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JP3823312B2 - 有機薄膜トランジスタ - Google Patents

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JP3823312B2
JP3823312B2 JP2001320342A JP2001320342A JP3823312B2 JP 3823312 B2 JP3823312 B2 JP 3823312B2 JP 2001320342 A JP2001320342 A JP 2001320342A JP 2001320342 A JP2001320342 A JP 2001320342A JP 3823312 B2 JP3823312 B2 JP 3823312B2
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小田  敦
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NEC Corp
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機半導体層を有する有機薄膜トランジスタに関し、更に詳しくは、高い駆動速度や高いオン/オフ比を有する有機TFT(Thin Film Transistor)に関する。
【0002】
【従来の技術】
薄膜トランジスタは、液晶表示装置等の表示用のスイッチング素子として広く用いられている。従来、薄膜トランジスタ(以下、TFTとも呼ぶ)は、アモルファスや多結晶のシリコンを用いて作製されていた。しかし、このようなシリコンを用いたTFTの作製に用いられるCVD装置は、非常に高額であり、TFTを用いた表示装置等の大型化は、製造コストの大幅な増加を伴うという問題点があった。また、アモルファスや多結晶のシリコンを成膜するプロセスは非常に高い温度下で行われるので、基板として使用可能な材料の種類が限られ、従って、軽量な樹脂基板等は使用できないという問題があった。
【0003】
上記問題を解決するために、アモルファスや多結晶のシリコンに代えて有機物を用いたTFTが提案されている。有機物でTFTを形成する際に用いる成膜方法として真空蒸着法や塗布法等が知られているが、これらの成膜方法によれば、コストアップを抑えつつ素子の大型化が実現可能になり、成膜時に必要となるプロセス温度を比較的低温にすることができる。このため、有機物を用いたTFT(以下、有機TFTとも呼ぶ)では、基板に用いる材料の選択時の制限が少ないといった利点が得られ、その実用化が期待される。
【0004】
実際、近年、有機物を用いたTFTは盛んに報告されるようになった。この報告例として、F. Ebisawaら,Journal of Applied Physics,54巻,3255頁,1983年;A. Assadiら,Applied Physics Letter,53巻,195頁,1988年;G. Guillaudら,Chemical Physics Letter,167巻,503頁,1990年;X.Pengら,Applied Physics Letter,57巻,2013頁,1990年;G. Horowitzら, Synthetic Metals, 41−43巻,1127頁,1991年;S. Miyauchiら,Synthetic Metals,41−43巻,1991年; H.Fuchigamiら,Applied Physics Letter,63巻,1372頁,1993年; H.Koezukaら,Applied Physics Letter,62巻,1794頁,1993年; F.Garnierら,Science,265巻,1684頁,1994年;A.R.Brownら,Synthetic Metals,68巻,65頁,1994年; A.Dodabalapurら,Science,268巻,270頁,1995年; T.Sumimotoら,Synthetic Metals,86巻,2259頁,1997年;K. Kudoら,Thin Solid Films,331巻,51頁,1998年;K. Kudoら,Synthetic Metals,102巻,900頁,1999年;K. Kudoら,Synthetic Metals,111−112巻,11頁、2000年などを挙げることができる。
【0005】
TFTの有機化合物層(有機薄膜層)に用いる有機物としては、共役系ポリマーやチオフェンなどの多量体(特開平8-228034号公報、特開平8-228035号公報、特開平9-232589号公報、特開平10-125924号公報、特開平10-190001号公報等)、或いは、金属フタロシアニン化合物(特開2000-174277公報等)、またペンタセンなどの縮合芳香族炭化水素(特開平5-55568号公報、特開2001-94107号公報等)などが、単体或いは他の化合物との混合物の状態で用いられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述のように有機TFTに関する研究が盛んに行われているが、従来の有機TFTはそのいずれもが、用いられる化合物の性能が不十分であり、動作速度が遅く、実用上十分なオン/オフ比を有することができなかった。ここで「オン/オフ比」という用語は、有機TFTがオンであるときのソース-ドレイン電流の、有機TFTがオフであるときのソース-ドレイン電流に対する比を意味する。
【0007】
本発明は、上記に鑑み、高速で動作し、高いオン/オフ比を有する有機薄膜トランジスタを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の芳香族アミン化合物を用いることで有機TFTの動作速度及びオン/オフ比が大きく向上することを見出した。また、本発明者らは、特定の芳香族アミン化合物を用いると同時に、有機薄膜トランジスタの構造を、制御される電流のキャリアの移動方向が有機薄膜の厚さの方向と一致する構造とすることで、動作速度及びオン/オフ比が更に向上することを見出した。更に、各電極界面にドナー性或いはアクセプタ性のドーパントを混合することでキャリアの注入特性が改善され、より高性能な有機薄膜トランジスタが得られることを見出した。
【0009】
すなわち本発明は、下記ア〜チの有機TFTを提供するものである。
ア:相互に離間した第1及び第2の電極と、該第1及び第2の電極の双方に接する有機薄膜層と、前記第1及び第2の電極の双方から離間した第3の電極を有し、該第3の電極に印加される電圧によって前記第1及び第2の電極間に流れる電流を制御する型式の有機薄膜トランジスタであって、
前記有機薄膜層が下記一般式[A]
【化1】
Figure 0003823312
(式[A]中、Ar1〜Ar2は夫々独立に、炭素数6から20の置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基或いは置換若しくは無置換の芳香族複素環基である。また、Ar1〜Ar2が有する置換基は互いに結合して環を形成してもよい。またXは炭素数6から34の置換若しくは無置換の縮合芳香族炭化水素から成る1〜4価の基である。nは1〜4の整数を表す。)
で表される化合物を単独若しくは混合物として含むことを特徴とする有機薄膜トランジスタ。
イ:一般式[A]中、Xが置換若しくは無置換のナフタレン、ビフェニレン、ペリレン、ペンタセン、ベンゾ[a]ペリレン、ジベンゾ[a,j]ペリレン、ジベンゾ[a,o]ペリレン、ビスアンスレン、テリレン、テトラベンゾ[de,hi,op,st]ペンタセンであり、nが1〜2であることを特徴とするア記載の有機薄膜トランジスタ。
ウ:一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換若しくは無置換のスチリル基を有することを特徴とするイ記載の有機薄膜トランジスタ。
エ:一般式[A]中、Ar1及びAr2の置換基として少なくとも一つシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とするイ記載の有機薄膜トランジスタ。
オ:一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換スチリル基を有し、そのスチリル基が置換基としてシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とするイ記載の有機薄膜トランジスタ。
カ:一般式[A]中、Xがトリフェニレンであり、nが1〜3であることを特徴とするア記載の有機薄膜トランジスタ。
キ:一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換若しくは無置換のスチリル基を有することを特徴とするカ記載の有機薄膜トランジスタ。
ク:一般式[A]中、Ar1及びAr2の置換基として少なくとも一つシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とするカ記載の有機薄膜トランジスタ。
ケ:一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換スチリル基を有し、そのスチリル基が置換基としてシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とするカ記載の有機薄膜トランジスタ。
コ:一般式[A]中、Xがテトラフェニレン、9,9’−スピロビフルオレンであり、nが1〜4であることを特徴とするア記載の有機薄膜トランジスタ。
サ:一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換若しくは無置換のスチリル基を有することを特徴とするコ記載の有機薄膜トランジスタ。
シ:一般式[A]中、Ar1及びAr2の置換基として少なくとも一つシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とするコ記載の有機薄膜トランジスタ。
ス:一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換スチリル基を有し、そのスチリル基が置換基としてシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とするコ記載の有機薄膜トランジスタ。
セ:第1及び第2の電極間のキャリアの移動方向が、有機薄膜層の膜厚方向と一致することを特徴とするア〜ス記載の有機薄膜トランジスタ。
ソ:有機薄膜層の第1、第2及び第3の電極のいずれかとの界面においてドナー性ドーパント或いはアクセプタ性ドーパントが混合されていることを特徴とするア〜セ記載の有機薄膜トランジスタ。
タ:ドナー性ドーパントが金属単体或いは無機金属化合物であることを特徴とするソ記載の有機薄膜トランジスタ。
チ:アクセプタ性ドーパントがルイス酸であることを特徴とするソ記載の有機薄膜トランジスタ。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、本発明に係る実施形態例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。図1は、本発明に係る第1実施形態例の有機TFT(以下、有機TFT素子とも呼ぶ)の構成を示す断面図である。
【0011】
第1実施形態例
本実施形態例の有機TFT10Aは、図1に示すように、電界効果トランジスタ(FET:Field Effect Transistor)構造を有している。有機TFT10Aは、相互に離間したソース電極(第1の電極)12及びドレイン電極(第2の電極)13と、電極13、14の双方に接する有機薄膜層(有機化合物層)15と、電極13、14の双方から離間したゲート電極(第3の電極)14を有し、ゲート電極14に印加される電圧によってソース/ドレイン電極12、13間に流れる電流を制御する構成を備える。
【0012】
すなわち、本有機TFT10Aは、基板11上に、ゲート電極(層)14及び絶縁体層(ゲート絶縁層)16をこの順に有し、絶縁体層16上に、所定の間隔をあけて形成されたソース電極12及びドレイン電極13を有している。双方の電極12、13の一部表面を含み、電極12、13間に露出する絶縁体層16上には、有機薄膜層15が形成されている。
【0013】
上記構成の有機TFT10Aでは、有機薄膜層15がチャネル領域を成しており、ゲート電極14に印加される電圧でソース電極12及びドレイン電極13の間に流れる電流が制御されることによってオン/オフ動作する。この有機TFT10Aでは、有機薄膜層15の面方向(図1の矢印Aで示す)にキャリア(自由電子又は正孔)が移動する。
【0014】
本実施形態例における有機薄膜層15は、一般式[A]で表される構造を有する化合物から成る。
【0015】
【化1】
Figure 0003823312
【0016】
式[A]中、Xは炭素数6から34の置換若しくは無置換の芳香族炭化水素からなる1〜4価の基である。炭素数6から34の無置換の芳香族炭化水素基の例としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニレン、フルオレン、フェナンスレン、ナフタセン、トリフェニレン、ピレン、ジベンゾ[cd,jk]ピレン、ペリレン、ベンゾ[a]ペリレン、ジベンゾ[a,j]ペリレン、ジベンゾ[a,o]ペリレン、ペンタセン、テトラベンゾ[de,hi,op,st]ペンタセン、テトラフェニレン、テリレン、ビスアンスレン、9,9’−スピロビフルオレンが挙げられる。
【0017】
これらの芳香族炭化水素が有する置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換若しくは無置換のアミノ基、ニトロ基、シアノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基、置換若しくは無置換の芳香族複素環基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリールオキシ基、置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基が挙げられる。
【0018】
Ar1〜Ar2は夫々独立に、炭素数6から20の置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基である。炭素数6から20の無置換の芳香族炭化水素基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスレニル基、ピレニル基、ペリレニル基等が挙げられる。前記の炭素数6から20の芳香族炭化水素基の有する置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換若しくは無置換のアミノ基、ニトロ基、シアノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基、置換若しくは無置換の芳香族複素環基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリールオキシ基、置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基が挙げられる。
【0019】
前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。前記の置換若しくは無置換のアミノ基は−NX12と表され、X1、X2としては夫々独立に、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシイソブチル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、1,3−ジヒドロキシイソプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−t−ブチル基、1,2,3−トリヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、1−クロロエチル基、2−クロロエチル基、2−クロロイソブチル基、1,2−ジクロロエチル基、1,3−ジクロロイソプロピル基、2,3−ジクロロ−t−ブチル基、1,2,3−トリクロロプロピル基、ブロモメチル基、1−ブロモエチル基、2−ブロモエチル基、2−ブロモイソブチル基、1,2−ジブロモエチル基、1,3−ジブロモイソプロピル基、2,3−ジブロモt−ブチル基、1,2,3−トリブロモプロピル基、ヨードメチル基、1−ヨードエチル基、2−ヨードエチル基、2−ヨードイソブチル基、1,2−ジヨードエチル基、1,3−ジヨードイソプロピル基、2,3−ジヨードt−ブチル基、1,2,3−トリヨードプロピル基、アミノメチル基、1−アミノエチル基、2−アミノエチル基、2−アミノイソブチル基、1,2−ジアミノエチル基、1,3−ジアミノイソプロピル基、2,3−ジアミノt−ブチル基、1,2,3−トリアミノプロピル基、シアノメチル基、1−シアノエチル基、2−シアノエチル基、2−シアノイソブチル基、1,2−ジシアノエチル基、1,3−ジシアノイソプロピル基、2,3−ジシアノt−ブチル基、1,2,3−トリシアノプロピル基、ニトロメチル基、1−ニトロエチル基、2−ニトロエチル基、2−ニトロイソブチル基、1,2−ジニトロエチル基、1,3−ジニトロイソプロピル基、2,3−ジニトロt−ブチル基、1,2,3−トリニトロプロピル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−ナフタセニル基、2−ナフタセニル基、9−ナフタセニル基、4−スチリルフェニル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、4−ピレニル基、2−ビフェニルイル基、3−ビフェニルイル基、4−ビフェニルイル基、p−ターフェニル−4−イル基、p−ターフェニル−3−イル基、p−ターフェニル−2−イル基、m−ターフェニル−4−イル基、m−ターフェニル−3−イル基、m−ターフェニル−2−イル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、p−t−ブチルフェニル基、p−(2−フェニルプロピル)フェニル基、3-メチル−2−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−1−アントリル基、4'−メチルビフェニルイル基、4''−t−ブチル−p−ターフェニル−4−イル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、ピラジニル基、2−ピリジニル基、3−ピリジニル基、4−ピリジニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、4−インドリル基、5−インドリル基、6−インドリル基、7−インドリル基、1−イソインドリル基、3−イソインドリル基、4−イソインドリル基、5−イソインドリル基、6−イソインドリル基、7−イソインドリル基、2−フリル基、3−フリル基、2−ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、4−ベンゾフラニル基、5−ベンゾフラニル基、6−ベンゾフラニル基、7−ベンゾフラニル基、1−イソベンゾフラニル基、3−イソベンゾフラニル基、4−イソベンゾフラニル基、5−イソベンゾフラニル基、6−イソベンゾフラニル基、7−イソベンゾフラニル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4−キノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノリル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、3−イソキノリル基、4−イソキノリル基、5−イソキノリル基、6−イソキノリル基、7−イソキノリル基、8−イソキノリル基、2−キノキサリニル基、5−キノキサリニル基、6−キノキサリニル基、1−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、1−フェナンスリジニル基、2−フェナンスリジニル基、3−フェナンスリジニル基、4−フェナンスリジニル基、6−フェナンスリジニル基、7−フェナンスリジニル基、8−フェナンスリジニル基、9−フェナンスリジニル基、10−フェナンスリジニル基、1−アクリジニル基、2−アクリジニル基、3−アクリジニル基、4−アクリジニル基、9−アクリジニル基、1,7−フェナンスロリン−2−イル基、1,7−フェナンスロリン−3−イル基、1,7−フェナンスロリン−4−イル基、1,7−フェナンスロリン−5−イル基、1,7−フェナンスロリン−6−イル基、1,7−フェナンスロリン−8−イル基、1,7−フェナンスロリン−9−イル基、1,7−フェナンスロリン−10−イル基、1,8−フェナンスロリン−2−イル基、1,8−フェナンスロリン−3−イル基、1,8−フェナンスロリン−4−イル基、1,8−フェナンスロリン−5−イル基、1,8−フェナンスロリン−6−イル基、1,8−フェナンスロリン−7−イル基、1,8−フェナンスロリン−9−イル基、1,8−フェナンスロリン−10−イル基、1,9−フェナンスロリン−2−イル基、1,9−フェナンスロリン−3−イル基、1,9−フェナンスロリン−4−イル基、1,9−フェナンスロリン−5−イル基、1,9−フェナンスロリン−6−イル基、1,9−フェナンスロリン−7−イル基、1,9−フェナンスロリン−8−イル基、1,9−フェナンスロリン−10−イル基、1,10−フェナンスロリン−2−イル基、1,10−フェナンスロリン−3−イル基、1,10−フェナンスロリン−4−イル基、1,10−フェナンスロリン−5−イル基、2,9−フェナンスロリン−1−イル基、2,9−フェナンスロリン−3−イル基、2,9−フェナンスロリン−4−イル基、2,9−フェナンスロリン−5−イル基、2,9−フェナンスロリン−6−イル基、2,9−フェナンスロリン−7−イル基、2,9−フェナンスロリン−8−イル基、2,9−フェナンスロリン−10−イル基、2,8−フェナンスロリン−1−イル基、2,8−フェナンスロリン−3−イル基、2,8−フェナンスロリン−4−イル基、2,8−フェナンスロリン−5−イル基、2,8−フェナンスロリン−6−イル基、2,8−フェナンスロリン−7−イル基、2,8−フェナンスロリン−9−イル基、2,8−フェナンスロリン−10−イル基、2,7−フェナンスロリン−1−イル基、2,7−フェナンスロリン−3−イル基、2,7−フェナンスロリン−4−イル基、2,7−フェナンスロリン−5−イル基、2,7−フェナンスロリン−6−イル基、2,7−フェナンスロリン−8−イル基、2,7−フェナンスロリン−9−イル基、2,7−フェナンスロリン−10−イル基、1−フェナジニル基、2−フェナジニル基、1−フェノチアジニル基、2−フェノチアジニル基、3−フェノチアジニル基、4−フェノチアジニル基、1−フェノキサジニル基、2−フェノキサジニル基、3−フェノキサジニル基、4−フェノキサジニル基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−オキサジアゾリル基、5−オキサジアゾリル基、3−フラザニル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−メチルピロール−1−イル基、2−メチルピロール−3−イル基、2−メチルピロール−4−イル基、2−メチルピロール−5−イル基、3−メチルピロール−1−イル基、3−メチルピロール−2−イル基、3−メチルピロール−4−イル基、3−メチルピロール−5−イル基、2−t−ブチルピロール−4−イル基、3−(2−フェニルプロピル)ピロール−1−イル基、2−メチル−1−インドリル基、4−メチル−1−インドリル基、2−メチル−3−インドリル基、4−メチル−3−インドリル基、2−t−ブチル1−インドリル基、4−t−ブチル1−インドリル基、2−t−ブチル3−インドリル基、4−t−ブチル3−インドリル基等が挙げられる。
【0020】
前記の置換若しくは無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシイソブチル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、1,3−ジヒドロキシイソプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−t−ブチル基、1,2,3−トリヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、1−クロロエチル基、2−クロロエチル基、2−クロロイソブチル基、1,2−ジクロロエチル基、1,3−ジクロロイソプロピル基、2,3−ジクロロ−t−ブチル基、1,2,3−トリクロロプロピル基、ブロモメチル基、1−ブロモエチル基、2−ブロモエチル基、2−ブロモイソブチル基、1,2−ジブロモエチル基、1,3−ジブロモイソプロピル基、2,3−ジブロモt−ブチル基、1,2,3−トリブロモプロピル基、ヨードメチル基、1−ヨードエチル基、2−ヨードエチル基、2−ヨードイソブチル基、1,2−ジヨードエチル基、1,3−ジヨードイソプロピル基、2,3−ジヨードt−ブチル基、1,2,3−トリヨードプロピル基、アミノメチル基、1−アミノエチル基、2−アミノエチル基、2−アミノイソブチル基、1,2−ジアミノエチル基、1,3−ジアミノイソプロピル基、2,3−ジアミノt−ブチル基、1,2,3−トリアミノプロピル基、シアノメチル基、1−シアノエチル基、2−シアノエチル基、2−シアノイソブチル基、1,2−ジシアノエチル基、1,3−ジシアノイソプロピル基、2,3−ジシアノt−ブチル基、1,2,3−トリシアノプロピル基、ニトロメチル基、1−ニトロエチル基、2−ニトロエチル基、2−ニトロイソブチル基、1,2−ジニトロエチル基、1,3−ジニトロイソプロピル基、2,3−ジニトロt−ブチル基、1,2,3−トリニトロプロピル基等が挙げられる。
【0021】
前記の置換若しくは無置換のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1,3−ブタンジエニル基、1−メチルビニル基、スチリル基、2,2−ジフェニルビニル基、1,2−ジフェニルビニル基、1−メチルアリル基、1,1−ジメチルアリル基、2−メチルアリル基、1−フェニルアリル基、2−フェニルアリル基、3−フェニルアリル基、3,3−ジフェニルアリル基、1,2−ジメチルアリル基、1−フェニル−1−ブテニル基、3−フェニル−1−ブテニル基、シクロヘキシリデンメチン基等が挙げられる。前記の置換若しくは無置換のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【0022】
前記の置換若しくは無置換のアルコキシ基は、−OYで表される基であり、Yとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシイソブチル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、1,3−ジヒドロキシイソプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−t−ブチル基、1,2,3−トリヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、1−クロロエチル基、2−クロロエチル基、2−クロロイソブチル基、1,2−ジクロロエチル基、1,3−ジクロロイソプロピル基、2,3−ジクロロ−t−ブチル基、1,2,3−トリクロロプロピル基、ブロモメチル基、1−ブロモエチル基、2−ブロモエチル基、2−ブロモイソブチル基、1,2−ジブロモエチル基、1,3−ジブロモイソプロピル基、2,3−ジブロモt−ブチル基、1,2,3−トリブロモプロピル基、ヨードメチル基、1−ヨードエチル基、2−ヨードエチル基、2−ヨードイソブチル基、1,2−ジヨードエチル基、1,3−ジヨードイソプロピル基、2,3−ジヨードt−ブチル基、1,2,3−トリヨードプロピル基、アミノメチル基、1−アミノエチル基、2−アミノエチル基、2−アミノイソブチル基、1,2−ジアミノエチル基、1,3−ジアミノイソプロピル基、2,3−ジアミノt−ブチル基、1,2,3−トリアミノプロピル基、シアノメチル基、1−シアノエチル基、2−シアノエチル基、2−シアノイソブチル基、1,2−ジシアノエチル基、1,3−ジシアノイソプロピル基、2,3−ジシアノt−ブチル基、1,2,3−トリシアノプロピル基、ニトロメチル基、1−ニトロエチル基、2−ニトロエチル基、2−ニトロイソブチル基、1,2−ジニトロエチル基、1,3−ジニトロイソプロピル基、2,3−ジニトロt−ブチル基、1,2,3−トリニトロプロピル基等が挙げられる。
【0023】
前記の置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基の例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−ナフタセニル基、2−ナフタセニル基、9−ナフタセニル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、4−ピレニル基、2−ビフェニルイル基、3−ビフェニルイル基、4−ビフェニルイル基、p−ターフェニル−4−イル基、p−ターフェニル−3−イル基、p−ターフェニル−2−イル基、m−ターフェニル−4−イル基、m−ターフェニル−3−イル基、m−ターフェニル−2−イル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、p−t−ブチルフェニル基、p−(2−フェニルプロピル)フェニル基、3-メチル−2−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−1−アントリル基、4'−メチルビフェニルイル基、4''−t−ブチル−p−ターフェニル−4−イル基等が挙げられる。
【0024】
また、前記の置換若しくは無置換の芳香族複素環基としては、1−ピロリル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、ピラジニル基、2−ピリジニル基、3−ピリジニル基、4−ピリジニル基、1−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル基、4−インドリル基、5−インドリル基、6−インドリル基、7−インドリル基、1−イソインドリル基、2−イソインドリル基、3−イソインドリル基、4−イソインドリル基、5−イソインドリル基、6−イソインドリル基、7−イソインドリル基、2−フリル基、3−フリル基、2−ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、4−ベンゾフラニル基、5−ベンゾフラニル基、6−ベンゾフラニル基、7−ベンゾフラニル基、1−イソベンゾフラニル基、3−イソベンゾフラニル基、4−イソベンゾフラニル基、5−イソベンゾフラニル基、6−イソベンゾフラニル基、7−イソベンゾフラニル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4−キノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノリル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、3−イソキノリル基、4−イソキノリル基、5−イソキノリル基、6−イソキノリル基、7−イソキノリル基、8−イソキノリル基、2−キノキサリニル基、5−キノキサリニル基、6−キノキサリニル基、1−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−カルバゾリル基、1−フェナンスリジニル基、2−フェナンスリジニル基、3−フェナンスリジニル基、4−フェナンスリジニル基、6−フェナンスリジニル基、7−フェナンスリジニル基、8−フェナンスリジニル基、9−フェナンスリジニル基、10−フェナンスリジニル基、1−アクリジニル基、2−アクリジニル基、3−アクリジニル基、4−アクリジニル基、9−アクリジニル基、1,7−フェナンスロリン−2−イル基、1,7−フェナンスロリン−3−イル基、1,7−フェナンスロリン−4−イル基、1,7−フェナンスロリン−5−イル基、1,7−フェナンスロリン−6−イル基、1,7−フェナンスロリン−8−イル基、1,7−フェナンスロリン−9−イル基、1,7−フェナンスロリン−10−イル基、1,8−フェナンスロリン−2−イル基、1,8−フェナンスロリン−3−イル基、1,8−フェナンスロリン−4−イル基、1,8−フェナンスロリン−5−イル基、1,8−フェナンスロリン−6−イル基、1,8−フェナンスロリン−7−イル基、1,8−フェナンスロリン−9−イル基、1,8−フェナンスロリン−10−イル基、1,9−フェナンスロリン−2−イル基、1,9−フェナンスロリン−3−イル基、1,9−フェナンスロリン−4−イル基、1,9−フェナンスロリン−5−イル基、1,9−フェナンスロリン−6−イル基、1,9−フェナンスロリン−7−イル基、1,9−フェナンスロリン−8−イル基、1,9−フェナンスロリン−10−イル基、1,10−フェナンスロリン−2−イル基、1,10−フェナンスロリン−3−イル基、1,10−フェナンスロリン−4−イル基、1,10−フェナンスロリン−5−イル基、2,9−フェナンスロリン−1−イル基、2,9−フェナンスロリン−3−イル基、2,9−フェナンスロリン−4−イル基、2,9−フェナンスロリン−5−イル基、2,9−フェナンスロリン−6−イル基、2,9−フェナンスロリン−7−イル基、2,9−フェナンスロリン−8−イル基、2,9−フェナンスロリン−10−イル基、2,8−フェナンスロリン−1−イル基、2,8−フェナンスロリン−3−イル基、2,8−フェナンスロリン−4−イル基、2,8−フェナンスロリン−5−イル基、2,8−フェナンスロリン−6−イル基、2,8−フェナンスロリン−7−イル基、2,8−フェナンスロリン−9−イル基、2,8−フェナンスロリン−10−イル基、2,7−フェナンスロリン−1−イル基、2,7−フェナンスロリン−3−イル基、2,7−フェナンスロリン−4−イル基、2,7−フェナンスロリン−5−イル基、2,7−フェナンスロリン−6−イル基、2,7−フェナンスロリン−8−イル基、2,7−フェナンスロリン−9−イル基、2,7−フェナンスロリン−10−イル基、1−フェナジニル基、2−フェナジニル基、1−フェノチアジニル基、2−フェノチアジニル基、3−フェノチアジニル基、4−フェノチアジニル基、10−フェノチアジニル基、1−フェノキサジニル基、2−フェノキサジニル基、3−フェノキサジニル基、4−フェノキサジニル基、10−フェノキサジニル基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−オキサジアゾリル基、5−オキサジアゾリル基、3−フラザニル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−メチルピロール−1−イル基、2−メチルピロール−3−イル基、2−メチルピロール−4−イル基、2−メチルピロール−5−イル基、3−メチルピロール−1−イル基、3−メチルピロール−2−イル基、3−メチルピロール−4−イル基、3−メチルピロール−5−イル基、2−t−ブチルピロール−4−イル基、3−(2−フェニルプロピル)ピロール−1−イル基、2−メチル−1−インドリル基、4−メチル−1−インドリル基、2−メチル−3−インドリル基、4−メチル−3−インドリル基、2−t−ブチル1−インドリル基、4−t−ブチル1−インドリル基、2−t−ブチル3−インドリル基、4−t−ブチル3−インドリル基、等が挙げられる。
【0025】
また、前記の置換若しくは無置換のアラルキル基としては、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニルイソプロピル基、2−フェニルイソプロピル基、フェニル−t−ブチル基、α−ナフチルメチル基、1−α−ナフチルエチル基、2−α−ナフチルエチル基、1−α−ナフチルイソプロピル基、2−α−ナフチルイソプロピル基、β−ナフチルメチル基、1−β−ナフチルエチル基、2−β−ナフチルエチル基、1−β−ナフチルイソプロピル基、2−β−ナフチルイソプロピル基、1−ピロリルメチル基、2−(1−ピロリル)エチル基、p−メチルベンジル基、m−メチルベンジル基、o−メチルベンジル基、p−クロロベンジル基、m−クロロベンジル基、o−クロロベンジル基、 p−ブロモベンジル基、m−ブロモベンジル基、o−ブロモベンジル基、 p−ヨードベンジル基、m−ヨードベンジル基、o−ヨードベンジル基、p−ヒドロキシベンジル基、m−ヒドロキシベンジル基、o−ヒドロキシベンジル基、p−アミノベンジル基、m−アミノベンジル基、o−アミノベンジル基、 p−ニトロベンジル基、m−ニトロベンジル基、o−ニトロベンジル基、 p−シアノベンジル基、m−シアノベンジル基、o−シアノベンジル基、1−ヒドロキシ−2−フェニルイソプロピル基、1−クロロ−2−フェニルイソプロピル基等が挙げられる。
【0026】
前記の置換若しくは無置換のアリールオキシ基は−OZと表され、Zとしてはフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−ナフタセニル基、2−ナフタセニル基、9−ナフタセニル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、4−ピレニル基、2−ビフェニルイル基、3−ビフェニルイル基、4−ビフェニルイル基、p−ターフェニル−4−イル基、p−ターフェニル−3−イル基、p−ターフェニル−2−イル基、m−ターフェニル−4−イル基、m−ターフェニル−3−イル基、m−ターフェニル−2−イル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、p−t−ブチルフェニル基、p−(2−フェニルプロピル)フェニル基、3-メチル−2−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−1−アントリル基、4'−メチルビフェニルイル基、4''−t−ブチル−p−ターフェニル−4−イル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、ピラジニル基、2−ピリジニル基、3−ピリジニル基、4−ピリジニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、4−インドリル基、5−インドリル基、6−インドリル基、7−インドリル基、1−イソインドリル基、3−イソインドリル基、4−イソインドリル基、5−イソインドリル基、6−イソインドリル基、7−イソインドリル基、2−フリル基、3−フリル基、2−ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、4−ベンゾフラニル基、5−ベンゾフラニル基、6−ベンゾフラニル基、7−ベンゾフラニル基、1−イソベンゾフラニル基、3−イソベンゾフラニル基、4−イソベンゾフラニル基、5−イソベンゾフラニル基、6−イソベンゾフラニル基、7−イソベンゾフラニル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4−キノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノリル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、3−イソキノリル基、4−イソキノリル基、5−イソキノリル基、6−イソキノリル基、7−イソキノリル基、8−イソキノリル基、2−キノキサリニル基、5−キノキサリニル基、6−キノキサリニル基、1−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、1−フェナンスリジニル基、2−フェナンスリジニル基、3−フェナンスリジニル基、4−フェナンスリジニル基、6−フェナンスリジニル基、7−フェナンスリジニル基、8−フェナンスリジニル基、9−フェナンスリジニル基、10−フェナンスリジニル基、1−アクリジニル基、2−アクリジニル基、3−アクリジニル基、4−アクリジニル基、9−アクリジニル基、1,7−フェナンスロリン−2−イル基、1,7−フェナンスロリン−3−イル基、1,7−フェナンスロリン−4−イル基、1,7−フェナンスロリン−5−イル基、1,7−フェナンスロリン−6−イル基、1,7−フェナンスロリン−8−イル基、1,7−フェナンスロリン−9−イル基、1,7−フェナンスロリン−10−イル基、1,8−フェナンスロリン−2−イル基、1,8−フェナンスロリン−3−イル基、1,8−フェナンスロリン−4−イル基、1,8−フェナンスロリン−5−イル基、1,8−フェナンスロリン−6−イル基、1,8−フェナンスロリン−7−イル基、1,8−フェナンスロリン−9−イル基、1,8−フェナンスロリン−10−イル基、1,9−フェナンスロリン−2−イル基、1,9−フェナンスロリン−3−イル基、1,9−フェナンスロリン−4−イル基、1,9−フェナンスロリン−5−イル基、1,9−フェナンスロリン−6−イル基、1,9−フェナンスロリン−7−イル基、1,9−フェナンスロリン−8−イル基、1,9−フェナンスロリン−10−イル基、1,10−フェナンスロリン−2−イル基、1,10−フェナンスロリン−3−イル基、1,10−フェナンスロリン−4−イル基、1,10−フェナンスロリン−5−イル基、2,9−フェナンスロリン−1−イル基、2,9−フェナンスロリン−3−イル基、2,9−フェナンスロリン−4−イル基、2,9−フェナンスロリン−5−イル基、2,9−フェナンスロリン−6−イル基、2,9−フェナンスロリン−7−イル基、2,9−フェナンスロリン−8−イル基、2,9−フェナンスロリン−10−イル基、2,8−フェナンスロリン−1−イル基、2,8−フェナンスロリン−3−イル基、2,8−フェナンスロリン−4−イル基、2,8−フェナンスロリン−5−イル基、2,8−フェナンスロリン−6−イル基、2,8−フェナンスロリン−7−イル基、2,8−フェナンスロリン−9−イル基、2,8−フェナンスロリン−10−イル基、2,7−フェナンスロリン−1−イル基、2,7−フェナンスロリン−3−イル基、2,7−フェナンスロリン−4−イル基、2,7−フェナンスロリン−5−イル基、2,7−フェナンスロリン−6−イル基、2,7−フェナンスロリン−8−イル基、2,7−フェナンスロリン−9−イル基、2,7−フェナンスロリン−10−イル基、1−フェナジニル基、2−フェナジニル基、1−フェノチアジニル基、2−フェノチアジニル基、3−フェノチアジニル基、4−フェノチアジニル基、1−フェノキサジニル基、2−フェノキサジニル基、3−フェノキサジニル基、4−フェノキサジニル基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−オキサジアゾリル基、5−オキサジアゾリル基、3−フラザニル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−メチルピロール−1−イル基、2−メチルピロール−3−イル基、2−メチルピロール−4−イル基、2−メチルピロール−5−イル基、3−メチルピロール−1−イル基、3−メチルピロール−2−イル基、3−メチルピロール−4−イル基、3−メチルピロール−5−イル基、2−t−ブチルピロール−4−イル基、3−(2−フェニルプロピル)ピロール−1−イル基、2−メチル−1−インドリル基、4−メチル−1−インドリル基、2−メチル−3−インドリル基、4−メチル−3−インドリル基、2−t−ブチル1−インドリル基、4−t−ブチル1−インドリル基、2−t−ブチル3−インドリル基、4−t−ブチル3−インドリル基等が挙げられる。
【0027】
前記の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基は−COOY2と表され、Y2としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシイソブチル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、1,3−ジヒドロキシイソプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−t−ブチル基、1,2,3−トリヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、1−クロロエチル基、2−クロロエチル基、2−クロロイソブチル基、1,2−ジクロロエチル基、1,3−ジクロロイソプロピル基、2,3−ジクロロ−t−ブチル基、1,2,3−トリクロロプロピル基、ブロモメチル基、1−ブロモエチル基、2−ブロモエチル基、2−ブロモイソブチル基、1,2−ジブロモエチル基、1,3−ジブロモイソプロピル基、2,3−ジブロモt−ブチル基、1,2,3−トリブロモプロピル基、ヨードメチル基、1−ヨードエチル基、2−ヨードエチル基、2−ヨードイソブチル基、1,2−ジヨードエチル基、1,3−ジヨードイソプロピル基、2,3−ジヨードt−ブチル基、1,2,3−トリヨードプロピル基、アミノメチル基、1−アミノエチル基、2−アミノエチル基、2−アミノイソブチル基、1,2−ジアミノエチル基、1,3−ジアミノイソプロピル基、2,3−ジアミノt−ブチル基、1,2,3−トリアミノプロピル基、シアノメチル基、1−シアノエチル基、2−シアノエチル基、2−シアノイソブチル基、1,2−ジシアノエチル基、1,3−ジシアノイソプロピル基、2,3−ジシアノt−ブチル基、1,2,3−トリシアノプロピル基、ニトロメチル基、1−ニトロエチル基、2−ニトロエチル基、2−ニトロイソブチル基、1,2−ジニトロエチル基、1,3−ジニトロイソプロピル基、2,3−ジニトロt−ブチル基、1,2,3−トリニトロプロピル基等が挙げられる。
【0028】
また、Ar1〜Ar2は、置換基として置換又は無置換のスチリル基を有していても良い。置換若しくは無置換のスチリル基としては、無置換のスチリル基、2,2−ジフェニルビニル基の他、末端のフェニル基の置換基として、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、前記の置換若しくは無置換のアミノ基、ニトロ基、シアノ基、前記の置換若しくは無置換のアルキル基、前記の置換若しくは無置換のアルケニル基、前記の置換若しくは無置換のシクロアルキル基、前記の置換若しくは無置換のアルコキシ基、前記の置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基、前記の置換若しくは無置換の芳香族複素環基、前記の置換若しくは無置換のアラルキル基、前記の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、前記の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を有する置換スチリル基及び置換2,2−ジフェニルビニル基等が挙げられる。以下に、本発明の実施形態例における有機薄膜層に使用できる化合物例(1)〜(423)を挙げるが、本発明はその要旨を越えない限りこれら化合物例(以下、化合物番号、又は単に化合物とも呼ぶ)に限定されるものではない。
【0029】
【化2】
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【0030】
【化3】
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【0031】
【化4】
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【0032】
【化5】
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【0033】
【化6】
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【0034】
【化7】
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【0035】
【化8】
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【0036】
【化9】
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【0037】
【化10】
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【0038】
【化11】
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【0039】
【化12】
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【0040】
【化13】
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【0041】
【化14】
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【0042】
【化15】
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【0043】
【化16】
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【0044】
【化17】
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【0045】
【化18】
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【0046】
【化19】
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【0047】
【化20】
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【0048】
【化21】
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【0049】
【化22】
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【0050】
【化23】
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【0051】
【化24】
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【0052】
【化25】
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【0053】
【化26】
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【0054】
【化27】
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【0055】
【化28】
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【0056】
【化29】
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【0057】
【化30】
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【0058】
【化31】
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【0059】
【化32】
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【0060】
【化33】
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【0061】
【化34】
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【0062】
【化35】
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【0064】
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【0066】
【化39】
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【0067】
【化40】
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【0068】
【化41】
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【化42】
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【0070】
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【0071】
【化44】
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【0072】
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【化48】
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【化50】
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【0078】
【化51】
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【化52】
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【0080】
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【0088】
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【化62】
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【0090】
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【化70】
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【0100】
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【0101】
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【0102】
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【0104】
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【化78】
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【化79】
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【0110】
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【化86】
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【化88】
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【化90】
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【化424】
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【0452】
本第1実施形態例におけるソース電極12、ドレイン電極13及びゲート電極14に用いられる材料としては、酸化インジウム錫合金(ITO)、酸化錫(NESA)、金、銀、白金、銅、インジウム、アルミニウム、マグネシウム、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、アルミニウム−リチウム合金、アルミニウム−スカンジウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等の金属や合金の他、導電性ポリマーなどの有機材料が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、本実施形態例のFET構造におけるゲート絶縁層16に用いる材料としては、SiO2、SiNx、アルミナ等の無機絶縁体や絶縁性ポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0453】
第2実施形態例
図2は、本実施形態例の有機TFT10Bの構造を示す断面図である。この有機TFT10BもFET構造を有するものであり、相互に離間したソース電極12及びドレイン電極13と、電極13、14の双方に接する有機薄膜層15と、電極13、14の双方から離間したゲート電極14を有している。
【0454】
すなわち、本有機TFT10Bは、基板11上に、ゲート電極14及び絶縁体層16をこの順に有し、絶縁体層16上に、所定の間隔をあけて形成された一対のソース電極12、12を有している。一対のソース電極12、12を含む絶縁体層16の露出面上には有機薄膜層15が形成され、有機薄膜層15上にはドレイン電極13が形成される。この有機TFT10Bにおいても、有機薄膜層15がチャネル領域を成し、ゲート電極14に印加される電圧でソース電極12とドレイン電極13との間に流れる電流が制御されてオン/オフ動作する。この有機TFT10Bでは、有機薄膜層15の膜厚方向(図2の矢印Bで示す)にキャリアが移動する。
【0455】
本第2実施形態例の有機TFT10Bにおいても、ソース電極12、ドレイン電極13及びゲート電極14に夫々用いることが可能な材料、並びに、有機薄膜層15に含まれる化合物は、第1実施形態例と同様である。
【0456】
第3実施形態例
図3は、本実施形態例の有機TFT10Cの構造を示す断面図である。この有機TFT10Cは、静電誘導トランジスタ(SIT:Static Induction Transistor)構造を有している。有機TFT10Cは、相互に離間したソース電極12及びドレイン電極13と、電極13、14の双方に接する有機薄膜層15と、電極13、14の双方から離間したゲート電極14を有している。
【0457】
すなわち、本有機TFT10Cは、基板11上に、ソース電極12、有機薄膜層15及びドレイン電極13をこの順に有し、有機薄膜層15内に、3つで1組のゲート電極14を有している。ゲート電極14は、紙面の手前−奥方向に、ソース電極12及びドレイン電極13の双方と平行になるように相互に平行に延在している。
【0458】
上記有機TFT10Cにおいても、有機薄膜層15がチャネル領域を成し、ゲート電極14に印加される電圧でソース電極12とドレイン電極13との間に流れる電流が制御されてオン/オフ動作する。この有機TFT10Cでは、有機薄膜層15の膜厚方向(図3の矢印Bで示す)にキャリアが移動する。
【0459】
本第3実施形態例の有機TFT10Cにおいても、ソース電極12、ドレイン電極13及びゲート電極14に夫々用いることが可能な材料、並びに、有機薄膜層15に含まれる化合物は、第1及び第2実施形態例と同様である。
【0460】
本発明に係る第1〜第3実施形態例におけるドナー性ドーパントとしては、有機化合物層15の有機化合物分子に電子を供与する役割を果たすものならばどのようなものでも用いることが出来る。特に好適な例としては、リチウム、ナトリウム、セシウム、カリウム、マグネシウム等の金属やフッ化リチウム、酸化リチウム等の無機金属化合物が挙げられる。
【0461】
第1〜第3実施形態例におけるアクセプタ性ドーパントとしては、有機化合物層の有機化合物分子から電子を取り去る役割を果たすものならばどのようなものでも用いることが出来る。特に好適な例として、三フッ化ホウ素やトリス(4−ブロモフェニル)アミニウムヘキサクロロアンチモネート(TBPAH)等のルイス酸が挙げられる。
【0462】
本発明の各実施形態例における有機TFT10A〜10Cの各層の形成方法は特に限定されることがなく、従来公知の真空蒸着法、スピンコーティング法等、一般的な薄膜形成方法を用いることができる。
【0463】
本発明の各実施形態例の有機TFT10A〜10Cに用いる、前記一般式[A]で示される化合物を含有する有機薄膜層15は、溶媒に溶かした溶液のディッピング法、スピンコーティング法、キャスティング法、バーコート法、ロールコート法等の塗布法の他、真空蒸着法、分子線蒸着法(MBE法)等の方法で形成することができる。
【0464】
本発明の各実施形態例における有機薄膜層15の膜厚は特に制限されないが、一般に膜厚が薄すぎるとピンホール等の欠陥が生じやすく、逆に厚すぎるとTFTの構造によってはチャネル長が長くなる場合や、高い印加電圧が必要となる場合があり、その場合、駆動速度やオン/オフ比の低下を招く。従って、通常は数nmから1μmの範囲に膜厚を設定することが好ましい。また、各実施形態例における基板11は、有機TFTの構造を支持する役目を担うものであり、ガラスの他、プラスチック基板なども用いることが可能であるが、基板以外の構成要素により有機TFTの構造を十分に支持し得る場合には、使用しないことも可能である。
【0465】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
【0466】
実施例1
本実施例では、第1実施形態例で説明した図1の有機TFT10Aを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によってクロミウムを100nmの膜厚で成膜し、これをゲート電極14とした。次いで、ゲート電極14上に、スパッタリングによって、SiO2を300nmの膜厚の絶縁体層16として形成した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して金を150nmの膜厚で成膜することにより、互いに接しないソース電極12及びドレイン電極13を、間隔が25μmになるように形成した。引き続き、別の金属マスクを通して、真空蒸着法により化合物(1)を150nm膜厚の有機薄膜層15として成膜して、有機TFT素子10Aを得た。
【0467】
上記有機TFT素子10Aに、−40Vのゲート電圧を印加したところ、ソース−ドレイン電極間の電流のオン/オフ比は5.1×107であった。
【0468】
実施例2〜189
有機薄膜層15の化合物を替えたこと以外は実施例1と同様の手法で有機TFT10Aを作製し、その後に実施例1と同様に測定した。その結果を実施例2〜189として表1〜表7に示す。表1〜表7では、化合物番号及びオン/オフ比(×107)を実施例毎に記載している。
【0469】
【表1】
Figure 0003823312
【0470】
【表2】
Figure 0003823312
【0471】
【表3】
Figure 0003823312
【0472】
【表4】
Figure 0003823312
【0473】
【表5】
Figure 0003823312
【0474】
【表6】
Figure 0003823312
【0475】
【表7】
Figure 0003823312
【0476】
実施例190
本実施例では、第2実施形態例で説明した図2の有機TFT10Bを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜し、これをゲート電極14とした。次いで、このゲート電極14上に、スパッタリングによりSiO2を300nmの膜厚の絶縁体層16として成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して金を100nmの膜厚でストライプ状に成膜することにより、ソース電極12を形成した。引き続き、真空蒸着法によって化合物(1)を300nm膜厚の有機薄膜層15として形成した。更に、この有機薄膜層15上に、真空蒸着法によって金を200nmの膜厚で成膜してドレイン電極13を形成し、有機TFT素子10Bを得た。
【0477】
上記有機TFT素子10Bのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン時の応答立ち上がり時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0478】
実施例191〜378
有機薄膜層15の化合物を替えたこと以外は実施例190と同様の手法で有機TFT10Bを作製し、その後に実施例190と同様に測定した。その結果を実施例191〜378として表8〜表14に示す。表8〜表14では、化合物番号及びオン/オフ比(×107)を実施例毎に記載している。測定の結果、いずれの素子10Bにおいても、応答時間は1μs未満と極めて短かった。
【0479】
【表8】
Figure 0003823312
【0480】
【表9】
Figure 0003823312
【0481】
【表10】
Figure 0003823312
【0482】
【表11】
Figure 0003823312
【0483】
【表12】
Figure 0003823312
【0484】
【表13】
Figure 0003823312
【0485】
【表14】
Figure 0003823312
【0486】
実施例379
本実施例では、第3実施形態例で説明した図3の有機TFT10Cを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法により金を200nmの膜厚で成膜しソース電極12とした。次いで、このソース電極12上に、化合物(1)を100nmの膜厚で成膜した。更に、この化合物(1)上に、金属マスクを通してアルミニウムを真空蒸着し、幅100μm、間隔200μmのストライプ状の膜厚80nmに形成してゲート電極14とした。このゲート電極14上に、真空蒸着法によって化合物(1)を150nmの膜厚に形成し、有機薄膜層15を得た。引き続き、有機薄膜層15上に、真空蒸着法によって金を200nm膜厚のドレイン電極13として形成し、有機TFT素子10Cを得た。
【0487】
上記有機TFT素子10Cのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン、オフ時の応答時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0488】
実施例380〜567
有機薄膜層15の化合物を替えたこと以外は実施例379と同様の手法で有機TFT10Cを作製し、その後に実施例379と同様に測定した。その結果を実施例380〜567として表15〜表21に示す。表15〜表21では、化合物番号及びオン/オフ比(×107)を実施例毎に記載している。測定の結果、いずれの素子10Cにおいても、応答時間は1μs未満と極めて短かった。
【0489】
【表15】
Figure 0003823312
【0490】
【表16】
Figure 0003823312
【0491】
【表17】
Figure 0003823312
【0492】
【表18】
Figure 0003823312
【0493】
【表19】
Figure 0003823312
【0494】
【表20】
Figure 0003823312
【0495】
【表21】
Figure 0003823312
【0496】
実施例568
本実施例では、図1の有機TFT10Aを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によってクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、このゲート電極14上に、スパッタリングによってSiO2を300nmの膜厚の絶縁体層16として成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して銅を150nmの膜厚で成膜することにより、互いに接しないソース電極12及びドレイン電極13を、間隔が25μmとなるように形成した。引き続き、別の金属マスクを通して、化合物(318)を真空蒸着法により150nm膜厚の有機物層16として形成し、有機TFT素子10Aを得た。
【0497】
上記有機TFT素子10Aに−40Vのゲート電圧を印加したところ、ソース−ドレイン電極間の電流のオン/オフ比は7.3×107であった。
【0498】
実施例569
本実施例では、図2の有機TFT10Bを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、このゲート電極14上に、スパッタリングによって、SiO2を300nm膜厚の絶縁体層16として形成した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して銅を100nmの膜厚でストライプ状に成膜することにより、ソース電極12を形成した。引き続き、ソース電極12を含む絶縁体層16上に、真空蒸着法により化合物(318)を300nm膜厚の有機薄膜層15として形成した。更に、この有機薄膜層15上に、真空蒸着法により銅を200nmの膜厚で成膜してドレイン電極13を形成し、有機TFT素子10Bを得た。
【0499】
上記有機TFT素子10Bのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン時の応答立ち上がり時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0500】
実施例570
本実施例では、図3の有機TFT10Cを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法により銅を200nmの膜厚で成膜しソース電極12とした。次いで、このソース電極12上に、化合物(318)を100nmの膜厚で成膜した。更に、この化合物(318)上に、金属マスクを通してアルミニウムを真空蒸着し、幅100μm、間隔200μmのストライプ状に膜厚80nmで形成しゲート電極14とした。引き続き、ゲート電極14上に、真空蒸着法により化合物(318)を150nmの膜厚で成膜し、有機薄膜層15を形成した。更に、有機薄膜層15上に、真空蒸着法により銅を200nm膜厚のドレイン電極13として形成し、有機TFT素子10Cを得た。
【0501】
上記有機TFT素子10Cのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン、オフ時の応答時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0502】
実施例571
本実施例では、図1の有機TFT10Aを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、このゲート電極14上に、スパッタリングによりSiO2を300nm膜厚の絶縁体層16として成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して、スパッタリングでITOを150nmの膜厚で成膜することにより、互いに接しないソース電極12及びドレイン電極13を、間隔が25μmとなるように形成した。引き続き、別の金属マスクを通して、真空蒸着法により、化合物(318)を150nm膜厚の有機薄膜層15として成膜し、有機TFT素子10Aを得た。
【0503】
上記有機TFT素子10Aに−40Vのゲート電圧を印加したところ、ソース/ドレイン電極間の電流のオン/オフ比は6.7×107であった。
【0504】
実施例572
本実施例では、図2の有機TFT10Bを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、このゲート電極14上に、スパッタリングによりSiO2を300nm膜厚の絶縁体層16として成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して、スパッタリングでITOを100nm膜厚でストライプ状に成膜して、ソース電極12を形成した。引き続き、真空蒸着法により、化合物(318)を300nm膜厚の有機薄膜層15として形成した。更に、この有機薄膜層15上に、スパッタリングによりITOを200nmの膜厚で成膜してドレイン電極13を形成し、有機TFT素子10Bを得た。
【0505】
上記有機TFT素子10Bのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン時の応答立ち上がり時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0506】
実施例573
本実施例では、図3の有機TFT10Cを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、スパッタリングによりITOを1000nmの膜厚で成膜しソース電極12とした。次いで、このソース電極12上に、化合物(318)を100nmの膜厚で成膜した。更に、この化合物(318)上に、金属マスクを通してアルミニウムを真空蒸着し、幅100μm、間隔200μmのストライプ状に膜厚80nmで形成してゲート電極14とした。このゲート電極14上に、真空蒸着法により化合物(318)を150nmの膜厚で成膜し、有機薄膜層15を形成した。引き続き、有機薄膜層15上に、スパッタリングによりITOを200nm膜厚のドレイン電極13として形成し、有機TFT素子10Cを得た。
【0507】
上記有機TFT素子10Cのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン、オフ時の応答時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0508】
実施例574
本実施例では、図1の有機TFT10Aを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、このゲート電極14上に、スパッタリングによりSiO2を300nm膜厚の絶縁体層16として成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通してマグネシウム−銀合金を150nmの膜厚で成膜することにより、互いに接しないソース電極12及びドレイン電極13を、間隔が25μmとなるように形成した。引き続き、別の金属マスクを通して化合物(231)とセシウムとを重量比10:1になるように、ソース電極12を覆う領域にのみ20nmの膜厚で形成した。その後、真空蒸着法により、化合物(231)を150nm膜厚の有機薄膜層15として成膜し、有機TFT素子10Aを得た。
【0509】
上記有機TFT素子10Aに40Vのゲート電圧を印加したところ、ソース−ドレイン電極間の電流のオン/オフ比は5.7×107であった。
【0510】
実施例575
本実施例では、図2の有機TFT10Bを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、ゲート電極14上に、スパッタリングによりSiO2を300nm膜厚の絶縁体層16として成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通してマグネシウム−銀合金を100nmの膜厚でストライプ状に成膜して、ソース電極12を形成した。引き続き、化合物(231)とセシウムとを重量比10:1になるように20nm膜厚の有機薄膜層15として形成した後、更に、真空蒸着法により化合物(231)を280nmの膜厚で形成した。この後、有機薄膜層15上に、真空蒸着法によりマグネシウム−銀合金を200nm膜厚のドレイン電極13として成膜し、有機TFT素子10Bを得た。
【0511】
上記有機TFT素子10Bのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン時の応答立ち上がり時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0512】
実施例57 6
本実施例では、図3の有機TFT10Cを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりマグネシウム−銀合金を200nmの膜厚で成膜しソース電極12とした。次いで、このソース電極12上に、化合物(231)とセシウムとを重量比10:1になるように20nm形成した後、更に、化合物(231)を80nmの膜厚で成膜した。この上に、金属マスクを通してアルミニウムを真空蒸着し、幅100μm、間隔200μmのストライプ状に膜厚80nmで形成しゲート電極14とした。引き続き、このゲート電極14上に、真空蒸着法により化合物(231)を150nmの膜厚で成膜し、有機薄膜層15を形成した。更に、有機薄膜層15上に、真空蒸着法によりマグネシウム−銀合金を200nm膜厚のドレイン電極13として形成し、有機TFT素子10Cを得た。
【0513】
上記有機TFT素子10Cのゲート電極12に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン、オフ時の応答時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0514】
実施例577
本実施例では、図1の有機TFT10Aを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、ゲート電極14上に、スパッタリングにより300nm膜厚の絶縁体層16としてSiO2を成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して金を150nmの膜厚で成膜することにより、互いに接しないソース電極12及びドレイン電極13を、間隔が25μmとなるように形成した。引き続き、別の金属マスクを通して、化合物(215)と三フッ化ホウ素とを重量比10:1になるように、ソース電極12を覆う領域にのみ20nmの膜厚で形成した。その後、真空蒸着法により、化合物(215)を150nm膜厚の有機薄膜層15として成膜して、有機TFT素子10Aを得た。
【0515】
上記有機TFT素子10Aに40Vのゲート電圧を印加したところ、ソース−ドレイン電極間の電流のオン/オフ比は5.9×107であった。
【0516】
実施例578
本実施例では、図2の有機TFT10Bを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法によりクロミウムを100nmの膜厚で成膜しゲート電極14とした。次いで、このゲート電極14上に、スパッタリングにより300nm膜厚の絶縁体層16としてSiO2を成膜した。更に、この絶縁体層16上に、金属マスクを通して金を100nmの膜厚でストライプ状に成膜することにより、ソース電極12を形成した。引き続き、有機薄膜層15として化合物(215)と三フッ化ホウ素とを重量比10:1になるように、20nmの膜厚で形成した後、真空蒸着法により化合物(215)を280nmの膜厚で形成した。更に、この有機薄膜層15上に、真空蒸着法によりマグネシウム−銀合金を200nmの膜厚で成膜しドレイン電極13を形成し、有機TFT素子10Bを得た。
【0517】
上記有機TFT素子10Bのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン時の応答立ち上がり時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0518】
実施例579
本実施例では、図3の有機TFT10Cを以下の手順で作製した。まず、基板11上に、真空蒸着法により金を200nmの膜厚で成膜しソース電極12とした。次いで、ソース電極12上に、化合物(215)と三フッ化ホウ素とを重量比10:1になるように、20nmの膜厚で形成した後、更に化合物(215)を80nmの膜厚で成膜した。続いて、この化合物(215)上に、金属マスクを通してアルミニウムを真空蒸着し、幅100μm、間隔200μmのストライプ状に膜厚80nmで形成しゲート電極14とした。引き続き、このゲート電極14上に、真空蒸着法により化合物(215)を150nmの膜厚で成膜し、有機薄膜層15を形成した。更に、この有機薄膜層15上に、真空蒸着法により金を200nm膜厚のドレイン電極13として形成し、有機TFT素子10Cを得た。
【0519】
上記有機TFT素子10Cのゲート電極14に周波数1kHz、最大電圧8.5Vの矩形波電圧を、ソース−ドレイン電極12、13間に10Vの直流電圧を印加し、ソース−ドレイン電極間の電流のオン、オフ時の応答立ち上がり時間(全変化量の10%変化時から90%変化時までの時間)を測定したところ、1μs未満であった。
【0520】
以上、本発明をその好適な実施形態例に基づいて説明したが、本発明に係る有機薄膜トランジスタは、上記実施形態例の構成にのみ限定されるものではなく、上記実施形態例の構成から種々の修正及び変更を施した有機薄膜トランジスタも、本発明の範囲に含まれる。
【0521】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、一般式[A]で表される化合物を有機薄膜層に単独若しくは混合物として含ませたので、高速で動作し、高いオン/オフ比を有する有機薄膜トランジスタを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施形態例の有機TFTの構成を示す断面図である。
【図2】本発明に係る第2実施形態例の有機TFTの構成を示す断面図である。
【図3】本発明に係る第3実施形態例の有機TFTの構成を示す断面図である。
【符号の説明】
10A、10B、10C:有機薄膜トランジスタ
11:基板
12:ソース電極
13:ドレイン電極
14:ゲート電極
15:有機薄膜層(有機化合物層)
16:絶縁体層

Claims (17)

  1. 相互に離間した第1及び第2の電極と、該第1及び第2の電極の双方に接する有機薄膜層と、前記第1及び第2の電極の双方から離間した第3の電極を有し、該第3の電極に印加される電圧によって前記第1及び第2の電極間に流れる電流を制御する型式の有機薄膜トランジスタであって、
    前記有機薄膜層が下記一般式[A]
    Figure 0003823312
    (式[A]中、Ar1〜Ar2は夫々独立に、炭素数6から20の置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基或いは置換若しくは無置換の芳香族複素環基である。また、Ar1〜Ar2が有する置換基は互いに結合して環を形成してもよい。またXは炭素数6から34の置換若しくは無置換の縮合芳香族炭化水素から成る1〜4価の基である。nは1〜4の整数を表す。)
    で表される化合物を単独若しくは混合物として含むことを特徴とする有機薄膜トランジスタ。
  2. 一般式[A]中、Xが置換若しくは無置換のナフタレン、ビフェニレン、ペリレン、ペンタセン、ベンゾ[a]ペリレン、ジベンゾ[a,j]ペリレン、ジベンゾ[a,o]ペリレン、ビスアンスレン、テリレン、テトラベンゾ[de,hi,op,st]ペンタセンであり、nが1〜2であることを特徴とする、請求項1に記載の有機薄膜トランジスタ。
  3. 一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換若しくは無置換のスチリル基を有することを特徴とする、請求項2に記載の有機薄膜トランジスタ。
  4. 一般式[A]中、Ar1及びAr2の置換基として少なくとも一つシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とする、請求項2に記載の有機薄膜トランジスタ。
  5. 一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換スチリル基を有し、そのスチリル基が置換基としてシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とする、請求項2に記載の有機薄膜トランジスタ。
  6. 一般式[A]中、Xがトリフェニレンであり、nが1〜3であることを特徴とする、請求項1に記載の有機薄膜トランジスタ。
  7. 一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換若しくは無置換のスチリル基を有することを特徴とする、請求項6に記載の有機薄膜トランジスタ。
  8. 一般式[A]中、Ar1及びAr2の置換基として少なくとも一つシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とする、請求項6に記載の有機薄膜トランジスタ。
  9. 一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換スチリル基を有し、そのスチリル基が置換基としてシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とする、請求項6に記載の有機薄膜トランジスタ。
  10. 一般式[A]中、Xがテトラフェニレン、9,9’−スピロビフルオレンであり、nが1〜4であることを特徴とする、請求項1に記載の有機薄膜トランジスタ。
  11. 一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換若しくは無置換のスチリル基を有することを特徴とする、請求項10に記載の有機薄膜トランジスタ。
  12. 一般式[A]中、Ar1及びAr2の置換基として少なくとも一つシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とする、請求項10に記載の有機薄膜トランジスタ。
  13. 一般式[A]中、−NAr1Ar2で表されるジアリールアミノ基のうちの少なくとも一つが、Ar1の置換基として置換スチリル基を有し、そのスチリル基が置換基としてシクロヘキシリデンメチン基を有することを特徴とする、請求項10に記載の有機薄膜トランジスタ。
  14. 前記第1及び第2の電極間のキャリアの移動方向が、前記有機薄膜層の膜厚方向と一致することを特徴とする、請求項1〜13の内の何れか1項に記載の有機薄膜トランジスタ。
  15. 前記有機薄膜層の第1、第2及び第3の電極のいずれかとの界面においてドナー性ドーパント或いはアクセプタ性ドーパントが混合されていることを特徴とする、請求項1〜14の内の何れか1項に記載の有機薄膜トランジスタ。
  16. 前記ドナー性ドーパントが金属単体或いは無機金属化合物であることを特徴とする、請求項15に記載の有機薄膜トランジスタ。
  17. 前記アクセプタ性ドーパントがルイス酸であることを特徴とする、請求項15に記載の有機薄膜トランジスタ。
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