JP3440305B2

JP3440305B2 - ７−（ｎ−置換アミノ）−２−フェニルヘプタン酸エステル誘導体及び該誘導体の製造方法

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Publication number: JP3440305B2
Application number: JP11735997A
Authority: JP
Inventors: 信夫清藤; 武伸西川; 司外口; 良文湯浅; 孝志三浦; 秀徳雲林
Original assignee: Takasago International Corp
Current assignee: Takasago International Corp
Priority date: 1997-04-02
Filing date: 1997-04-02
Publication date: 2003-08-25
Anticipated expiration: 2017-04-02
Also published as: JPH10279552A; US5801271A; CA2211930A1

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、下記抗鬱薬の鍵中
間体である光学活性２−フェニル−２−（２´−ピペリ
ジニリデン）酢酸メチルエステルの合成中間体として有
用な７−（Ｎ−置換アミノ）−２−フェニルヘプタン酸
誘導体及び該誘導体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】

【従来の技術】抗鬱薬として既に、スレオ−２−フェニ
ル−２−（２’−ピペリジル）酢酸メチルエステル・塩
酸塩（商品名リタリン）がラセミ体の形で販売されてい
る。また、特定の立体異性体のほうが、異なる立体異性
体よりも５倍程度薬理活性が高いことも知られている。
（米国特許第２９５７８８０号明細書）一方、２−フェニル−２−（２’−ピペリジル）酢酸メ
チルの構造解析について研究が進み、この化合物の光学
活性体の絶対配置についての成果が報告されている
（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ，１２，２６６，１９６
９．）。

【０００３】前記光学活性体の合成法は、例えば、１）フェニルアセトニトリルと２−クロロピリジンをナ
トリウムアミド存在下、縮合反応を行ったのち、加水分
解、還元反応を行い、２−フェニル−２−（２’−ピペ
リジル）酢酸アミドとし、（米国特許第２５０７３６１
号明細書）、次いで、再結晶法により２種類のラセミ体
に分け、光学活性酒石酸を用いて光学分割し、加水分
解、エステル化反応により合成する方法（米国特許第２
９５７８８０号明細書）、２）光学活性クロロフェニラミンをホフマン分解反応
し、オレフィン体とした後、さらにオゾン酸化反応し合
成する方法（Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｓｃｉ，５６，１６８
９，１９６７）、などがある。しかし、どちらの方法も
煩雑な操作が要求され、さらに高価な光学分割剤や光学
活性体を使用しなければならない。このような状況にお
いて、より簡単な方法で、しかも経済的により安価な方
法で前記光学活性体を得る製法の開発が望まれていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】かかる状況において本
発明者らは、光学活性な２−フェニル−２−（２’−ピ
ペリジル）酢酸エステル誘導体を簡単に、しかも経済的
に合成する手段を開発すべく鋭意研究した結果、新規化
合物を見いだし、該化合物を出発原料とすると、上記光
学活性な２−フェニル−２−（２’−ピペリジル）酢酸
エステル誘導体を簡単に合成できる点も見いだした。し
たがって、本発明の課題は、新規な７−（Ｎ−置換アミ
ノ）−２−フェニルヘプタン酸誘導体を提供し、またそ
れら誘導体を製造する方法を提供することである。

【０００５】

【課題が解決するための手段】本発明の新規化合物は、
一般式（１）

【化１３】（式中Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基
あるいは炭素数１〜４の低級アルコキシ基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^３はアミノ
基の保護基を示す。）で表される７−（Ｎ−置換アミ
ノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸エステル誘
導体、一般式（２）

【化１４】（式中Ｒ^１，Ｒ^２は前記と同じであり、Ｒ^４は水素原子
あるいはアミノ基の保護基を示す。）で表される７−
（Ｎ−置換アミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘ
プタン酸エステル誘導体、および一般式（３）

【化１５】（式中Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^４は前記と同じであり，Ｒ^５は置
換基を有していてもよいベンゼンスルホニル基を示
す。。）で表される７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ベン
ゼンスルホニルオキシ−２−フェニルヘプタン酸エステ
ル誘導体である。

【０００６】上記式中、Ｒ^１の低級アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基など、低級アルコ
キシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピキシ
基などが挙げられ、Ｒ^２の低級アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基などが挙げられ、Ｒ^３お
よびＲ^４のアミノ基の保護基としては、ベンジルオキシ
カルボニル基、炭素数１〜４の低級アルコキシカルボニ
ル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アリル基などが挙
げられる。

【０００７】上記式（１）で表される化合物の好ましい
製造方法は次のとおりである。まず、一般式（４）

【化１６】（式中Ｒ^３は、上記と同じでる。）で表される５−（Ｎ
−置換アミノ）ペンタン酸誘導体とＮ，Ｎ’−カルボニ
ルジイミダゾール（以下、ＣＤＩという）を反応させ
て、一般式（６）

【化１７】（式中Ｒ^３は上記と同じである。）で表されるイミダゾ
ライド体とし、次にこのイミダゾライド体と一般式
（５）

【化１８】（式中Ｍはリチウム原子であり、Ｒ^１、Ｒ^２は上記と同
じである。）で表されるフェニル酢酸エステル類のエノ
ラートとを縮合反応させる。

【０００８】上記イミダゾライド体の好ましい調製法は
次のとおりである。５−（Ｎ−置換アミノ）ペンタン酸
誘導体と該誘導体に対して１〜１．５当量のＣＤＩを加
え、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦという）中０℃
〜室温にて２〜３０時間反応させる。

【０００９】かくして得られたイミダゾライド体と該イ
ミダゾライド体に対して１〜１．５当量の一般式（５）
で表されるフェニル酢酸エステル類のエノラートとを−
７０〜０℃にて１．５〜４時間縮合させることにより、
前記一般式（１）で表される７−（Ｎ−置換アミノ）−
３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸誘導体を好適に調
製することができる。

【００１０】上記式（４）で表される誘導体は本出願前
知られているものであり、例えば次のような方法により
調製できる。市販の５−アミノペンタン酸の水酸化ナト
リウム水溶液にベンジルオキシカルボニルクロリドある
いはジ−ｔ−ブチルジカーボネートを加え、室温で１８
時間攪拌し、塩酸を加え、ｐＨ値を３とした後、酢酸エ
チルにより抽出し、常法により精製する。また、式
（５）で表されるフェニル酢酸エステル類のエノラート
も、本出願前知られているものであり、例えば次のよう
な方法により調製できる。即ち、フェニル酢酸エステル
類とリチウムアルキルアミドとをエーテル系溶媒あるい
は芳香族炭化水素中、−７０〜０℃にて反応させる。

【００１１】次に上記新規な式（２）で表される化合物
は、ａ）一般式（１）で表される７−（Ｎ−置換アミノ）−
３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸誘導体を光学活性
ホスフィン錯体を配位子とする第ＶＩＩＩ族遷移金属錯
体の存在下、水素と反応させるか、あるいはｂ）一般式（１）で表される７−（Ｎ−置換アミノ）−
３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸誘導体を化学還元
剤で還元反応を行うことにより、調製することができ
る。なお、必要に応じて、アミノ基の保護基を周知の方
法を用いてはずしてもよい。この新規な式（２）で表さ
れる化合物は、二つの不斉炭素を有しているので表１に
示される４種の光学異性体が存在し、とくに上記ａ）の
方法を採用すると、特定の光学異性体を多量に含む生成
物を調製することが可能となる。

【表１】

【００１２】本発明でいう第ＶＩＩＩ族遷移金属錯体
は、下記のものが含まれる。まず、一般式（７）ＭｍＬｎＸｑＱｒＹｓ（７）（式中Ｍはルテニウム原子、イリジウム原子、ロジウム
原子を示し、Ｌは光学活性ホスフィン配位子であり、Ｘ
は水素原子、ハロゲン原子、カルボン酸誘導体残基から
選ばれ、Ｑはエチレン、１，５−オクタジエン、ベンゼ
ン、ｐ−シメン、メシチレン等から選ばれ、Ｙはハロゲ
ンイオン、ＣｌＯ_４−、ＢＦ_４−、ＰＦ_６−から選ばれ
る陰イオンであり、ｍ、ｎ、ｓは１または２を示し、ｒ
は０または１を示し、ｑは０、１または２を示す。）で
表される錯体である。ここで用いられる光学活性ホスフ
ィン配位子は、本出願前公知の光学活性なホスフィン配
位子であればどのようなものでのよいが、好適な配位子
を下記に示してある。また、カルボン酸誘導体残基と
は、一般式Ｒ^６ＣＯ_２（８）（式中、Ｒ^６はメチル基、トリフルオロメチル基、トリ
ブロモメチノレ基，ｔ−ブチル基を示す）で表される基
をいう。

【００１３】上記錯体に、式ＮＲ^７Ｒ^８Ｒ^９（式中、Ｒ
^７，Ｒ^８，Ｒ^９は同一あるいは異なっていてもよく、炭
素数が１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^７，Ｒ^８，Ｒ
^９のなかの二つが窒素原子とともに複素環を形成しても
よい）が配位した錯体も、本発明の好ましい錯体であ
る。このＮＲ^７Ｒ^８Ｒ^９で表される化合物の好ましい例
としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、Ｎ−メチルピペリジンなどが挙げられる。

【００１４】また、上記アミンが配位した錯体に、金属
ハロゲン化物のようなルイス酸を加え攪拌して得られた
錯体も使用できる。好ましい金属ハロゲン化物は、４塩
化チタン、４臭化チタン、２塩化スズ、３塩化鉄、塩化
アルミニウム、塩化カルシウム、塩化サマリウム、ヨウ
化サマリウム、塩化ランタン、塩化セリウムがある。

【００１５】上記錯体において、とくに好ましい錯体は
次のとおりである。１）一般式ＲｕＸＹ（Ｌ）２）一般式〔ＲｕＸ（Ｌ）Ｑ〕Ｙ３）一般式〔Ｒｕ_２Ｃｌ_４（Ｌ）_２〕ＮＲ^７Ｒ^８Ｒ^９４）一般式〔ＩｒＱ（Ｌ）〕Ｙ５）一般式〔ＲｈＱ（Ｌ）〕Ｙ（式中、Ｘ、Ｙ、Ｌ、Ｑ、Ｒ^７，Ｒ^８，Ｒ^９は上記と同
じである。）

【００１６】なお、本発明では上記のように錯体を予め
調製しておき、該錯体を反応系に添加し、水素化反応を
行う方法が好ましい。また、錯体構成成分個々を予め混
合した後、あるいは混合せずに、反応系に添加して、水
素化反応を行ってもよい。具体的には、オートクレーブ
内に〔イリジウム（シクロオクタジエニル）クロリド〕
_２（以下、〔Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ〕_２という）あるいは
〔ロジウム（シクロオクタジエニル）クロリド〕_２（以
下、〔Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ〕_２という）と光学活性ホス
フィン配位子２モル当量と溶媒を加えて攪拌して得られ
る混合物、あるいは、一般式〔Ｒｕ_２Ｃｌ_４（Ｌ）_２〕
ＮＲ^７Ｒ^８Ｒ^９錯体に対して、５〜１０倍量の塩化メチ
レンなどの溶媒を加え溶解し、さらに金属ハロゲン化物
を１〜５当量加え、室温で２〜１８時間攪拌した後、減
圧濃縮して得られた混合物を反応系内に添加し水素化反
応を行う。

【００１７】ここでの光学活性ホスフィン配位子は、具
体的には、（Ｒ）−２、２´−ビス−（ジフェニルホス
フィノ）−１、１´−ビナフチル（ＢＩＮＡＰと略
す）、（Ｒ）−２、２´−ビス−（ジ−ｐ−トリルホス
フィノ）−１、１´−ビナフチル（Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ
と略す）、（Ｒ）−２、２´−ビス−（ジ−ｐ−クロロ
フェニルホスフィノ）−１、１´−ビナフチル（ｐ−Ｃ
ｌ−ＢＩＮＡＰと略す），２、２´−ビス（ジフェニル
ホスフィノ）−５、５´、６、６´、７、７´、８、８
´−オクタヒドロ−１、１´−ビナフチル（Ｈ８−ＢＩ
ＮＡＰと略す）、（Ｒ）−２、２´−ビス−（ジ−３、
５−キシリルホスフィノ）−１、１´−ビナフチル（Ｄ
Ｍ−ＢＩＮＡＰと略す）、（Ｒ）−２、２´−ビス（ジ
シクロヘキシルホスフィノ）−６、６´−ジメチル−
１、１´−ビフェニル（ＢＩＣＨＥＰと略す）、（Ｒ）
−２、２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−６、６´
−ジメチル−１、１´−ビフェニル（ＢＩＰＨＥＭＰと
略す）（＋）−２、２´−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）−４、４´、６、６´−テトラメチル−５、５´−
ジクロロ−１、１´−ビフェニル（ＣＭ−ＢＩＰＨＥＭ
Ｐと略す）、（Ｒ）−２−（ジビフェニルホスフィノ）
−２´−（ジフェニルホスフィノ）−１、１´−ビナフ
チル（ＢｉＰｈ−Ｐｈ−ＢＩＮＡＰと略す）、（Ｒ）−
２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−２´−（ジフェ
ニルホスフィノ）−１、１´−ビナフチル（Ｃｙ−Ｐｈ
−ＢＩＮＡＰと略す）が挙げられる。

【００１８】これら錯体の遷移金属として好ましくはロ
ジウム原子、ルテニウム原子、イリジウム原子等が用い
られる。なかでもより好ましくは、ルテニウム原子ある
いはイリジウム原子が用いられる。

【００１９】より具体的な遷移金属錯体は表２に記載さ
れたとおりである。

【表２】

【００２０】これら遷移金属錯体の調製法は、既に知ら
れており、例えば特開昭６１−２６５２３９号公報、実
験化学講座（第４版）第１８巻有機金属錯体第３２７−
３６７頁記載の方法により調製できる。

【００２１】上記遷移金属錯体の使用量は、不斉水素化
反応が速やかに進行し、また純度や光学純度の高い不斉
水素化物が得られる点から、原料に対して、１／１００
〜１／１００００倍モルが用いられるが、１／２００〜
１／１０００倍モルが特に好ましい。本反応の反応温度
は、−３０℃〜２５０℃、好ましくは、１５℃〜１００
℃の範囲がよい。本反応を行う場合は、１気圧〜２００
気圧、更に好ましくは、１０気圧〜１００気圧の範囲の
水素雰囲気下とする。不斉水素化反応は通常、溶媒中で
行い、溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、２−プロパノール等のプロトン住溶媒、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、アセトン、酢
酸エチル等の非プロトン性溶媒を単独あるいは混合溶媒
として用いることが出来る。本発明においては、特にメ
タノールが好ましい。通常、この溶媒を出発原料が１〜
５０重量パーセントとなるように調整するが、好ましく
は３〜１０重量パーセントに調整する。

【００２２】上記反応においては、酸、金属ハロゲン化
物などを反応系内に添加すると、反応速度が促進された
り、不斉選択性が向上するなどの好ましい結果をもたら
す。共存させる酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
等の鉱酸、あるいはカルボン酸類、スルホン酸類等の有
機酸が挙げられ、共存させる金属ハロゲン化物として
は、４塩化チタン、４臭化チタン、２塩化スズ、３塩化
鉄、塩化アルミニウム、塩化カルシウム、塩化サマリウ
ム、ヨウ化サマリウム、塩化ランタン、塩化セリウムが
挙げられる。これらを単独で添加してもよいが２種類以
上添加してもよく、酸と金属ハロゲン化物を併用しても
よい。とくに、Ｄ−ショウノウ−１０−スルホン酸（以
下、Ｄ−ＣＳＡという）、ＤＬ−ショウノウ−１０−ス
ルホン酸（以下、ＤＬ−ＣＳＡという）、３−ブロモ−
ショウノウ−１０−スルホン酸（以下、ＢＳＡという）
などのスルホン酸類あるいは２塩化スズが好ましい。酸
および金属ハロゲン化物の添加量は、基質１モルに対し
て、１０^−５〜５モルであり、好ましくは１０^−３〜２
^−２モルである。

【００２３】水素化反応により生成される水素化物を特
に処理を施さずに次の反応工程に付することもできる
が、精製処理を施し、希望する光学活性体の含量を高め
たうえで次の工程に付することが好ましい。この精製処
理は本出願前公知の方法を採用できる。

【００２４】上記新規な式（２）で表される化合物の異
なる調製法を説明する。即ち、一般式（１）で表される
７−（Ｎ−置換アミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘ
プタン酸誘導体を化学還元剤で還元反応を行うことによ
り、式（２）で表される化合物を調製する方法を説明す
る。該一般式（１）で表される誘導体を還元反応する際
用いられる化学還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム、シアン化水
素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、とくに水素化ホ
ウ素ナトリウムが経済的な理由から好ましい。その化学
還元剤の使用量は、基質に対して１〜５当量が好まし
い。還元反応は、通常メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等の低級アルコール、好ましくはメタノール
中、基質の含量を１０〜４０重量％に調整し、−２０℃
〜５０℃の温度範囲で０．５〜５時間行う。反応終了
後、例えば、反応液に塩酸を加えるなどして酸性に調整
した後、酢酸エチル等の溶媒で抽出することにより、式
（２）の化合物が得られる。

【００２５】このような方法にて得られた式（２）で表
される７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ヒドロキシ−２−
フェニルヘプタン酸エステル誘導体を、ピリジン誘導体
を含む溶媒中、ベンゼンスルホニル化合物と反応させ、
一般式（３）

【化１９】（式中Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^４，Ｒ^５は前記と同じである。）
で表される新規な化合物である７−（Ｎ−置換アミノ）
−３−ベンゼンスルホニルオキシ−２−フェニルヘプタ
ン酸誘導体を調製することができる。この誘導体も二つ
の不斉炭素を有しているので、表１で示される光学異性
体と同様な４つの光学異性体が存在する。前記ベンゼン
スルホニル化合物としては、ベンゼンスルホニルクロリ
ド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ｍ−トルエンス
ルホニルクロリド、ｏ−トルエンスルホニルクロリド等
が挙げられるが、とくにｐ−トルエンスルホニルクロリ
ドが好ましい。ベンゼンスルホニル化合物は基質に対し
て１〜２当量添加する。また、前記ピリジン誘導体とし
ては、ピリジン、ブロモピリジン、３−メチルピリジ
ン、２−メチルピリジンが挙げられる。さらに溶媒とし
ては、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ベンゼン、
トルエン、アセトン、酢酸エチル等が好適に使用でき
る。なお、溶媒としてピリジンを使用すると、前記ピリ
ジン誘導体をも兼ねることになるので好都合である。こ
の反応は、通常、基質を１〜３０重量％となるように調
整し、室温下、１〜５時間程度行う。なお、溶媒として
ピリジンを選択した場合、基質１モルに対して、１／１
００〜１／２モル、好ましくは１／１０〜１／７モルの
ジメチルアミノピリジンを共存させると反応が促進され
るなどの好ましい結果が得られる。反応終了後、例え
ば、反応液に塩酸を加えるなどして酸性に調整した後、
酢酸エチル等の溶媒で抽出することにより、式（３）の
化合物が得られる。なお、必要に応じて、アミノ基の保
護基を周知の方法を用いてはずしてもよい。

【００２６】かくして得られた一般式（３）で表される
７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ベンゼンスルホニルオキ
シ−２−フェニルヘプタン酸誘導体を、触媒の存在下、
水素と反応させ、脱保護反応を行い、更に塩基の存在下
で環化反応を行い、一般式（９）

【化２０】（式中Ｒ^１，Ｒ^２は前記と同じである。）で表される２
−フェニル−２−（２’−ピペリジル）酢酸エステル誘
導体を製造することができる。とくに、一般式（１０）

【化２１】（式中Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^４，Ｒ^５は上記と同じである。）
で表される７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ベンゼンスル
ホニルオキシ−２−フェニルヘプタン酸誘導体を多量に
含む生成物を出発物質として、上記脱保護反応と環化反
応をさせると、一般式（１１）

【化２２】（式中Ｒ^１，Ｒ^２は上記と同じである。）で表される２
−フェニル−２−（２’−ピペリジル）酢酸エステル誘
導体を多量に含む生成物を得ることができる（参考例の
方法を参照）。この２−フェニル−２−（２’−ピペリ
ジル）酢酸エステル誘導体を公知のエピメリ化反応によ
り、前記抗鬱薬を簡単に調製することが可能である。

【００２７】

【発明の効果】本発明の式（１）で表される化合物か
ら、式（２）で表される化合物を経て式（３）で表され
る化合物を容易に調製することができる。そして、
（３）で表される化合物から容易に式（７）で表される
化合物、つまり、抗鬱薬剤の鍵中間体として極めて重要
な化合物を簡単に調製することができる。

【００２８】実施例以下に実施例を挙げ、本発明を詳細に説明するが、本発
明はこれらによってなんら限定されるものではない。な
お、各実施例における物性の測定に用いた装置は次の通
りである。核磁気共鳴：^１Ｈ−ＮＭＲ；ＡＭ４００（４００ＭＨｚ）（Ｂｒｕｋｅｒ社製） ^１３Ｃ−ＮＭＲ；ＡＭ４００（１００ＭＨｚ）（Ｂｒｕｋｅｒ社製）高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）：ＬＣ−７０００シリーズ（日立製作所製）質量分析（ＭＡＳＳ）：Ｍ−８０Ｂ（日立製作所製）融点：ＭＰ−５００Ｄ（Ｙａｎａｃｏ社製）

【００２９】実施例１７−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸
メチルの合成５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ペンタン
酸７０ｇ（２７９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３５０ｍｌに溶解
し、ＣＤＩ４９．７ｇ（３０６ｍｍｏｌ）を数回に分け
て加え、室温で１８時間撹拌し、イミダゾライド体を合
成した。別のフラスコに、ジイソプロピルアミン１０
９．５ｍｌ（８３６ｍｍｏｌ）とＴＨＦ３５０ｍｌを加
え、ドライアイスアセトンバス中で−３５℃に冷却し
た。同温に保ちながら、１．６３Ｎのｎ−ブチルリチウ
ム（ヘキサン溶液）（以下、ＢＡ溶液という）５１３ｍ
ｌ（８３６ｍｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了
後、更に１時間同温で撹拌しリチウムジイソプロピルア
ミドを調製した。次に、フェニル酢酸メチル１２５．５
ｇ（８３６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３５０ｍｌに溶解し、４
５分間で滴下した。滴下終了後、同温で１時間撹拌しフ
ェニル酢酸メチルのエノラート体を合成した。同温に保
ちながら、前記合成イミダゾライド体を１時間で滴下
し、滴下終了後、３時間撹拌した。ＨＰＬＣにて生成物
を確認した後、飽和塩化アンモニア水２８０ｍｌを加
え、反応を停止した。さらに、４Ｎ塩酸５２０ｇを加
え、ｐＨ＝３とした後、酢酸エチル１．４１を加え、分
液を行った。有機層に飽和炭酸水素ナトリウム溶液１４
０ｍｌを加え中和した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮後、濃縮物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（以下，ＳＧＩＣとい
う）（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、淡黄色オイル
状の標記の化合物を７１．１ｇ（収率６６．４％）得
た。上記反応操作はすべて窒素気流中で行った。各種デ
ータは表３の通りであった。

【表３】反応の変換率、生成物のシン体：アンチ体の選択率の分
析条件高速液体クロマトグラフィーカラムｉｎｅｒｔｓｉｌＯＤＳ−２（ＧＬサイエン
ス社製）流出溶媒アセトニトリル／水＝７／３流速０．５ｍｌ／ｍｉｎ検出器ＵＶ＝２５４ｎｍ

【００３０】実施例２７−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸
エチルの合成５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ペンタン
酸５．７ｇ（２２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２３ｍｌに溶解
し、ＣＤＩ５．３５ｇ（３３ｍｍｏｌ）を数回に分けて
加えること、ジイソプロピルアミン５．８ｍｌ（４４ｍ
ｍｏｌ）、ＴＨＦ１０ｍｌを加え、１．６３Ｎ：ＢＡ溶
液２７．５ｍｌ（４４ｍｍｏｌ）を滴下すること、フェ
ニル酢酸メチルの代わりにフェニル酢酸エチル６．６ｍ
ｌ（４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１０ｍｌに溶解すること、
反応液に飽和塩化アンモニア水３０ｍｌを加え、反応を
停止し、４Ｎ塩酸５０ｇを加え、さらに、酢酸エチル１
００ｍｌを加えること以外は実施例１と同じ操作をし、
淡黄色オイル状の標記の化合物を３．８ｇ（収率４２．
６％）得た。各種データは表４の通りであった。

【表４】

【００３１】実施例３７−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−３−オキソ−２−ｐ−トリルヘプタン
酸メチルの合成５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ペンタン
酸１２ｇ（４７．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ６０ｍｌに溶解
し、ＣＤＩ８．４１ｇ（５２．５ｍｍｏｌ）を加えるこ
と、ジイソプロピルアミン１４．５ｇ（１４３ｍｍｏ
ｌ）とＴＨＦ６０ｍｌを加えること、１．６３Ｎ：ＢＡ
溶液８９．５ｍｌ（１４３ｍｍｏｌ）を滴下すること、
フェニル酢酸メチルの代わりにｐ−トリル酢酸メチル２
３．５ｍｌｇ（１４３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ６０ｍｌに溶
解すること、反応液に飽和塩化アンモニア水４８ｍｌを
加え、反応を停止し、４Ｎ塩酸１００ｇを加え、さら
に、酢酸エチル２４０ｍｌを加えること以外は実施例１
と同じ操作をし、淡黄色オイル状の標記の化合物を１
２．９ｇ（収率６７．９％）得た。各種データは表５の
通りであった。

【表５】

【００３２】実施例４７−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−３−オキソ−２−ｐ−メトキシフェニ
ルヘプタン酸メチルの合成５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ペンタン
酸１１．６ｇ（４６．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５０ｍｌに
溶解し、ＣＤＩ８．２５ｇ（５０．８ｍｍｏｌ）を加え
ること、ジイソプロピルアミン３９．２ｍｌ（２７７ｍ
ｍｏｌ）とＴＨＦ６０ｍｌを加え、１．６３Ｎ：ＢＡ溶
液１７０ｍｌ（２７７ｍｍｏｌ）を滴下すること、フェ
ニル酢酸メチルの代わりにｐ−メトキシ酢酸メチル２５
ｇ（１３９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５０ｍｌに溶解するこ
と、反応液に飽和塩化アンモニア水５０ｍｌを加え、反
応を停止し、４Ｎ塩酸１００ｇを加え、さらに、酢酸エ
チル２００ｍｌを加えること以外は実施例１と同じ操作
をし、淡黄色オイル状の標記の化合物を６．３ｇ（収率
３３．６％）得た。各種データは表６の通りであった。

【表６】

【００３３】実施例５７−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸
ｔ−ブチルの合成５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ペンタン
酸５．０ｇ（１９．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５０ｍｌに溶
解し、ＣＤＩ３．５５ｇ（２１．９ｍｍｏｌ）を加える
こと、ジイソプロピルアミン７．８３ｍｌ（５９．７ｍ
ｍｏｌ）とＴＨＦ３０ｍｌを加え、１．６３Ｎ；ＢＡ溶
液３７ｍｌ（５９．７ｍｍｏｌ）を滴下すること、フェ
ニル酢酸メチルの代わりにフェニル酢酸ｔ−ブチル１
１．５ｇ（５９．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３０ｍｌに溶解
すること、反応液に飽和塩化アンモニア水５０ｍｌを加
え、反応を停止し、４Ｎ塩酸４０ｇを加え、さらに、酢
酸エチル１４０ｍｌを加えること以外は実施例１と同じ
操作をし、無色固体の標記の化合物を５．９４ｇ（収率
７０．２％）得た。各種データは表７の通りであった。

【表７】

【００３４】実施例６７−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸メ
チルの合成５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ペンタン
酸の代わりに５−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）ペンタン酸５．０ｇ（２３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２５
ｍｌに溶解し、ＣＤＩ４．１ｇ（２５．３ｍｍｏｌ）を
加えること、ジイソプロピルアミン９．０５ｍｌ（６９
ｍｍｏｌ）とＴＨＦ２５ｍｌを加え、１．６３Ｎ：ＢＡ
溶液４２ｍｌ（６９ｍｍｏｌ）を滴下すること、フェニ
ル酢酸メチル１０．４ｇ（６９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２５
ｍｌに溶解すること、反応液に飽和塩化アンモニア水３
０ｍｌを加え、反応を停止し、４Ｎ塩酸５０ｇを加え、
さらに、酢酸エチル１００ｍｌを加えること以外は実施
例１と同じ操作をし、淡黄色オイル状の標記の化合物を
７．７ｇ（収率９５．７％）で得た。各種データは表８
の通りであった。

【表８】

【００３５】実施例７７−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸エ
チルの合成５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ペンタン
酸のかわりに５−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）ペンタン酸を用い、１０ｇ（４５．８ｍｍｏｌ）を
ＴＨＦ７０ｍｌに溶解し、ＣＤＩ１１．１ｇ（６８．７
ｍｍｏｌ）を加えること、ジイソプロピルアミン９．５
ｍｌ（７２ｍｍｏｌ）とＴＨＦ４０ｍｌを加え、１．６
３Ｎ：ＢＡ溶液４２ｍｌ（６９ｍｍｏｌ）を滴下するこ
と、フェニル酢酸メチルの代わりにフェニル酢酸エチル
１０．６ｇ（６８．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２０ｍｌに溶
解すること、反応液に飽和塩化アンモニア水３０ｍｌを
加え、反応を停止し、４Ｎ塩酸７０ｇを加え、さらに、
酢酸エチル１００ｍｌを加えること以外は実施例１と同
じ操作をし、淡黄色オイル状の標記の化合物を７．８ｇ
（収率４８．１％）で得た。各種データは表９の通りで
あった。

【表９】

【００３６】実施例８７−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプタ
ン酸メチルの合成５００ｍｌのオートクレーブに、７−（Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘ
プタン酸メチル２２．６ｇ（５８．８ｍｍｏｌ）、［Ｒ
ｕｌ（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］１４３
５ｍｇ（０．３９ｍｍｏｌ）、塩化スズ７２ｍｇ（０．
３９ｍｍｏｌ）、ショウノウ−１０−スルホン酸（以下
ＣＳＡという）３６４ｍｇ（１．５６ｍｏｌ）をはかり
とり、オートクレーブ中の空気を窒素に置換した後、メ
タノール１６０ｍｌを加えた。さらに水素で置換した
後、反応温度８０℃、水素圧８０ｋｇ／ｃｍ^２で４０時
間反応を行った。ＨＰＬＣで反応終了を確認した後、減
圧濃縮し、ＳＧＩＣ（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）
で精製し、無色オイル状の標記の化合物３７．４ｇ（収
率８７．４％）を得た。ＨＰＬＣで生成物の分析を行っ
た結果、シン体：アンチ体＝７６．３：２３．７で、そ
れぞれの光学純度は９５．６％ｅｅ、９７．８％ｅｅだ
った。各種データは表１０の通りであった。

【表１０】生成物の光学純度の分析条件高速液体クロマトグラフィーカラムＣｅｒａｍｏｓｐｈｅｒＣｈｉｒａｌＲｕ
−１（資生堂社製）流出溶媒メタノール流速０．１５ｍｌ／ｍｉｎ検出器ＵＶ＝２５４ｎｍ

【００３７】実施例９７−（Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプ
タン酸エチルの合成１００ｍｌのオートクレーブに、７−（Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ）−３−オキソ−２−フェニルヘ
プタン酸エチル０．１ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）、［Ｒｕ
ｌ（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］１１．４
ｍｇ（０．００１２５ｍｍｏｌ）をはかりとり、メタノ
ール２ｍｌを加え、水素圧６５ｋｇ／ｃｍ^２で反応時間
を１８時間とする以外は、実施例８と同じ操作をして、
無色オイル状の標記の化合物を得た。変換率は６５．３
％、シン体：アンチ体＝８７．５：１２．５で、シン体
の光学純度は９３．２％ｅｅだった。

【００３８】実施例１０−１３７−（Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニ
ルヘプタン酸エチルの合成錯体および溶媒を表１１に記載されたものに変え、水素
圧を６５Ｋｇ／ｃｍ^２に、反応時間を１８時間に変えた
ほかは、実施例９と同じ操作を行った。結果を表−１
１に示す。

【表１１】

【００３９】実施例１４７−（Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプ
タン酸エチルの合成反応系内に、ＢＳＡ８．２ｍｇ（０．０２５ｍｏｌ）を
添加した以外は、実施例９と同じ操作をした。生成物の
変換率は９３．２％、選択率はシン：アンチ＝７１．
０：２９．０で、シン体の光学純度は、８０．０％ｅｅ
だった。

【００４０】実施例１５〜１８７−（Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニ
ルヘプタン酸エチルの合成実施例１４において、ＢＳＡのかわりに、表１２に示す
添加物を反応系内に添加した以外は、実施例１４と同じ
操作をした。結果を表−１２に示す。

【表１２】

【００４１】実施例１９〜２４７−（Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニ
ルヘプタン酸エチルの合成実施例１４において、［ＲｕＩ（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）
（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ］Ｉのかわりに、表１３記載の触媒
を用い、添加物として、ＢＳＡを８．２ｍｇあるいは塩
化スズ１０．３ｍｇ＋ＢＳＡ８．２ｍｇを用る以外は、
実施例１４と同じ操作をした。結果を表−１３に示
す。

【表１３】

【００４２】実施例２５７−（Ｎ−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプタ
ン酸エチルの合成７−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−３−オキ
ソ−２−フェニルヘプタン酸エチル０．１ｇ（０．２８
ｍｍｏｌ）を［ＲｕＩ（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）（Ｓ）−Ｂ
ＩＮＡＰ］１６．２ｍｇ（０．００５６ｍｍｏｌ），Ｂ
ＳＡ９．２ｍｇ（０．０２８ｍｏｌ），メタノール２ｍ
ｌとする他は、実施例１４と同じ操作をした。生成物の
変換率は６５．３％、選択率はシン：アンチ＝５６．
５：４３．５であった。

【００４３】実施例２６７−（Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプ
タン酸エチルの合成７−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）−３−オ
キソ−２−フェニルヘプタン酸エチル６ｇ（１４．１ｍ
ｍｏｌ）をメタノール３０ｍｌに溶解し、氷浴中で冷却
した。水素化ホウ素ナトリウム５３３ｍｇ（１４．１ｍ
ｏｌ）を数回に分けて加えた。同温で１時間撹拌し、Ｈ
ＰＬＣで原料の消失を確認した後、反応液に４Ｎ塩酸１
０ｍｌを加え、ｐＨ＝３にした。酢酸エチルを加え抽出
し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウムで中和した。有機
層を更に、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮した。濃縮物をＳＧＩＣ（ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）で精製し、無色オイル状の標記
の化合物２．５３ｇ（収率４２．０％）を得た。ＨＰＬ
Ｃで生成物の分析を行った結果、シン体：アンチ体＝７
０．４：２９．６だった。各種データは表１４の通りで
あった。

【表１４】

【００４４】実施例２７７−（Ｎ−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプタ
ン酸メチルの合成実施例２８の７−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸エチルの代
わりに、７−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−
３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸メチル１ｇ（２．
７５ｍｍｏｌ）をメタノール６ｍｌに溶解し、水素化ホ
ウ素ナトリウム１０４ｍｇ（２．７５ｍｏｌ）を加え、
反応液に４Ｎ塩酸５ｍｌを加えた他は実施例２６と同じ
操作をし、淡黄色オイル状の標記の化合物を０．９ｇ
（収率９０．０％）得た。分析を行った結果、シン体：
アンチ体＝９：１だった。各種データは表１５の通りで
あった。

【表１５】

【００４５】実施例２８７−（Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプ
タン酸メチルの合成実施例２６において、水素化ホウ素ナトリウムを９８７
ｍｇ（２６．１ｍｏｌ）加え、反応液に４Ｎ塩酸１５ｍ
ｌを加えた他は実施例２６と同じ操作をした。淡黄色オ
イル状の標記の化合物を５．８０ｇ（収率５７．６％）
得た。分析を行った結果、シン体：アンチ体＝８７．
６：１２．３だった。

【００４６】実施例２９７−（Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプ
タン酸ｔ−ブチルの合成７−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）−３−オ
キソ−２−フェニルヘプタン酸エチルの代わりに、７−
（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）−３−オキソ
−２−フェニルヘプタン酸ｔ−ブチル０．２ｇ（０．４
７ｍｍｏｌ）をメタノール４ｍｌに溶解し、水素化ホウ
素ナトリウム１８ｍｇ（０．４７ｍｏｌ）を加え、反応
液に４Ｎ塩酸１ｍｌを加えた他は実施例２６と同じ操作
をした。淡黄色オイル状の標記の化合物を１９６ｍｇ
（収率９８％）得た。生成物の選択率はシン体：アンチ
体＝７：３だった。各種データは表１６の通りであっ
た。

【表１６】

【００４７】実施例３０７−（Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−３−ｐ−トルエンスルホニルオキシ
−２−フェニルヘプタン酸エチルの合成実施例９で得られた７−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプタン酸
エチル３．５ｇ（８．６ｍｍｏｌ）をピリジン２８ｍｌ
に溶解し、更に、ジメチルアミノピリジン２４０ｍｇ
（１．９６ｍｍｏｌ）を加えた。氷浴中で０℃に冷却
し、ｐ−トルエンスルホニルクロリド２．５ｇ（１３ｍ
ｍｏｌ）を５分間で加えた。同温で１時間撹拌した後、
室温で４８時間撹拌した。ＨＰＬＣにて原料の消失を確
認した後、反応液に酢酸エチル１００ｍｌを加え、更に
２Ｎ塩酸をｐＨ＝４になるまで加え、抽出を行った。有
機層を飽和炭酸水素ナトリウムで中和した後、飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮した。濃縮液をＳＧＩＣ（ヘキサン／酢酸エチル＝３
／１）で精製し、淡黄色オイル状の標記の化合物２．３
ｇ（収率４７．６％）を得た。各種データは表１７の通
りであった。

【表１７】

【００４８】実施例３１７−（Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）−３−ｐ−トルエンスルホニルオキシ
−２−フェニルヘプタン酸メチルの合成実施例９で得られた７−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘプタン酸
メチル２７．２ｇ（７０．４ｍｍｏｌ）をピリジン１３
６ｍｌに溶解し、更に、ジメチルアミノピリジン１．２
７ｇ（１０．３９ｍｍｏｌ）を加え，ｐ−トルエンスル
ホニルクロリド２０．１ｇ（１０５．６ｍｍｏｌ）を加
えた他は実施例３０と同じ操作をした。淡黄色オイル状
の標記の化合物を２３．５ｇ（収率６１．８％）得た。
各種データは表１８の通りであった。

【表１８】

【００４９】応用例１２−フェニル−２−（２´−ピ
ペリジル）酢酸メチルの合成オートクレーブに、実施例３１で得られた７−（Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）−３−ｐ−トルエンス
ルホニルオキシ−２−フェニルヘプタン酸メチル１０．
６ｇ（１９．１ｍｍｏｌ）、５％：Ｐｄ−Ｃ１．０６ｇ
をはかりとり、酢酸５．６ｍｌ（９８ｍｍｏｌ）、メタ
ノール１００ｍｌを加えた。オートクレーブ中の空気を
水素で置換した後、水素圧１０ｋｇ／ｃｍ２、室温で反
応を３時間反応を行った。ＨＰＬＣで原料の消失を確認
した後、Ｐｄ−Ｃをセライトにて濾別した。濾液を減圧
濃縮し、濃縮物をメタノール１００ｍｌに溶解し、炭酸
カリウム６．７８ｇ（４９ｍｍｏｌ）を加え、１８時間
加熱環流下で反応をなった。反応液を減圧濃縮後、濃縮
液に酢酸エチルと精製水を加え、抽出を行った。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られ
た濃縮物をＳＧＩＣ（ヘキサン／酢酸エチノレ／メタノ
ール＝２／２／１）で精製し、淡黄色の標記の化合物を
３．４５ｇ（収率７７．５％）得た。生成物の分析
は、ＨＰＬＣにより行い、選択率はスレオ体：エリスロ
体＝３：７だった。各種データは表１９の通りであっ
た。

【表１９】

【００５０】応用例２２−フェニル−２−（２´−ピ
ペリジル）酢酸エチルの合成オートクレーブに、実施例３０で得られた７−（Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）−３−ｐ−トルエンス
ルフォニルオキシ−２−フェニルヘプタン酸エチル０．
６ｇ（１．０７ｍｍｏｌ）、５％Ｐｄ−Ｃ６０ｍｇをは
かりとり、エタノール１５ｍｌを加え、反応液の濾液の
減圧濃縮物をエタノール１５ｍｌに溶解し、炭酸カリウ
ム２９０ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を加えた他は応用例１と
同じ操作をした。淡黄色オイル状の標記の化合物を収
率１３０ｍｇ（４９．２％）得た。選択率はスレオ体：
エリスロ体＝４：６だった。各種データは表２０の通り
であった。

【表２０】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＣ０７Ｃ 309/73 Ｃ０７Ｃ 309/73 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者湯浅良文神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号高砂香料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者三浦孝志神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号高砂香料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者雲林秀徳神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号高砂香料工業株式会社総合研究所内 (56)参考文献特開平10−279559（ＪＰ，Ａ) 特開平10−231286（ＪＰ，Ａ) 米国特許2507631（ＵＳ，Ａ) 米国特許2957880（ＵＳ，Ａ) 英国特許出願公開833008（ＧＢ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07C 271/00 C07C 309/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（１）【化１】（式中Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基
あるいは炭素数１〜４の低級アルコキシ基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^３はアミノ
基の保護基を示す。）で表される７−（Ｎ−置換アミ
ノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸エステル誘
導体。
【請求項２】一般式（２）【化２】（式中Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基
あるいは炭素数１〜４の低級アルコキシ基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^４は水素原
子あるいはアミノ基の保護基を示す。）で表される７−
（Ｎ−置換アミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘ
プタン酸エステル誘導体。
【請求項３】一般式（３）【化３】（式中Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基
あるいは炭素数１〜４の低級アルコキシ基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^４は水素原
子あるいはアミノ基の保護基を示し、Ｒ^５は置換基を有
していてもよいベンゼンスルホニル基を示す。）で表さ
れる７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ベンゼンスルホニル
オキシ−２−フェニルヘプタン酸エステル誘導体。
【請求項４】一般式（４）【化４】（式中Ｒ^３はアミノ基の保護基を示す。）で表される５
−（Ｎ−置換アミノ）ペンタン酸誘導体に、一般式
（５）【化５】（式中Ｍはリチウム原子であり、Ｒ^１は水素原子、炭素
数１〜４の低級アルキル基あるいは炭素数１〜４の低級
アルコキシ基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜４の低級アルキ
ル基を示す。）で表されるフェニル酢酸エステル類のエ
ノラートを縮合させることを特徴とする、一般式（１）【化６】（式中Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は上記と同じである。）で
表される７−（Ｎ−置換アミノ）−３−オキソ−２−フ
ェニルヘプタン酸誘導体の製造方法。
【請求項５】一般式（１）【化７】（式中Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基
あるいは炭素数１〜４の低級アルコキシ基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^３はアミノ
基の保護基を示す。）で表される７−（Ｎ−置換アミ
ノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸誘導体を第
ＶＩＩＩ族遷移金属錯体の存在下水素と反応させること
を特徴とする、一般式（２）【化８】（式中Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は前記と同じである。）で表さ
れる７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ヒドロキシ−２−フ
ェニルヘプタン酸誘導体の製造方法。
【請求項６】一般式（１）【化９】（式中Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基
あるいは炭素数１〜４の低級アルコキシ基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^３はアミノ
基の保護基を示す。）で表される７−（Ｎ−置換アミ
ノ）−３−オキソ−２−フェニルヘプタン酸誘導体を化
学還元剤の存在下にて還元させることを特徴とする、一
般式（２）【化１０】（式中Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は前記と同じである。）で表さ
れる７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ヒドロキシ−２−フ
ェニルヘプタン酸誘導体の製造方法。
【請求項７】一般式（２）【化１１】（式中Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基
あるいは炭素数１〜４の低級アルコキシ基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜４の低級アルキル基を示し、Ｒ^４は水素原
子あるいはアミノ基の保護基を示す。）で表される７−
（Ｎ−置換アミノ）−３−ヒドロキシ−２−フェニルヘ
プタン酸エステル誘導体をピリジン誘導体の存在下、ベ
ンゼンスルホニル化合物と反応させることを特徴とす
る、一般式（３）【化１２】（式中Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^４は前記と同じであり，Ｒ^５は置
換基を有していてもよいベンゼンスルホニル基を示
す。）で表される７−（Ｎ−置換アミノ）−３−ベンゼ
ンスルホニルオキシ−２−フェニルヘプタン酸誘導体の
製造方法。