JP4376116B2 - 基板受け渡し位置の調整方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 195
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 157
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 34
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 7
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 claims description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 169
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 45
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 43
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- 230000003936 working memory Effects 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
前記複数の搬送アームのうち一の搬送アームに、表面の中心にマークが形成された位置合わせ用の基板を保持させると共に、前記複数の搬送アームのうち他の搬送アームに撮像手段を保持させ、この撮像手段により前記基板保持部の略中心位置を確認し、その位置データを記憶する工程(1)と、
この工程(1)で記憶した前記位置データに基づいて前記一の搬送アームを移動させ、前記基板保持部に前記基板支持ピンとの協働作用により位置合わせ用の基板を受け渡す工程(2)と、
次いで前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである0度位置データを取得し、更に基板支持ピンを下降させて位置合わせ用の基板を基板保持部に受け渡し、基板保持部を180度回転させた後、前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである180度位置データを取得する工程(3)と、
前記0度位置データと前記基板保持部の略中心位置の位置データとの間で位置ずれがあるか否かを判断し、位置ずれがないと判断したときは前記0度位置データと180度位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する一方、位置ずれがあると判断したときはそのずれ方向及びずれ量を演算により求めて180度位置データの補正を行い、0度の位置データと補正後の180度の位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する工程(4)と、
次いで一の搬送アームにより基板保持部から位置合わせ用基板を受け取り、工程(4)で取得した基板保持部の回転中心の位置データに基づいて前記一の搬送アームを移動させ、前記基板保持部に前記基板支持ピンとの協働作用により位置合わせ用の基板を受け渡す工程(5)と、
次いで前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである0度位置データを取得し、更に基板支持ピンを下降させて位置合わせ用の基板を基板保持部に受け渡し、基板保持部を180度回転させた後、前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである180度位置データを取得する工程(6)と、
前記工程(6)にて取得した0度位置データと、工程(4)で求めた基板保持部の回転中心の位置データとの間で位置ずれがあるか否かを判断し、位置ずれがないと判断したときは前記0度位置データと180度位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する一方、位置ずれがあると判断したときはそのずれ方向及びずれ量を演算により求めて180度位置データの補正を行い、0度の位置データと補正後の180度の位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する工程(7)と、
次いでこの工程(7)で取得した基板保持部の回転中心の位置データと、前記工程(6)で取得した位置合わせ用基板のマークの0度位置データの位置ずれ量が許容範囲内にあるか否かを判定し、前記位置ずれ量が許容範囲内であれば、基板保持部に対する前記一の搬送アームによる基板の受け渡し位置を記憶し、前記位置ずれ量が許容範囲外であれば、前記位置ずれ量に基づいて基板保持部に対する一の搬送アームによる基板の受け渡し位置を補正して、前記一の搬送アームにより位置合わせ用基板の置き直しを行う工程(8)と、を含むことを特徴とする。
W1 位置合わせ用のウエハ
A1、A2 主搬送手段
COT 塗布ユニット
BAKE 加熱ユニット
4A、4B、4C 搬送アーム
40 移動基体
70 治具
71 CCDカメラ
8 制御部
83 記憶部
Claims (4)
- 各々上下に配列されると共に独立して進退自在な搬送アームを備えた基板搬送手段から、昇降自在な基板支持ピンとの協働作用により基板を鉛直軸回りに回転自在な基板保持部に受け渡し、その後基板に対して処理ユニットにより所定の処理を行う基板処理装置に適用され、予め前記基板搬送手段による基板保持部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板受け渡し位置の調整方法において、
前記複数の搬送アームのうち一の搬送アームに、表面の中心にマークが形成された位置合わせ用の基板を保持させると共に、前記複数の搬送アームのうち他の搬送アームに撮像手段を保持させ、この撮像手段により前記基板保持部の略中心位置を確認し、その位置データを記憶する工程(1)と、
この工程(1)で記憶した前記位置データに基づいて前記一の搬送アームを移動させ、前記基板保持部に前記基板支持ピンとの協働作用により位置合わせ用の基板を受け渡す工程(2)と、
次いで前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである0度位置データを取得し、更に基板支持ピンを下降させて位置合わせ用の基板を基板保持部に受け渡し、基板保持部を180度回転させた後、前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである180度位置データを取得する工程(3)と、
前記0度位置データと前記基板保持部の略中心位置の位置データとの間で位置ずれがあるか否かを判断し、位置ずれがないと判断したときは前記0度位置データと180度位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する一方、位置ずれがあると判断したときはそのずれ方向及びずれ量を演算により求めて180度位置データの補正を行い、0度の位置データと補正後の180度の位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する工程(4)と、
次いで一の搬送アームにより基板保持部から位置合わせ用基板を受け取り、工程(4)で取得した基板保持部の回転中心の位置データに基づいて前記一の搬送アームを移動させ、前記基板保持部に前記基板支持ピンとの協働作用により位置合わせ用の基板を受け渡す工程(5)と、
次いで前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである0度位置データを取得し、更に基板支持ピンを下降させて位置合わせ用の基板を基板保持部に受け渡し、基板保持部を180度回転させた後、前記基板支持ピンにより前記基板保持部から位置合わせ用の基板を上昇させ、この状態で前記撮像手段により当該基板上のマークを撮像してその位置データである180度位置データを取得する工程(6)と、
前記工程(6)にて取得した0度位置データと、工程(4)で求めた基板保持部の回転中心の位置データとの間で位置ずれがあるか否かを判断し、位置ずれがないと判断したときは前記0度位置データと180度位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する一方、位置ずれがあると判断したときはそのずれ方向及びずれ量を演算により求めて180度位置データの補正を行い、0度の位置データと補正後の180度の位置データとの中点の位置データを、基板保持部の回転中心の位置データとして取得する工程(7)と、
次いでこの工程(7)で取得した基板保持部の回転中心の位置データと、前記工程(6)で取得した位置合わせ用基板のマークの0度位置データの位置ずれ量が許容範囲内にあるか否かを判定し、前記位置ずれ量が許容範囲内であれば、基板保持部に対する前記一の搬送アームによる基板の受け渡し位置を記憶し、前記位置ずれ量が許容範囲外であれば、前記位置ずれ量に基づいて基板保持部に対する一の搬送アームによる基板の受け渡し位置を補正して、前記一の搬送アームにより位置合わせ用基板の置き直しを行う工程(8)と、を含むことを特徴とする基板受け渡し位置の調整方法。 - 前記搬送アームは3本以上であり、一の搬送アームにおける基板の受け渡し位置が決定された後、前記他の搬送アームとは異なる搬送アームにより位置合わせ用基板を基板保持部に受け渡す工程と、
次いで当該搬送アームにおける基板の受け渡し位置のデータを取得する工程と、を含むことを特徴とする請求項1記載の基板受け渡し位置の調整方法。 - 他の搬送アームに保持された撮像手段を基板保持部に載置する工程と、基板保持部に載置された撮像手段を他の搬送アーム以外の搬送アームが受け取る工程と、を含むことを特徴とする請求項2記載の基板受け渡し位置の調整方法。
- 他の搬送アームは、撮像手段を保持する専用のアームであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板受け渡し位置の調整方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004131412A JP4376116B2 (ja) | 2003-06-03 | 2004-04-27 | 基板受け渡し位置の調整方法 |
CNB2004100484152A CN1296985C (zh) | 2003-06-03 | 2004-06-03 | 基板处理装置及基板交接位置的调整方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003158261 | 2003-06-03 | ||
JP2004131412A JP4376116B2 (ja) | 2003-06-03 | 2004-04-27 | 基板受け渡し位置の調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005019963A JP2005019963A (ja) | 2005-01-20 |
JP4376116B2 true JP4376116B2 (ja) | 2009-12-02 |
Family
ID=34196690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004131412A Expired - Lifetime JP4376116B2 (ja) | 2003-06-03 | 2004-04-27 | 基板受け渡し位置の調整方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4376116B2 (ja) |
CN (1) | CN1296985C (ja) |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2004
- 2004-04-27 JP JP2004131412A patent/JP4376116B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-06-03 CN CNB2004100484152A patent/CN1296985C/zh not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005019963A (ja) | 2005-01-20 |
CN1573568A (zh) | 2005-02-02 |
CN1296985C (zh) | 2007-01-24 |
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A977 | Report on retrieval |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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