JP3326845B2 - 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置 - Google Patents
洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置Info
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- JP3326845B2 JP3326845B2 JP03742593A JP3742593A JP3326845B2 JP 3326845 B2 JP3326845 B2 JP 3326845B2 JP 03742593 A JP03742593 A JP 03742593A JP 3742593 A JP3742593 A JP 3742593A JP 3326845 B2 JP3326845 B2 JP 3326845B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズ,プリズム,ミ
ラーなどの光学素子、半導体ウエハー、金型用の鏡面入
子、その他の複雑な形状の金物やプラスチック部品、プ
レスや機械加工品等の被洗浄物を非水系溶剤のベーパー
により脱脂洗浄したり、精密洗浄後に乾燥する洗浄乾燥
方法およびその装置に関する。
ラーなどの光学素子、半導体ウエハー、金型用の鏡面入
子、その他の複雑な形状の金物やプラスチック部品、プ
レスや機械加工品等の被洗浄物を非水系溶剤のベーパー
により脱脂洗浄したり、精密洗浄後に乾燥する洗浄乾燥
方法およびその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】上述のような被洗浄物の洗浄はトリクロ
ロエタン,塩化メチレンなどの塩素系溶剤あるいはフロ
ンなどを用いて行われているが、これらを大気中で使用
することは大気汚染などの公害問題やオゾン層破壊の問
題となる。このため特開平2−198678号公報に
は、これらの溶剤を密閉空間内で使用して洗浄する方法
が開示されている。この方法は、密閉自在な洗浄槽に被
洗浄物を入れると共に、この被洗浄物が浸漬される程度
に溶剤を注入して洗浄し、さらに液を抜きながら溶剤の
高温の蒸気を送り込みながらベーパー洗浄と乾燥をする
ものであり、洗浄槽内を負圧に維持することにより、大
気中への溶剤の洩れを防止するものである。
ロエタン,塩化メチレンなどの塩素系溶剤あるいはフロ
ンなどを用いて行われているが、これらを大気中で使用
することは大気汚染などの公害問題やオゾン層破壊の問
題となる。このため特開平2−198678号公報に
は、これらの溶剤を密閉空間内で使用して洗浄する方法
が開示されている。この方法は、密閉自在な洗浄槽に被
洗浄物を入れると共に、この被洗浄物が浸漬される程度
に溶剤を注入して洗浄し、さらに液を抜きながら溶剤の
高温の蒸気を送り込みながらベーパー洗浄と乾燥をする
ものであり、洗浄槽内を負圧に維持することにより、大
気中への溶剤の洩れを防止するものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の方
法は洗浄を主目的としており、乾燥は従属的なものとな
っている。すなわち洗浄槽内においては被洗浄物が溶剤
とベーパーで洗浄され乾燥をした後、被洗浄物を取り出
すが、被洗浄物に結露した液が取り切れないまま取り出
されるため、大気中で自然乾燥となるケースが多い。そ
のため洗浄時には溶剤が外部に流出しないにもかかわら
ず、被洗浄物を取り出した後に溶剤の外部への流出が行
われ、根本的な公害防止ができない不都合がある。しか
も乾燥を積極的に行うものではないところから、洗浄の
後に乾燥工程を別途、必要としている。
法は洗浄を主目的としており、乾燥は従属的なものとな
っている。すなわち洗浄槽内においては被洗浄物が溶剤
とベーパーで洗浄され乾燥をした後、被洗浄物を取り出
すが、被洗浄物に結露した液が取り切れないまま取り出
されるため、大気中で自然乾燥となるケースが多い。そ
のため洗浄時には溶剤が外部に流出しないにもかかわら
ず、被洗浄物を取り出した後に溶剤の外部への流出が行
われ、根本的な公害防止ができない不都合がある。しか
も乾燥を積極的に行うものではないところから、洗浄の
後に乾燥工程を別途、必要としている。
【0004】また、溶剤を浄化することなく循環使用す
るため、経時的に溶剤が汚れ、これにより高精度な精密
洗浄ができない問題がある。さらに従来の方法はフロン
や塩素系溶剤などの不燃性溶剤を使用するものであり、
非水系溶剤またはアルコール系等の可燃性溶剤に対して
は安全性の観点から適用することができないものであっ
た。
るため、経時的に溶剤が汚れ、これにより高精度な精密
洗浄ができない問題がある。さらに従来の方法はフロン
や塩素系溶剤などの不燃性溶剤を使用するものであり、
非水系溶剤またはアルコール系等の可燃性溶剤に対して
は安全性の観点から適用することができないものであっ
た。
【0005】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であり、洗浄のみならず乾燥を行うことができ、しかも
溶剤の経時的な汚れのない循環使用が可能であり、可燃
性の非水系溶剤をも安全に使用することが可能な非水系
溶剤を用いたベーパー洗浄乾燥方法およびその装置を提
供することを目的とする。
であり、洗浄のみならず乾燥を行うことができ、しかも
溶剤の経時的な汚れのない循環使用が可能であり、可燃
性の非水系溶剤をも安全に使用することが可能な非水系
溶剤を用いたベーパー洗浄乾燥方法およびその装置を提
供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の洗浄乾燥方法は、洗浄乾燥槽内を減圧状態にし
て供給した、水よりも比重が小さな非水系溶剤の蒸気の
みにより該槽内部に配設された被洗浄物を洗浄および/
または乾燥する洗浄乾燥工程、前記洗浄乾燥工程で用い
られた非水系溶剤の蒸気を洗浄乾燥槽内から回収すると
ともに液化する液化工程、前記非水系溶剤の蒸気が洗浄
乾燥槽内から回収された後に該洗浄乾燥槽内に大気を導
入して前記被洗浄物を取り出す取出し工程、前記液化工
程で液化した非水系溶剤を、槽底部に水を貯溜した分離
槽に導入し、該水内で非水系溶剤と水とを比重差で分離
して液状の非水系溶剤のみを回収する回収工程、前記回
収工程で回収された液状の非水系溶剤をベーパー発生槽
に送って該非水系溶剤を蒸気化し、当該蒸気を前記減圧
状態にした洗浄乾燥槽内に供給する供給工程、を有する
ことを特徴とする。
本発明の洗浄乾燥方法は、洗浄乾燥槽内を減圧状態にし
て供給した、水よりも比重が小さな非水系溶剤の蒸気の
みにより該槽内部に配設された被洗浄物を洗浄および/
または乾燥する洗浄乾燥工程、前記洗浄乾燥工程で用い
られた非水系溶剤の蒸気を洗浄乾燥槽内から回収すると
ともに液化する液化工程、前記非水系溶剤の蒸気が洗浄
乾燥槽内から回収された後に該洗浄乾燥槽内に大気を導
入して前記被洗浄物を取り出す取出し工程、前記液化工
程で液化した非水系溶剤を、槽底部に水を貯溜した分離
槽に導入し、該水内で非水系溶剤と水とを比重差で分離
して液状の非水系溶剤のみを回収する回収工程、前記回
収工程で回収された液状の非水系溶剤をベーパー発生槽
に送って該非水系溶剤を蒸気化し、当該蒸気を前記減圧
状態にした洗浄乾燥槽内に供給する供給工程、を有する
ことを特徴とする。
【0007】また、この方法に適用される本発明の洗浄
乾燥装置は、槽内部に配設された被洗浄物を、密閉状態
の減圧下で供給された水よりも比重が小さな非水系溶剤
の蒸気のみにより洗浄および/または乾燥を行う洗浄乾
燥槽と、前記洗浄乾燥槽で用いられた非水系溶剤の蒸気
が液化されて槽底部に貯溜した水内に導入されるととも
に該水内で水との比重差で非水系溶剤が分離される密閉
状態の分離槽と、前記分離槽に連結され前記分離槽内で
分離された液状の非水系溶剤を貯溜する密閉状態のタン
クと、前記タンクから供給される液状の非水系液剤を密
閉状態で加熱して蒸気化するベーパー発生槽と、前記ベ
ーパー発生槽内で蒸気化された非水系溶剤の蒸気を前記
洗浄乾燥槽に導く管路と、を備えていることを特徴とす
る。
乾燥装置は、槽内部に配設された被洗浄物を、密閉状態
の減圧下で供給された水よりも比重が小さな非水系溶剤
の蒸気のみにより洗浄および/または乾燥を行う洗浄乾
燥槽と、前記洗浄乾燥槽で用いられた非水系溶剤の蒸気
が液化されて槽底部に貯溜した水内に導入されるととも
に該水内で水との比重差で非水系溶剤が分離される密閉
状態の分離槽と、前記分離槽に連結され前記分離槽内で
分離された液状の非水系溶剤を貯溜する密閉状態のタン
クと、前記タンクから供給される液状の非水系液剤を密
閉状態で加熱して蒸気化するベーパー発生槽と、前記ベ
ーパー発生槽内で蒸気化された非水系溶剤の蒸気を前記
洗浄乾燥槽に導く管路と、を備えていることを特徴とす
る。
【0008】
【作用】上述した洗浄乾燥方法においては、減圧状態に
して供給した、水よりも比重が小さな非水系溶剤の蒸気
のみを使用するため、蒸気洗浄のみならず、乾燥をも行
うことがきる。また、前記蒸気として使用された非水系
溶剤は、洗浄乾燥槽から回収されるとともに液化された
後、分離槽に貯溜した水内で比重差により水と分離され
ることにより液状の非水系溶剤として回収されるととも
に、該液状の非水系溶剤がベーパー槽に送られて蒸気化
される時に沸点の相違により油脂等の汚れと分離されて
蒸気となる。このためこの蒸気により前記洗浄乾燥槽で
被洗浄物の洗浄を行うと精密洗浄を行うことができる。
しかも全ての工程がクローズドシステムとなっているた
め安全性を確保することができる。
して供給した、水よりも比重が小さな非水系溶剤の蒸気
のみを使用するため、蒸気洗浄のみならず、乾燥をも行
うことがきる。また、前記蒸気として使用された非水系
溶剤は、洗浄乾燥槽から回収されるとともに液化された
後、分離槽に貯溜した水内で比重差により水と分離され
ることにより液状の非水系溶剤として回収されるととも
に、該液状の非水系溶剤がベーパー槽に送られて蒸気化
される時に沸点の相違により油脂等の汚れと分離されて
蒸気となる。このためこの蒸気により前記洗浄乾燥槽で
被洗浄物の洗浄を行うと精密洗浄を行うことができる。
しかも全ての工程がクローズドシステムとなっているた
め安全性を確保することができる。
【0009】一方、上述した洗浄乾燥装置では、洗浄乾
燥槽、分離槽、タンク、ベーパー発生槽のいずれもが密
閉構造にできるようになっていて、被洗浄物の洗浄およ
び/または乾燥、非水系溶剤と水との比重差による分
離、水が分離された液状の非水系溶剤の貯溜さらにはこ
の液状の非水系溶剤の蒸気化を、非水系溶剤が循環する
ようにこれらを系統的に連結して行うため、効率の良い
処理が可能になる。
燥槽、分離槽、タンク、ベーパー発生槽のいずれもが密
閉構造にできるようになっていて、被洗浄物の洗浄およ
び/または乾燥、非水系溶剤と水との比重差による分
離、水が分離された液状の非水系溶剤の貯溜さらにはこ
の液状の非水系溶剤の蒸気化を、非水系溶剤が循環する
ようにこれらを系統的に連結して行うため、効率の良い
処理が可能になる。
【0010】
【実施例】図1は本発明の一実施例を示す。本実施例は
2点鎖線で区分されるように、洗浄乾燥手段1と、回収
手段2と、蒸気発生手段3とに大別されて構成される。
洗浄乾燥手段1は被洗浄物4の脱脂洗浄あるいは精密洗
浄と乾燥を行うものであり、これに加えて洗浄→乾燥を
も連続的に行う。この洗浄乾燥手段1は開閉可能な蓋1
1の閉鎖により内部が密閉状態となる洗浄乾燥槽10を
備え、この洗浄乾燥槽10内には被洗浄物4が載置され
るネット,棚などの受部材12が1段または多段状に設
けられている。また洗浄乾燥槽10の側面および底面の
外側部分には同槽10を所定温度に保持するための保温
ヒータ13が配置されている。この保温ヒータ13の加
熱作動により洗浄乾燥槽10内における非水系溶剤のベ
ーパーの結露が防止される。かかる洗浄乾燥槽10は減
圧状態下で非水系溶剤の蒸気(ベーパー)によって被洗
浄物の洗浄および/または乾燥を行うものであり、洗浄
乾燥槽10内を減圧状態から常圧状態へ戻すためのリー
ク弁14が設けられている。
2点鎖線で区分されるように、洗浄乾燥手段1と、回収
手段2と、蒸気発生手段3とに大別されて構成される。
洗浄乾燥手段1は被洗浄物4の脱脂洗浄あるいは精密洗
浄と乾燥を行うものであり、これに加えて洗浄→乾燥を
も連続的に行う。この洗浄乾燥手段1は開閉可能な蓋1
1の閉鎖により内部が密閉状態となる洗浄乾燥槽10を
備え、この洗浄乾燥槽10内には被洗浄物4が載置され
るネット,棚などの受部材12が1段または多段状に設
けられている。また洗浄乾燥槽10の側面および底面の
外側部分には同槽10を所定温度に保持するための保温
ヒータ13が配置されている。この保温ヒータ13の加
熱作動により洗浄乾燥槽10内における非水系溶剤のベ
ーパーの結露が防止される。かかる洗浄乾燥槽10は減
圧状態下で非水系溶剤の蒸気(ベーパー)によって被洗
浄物の洗浄および/または乾燥を行うものであり、洗浄
乾燥槽10内を減圧状態から常圧状態へ戻すためのリー
ク弁14が設けられている。
【0011】前記回収手段2は分離槽20および分離槽
20に連結されたタンク21を備えている。分離槽20
は蓋20aで密閉されており、その内部には水Wが貯溜
されている。分離槽20にはこの水Wを分離槽20に循
環させるための循環路22が設けられている。この循環
路22には洗浄乾燥槽10からの非水系溶剤のベーパー
や結露液を分離槽20上部に供給する水封式ポンプから
なる真空ポンプ23が配設されている。かかる循環路2
2を経路に沿って説明すると、24はドレン用弁、25
は異物の濾別のためのストレーナー、26は真空ポンプ
23に水を供給するポンプ、27は真空ポンプ23から
非水系溶剤および水の混合液を冷却して液化を促進させ
るためのコンデンサである。なお、分離槽20内には冷
却を行うためのコイル状の冷却管28が設けられている
と共に、真空ポンプ23,コンデンサ27を通過した混
合液を水槽Wの内部に導くロート29が設けられてい
る。かかる分離槽20では比重差により非水系溶剤と水
とを分離するものであり、比重が小さな非水系溶剤は水
槽Wの上層に浮上する。このような分離により、洗浄乾
燥槽10内の非水系溶剤はベーパーの形態、液状の形態
のいずれにしても分離槽20で回収される。分離槽20
に連結されたタンク21はこのようにして分離された非
水系溶剤のみが供給され、再使用のための一時的な貯溜
を行うものであり、密閉構造となっている。
20に連結されたタンク21を備えている。分離槽20
は蓋20aで密閉されており、その内部には水Wが貯溜
されている。分離槽20にはこの水Wを分離槽20に循
環させるための循環路22が設けられている。この循環
路22には洗浄乾燥槽10からの非水系溶剤のベーパー
や結露液を分離槽20上部に供給する水封式ポンプから
なる真空ポンプ23が配設されている。かかる循環路2
2を経路に沿って説明すると、24はドレン用弁、25
は異物の濾別のためのストレーナー、26は真空ポンプ
23に水を供給するポンプ、27は真空ポンプ23から
非水系溶剤および水の混合液を冷却して液化を促進させ
るためのコンデンサである。なお、分離槽20内には冷
却を行うためのコイル状の冷却管28が設けられている
と共に、真空ポンプ23,コンデンサ27を通過した混
合液を水槽Wの内部に導くロート29が設けられてい
る。かかる分離槽20では比重差により非水系溶剤と水
とを分離するものであり、比重が小さな非水系溶剤は水
槽Wの上層に浮上する。このような分離により、洗浄乾
燥槽10内の非水系溶剤はベーパーの形態、液状の形態
のいずれにしても分離槽20で回収される。分離槽20
に連結されたタンク21はこのようにして分離された非
水系溶剤のみが供給され、再使用のための一時的な貯溜
を行うものであり、密閉構造となっている。
【0012】前記蒸気発生手段3はベーパー発生槽30
と、加熱器31とを有している。ベーパー発生槽30は
内部に非水系溶剤が貯溜されていると共に、加熱器31
からの高温高圧の水蒸気が供給されて非水系溶剤を加熱
する加熱コイル32が設けられている。33はベーパー
発生槽30内の非水系溶剤の液面高さを検出するレベル
計であり、このレベル計33の検出値に応じた非水系溶
剤の供給が行われる。加熱器31はヒーター31aを備
えており、内部に設けられた熱媒体を加熱する。この加
熱器31としては電気ボイラ、工場スチームその他の加
熱機構を選択することができ、図示例においては電気ボ
イラーが使用されている。この加熱器31は温水タンク
34と連結されて、同タンク34内の温水がポンプ35
の駆動により加熱器31に供給されて加熱される。この
加熱により温水は水蒸気となり、ベーパー発生槽30の
加熱コイル32に送出され、同槽30内の非水系溶剤を
加熱してベーパーとする。加熱後の水蒸気はオートトラ
ップ36で凝結した液となり、温水タンク34に回収さ
れて再使用される。なお温水タンク34内の温水の液面
は液面計37により検出されて、所定量が常時貯溜され
るようになっている。
と、加熱器31とを有している。ベーパー発生槽30は
内部に非水系溶剤が貯溜されていると共に、加熱器31
からの高温高圧の水蒸気が供給されて非水系溶剤を加熱
する加熱コイル32が設けられている。33はベーパー
発生槽30内の非水系溶剤の液面高さを検出するレベル
計であり、このレベル計33の検出値に応じた非水系溶
剤の供給が行われる。加熱器31はヒーター31aを備
えており、内部に設けられた熱媒体を加熱する。この加
熱器31としては電気ボイラ、工場スチームその他の加
熱機構を選択することができ、図示例においては電気ボ
イラーが使用されている。この加熱器31は温水タンク
34と連結されて、同タンク34内の温水がポンプ35
の駆動により加熱器31に供給されて加熱される。この
加熱により温水は水蒸気となり、ベーパー発生槽30の
加熱コイル32に送出され、同槽30内の非水系溶剤を
加熱してベーパーとする。加熱後の水蒸気はオートトラ
ップ36で凝結した液となり、温水タンク34に回収さ
れて再使用される。なお温水タンク34内の温水の液面
は液面計37により検出されて、所定量が常時貯溜され
るようになっている。
【0013】以上のような洗浄乾燥手段1,回収手段2
および蒸気発生手段3は以下に説明する配管路により連
結されることで、非水系溶剤が循環するクローズドシス
テムが構成されている。まず洗浄乾燥手段1と回収手段
2とはメイン配管およびサブ配管の2系統により連結さ
れる。メイン配管は洗浄乾燥槽10の底部と回収手段2
の真空ポンプ23とを接続して、洗浄乾燥槽10で結露
した液状の非水系溶剤の排出を行う管路51と、洗浄乾
燥槽10の上部と真空ポンプ23とを接続して、非水系
溶剤のベーパーの排出を行う管路52とから構成され
る。これらの管路51,52には開閉作動する排気弁5
3,54が設けられると共に、管路52にはベーパーを
冷却して液化するコンデンサ55が設けられている。
および蒸気発生手段3は以下に説明する配管路により連
結されることで、非水系溶剤が循環するクローズドシス
テムが構成されている。まず洗浄乾燥手段1と回収手段
2とはメイン配管およびサブ配管の2系統により連結さ
れる。メイン配管は洗浄乾燥槽10の底部と回収手段2
の真空ポンプ23とを接続して、洗浄乾燥槽10で結露
した液状の非水系溶剤の排出を行う管路51と、洗浄乾
燥槽10の上部と真空ポンプ23とを接続して、非水系
溶剤のベーパーの排出を行う管路52とから構成され
る。これらの管路51,52には開閉作動する排気弁5
3,54が設けられると共に、管路52にはベーパーを
冷却して液化するコンデンサ55が設けられている。
【0014】一方、サブ管路は2点鎖線で示すように、
洗浄乾燥槽10の底部とメイン配管の管路52の排気弁
54とを接続する管路56と、洗浄乾燥槽10の底部と
回収手段2のタンク21を直接に連結する管路59とか
らなり、管路59には排気弁57およびコンデンサ58
が設けられている。これらのメイン配管およびサブ配管
は洗浄乾燥槽10内の非水系溶剤の排出状況に応じて、
択一的に、あるいは同時に使用される。
洗浄乾燥槽10の底部とメイン配管の管路52の排気弁
54とを接続する管路56と、洗浄乾燥槽10の底部と
回収手段2のタンク21を直接に連結する管路59とか
らなり、管路59には排気弁57およびコンデンサ58
が設けられている。これらのメイン配管およびサブ配管
は洗浄乾燥槽10内の非水系溶剤の排出状況に応じて、
択一的に、あるいは同時に使用される。
【0015】回収手段2と蒸気発生手段3とを連結する
配管路は回収手段2のタンク21と蒸気発生手段3のベ
ーパー発生槽30との間に配設された管路60から構成
される。この管路60には送液ポンプ61と、濾過によ
り異物を除去するフィルタ62と、自動弁63および逆
止弁64とが設けられている。送液ポンプ61はベーパ
ー発生槽30のレベル計33の検出信号に基づいて作動
し、タンク21内の非水系溶剤をベーパー発生槽30に
供給する。この送液ポンプ61はベーパー発生槽30内
の非水系溶剤が所定の下限値になったとき作動する一
方、所定の上限値になったとき停止するように制御され
るものである。
配管路は回収手段2のタンク21と蒸気発生手段3のベ
ーパー発生槽30との間に配設された管路60から構成
される。この管路60には送液ポンプ61と、濾過によ
り異物を除去するフィルタ62と、自動弁63および逆
止弁64とが設けられている。送液ポンプ61はベーパ
ー発生槽30のレベル計33の検出信号に基づいて作動
し、タンク21内の非水系溶剤をベーパー発生槽30に
供給する。この送液ポンプ61はベーパー発生槽30内
の非水系溶剤が所定の下限値になったとき作動する一
方、所定の上限値になったとき停止するように制御され
るものである。
【0016】蒸気発生手段3と洗浄乾燥手段1とを連結
する配管路はベーパー発生槽30と洗浄乾燥槽10を連
結する管路70とから構成され、この管路70には送気
弁71が設けられている。また、この管路70には送気
弁72および絞り弁73が送気弁71と並列となるよう
に配置されている。図1において、80はベーパー発生
槽30および加熱器31に設けられた温度コントロー
ラ、81はベーパー発生槽30および加熱器31の圧力
を検出し制御する圧力コントローラである。
する配管路はベーパー発生槽30と洗浄乾燥槽10を連
結する管路70とから構成され、この管路70には送気
弁71が設けられている。また、この管路70には送気
弁72および絞り弁73が送気弁71と並列となるよう
に配置されている。図1において、80はベーパー発生
槽30および加熱器31に設けられた温度コントロー
ラ、81はベーパー発生槽30および加熱器31の圧力
を検出し制御する圧力コントローラである。
【0017】次に本実施例の作動を説明する。被洗浄物
4を洗浄する非水系溶剤としては、直鎖状または環状の
シロキサン化合物、テルペンなどのベンゼン系化合物、
IPA(イソプロピルアルコール)やエタノールなどの
アルコール類、その他の化合物を適宜、選択使用する。
これらの溶剤は可燃性であるが、本実施例は全体がクロ
ーズドシステムとなっているため、外部に揮散すること
がなく、安全な洗浄または乾燥を行うことができる。ま
ず、保温ヒータ13により洗浄乾燥槽10を加温した状
態で、同槽10の受部材12上に被洗浄物4をセット
し、蓋11を閉じ、密閉する。なお被洗浄物は界面活性
剤による洗浄,市水によるリンス、純水によるリンスを
行った後、IPAによる置換を行う通常の洗浄が行われ
たものあるいはこの洗浄がなされていない未処理のもの
を適用することができる。
4を洗浄する非水系溶剤としては、直鎖状または環状の
シロキサン化合物、テルペンなどのベンゼン系化合物、
IPA(イソプロピルアルコール)やエタノールなどの
アルコール類、その他の化合物を適宜、選択使用する。
これらの溶剤は可燃性であるが、本実施例は全体がクロ
ーズドシステムとなっているため、外部に揮散すること
がなく、安全な洗浄または乾燥を行うことができる。ま
ず、保温ヒータ13により洗浄乾燥槽10を加温した状
態で、同槽10の受部材12上に被洗浄物4をセット
し、蓋11を閉じ、密閉する。なお被洗浄物は界面活性
剤による洗浄,市水によるリンス、純水によるリンスを
行った後、IPAによる置換を行う通常の洗浄が行われ
たものあるいはこの洗浄がなされていない未処理のもの
を適用することができる。
【0018】洗浄乾燥槽10の密閉状態で排気弁53お
よび54を開いて真空ポンプ23を作動し、これにより
洗浄乾燥槽10内を減圧状態とする。この減圧で所定の
真空度になったとき、排気弁53,54を閉じる。一
方、蒸気発生手段3では加熱器31によりベーパー発生
槽30内の非水系溶剤が加熱され、これにより非水系溶
剤のベーパーが発生している。この状態で管路70の送
気弁71,72を開いてベーパーを洗浄乾燥槽10内に
導入する。ベーパーは洗浄乾燥槽10内で所定の濃度と
なるまで供給され、これにより被洗浄物4を非水系溶剤
のベーパーで洗浄する。
よび54を開いて真空ポンプ23を作動し、これにより
洗浄乾燥槽10内を減圧状態とする。この減圧で所定の
真空度になったとき、排気弁53,54を閉じる。一
方、蒸気発生手段3では加熱器31によりベーパー発生
槽30内の非水系溶剤が加熱され、これにより非水系溶
剤のベーパーが発生している。この状態で管路70の送
気弁71,72を開いてベーパーを洗浄乾燥槽10内に
導入する。ベーパーは洗浄乾燥槽10内で所定の濃度と
なるまで供給され、これにより被洗浄物4を非水系溶剤
のベーパーで洗浄する。
【0019】かかるベーパー洗浄を所定時間行った後、
送気弁71,72を閉じると共に、排気弁53,54を
開く。このとき真空ポンプ23が作動しているため洗浄
乾燥槽10内の非水系溶剤のベーパーおよび結露液が管
路51,52から吸引,除去される。このとき、ベーパ
ーは管路52のコンデンサ55で液化される。吸引され
た非水系溶剤は真空ポンプ23で水と混合され、コンデ
ンサ27で残余のベーパーが液化された後、分離槽20
に導入される。このように洗浄乾燥槽10内の非水系溶
剤をコンデンサ55,27で液化することにより、非水
系溶剤の回収率を向上させることができる。洗浄乾燥槽
10の内部の吸引を行った後、排気弁53,54を閉じ
ながらリーク弁14を開いて大気を導入し、これにより
ベーパーによる洗浄および乾燥を終了し、被洗浄物4を
取り出す。
送気弁71,72を閉じると共に、排気弁53,54を
開く。このとき真空ポンプ23が作動しているため洗浄
乾燥槽10内の非水系溶剤のベーパーおよび結露液が管
路51,52から吸引,除去される。このとき、ベーパ
ーは管路52のコンデンサ55で液化される。吸引され
た非水系溶剤は真空ポンプ23で水と混合され、コンデ
ンサ27で残余のベーパーが液化された後、分離槽20
に導入される。このように洗浄乾燥槽10内の非水系溶
剤をコンデンサ55,27で液化することにより、非水
系溶剤の回収率を向上させることができる。洗浄乾燥槽
10の内部の吸引を行った後、排気弁53,54を閉じ
ながらリーク弁14を開いて大気を導入し、これにより
ベーパーによる洗浄および乾燥を終了し、被洗浄物4を
取り出す。
【0020】分離槽20に導入された非水系溶剤は、そ
の比重差で水と分離されることにより回収され、オーバ
ーフローした非水系溶剤がタンク21に移される。一
方、ベーパー発生槽30では内部の液面高さがレベル計
33で検出されており、この液面が下限値となったと
き、送液ポンプ61が駆動して非水系溶剤がタンク21
からベーパー発生槽30に供給され、その不足量の補充
が行われる。なお、分離槽20は水との比重差で非水系
溶剤を分離しているが、非水系溶剤としてIPAなどの
アルコールを使用した場合、分離槽20に替えて水−ア
ルコール分離装置を用いることにより、その分離を行う
ものである。
の比重差で水と分離されることにより回収され、オーバ
ーフローした非水系溶剤がタンク21に移される。一
方、ベーパー発生槽30では内部の液面高さがレベル計
33で検出されており、この液面が下限値となったと
き、送液ポンプ61が駆動して非水系溶剤がタンク21
からベーパー発生槽30に供給され、その不足量の補充
が行われる。なお、分離槽20は水との比重差で非水系
溶剤を分離しているが、非水系溶剤としてIPAなどの
アルコールを使用した場合、分離槽20に替えて水−ア
ルコール分離装置を用いることにより、その分離を行う
ものである。
【0021】このような洗浄または乾燥では、クローズ
ドシステムにより処理するため、非水系溶剤が外部に洩
出あるいは拡散することがない。このため非水系溶剤が
大気や環境を汚染することなく、有効な公害防止が可能
となる。また、洗浄乾燥を減圧下で行うため、酸素がほ
とんど遮断され、可燃性の非水系溶剤であっても安全性
が向上すると共に、低温度での洗浄乾燥が可能で被洗浄
物への熱的ダメージも軽減させることができる。さらに
非水系溶剤を回収手段2で回収して循環使用するため、
その有効利用が可能となっている。しかも回収した非水
系溶剤はベーパー発生槽30でベーパー化する際に、沸
点の相違により油脂と分離されるため、純度の高い状態
での循環使用が可能で、強力な洗浄力および乾燥力を保
持することができる。
ドシステムにより処理するため、非水系溶剤が外部に洩
出あるいは拡散することがない。このため非水系溶剤が
大気や環境を汚染することなく、有効な公害防止が可能
となる。また、洗浄乾燥を減圧下で行うため、酸素がほ
とんど遮断され、可燃性の非水系溶剤であっても安全性
が向上すると共に、低温度での洗浄乾燥が可能で被洗浄
物への熱的ダメージも軽減させることができる。さらに
非水系溶剤を回収手段2で回収して循環使用するため、
その有効利用が可能となっている。しかも回収した非水
系溶剤はベーパー発生槽30でベーパー化する際に、沸
点の相違により油脂と分離されるため、純度の高い状態
での循環使用が可能で、強力な洗浄力および乾燥力を保
持することができる。
【0022】なお上記実施例では、洗浄乾燥槽10内の
非水系溶剤を管路51および52からなるメイン配管で
回収しているが、管路56,59からなるサブ配管で回
収しても良い。この場合は、被洗浄物4の洗浄後に、送
気弁71,72を閉じて管路59の排気弁57を開くこ
とにより行う。これにより洗浄乾燥槽10内で結露した
非水系溶剤の液体がコンデンサ58を通過した後、タン
ク21に直接、流入する。また、これと連動してリーク
弁14を微小時間開くと共に、排気弁53,54を開い
て真空ポンプ23の吸引力を作用させる。これにより洗
浄乾燥槽10内の非水系溶剤のベーパーはコンデンサ2
7を通過して液化された後、分離槽20内に流入し、分
離槽20内で水との分離が行われる。
非水系溶剤を管路51および52からなるメイン配管で
回収しているが、管路56,59からなるサブ配管で回
収しても良い。この場合は、被洗浄物4の洗浄後に、送
気弁71,72を閉じて管路59の排気弁57を開くこ
とにより行う。これにより洗浄乾燥槽10内で結露した
非水系溶剤の液体がコンデンサ58を通過した後、タン
ク21に直接、流入する。また、これと連動してリーク
弁14を微小時間開くと共に、排気弁53,54を開い
て真空ポンプ23の吸引力を作用させる。これにより洗
浄乾燥槽10内の非水系溶剤のベーパーはコンデンサ2
7を通過して液化された後、分離槽20内に流入し、分
離槽20内で水との分離が行われる。
【0023】
【発明の効果】以上のとおり、本発明の洗浄乾燥方法お
よび洗浄乾燥装置によれば、非水系溶剤が外部に拡散す
ることがなく、しかも減圧下での処理であるため、可燃
性の非水系溶剤を使用しても安全であり、洗浄および洗
浄に続く乾燥をも行うことができる。また非水系溶剤を
回収、再生して循環使用できるため、効率の良い処理が
可能になるとともに、精密洗浄やその乾燥を行うことが
できる。
よび洗浄乾燥装置によれば、非水系溶剤が外部に拡散す
ることがなく、しかも減圧下での処理であるため、可燃
性の非水系溶剤を使用しても安全であり、洗浄および洗
浄に続く乾燥をも行うことができる。また非水系溶剤を
回収、再生して循環使用できるため、効率の良い処理が
可能になるとともに、精密洗浄やその乾燥を行うことが
できる。
【図1】本発明の実施例を示す配管図。
【符号の説明】 1 洗浄乾燥手段 2 回収手段 3 蒸気発生手段 4 被洗浄物 10 洗浄乾燥槽 20 分離槽 21 タンク 30 ベーパー発生槽 31 加熱器
フロントページの続き (72)発明者 小野 定之 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2号 オ リンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 田中 正人 長野県更埴市大字鋳物師屋75番地5 株 式会社 千代田製作所内 (56)参考文献 特開 平2−198678(JP,A) 特開 昭58−139705(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B08B 3/10
Claims (2)
- 【請求項1】 洗浄乾燥槽内を減圧状態にして供給し
た、水よりも比重が小さな非水系溶剤の蒸気のみにより
該槽内部に配設された被洗浄物を洗浄および/または乾
燥する洗浄乾燥工程、 前記洗浄乾燥工程で用いられた非水系溶剤の蒸気を洗浄
乾燥槽内から回収するとともに液化する液化工程、 前記非水系溶剤の蒸気が洗浄乾燥槽内から回収された後
に該洗浄乾燥槽内に大気を導入して前記被洗浄物を取り
出す取出し工程、 前記液化工程で液化した非水系溶剤を、槽底部に水を貯
溜した分離槽に導入し、該水内で非水系溶剤と水とを比
重差で分離して液状の非水系溶剤のみを回収する回収工
程、 前記回収工程で回収された液状の非水系溶剤をベーパー
発生槽に送って該非水系溶剤を蒸気化し、当該蒸気を前
記減圧状態にした洗浄乾燥槽内に供給する供給工程、を
有することを特徴とする洗浄乾燥方法。 - 【請求項2】 槽内部に配設された被洗浄物を、密閉状
態の減圧下で供給された水よりも比重が小さな非水系溶
剤の蒸気のみにより洗浄および/または乾燥を行う洗浄
乾燥槽と、 前記洗浄乾燥槽で用いられた非水系溶剤の蒸気が液化さ
れて槽底部に貯溜した水内に導入されるとともに該水内
で水との比重差で非水系溶剤が分離される密閉状態の分
離槽と、 前記分離槽に連結され前記分離槽内で分離された液状の
非水系溶剤を貯溜する密閉状態のタンクと、 前記タンクから供給される液状の非水系液剤を密閉状態
で加熱して蒸気化するベーパー発生槽と、 前記ベーパー発生槽内で蒸気化された非水系溶剤の蒸気
を前記洗浄乾燥槽に導く管路と、を備えていることを特
徴とする洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03742593A JP3326845B2 (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03742593A JP3326845B2 (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06292871A JPH06292871A (ja) | 1994-10-21 |
JP3326845B2 true JP3326845B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=12497172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03742593A Expired - Fee Related JP3326845B2 (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3326845B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160107584A (ko) * | 2015-03-04 | 2016-09-19 | 김현태 | 스팟 크리닝 시스템 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3634718B2 (ja) * | 1996-07-25 | 2005-03-30 | アクア化学株式会社 | 洗浄装置 |
-
1993
- 1993-02-02 JP JP03742593A patent/JP3326845B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160107584A (ko) * | 2015-03-04 | 2016-09-19 | 김현태 | 스팟 크리닝 시스템 |
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JPH06292871A (ja) | 1994-10-21 |
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