JP4278499B2

JP4278499B2 - 表示装置

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Publication number: JP4278499B2
Application number: JP2003401485A
Authority: JP
Inventors: 正美林; 宏幸渕上; 貴典奥村; 一司山吉
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 2003-12-01
Filing date: 2003-12-01
Publication date: 2009-06-17
Anticipated expiration: 2023-12-01
Also published as: JP2005164818A

Description

本発明は、表示装置に関するものである。

従来、表示装置の一種として、有機ＥＬ（electroluminescence：電界発光）表示装置がある。有機ＥＬ表示装置は、ＥＬ層を上下から挟み込む電極同士の間に電圧を印加することによってＥＬ層を発光させるものである。ＥＬ層は成膜によって形成されるが、成膜しようとする部位の下地の面が十分に平坦でないと、有機ＥＬ層を均一な膜厚に成膜することができないという問題が生じる。そこで、ＥＬ層の下地の面を平坦化する目的で「平坦化膜」を用いる場合がある。

平坦化膜としては、平坦化に適する材料という理由でポリイミド樹脂やアクリル樹脂といった有機絶縁膜が主に用いられる。しかし、これらの有機絶縁膜から漏出する水分がＥＬ層に侵入することでＥＬ層が劣化することが問題となっている。

これに対して、特開２００１−３５６７１１（特許文献１）では、トップエミッション構造として、ＴＦＴ素子およびＴＦＴ素子のための配線に起因する凹凸を平坦化するため、スピナーによる塗布方式などの方法によりアクリル、ポリイミドなどの有機絶縁膜を形成し、その上層にＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などの方法によって酸化シリコン系材料膜、窒化シリコン系材料膜などの無機絶縁膜を形成することが開示されている。これらの無機絶縁膜は、有機絶縁膜からＥＬ層に向けての水分の浸透を遮断するためのバリアとして設けられたものである。
特開２００１−３５６７１１号公報（図１）

表示層としてのＥＬ層に対する水分の浸透を遮断するためのバリアとしての無機絶縁膜は、窒化シリコン系材料膜とすることが望ましいが、この無機絶縁膜の下側には有機絶縁膜からなる平坦化膜があるため、高温の成膜は不可能である。高温にすれば有機絶縁膜が樹脂組織の分解を起こしてしまうからである。かといって、この無機絶縁膜を低温で成膜すると、無機絶縁膜の表面粗さが大きくなってしまい、この上面にＥＬ層を形成するには不適となってしまう。表面粗さがあまりに大きいと、たとえば、ＥＬ層の上下の導電層同士の間でショートが起こるという不都合がある。

あるいは、他の方法として、有機絶縁膜を形成せずに無機絶縁膜をかなり厚く成膜し、ポリマーコーティングを行った後、ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）によって全面エッチバックしたものを用いて、ＴＦＴを覆う層の上面を平坦化する方法が用いられている。しかし、無機絶縁膜をこのように厚く形成した場合、無機絶縁膜の反りが問題となる。無機絶縁膜の反りを考慮に入れて成膜条件を定める必要が生じるのでプロセスの安定性が損なわれる傾向にあった。

そこで、本発明は、表示装置において、上述のような問題を引き起こすことなく、表示層への水分の侵入を遮断することができ、また、画素間での水分の拡散を防止することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明に基づく表示装置は、平面的に見て複数の画素領域と上記画素領域同士を仕切る境界領域とを含む表示領域を有する表示装置であって、基板の上側を覆って平滑化するために形成された平坦化膜を備え、上記境界領域は、上記平坦化膜が分割されている表示領域内平坦化膜分割部を含み、上記表示領域内においては、上記平坦化膜の側面および上面は導電膜によって覆われている。ただし、基板の「上側」とは、基板の画素回路形成面側を意味する。平坦化膜の「上面」とは、平坦化膜の基板と反対側の面を意味する。

本発明によれば、表示領域内平坦化膜分割部によって平坦化膜が画素ごとに分割されており、各画素ごとに平坦化膜が導電膜によって上面および側面を覆われた構造となっているので、いずれかの画素において平坦化膜中に水分が残存していたり水分が侵入したりしても、その水分はその画素の平坦化膜の内部のみに閉じ込められることとなり、水分が他の画素に拡散することを防止できる。

本発明の適用対象である表示装置は、液晶表示装置であっても有機ＥＬ表示装置であってもよい。有機ＥＬ表示装置におけるＥＬ層への水分の侵入が問題となることは既に述べたが、液晶表示装置においても、表示層として液晶層を備える構造は、大まかに見れば有機ＥＬ表示装置におけるＥＬ層と類似している。この液晶層に対して水分が侵入すると電圧保持率が低下するなどの不都合を引き起こすため、表示層への水分の侵入を防止すべきであるという点では共通する。ここでは、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置の２つを例示したが、これらに限らず、他の種類の表示装置であっても、表示層に水分が侵入することが好ましくない表示装置であれば、本発明は適用可能である。

以下では、表示装置の代表例として有機ＥＬ表示装置を取り上げ、説明する。なお、説明中で上下に言及する場合は、絶対的な上下方向ではなく、各図に示すような姿勢で断面図を見たときの相対的な上下方向を意味するものとする。

（実施の形態１）
（構成）
まず、本発明に基づく実施の形態１における表示装置である有機ＥＬ表示装置の部分拡大図を図１、図２に示す。図１と図２とは別々の例を示す。この表示装置は、平面的に見て表示領域７３を有する。表示領域７３の内部には多数の画素が配列されており、これらの画素によって映像や文字を表示する。画素の並び方は、図１に示すように縦横とも画素の位置が揃った並び方であってもよく、図２に示すように奇数行目と偶数行目とで１画素の半分のピッチだけずれた並び方であってもよい。表示領域７３には、複数の画素領域７１とこれらの画素領域間を仕切る領域である境界領域７２とが含まれる。最も外側にある画素領域７１の外側の線をつないだ外周７４が表示領域７３の最外周の輪郭線をなす。

図２に示した有機ＥＬ表示装置の構成について、図３、図４を参照して、より詳細に説明する。図３は、図２の図中左端の外周近傍の部分を拡大して表示したものである。画素領域７１の各々の形状は分離膜によって取り囲まれることで規定されている。図３では、分離膜としては、表示領域内分離膜９１と表示領域外周分離膜９２との２種類が視野に入っているが、図３では、構造を見えやすくするため、これら分離膜は取り去った状態での平面図を示し、分離膜は二点鎖線（仮想線）で表示している。表示領域内分離膜９１と表示領域外周分離膜９２とは、切れ目なく連続した分離膜であるが、部位によって呼び名を分けている。

図３に示すように、各画素領域７１に対応するようにコンタクトホール１３がそれぞれ設けられている。図３におけるＩＶ−ＩＶ線に関する矢視断面図を図４に示す。ただし、図４では、図３と異なり、画素電極９より上側の構造も表示している。

ところで、一般に、有機ＥＬ層は、水分の侵入によって劣化する。一方、有機絶縁膜からなる平坦化膜は不所望な水分を含みがちで周囲に対して水分を供給してしまうことが問題視されている。一般に、平坦化膜の材料は水分の発生源とも通過経路ともなり得る。一方、分離膜の材料は脱水処理などを施すことによって水分の発生源とはならなくなるが依然として水分の通過経路とはなり得る。そこで、本実施の形態では、平坦化膜の材料は水分の発生源とも通過経路ともなり得、分離膜の材料が水分の発生源とならないが水分の通過経路にはなるような条件下で有効な構成について説明する。

（基板、ＴＦＴ、無機絶縁膜）
この有機ＥＬ表示装置においては、図４に示すように、基板１の上面に各画素領域７１に対応するようにＴＦＴ２が配置されている。ＴＦＴ２は、チャネル部２ｅと、ソース領域２ｆと、ドレイン領域２ｇと、これらの上側を覆うゲート絶縁膜２ｄと、そのさらに上側に形成されたゲート電極２ａとを備える。さらに、ＴＦＴ２は、ソース領域２ｆおよびドレイン領域２ｇからそれぞれゲート絶縁膜２ｄを貫通して上方に引き出すように形成された導電体部分であるソース電極２ｂおよびドレイン電極２ｃを備える。基板１の上側には、ゲート絶縁膜２ｄの続きとして延在する絶縁膜を介してその上側に層間絶縁膜６が形成されている。ＴＦＴ２は層間絶縁膜６の中に埋め込まれている。層間絶縁膜６およびＴＦＴ２の上側を無機絶縁膜７が覆っている。

（平坦化膜）
無機絶縁膜７の上面は、図４に示されるように、下側にＴＦＴ２が配置された部位ごとに盛り上がっており、平坦ではない。そこで、無機絶縁膜７の上側には上面を平滑化するための平坦化膜８が形成されている。平坦化膜８は、たとえばアクリル系樹脂からなる有機絶縁膜である。平坦化膜８は表示領域７３の外周に沿って分割されている。すなわち、表示領域７３の外周に沿って表示領域外周平坦化膜分割部８２があり、平坦化膜８は表示領域外周平坦化膜分割部８２よりも外側の部分８ｂと内側の部分８ａとに分けられている。また、平坦化膜８は、境界領域７２の内部においても表示領域内平坦化膜分割部８１によって分割されている。その結果、図３に平面的に示されるように、平坦化膜８は画素ごとに分かれて独立した形のものとなっている。

（画素電極、分離膜）
表示領域外周平坦化膜分割部８２よりも内側では、図４に示されるように、平坦化膜８の上側および側面を画素電極９が覆っている。画素電極９の上側には、分離膜として表示領域内分離膜９１が形成されている。表示領域内分離膜９１は、境界領域７２を規定する。すなわち、表示領域内分離膜９１によって画素電極９が隠されている部分が境界領域７２である。表示領域内分離膜９１によって囲まれた盆地状の領域は、画素領域７１となっている。ただし、最外周の画素領域７１は、表示領域内分離膜９１のみによって囲まれる代わりに、表示領域内分離膜９１と表示領域外周分離膜９２との両方によって囲まれている。画素領域７１においては、画素電極９は分離膜に覆われることなく露出している。表示領域外周分離膜９２は、表示領域７３の外周に沿って形成されており、表示領域外周平坦化膜分割部８２の内部で分割されることによって、内側の部分９２ａと外側の部分９２ｂとに分割されている。したがって、表示領域外周分離膜９２は、表示領域７３の外周を内側の部分９２ａと外側の部分９２ｂとで２重に取り囲むようになっている。分離膜は、表示領域内分離膜９１、表示領域外周分離膜９２ともに、たとえばポリイミド系樹脂からなり、脱水処理が施されている。

（ＥＬ層、対向電極）
画素領域７１に露出した画素電極９と、表示領域内分離膜９１との上側を覆うように表示層としてのＥＬ層１１が形成されている。ＥＬ層１１は、ホール輸送層、発光層および電子輸送層を含む有機材料の層であり、電圧を印加することにより自ら発光する性質を有する。ＥＬ層１１は、表示領域外周分離膜９２の一部をも覆っている。さらに、導電材料からなる対向電極１２がＥＬ層１１の上側を覆うように形成されている。対向電極１２は、図４に示すように、ＥＬ層１１の上側のみならずＥＬ層１１よりも外側にまで延在し、表示領域外周分離膜９２の部分９２ａを覆い、表示領域外周平坦化膜分割部８２の底面の無機絶縁膜７が露出する面を覆って、さらに表示領域外周分離膜９２の部分９２ｂの一部をも覆っている。

（作用・効果）
本実施の形態における表示装置では、各画素領域７１においてＥＬ層１１が対向電極１２と画素電極９とで挟まれているので、対向電極１２と画素電極９との間に電圧を印加することによってＥＬ層１１を発光させることができ、表示装置として機能を発揮することができる。

平坦化膜が水分の発生源とも通過経路ともなり得るという問題に対して、本実施の形態では、表示領域外周平坦化膜分割部８２の内側においては、平坦化膜８は画素電極９によって完全に覆われているので、平坦化膜８からＥＬ層１１に至る水分の経路は遮断されている。表示領域外周平坦化膜分割部８２の外側の平坦化膜８、すなわち部分８ｂなどからＥＬ層１１に至る水分の経路に関しては、対向電極１２が分離膜の部分９２ａの上面から表示領域外周平坦化膜分割部８２の底面に至るまでを覆っていることによって、遮断されている。したがって、表示領域７３の内外を問わず平坦化膜８から出てくる水分が表示層としてのＥＬ層１１に侵入することを防止できる。さらに、分離膜の部分９２ａの下端までが対向電極１２で覆われていることによって、封止ガラス間の水分および封止ガラス間の空間に含まれている水分が部分９２ａを介してＥＬ層１１に侵入することも防止できる。

さらに、本実施の形態では、表示領域内平坦化膜分割部８１によって平坦化膜８が画素ごとに分割されており、各画素ごとに平坦化膜８が画素電極９によって上面および側面を完全に覆われた構造となっているので、何らかのトラブルによって、いずれかの画素において平坦化膜８中に水分が残存していたり水分が侵入したりしても、その水分はその画素の平坦化膜８の内部のみに閉じ込められることとなり、水分が他の画素に拡散することを防止できる。

（実施の形態２）
実施の形態１では、表示領域外周分離膜９２が、表示領域７３の外周７４に沿って形成された表示領域外周平坦化膜分割部８２の内部で分割されることによって、内側の部分９２ａと外側の部分９２ｂとに分割された構造とした（図４参照）。この構造では、表示領域外周平坦化膜分割部８２で分離膜が一旦途切れるものの表示領域外周平坦化膜分割部８２の外側にも分離膜が引き続き存在することとなるので、分離膜の上面がなす同一高さの面が表示領域７３の外側にもある程度続くこととなり、ＥＬ層１１形成のためのマスクを載せる際などに好都合である。

これに対して、本発明に基づく実施の形態２としては、実施の形態１に比べればやや劣るが、水分の侵入防止に関しては良い効果を得られる他の形態を説明する。

（構成）
本実施の形態における表示装置の構成は、実施の形態１におけるものと基本的に同じであるが、表示領域７３の最外周近傍において異なり、たとえば、図５のような構造とする。すなわち、表示領域外周平坦化膜分割部８２の内部に表示領域外周分離膜９２の端が位置する構造である。対向電極１２は、表示領域外周分離膜９２の上面、側面を覆い、表示領域外周平坦化膜分割部８２の底面の無機絶縁膜７が露出する面を覆って、平坦化膜８の部分８ｂの一部をも覆っている。

（作用・効果）
本実施の形態においても、平坦化膜８は画素電極９によって完全に覆われており、表示領域外周平坦化膜分割部８２の外側からの水分に対しては、表示領域外周分離膜９２が対向電極１２によって覆われているので、ＥＬ層１１への水分の侵入を遮断することができる。さらに、表示領域外周分離膜９２の下端までが対向電極１２で覆われていることによって、封止ガラス間の水分および封止ガラス間の空間に含まれている水分が表示領域外周分離膜９２を介してＥＬ層１１に侵入することも防止できる。すなわち、遮断に関しては実施の形態１と同様の効果が得られる。

本実施の形態では、表示領域７３内では、実施の形態１と同じ構成、すなわち、平坦化膜８は、境界領域７２の内部においても表示領域内平坦化膜分割部８１（図４参照）によって分割されている構成とした。いずれかの画素において平坦化膜８中に残存していたり侵入したりした水分が他の画素に拡散しないようにするためには、表示領域内平坦化膜分割部８１の存在が好ましいが、本実施の形態としては、本質的には、表示領域内平坦化膜分割部８１がない場合であっても、表示領域７３の最外周近傍における構造が図５に示すようになっていればよい。その場合、画素間の水分拡散の効果が得られないが、表示領域外周平坦化膜分割部８２よりも外側からの水分侵入に対しては対向電極１２によって遮断効果を発揮することができる。

（実施の形態３）
平坦化膜８が、水分の通過経路とはなり得るが水分の供給源とはならないような材料からなり、なおかつ、分離膜が水分の供給源とはならず水分の通過経路となり得るのみである場合について、本発明に基づく実施の形態３として説明する。このような場合としては、たとえば、平坦化膜が無機系の材料または脱水処理を施したポリイミド系樹脂からなり、分離膜は脱水処理を施したポリイミド系樹脂からなる場合が該当する。

（構成）
本実施の形態における表示装置では、表示領域７３内は、図４に示した表示領域７３内の構造から表示領域内平坦化膜分割部８１をなくし、平坦化膜８が表示領域７３内で連続している構造であってもよい。一方、表示領域７３の外周近傍では、図６に示す構造であってもよい。すなわち、画素電極９が平坦化膜８の側面を覆わずに平坦化膜８の上面の途中までしかない構造であってもよい。図６に示す構造は、さらに言い換えれば、表示領域７３の外周に沿って平坦化膜８が分割されている表示領域外周平坦化膜分割部８２を含み、表示領域外周分離膜９２は表示領域外周平坦化膜分割部８２の内部で途切れており、表示領域外周分離膜９２の側面および上面は導電膜としての対向電極１２で覆われている構造である。

（作用・効果）
この構造であっても、表示領域外周分離膜９２は対向電極１２によって覆われているので、外部からの水分の侵入を遮断することができる。さらに、表示領域外周分離膜９２の下端までが対向電極１２で覆われていることによって、封止ガラス間の水分および封止ガラス間の空間に含まれている水分が部分９２ａを介してＥＬ層１１に侵入することも防止できる。このことは、図６に示すように、表示領域外周分離膜９２の外側端が表示領域外周平坦化膜分割部８２の内部にある場合に限らず、図７に示すように、表示領域外周分離膜９２の外側端が平坦化膜８の部分８ａの上面にある構造であってもよい。図７に示す構造は、言い換えれば、表示領域７３の外周に沿って平坦化膜８が分割されている表示領域外周平坦化膜分割部８２を含み、表示領域外周分離膜９２は表示領域外周平坦化膜分割部８２よりも内側で途切れており、表示領域外周分離膜９２の側面および上面は導電膜としての対向電極１２で覆われている構造である。図７に示す構造であっても図６に示す構造と同様の効果が得られる。

平坦化膜８が、水分の供給源になることも水分の通過経路になることも考えなくてもよいような材料からなり、なおかつ、分離膜が水分の供給源とはならず水分の通過経路となり得るのみである場合には、そもそも平坦化膜８の表示領域外周平坦化膜分割部８２はなくてもよい。しかし、分離膜は水分の通過経路となり得ることを考慮して表示領域７３の外周に沿って分割するとして、図８に示す構造が考えられる。すなわち、表示領域７３の外周に沿って表示領域外周分離膜９２が内側の部分９２ａと外側の部分９２ｂとに分割されており、内側の部分９２ａの側面および上面は導電膜としての対向電極１２で覆われている構造である。一方、この表示領域外周分離膜９２の分割位置では、平坦化膜８は分割されていない。このような構造であっても、分離膜の分割部よりも外側からのＥＬ層１１への水分侵入に対しては、対向電極１２によって遮断効果を発揮することができる。

（実施の形態４）
再び、実施の形態１，２と同じく、平坦化膜の材料は水分の発生源とも通過経路ともなり得、分離膜の材料は水分の発生源とはならないが水分の通過経路とはなり得るような場合に有効な本発明の実施の形態について、実施の形態４として説明する。

（構成）
実施の形態１において図４に示した構造の変形例として、実施の形態４では、図９に示す構造となっている。すなわち、表示領域７３の外周に沿って平坦化膜８が表示領域外周平坦化膜分割部８２によって分割されている。この表示装置は、この表示領域外周平坦化膜分割部８２を跨いで平坦化膜８の部分８ａ，８ｂを覆うように表示領域外周分離膜９２を備える。ただし、表示領域外周分離膜９２の下側では平坦化膜８の部分８ｂの側面および上面までもが導電膜９ｆで覆われている。導電膜９ｆは画素電極９と同じ材質であってよく、画素電極９形成時に同時に形成することができる。

（作用・効果）
本実施の形態では、平坦化膜８の部分８ａが画素電極９で覆われていることによって部分８ａからの水分がＥＬ膜１１に向かって侵入することを防止することができる。また、表示領域外周平坦化膜分割部８２の外側からの水分がＥＬ膜１１に向かって侵入することに対しては、平坦化膜８の部分８ｂが導電膜９ｆで覆われていることによって経路を遮断し、防止することができる。

本実施の形態では、表示領域７３内では、図４に示した表示領域７３内の構造から表示領域内平坦化膜分割部８１をなくし、平坦化膜８が表示領域７３内で連続している構造であっても外部からの水分遮断の効果は得られる。しかし、図４に示した表示領域７３内の構造と同じように表示領域内平坦化膜分割部８１を有する構造であることが、画素間の水分拡散も防止できるという点でより好ましい。

（実施の形態５）
（構成）
図１０を参照して、本発明に基づく実施の形態５における表示装置について説明する。本実施の形態では、実施の形態１，２，４と同じく、平坦化膜の材料は水分の発生源とも通過経路ともなり得、分離膜の材料は水分の発生源とはならないが水分の通過経路とはなり得るような場合に有効な構造を示す。

実施の形態１において図４に示した構造の変形例として、実施の形態５では、図１０に示す構造となっている。すなわち、境界領域７２の内部において平坦化膜８が分割されている表示領域内平坦化膜分割部８１の内部において、表示領域内分離膜９１も同様に画素ごとに分割されている。表示領域内分離膜９１が分割されることによって形成される溝の底部は無機絶縁膜７の上面に達している。

（作用・効果）
本実施の形態では、基本的に実施の形態１の特徴を引き継いでいるので、実施の形態１と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施の形態では、境界領域７２内部で表示領域内分離膜９１も平坦化膜８と同じように分割されているので、分離膜の体積当たりの表面積が大きくなっている。したがって、分離膜に対する脱水処理を効率良く行なうことができる。

本実施の形態では、表示領域７３の最外周近傍の構造は、実施の形態１に示したものを採り入れた形（図１０参照）としたが、これに限らず、表示領域７３の最外周近傍の構造として実施の形態２で示したもの（図５参照）を採用したり、実施の形態４で示したもの（図９参照）を採用したりしてもよい。

なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。

本発明に基づく実施の形態１における表示装置の第１の例の平面図である。本発明に基づく実施の形態１における表示装置の第２の例の平面図である。本発明に基づく実施の形態１における表示装置の第２の例の部分拡大平面図である。図３におけるＩＶ−ＩＶ線に関する矢視断面図である。本発明に基づく実施の形態２における表示装置の部分断面図である。本発明に基づく実施の形態３における表示装置の部分断面図である。本発明に基づく実施の形態３における表示装置の他の例の部分断面図である。本発明に基づく実施の形態３における表示装置のさらに他の例の部分断面図である。本発明に基づく実施の形態４における表示装置の他の例の部分断面図である。本発明に基づく実施の形態５における表示装置の断面図である。

符号の説明

１基板、２ＴＦＴ、２ａゲート電極、２ｂソース電極、２ｃドレイン電極、２ｄゲート絶縁膜、２ｅチャネル部、２ｆソース領域、２ｇドレイン領域、６層間絶縁膜、７無機絶縁膜、８平坦化膜、８ａ（内側の）部分、８ｂ（外側の）部分、９画素電極、９ｆ導電膜、１１ＥＬ層、１２対向電極、１３（画素電極がドレイン電極に接続する）コンタクトホール、７１画素領域、７２境界領域、７３表示領域、７４外周、８１表示領域内平坦化膜分割部、８２表示領域外周平坦化膜分割部、９１表示領域内分離膜、９２表示領域外周分離膜、９２ａ（内側の）部分、９２ｂ（外側の）部分。

Claims

平面的に見て複数の画素領域と前記画素領域同士を仕切る境界領域とを含む表示領域を有する表示装置であって、
基板の画素回路形成面側を覆って平滑化するために形成された平坦化膜を備え、
前記境界領域は、前記平坦化膜が分割されている表示領域内平坦化膜分割部を含み、
前記表示領域内においては、前記平坦化膜の側面および前記基板と反対側の面は導電膜によって覆われており、
前記境界領域において前記平坦化膜の前記基板と反対側の面を部分的に覆う表示領域内分離膜を備え、
前記表示領域内平坦化膜分割部においては前記表示領域内分離膜が分割されている、表示装置。
前記表示領域の外周に沿って前記平坦化膜が分割されている表示領域外周平坦化膜分割部を含む、請求項１に記載の表示装置。
平面的に見て複数の画素領域と前記画素領域同士を仕切る境界領域とを含む表示領域を有する表示装置であって、
基板の画素回路形成面側を覆って平滑化するために形成された平坦化膜を備え、
前記境界領域は、前記平坦化膜が分割されている表示領域内平坦化膜分割部を含み、
前記表示領域内においては、前記平坦化膜の側面および前記基板と反対側の面は導電膜によって覆われており、
前記表示領域の外周に沿って前記平坦化膜が分割されている表示領域外周平坦化膜分割部を含み、
前記表示領域外周平坦化膜分割部を跨いで前記平坦化膜を覆うように表示領域外周分離膜を備え、前記表示領域の外側においても、前記表示領域外周分離膜の前記基板側では前記平坦化膜の側面および前記基板と反対側の面は導電膜によって覆われている、表示装置。