JP4472422B2 - 表面導電性ゴム材料用の架橋性ゴム組成物、該組成物を架橋してなる表面導電性ゴム材料、およびその用途 - Google Patents
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Description
なる、架橋性ゴム組成物を用いれば、1段工程で、従来と同様の加硫(架橋)成形方法にて、1層構造のゴム材料からなり、厚み方向は絶縁性を有し、表面のみ導電性を有し、しかもゴム材料としての十分な物性(硬度、モデュラス、圧縮永久歪み率等)を有するゴム材料が得られ、表面処理などの新たな工程も不要であり、表面導電性ゴム材料の製造コストを著しく低減できることなどを見出して本発明を完成するに至った。
例えば、(イ)特開2000−178422号公報(特許文献1)には、無機層状化合物とポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、繊維状強化材、フッ素系樹脂、カーボンブラックなどを含む電気製品ターミナル部材用の難燃性ポリブチレンテレフタレート樹脂組成物が開示され、難燃性、低ソリ性、耐熱性、セルフタッピング性等に優れる旨記載されている。
(ハ)特開平7−82398号公報(特許文献3)には、混合コロイド溶液、アニオン性界面活性剤、有機系電解質、無機層状化合物等を含む防曇剤組成物、それを分散剤に分散させた防曇剤、それを熱可塑性樹脂フィルムの表面に塗布、乾燥した防曇性農業用フィルムが開示されている。
び、この複合体(充填剤)がポリマーマトリックス中に微分散されたハイブリッド材料が開示され、ポリマーマトリックスと複合体との相互間力が強く、十分な機械的特性を有し、成形材料、フィルム等に有用であると記載されている。
などに相当する更なる工程が不要であるような架橋性ゴム組成物および上記特性を有する表面導電性ゴム材料を提供することを目的としている。
また本発明は、上記のような特性の導電性ゴム材料の簡単(効率的)かつ安全な製造方法を提供することを目的としている。
以下であり、体積固有抵抗が1010Ω・cm以上であることを特徴としている。
(i)架橋性ゴムと、
該ゴム100重量部に対して、
(ii)有機化処理された層状化合物2.0〜15.0重量部と、
(iii)導電性フィラー3.0〜10.0重量部と、
(iv)架橋剤とを含んでなることを特徴としている。
本発明では、上記架橋処理は、架橋性ゴム組成物を、1次加熱加硫成形した後に、2次
加硫を行うものであることが望ましい。
(i−a)架橋ゴムと、
該ゴム100重量部に対して、
(ii)有機化処理された層状化合物2.0〜15.0重量部と、
(iii)導電性フィラー3.0〜10.0重量部と、
とを含んでなることを特徴としている。
あり、体積固有抵抗が1010Ω・cm以上であることが好ましい。
本発明に係る帯電防止用成形体は、上記の何れかに記載の表面導電性ゴム材料のみからなるか、この表面導電性ゴム材料を少なくとも一部に用いてなることを特徴としている。
(i)架橋性ゴムと、
(ii)有機化処理された層状化合物と、
(iii)導電性フィラーと、
(iv)架橋剤とを含んでなる架橋性ゴム組成物を、架橋処理することを特徴としている。
本発明に係る表面導電性ゴム材料は、(i)架橋性ゴムと、(ii)有機化処理された層状化合物と、(iii)導電性フィラーと、必要により(iv)架橋剤とを含んでなる架橋性ゴム組成物を架橋処理(加硫)してなる。この表面導電性ゴム材料の好ましい態様では、その表面固有抵抗が106Ω以下であり、体積固有抵抗が1010Ω・cm以上である。
まず、架橋性ゴム組成物について説明する。
<架橋性ゴム(i)>
架橋性ゴム組成物に含まれる架橋性ゴム(未加硫ゴム)(I)としては、天然ゴム、合成ゴムの何れでもよく、また2元系、3元系などの何れでもよく、過酸化物加硫、含硫黄加硫、エネルギー線(例:電子線)による架橋など、加硫(架橋)タイプの点でも特に制限はなく、従来より公知のものを適宜選択して用いることができる。
<有機化処理された層状化合物(ii)>
有機化処理に供される層状化合物(ホスト、未処理物)あるいは膨潤性粘土鉱物としては、天然物、合成鉱物等、種類は限定されないが、例えば、特開平8−302025号公報の[0014]欄に記載されているような膨潤性粘土鉱物、具体的には、天然又は合成雲母(マイカ)、天然又は合成スメクタイト、バーミキュライト、クロライト等が挙げられ、中でも合成雲母(マイカ)、合成スメクタイトが不純物が少ない点で好ましい。またこれらの層状化合物の平均粒径(D50)は、通常、0.1〜100μm程度、好ましくは0.1〜2μm程度である。これら未処理の層状化合物は、1種または2種以上組合わせて用いてもよい。
このように層状化合物の混合液に例えばアンモニウム塩を添加・混合することなどによ
り、層状化合物とアンモニウム塩とを接触、反応させると、例えば、親水性マイカでは、その層間に存在するナトリウムイオン(Na+)が、有機分子である例えば、第4級アン
モニウム塩の陽イオン(第4級アンモニウムイオン)、例えば、下記式(a)中の[N(R1)(R2)(R3)(R4)]+1(R1〜R4は全てアルキル基など)で表される陽イオンと入れ替わり、イオン交換が行われるか、あるいは上記第4級アンモニウム塩分子の包接、配位などが生じ、上記層間に有機カチオンや有機分子がインターカレート(包接)されるのであろうと考えられる。
未反応物)を除去すると、アンモニウム塩(アミン塩)にて処理された層状化合物(ii
)が得られる。このような処理では、多くの場合、アンモニウムイオンがホスト中にインターカレートされた層状化合物(ii)が得られるものと考えられる。
なお、上記アンモニウム塩(アミン塩)などのアミン誘導体としては、例えば、特開平8−302025号公報の[0015]〜[0018]欄に記載されているようなアンモニウム塩類(アミン塩)、例えば、該公報に記載の下記アルキルアンモニウム塩(a−1);
特開平9−194822号公報の[0006]欄に記載されているようなアミン類(例:脂肪族、芳香族第1〜第3アミンなど)の塩酸塩、臭酸塩など;さらにはアミン類の水溶液;などが挙げられる。
30程度であることが好ましい。)Xは、塩を構成する酸の陰イオン(例えば、Cl-等
のハロゲンイオン、NO3 -、SO4 2-)などを示す。mは陰イオンの価数を示し、好まし
くは1、2、特に1が望ましい。]
で表されるものが挙げられる。
このような有機アンモニウム塩としては、例えば、特開平8−290907号公報の[0015]欄に記載の合計炭素数が4〜23である有機アンモニウム塩が挙げられ、具体的には、上記式(a)に属し、(a−1)には属さないものとして、テトラメチルアンモニウム塩 、テトラエチルアンモニウム塩 、フェニルトリメチルアンモニウム塩 等のア
ルキル又はアリールトリメチルアンモニウム塩 、ジオクチルジメチルアンモニウム塩 、ジデシルジメチルアンモニウム塩 等のジアルキルジメチルアンモニウム塩 、又はジアリールジメチルアンモニウム塩が挙げられる。
チルトリメチルアンモニウム塩 、ヘキシルトリメチルアンモニウム塩 、ヘプチルトリメチルアンモニウム塩 、オクチルトリメチルアンモニウム塩 、ノニルトリメチルアンモニウム塩 、デシルトリメチルアンモニウム塩 、ドデシルトリメチルアンモニウム塩 、テ
トラデシルトリメチルアンモニウム塩等が挙げられる。
このようなアルキルアミン塩などのアミン誘導体は、従来より公知であり、例えば、(
第1〜第3)アルキルアミンなどと、酸(例:塩酸、硝酸、硫酸など)、水、ハロゲン化
アルキル、ハロゲン化アリールなどとの反応で得られる。
のHがアルキル基(CnH2n+1、n=1〜20の整数)にて1〜3個置換された構造の第1〜第3n-ヘキシルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン等のアルキルアミン(第1〜第3アミン)が挙げられ、中でも第1〜第3n−ドデシルアミンが望ましい
。
有機化処理された層状化合物(ii)として、上市されているものでは、「ソマシフMEE」{コープケミカル社製}、「スメクタイトSAN」{コープケミカル社製}、「ス
メクタイトSTN」{コープケミカル社製}等が挙げられる。
<導電性フィラー(iii)>
導電性フィラー(iii)としては粒子状、繊維状、および鱗片状のものなどがある。
本発明では、これらの導電性フィラーを1種または2種以上組合わせて用いてもよい。<架橋剤(iv)>
架橋剤(加硫剤)(iv)としては、上記架橋性ゴム(i)の種類に対応して、必要により、従来より公知のもののうちから適宜選択される。
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン(日本油脂社製「パーヘキサ25B」)、ジクミルペルオキシド(日本油脂社製、「パークミルD」)、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルジクミルパーオキサイド、ベンゾイルペルオキシド(日本油脂社製、「ナイパーB」)、2,5-ジメチル−2,5−(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3(日本油脂社製、「パーヘキ
シン25B」)、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、α,α’-ビス(t−ブチルペルオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン(日本油脂社製、「
パーブチル P」)、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、パラクロロベン
ゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエート等が挙げられる。
ル)ベンゼンが好ましい。
<共架橋剤(v)>
必要により配合される共架橋剤(加硫助剤)(v)としては、具体的には、例えば、トリアリルイソシアヌレート(日本化成社製、「TAIC」)、トリアリルシアヌレート、トリアリルホルマール、トリアリルトリメリテート、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、ジプロパギルテレフタレート、ジアリルフタレート、テトラアリルテレフタルアミド等のラジカルによる共架橋可能な化合物が挙げられる。
これらのうちでは、トリアリルイソシアヌレートが耐熱性等の点で好ましい。
(ii)有機化処理された層状化合物(層間化合物)は、通常2.0〜15.0重量部の量
で、
(iii)導電性フィラーは通常3.0〜10.0重量部の量で、
(iv)架橋剤量は通常特に限定されないが、好ましくは0.5〜2.0重量部の量で含まれていることが望ましい。
また、上記導電性フィラー(iii) の含有量が上記範囲より少ないと得られる表面導
電性ゴム材料は、絶縁性となり、また上記範囲より多いと導電性は高くなるが成型後の材料表面にひどい粘着性が発現する傾向がある。
また、共架橋剤(v)の含有量が上記範囲より少ないと得られる表面導電性ゴム材料は引張り強さの低下、圧縮永久歪み率の悪化の傾向が見られ、また上記範囲より多いと製造時の混練り作業性が悪化する傾向がある。
<その他の配合成分>
本発明に係る架橋性ゴム組成物は、上記成分(i)、(ii)、(iii)、必要により成分(iv)、成分(v)などを含んでいるが、必要により、さらに溶剤、可塑剤、有機・無機充填材、有機・無機顔料などを適宜量で含んでいてもよい。
本発明に係る架橋性ゴム組成物の製法は、それぞれ上記量の架橋性ゴム(i)と、有機化処理された層状化合物(ii)と、導電性フィラー(iii)と、必要により架橋剤(
iv)と、さらに必要により、共架橋剤(v)などとを1度に、あるいは任意の順序で添
加して、混合すなわち、攪拌、混練等すればよい。
本発明に係る導電性ゴム材料は、架橋性ゴム組成物を、従来より公知の方法にて上記架橋処理して得られるが、このような架橋処理は、架橋性ゴム組成物を、1次加熱加硫成形
した後に、2次加硫を行うものであることが引張り強さ、圧縮永久歪み率の向上の点から望ましい。
この導電性ゴム材料では、後述するように、含まれる層状化合物(ii)が面方向に配向していると推測され、そのため、この導電性ゴム材料では、特に、後述するような低い表面固有抵抗と、高い体積固有抵抗とが発現していると考えられる。
(iii)導電性フィラーは3.0〜10.0重量部の量で含まれていることが望ましい。
1010Ω・cm以上、特に1010〜1015Ω・cmであることが前記「背景技術」欄等で述べたような種々の用途に好適に用いる上で望ましい。
<図1>
図1には、シート状の本発明の表面導電性ゴム材料(ゴムシート)が模式的に示されている。図1では、絶縁性フィラーとして機能する層状化合物(ii)を「−」で示し、導電性フィラー(iii)を「・」で示している。
連続に存在するために、例えば、シート状の導電性ゴム材料の表裏面方向の抵抗値である「体積固有抵抗」が、層状化合物(ii)無配合のゴム材料(「比較例1」参照)に比して、本発明の導電性ゴム材料(「実施例1」参照)では増大しているものと考えられる。
体積固有抵抗(JIS K6911準拠)は、「絶縁性材料」では1010Ω・cm以上の範囲にあり、「半導電性材料」では109Ω〜105Ω・cmの範囲にあり、「導電性材料」では104Ω・cm以下の範囲にある。
本発明に係る表面導電性ゴム材料の製造方法は、上記(i)架橋性ゴムと、
(ii)有機化処理された層状化合物と、(iii)導電性フィラーと、必要により(iv)架橋剤とを含んでなる上記架橋性ゴム組成物を、架橋処理することを特徴としている。
「2次加硫」は、例えば、1次加硫温度より10〜50℃程度高温で配合成分、特に有機物の加硫ゴム、有機化処理された層状化合物などの分解温度未満の温度である、加熱温度160〜200℃で、1〜24時間に保持することにより行われる。
などが加わるようにしたほうが、表面導電性をより下げ、体積抵抗をより上げる上で有効である。層状化合物(ii)の分散性、配向が促進されるためと推測される。
[帯電防止用成形体]
本発明に係る帯電防止用成形体は、上記したような表面導電性ゴム材料のみからなるか、この表面導電性ゴム材料を少なくとも一部に用いてなる。
また、この表面導電性ゴム材料を少なくとも一部に用いてなる帯電防止用成形体としては、この表面導電性ゴム材料と他の樹脂、ゴム、金属などを適宜積層、貼付、縫合するなどの公知の方法で加工して得られる、前述したようにコントロールルームの壁材、床材、作業テーブル、作業員の着衣、靴、手袋、保護眼鏡やマスクなどが挙げられる。
場合には、漏電等により床や壁等と当該衣類が接触した場合にも、当該衣料などを着用している作業員が障害等を受けることがない。
[実施例]
以下、本発明に係る架橋性ゴム組成物及びこれを加硫(架橋)して得られる表面導電性ゴム材料(成形体)について、実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明は係る実施例により何ら限定されるものではない。
(硬さ)
JIS−K6253に準拠し、25℃でデュロメータータイプA硬さ試験にて測定した。
(引張り強度)
JIS−K6251に準拠して25℃にて測定した。
(伸び)
JIS−K6251に準拠して25℃にて測定した。
(圧縮永久歪み)
JIS−K6262に準拠し、120℃×70時間、圧縮率25%の条件で、φ29×12.5ディスクを使用して、圧縮永久歪率を測定した。
(100%引張応力(モジュラス))
JIS K-6256に準拠し、標線が巾40mmになった時点の応力を測定した。
(表面固有抵抗)
(イ) JIS K6911準拠し、超絶縁計(TOA(株)製、型番「DSM8103」)を用いて表面固有抵抗を測定した。
(ロ) 表面固有抵抗が10 +6 Ω以下の場合の測定
自動絶縁抵抗計(NATIONAL社製、型番「DN−500UB」)を用いて表面固有抵抗を測定した。
(体積固有抵抗)
JIS K6911準拠し、超絶縁計(TOA(株)製、型番「DSM8103」)を用いて体積固有抵抗を測定した。
表1に示す配合組成の架橋性ゴム組成物を調製した。
すなわち、架橋性のフッ素ゴムとして3元系フッ素ゴム[商品名「G902」、ビニリ
デンフルオライド(イ)/ヘキサフルオロプロピレン(ロ)/テトラフルオロエチレン(ハ)3元系フッ素ゴム]、ダイキン工業社製を100重量部、
有機化処理済みの層状化合物(商品名「ソマシフMEE」、コープケミカル社製)2.0重量部、
導電性フィラー(商品名「ケッチェンブラック」、(LION)(株)製)3.0重量部、
架橋剤(「パーヘキサ25B」、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、日本油脂社製)1.5重量部、
共架橋剤(「TAIC」、トリアリルイソシアヌレート、日本化成社製)4.0重量部を
オープンロールで50℃で0.5時間(30分間)混練し、ゴムコンパウンド(架橋性ゴム組成物、合計110.5重量部)を得た。
硬さ(JIS−K6253に準拠、25℃でデュロメータータイプA)は、75となり
、
引張り強度(JIS−K6251に準拠、25℃)は、32.1MPaとなり、
伸び(JIS−K6251に準拠、25℃)は、300%となり、
100%引張応力(モジュラス、JIS K-6256に準拠)は、6.4MPaとなり
、
表面固有抵抗(JIS K6911準拠)は、超絶縁計で測定すると106Ω以下の値(Range Over)となり、自動絶縁抵抗計で測定すると5.00×104Ω(「5.00E+
04」とも書く。以下、同様。)となった。
結果を併せて表1に示す。
[実施例2〜3]
実施例1において、架橋性ゴム組成物の配合成分組成を表1に示すように変えた以外は実施例1と同様にして表面導電性ゴム材料(加硫成形体)を作成し、実施例1と同様の試験を行った。
[比較例1]
実施例1において、表1に示すように同上の架橋性フッ素ゴム100重量部、
非導電性フィラー(「サーモブラックMT」、(Cancarb)(株)製)20重量部、
同上の架橋剤(「パーヘキサ25B」)1.5重量部、
同上の共架橋剤(「TAIC」)4重量部をオープンロールで混練し、ゴムコンパウンド(合計125.5重量部)を得た。
結果を表1に示す。
[比較例2〜3]
実施例1において、架橋性ゴム組成物の配合成分組成を表1に示すように変えた以外は実施例1と同様にしてゴム材料(加硫成形体)を作成し、実施例1と同様の試験を行った。
[比較例4]
表1に示すように、架橋性フッ素ゴム100重量部、導電性フィラー(商品名「ケッチェンブラック」、(LION)(株)製)3重量部、同上の架橋剤(「パーヘキサ25B」)1.5重量部、共架橋剤(「TAIC」)4.0重量部をオープンロールで混練し、ゴムコンパウンドを得た。これを金型に充填し、160℃、15分間加熱(架橋)成形を行ったあと、電気炉にて180℃で12時間(hrs)の条件で二次加硫して成形体を得た。
結果を表1に示す。
[比較例5〜6]
実施例1において、架橋性ゴム組成物の配合成分組成を表1に示すように変えた以外は実施例1と同様にしてゴム材料(加硫成形体)を作成し、実施例1と同様の試験を行った。
Claims (8)
- (i)架橋性ゴムと、
該ゴム100重量部に対して、
(ii)有機化処理された層状化合物2.0〜15.0重量部と、
(iii)導電性フィラー3.0〜10.0重量部と、
(iv)架橋剤とを含んでなる、表面導電性ゴム材料用の架橋性ゴム組成物。 - 上記層状化合物(ii)は、層状無機化合物がアンモニウム塩にて有機化処理されたものである請求項1に記載の表面導電性ゴム材料用の架橋性ゴム組成物。
- 上記請求項1〜2の何れかに記載の架橋性ゴム組成物を架橋処理してなる表面導電性ゴム材料。
- 上記架橋処理は、架橋性ゴム組成物を、1次加熱加硫成形した後に、2次加硫を行うものである請求項3に記載の表面導電性ゴム材料。
- (i−a)架橋ゴムと、
該ゴム100重量部に対して、
(ii)有機化処理された層状化合物2.0〜15.0重量部と、
(iii)導電性フィラー3.0〜10.0重量部と、
を含んでなる表面導電性ゴム材料。 - 上記層状化合物(ii)は、層状無機化合物がアンモニウム塩にて有機化処理されたものである請求項5に記載の表面導電性ゴム材料。
- 上記表面導電性ゴム材料の表面固有抵抗が106Ω以下であり、体積固有抵抗が1010Ω・cm以上である請求項3〜6の何れかに記載の表面導電性ゴム材料。
- 請求項3〜7の何れかに記載の表面導電性ゴム材料のみからなるか、この表面導電性ゴム材料を少なくとも一部に用いてなる帯電防止用成形体。
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