200μmに設定されている。また、複数の溝431cの幅(b0)は80〜120μm、深さ(c0)は3〜10μmに設定されている。なお、図においては溝431cを誇張して示している。
上述したように溝形成工程を実施したならば、図4に示すように円形基台431には、一方の面431a(図3において上側の面)における外周部(環状の電鋳砥粒層形成部)以外の表面にマスキング用粘着樹脂433によってマスキングする(マスキング工程)。なお、環状の電鋳砥粒層形成部の幅(H)は、上記複数の溝431cを形成する円形基台431の外周部の幅(h0)より3〜5mm大きく設定されている。
次に、マスキング工程を実施した円形基台431を、硫酸ニッケル液に粒径が0.5〜6μmのダイヤモンド砥粒を混入したメッキ液中でニッケルメッキする。この結果、図5に示すように円形基台431の上記マスキングをしていない一方の面431a(図3において上側の面)における外周部(環状の電鋳砥粒層形成部)には、ダイヤモンド砥粒をニッケルメッキで固定した環状の電鋳砥粒層からなる切れ刃432が形成される(電鋳砥粒層形成工程)。この環状の電鋳砥粒層からなる切れ刃432は、同心円状の複数の溝431cに形成された面に沿って形成されるので、その側面には同心円状の複数の溝432aが形成される。なお、上述したニッケルメッキは、環状の電鋳砥粒層からなる切れ刃432の厚さが30〜50μmになるまで実施する。
上述したように電鋳砥粒層形成工程を実施したならば、図6に示すように円形基台431をマスキングしたマスキング用粘着樹脂433の一部、即ち円形基台431の他方の面431b(図6において下側の面)における外周部を剥離する(マスキング用粘着樹脂部剥離工程)。この剥離するマスキング用粘着樹脂433の幅(B)は、上記複数の溝431cを形成する円形基台431の外周部の幅(h0)に略対応する寸法に設定されている。
次に、円形基台431の外周部を水酸化ナトリウム等のエッチング溶液で溶解除去する(エッチング工程)。この結果、図7に示すように円形基台431の外周部、即ちマスキング用粘着樹脂433が剥離された部分がエッチングされて除去され、環状の電鋳砥粒層からなる切れ刃432が円形基台431の外周縁より突出せしめられる
上述したエッチング工程を実施し環状の電鋳砥粒層からなる切れ刃432を露出せしめたならば、円基台板431をマスキングしたマスキング用粘着樹脂433を除去することにより、上述した図2に示す切削ブレード43が得られる。
以上のようにして製作された切削ブレード43は、切れ刃432の側面に同心円状の複数の溝431cが形成されているので、この溝431cを通して切削液を切削点(加工点)に供給することができるため、冷却効率が向上するとともに、自生発刃作用が促進されて切削効率が向上する。従って、本発明による切削ブレード43は、難削材であっても効率よく切削することができる。
本発明に従って構成された切削ブレードを装備した切削装置の斜視図。 本発明に従って構成された切削ブレードの断面図。 本発明による切削ブレードの製造方法における溝形成工程を実施した状態を示す円形基台の断面図。 本発明による切削ブレードの製造方法におけるマスキング工程を実施した状態を示す円形基台の断面図。 本発明による切削ブレードの製造方法における電鋳砥粒層形成工程を実施した状態を示す円形基台の断面図。 本発明による切削ブレードの製造方法におけるマスキング用粘着テープ一部剥離工程を実施した状態を示す円形基台の断面図。 本発明による切削ブレードの製造方法におけるエッチング工程を実施した状態を示す円形基台の断面図。
符号の説明
2:装置ハウジング
3:チャックテーブ
4:スピンドルユニット
6:アライメント手段
7:表示手段
8:カセット載置テーブル
9:カセット
10:半導体ウエーハ
11:環状の支持フレーム
12:保護テープ
14:仮置きテーブル
15:搬出手段
16:搬送手段
17:洗浄手段
18:洗浄搬送手段
43:切削ブレード
431:円形基台
432:切れ刃
432a:溝
433:マスキング用粘着樹脂

Claims (1)

  1. 円形基台と該円形基台の一側面に装着され砥粒をメッキで固定した電鋳砥粒層からなる環状の切れ刃とを具備し、該環状の切れ刃が該円形基台の外周縁から突出して構成された切削ブレード製造方法であって、
    該円形基台の一側面外周部に同心円状に複数の溝を形成する溝形成工程と、
    該円形基台の一側面外周部に砥粒をメッキで固定した電鋳砥粒層を形成する電着砥粒層形成工程と、
    該電着砥粒層が形成された該円形基台の外周部をエッチングして除去し、該円形基台の外周縁より該電鋳砥粒層からなる切れ刃を突出せしめるエッチング工程と、を含む、
    ことを特徴とする切削ブレードの製造方法。
JP2004202012A 2004-07-08 2004-07-08 切削ブレードの製造方法 Expired - Lifetime JP4408399B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004202012A JP4408399B2 (ja) 2004-07-08 2004-07-08 切削ブレードの製造方法
CNB2005100818887A CN100509223C (zh) 2004-07-08 2005-07-06 切削刀片及切削刀片的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004202012A JP4408399B2 (ja) 2004-07-08 2004-07-08 切削ブレードの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006021285A JP2006021285A (ja) 2006-01-26
JP4408399B2 true JP4408399B2 (ja) 2010-02-03

Family

ID=35794930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004202012A Expired - Lifetime JP4408399B2 (ja) 2004-07-08 2004-07-08 切削ブレードの製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4408399B2 (ja)
CN (1) CN100509223C (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4825622B2 (ja) * 2006-08-22 2011-11-30 株式会社リード 多層構造薄刃ブレード及びその製造方法
JP2009269158A (ja) * 2008-05-12 2009-11-19 Disco Abrasive Syst Ltd 切削ブレード
JP5214324B2 (ja) * 2008-05-14 2013-06-19 株式会社ディスコ 切削装置
JP5723740B2 (ja) * 2011-10-11 2015-05-27 株式会社東京精密 ダイシング装置のブレード潤滑機構及びブレード潤滑方法
TWI508803B (zh) * 2013-01-30 2015-11-21 Mgi Zhou Co Ltd 切削刀具的製造方法
JP2017087353A (ja) * 2015-11-10 2017-05-25 株式会社ディスコ 電着砥石の製造方法
JP2018181908A (ja) * 2017-04-04 2018-11-15 株式会社ディスコ 加工方法
CN111347061B (zh) * 2018-12-24 2021-03-30 有研半导体材料有限公司 一种硅环加工的工艺方法
CN110473807B (zh) * 2019-07-16 2021-12-28 江苏籽硕科技有限公司 半导体单片集成电路的蚀刻设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN100509223C (zh) 2009-07-08
JP2006021285A (ja) 2006-01-26
CN1718333A (zh) 2006-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008053341A (ja) ウエーハの加工方法
JP2007214201A (ja) 切削装置
KR100815005B1 (ko) 절삭 블레이드
JP2009083072A (ja) 切削装置の切削ブレード検出機構
JP4408399B2 (ja) 切削ブレードの製造方法
JP2001085365A (ja) ダイシング方法
KR20160092489A (ko) 절삭 블레이드 및 절삭 장치 및 웨이퍼의 가공 방법
JP4373736B2 (ja) 加工装置のチャックテーブル
JP4456421B2 (ja) 加工装置
JP4903445B2 (ja) 切削ブレードの切り込み確認方法
JP2005109155A (ja) 半導体ウェーハの加工方法
JP2010050295A (ja) 被加工物の切削方法
JP5442979B2 (ja) 切削装置
JP2009083010A (ja) 切削装置の切削ブレード検出機構
JP4373711B2 (ja) 切削方法
JP5117772B2 (ja) 切削装置
JP6013934B2 (ja) マーキング治具およびマーキング方法
JP5518587B2 (ja) 切削工具の製造方法
JP5096052B2 (ja) 切削装置
JP2009059749A (ja) ウエーハの切削方法
JP2005066675A (ja) レーザー加工方法
TWI778094B (zh) 金屬露出之基板的加工方法
JP6935131B2 (ja) 板状の被加工物の切断方法
JP7286233B2 (ja) チップの製造方法
JPH11345787A (ja) ダイシング装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060825

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090417

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090421

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090618

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091104

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091109

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4408399

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131120

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term