JP3344163B2 - 赤外線撮像素子 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/60—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
- H04N25/67—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response
- H04N25/671—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response for non-uniformity detection or correction
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
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- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/20—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof for transforming only infrared radiation into image signals
- H04N25/21—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof for transforming only infrared radiation into image signals for transforming thermal infrared radiation into image signals
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
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- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/30—Transforming light or analogous information into electric information
- H04N5/33—Transforming infrared radiation
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は赤外線撮像素子のS/
Nの向上、及び素子温度の変動による出力オフセットレ
ベルの変動の低減に関するものである。
Nの向上、及び素子温度の変動による出力オフセットレ
ベルの変動の低減に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図9は従来の赤外線撮像素子の一実施例
を示す接続図である。図中、1〜4はボロメータ、5〜
8はアノードをボロメータ1〜4にそれぞれ接続した画
素分離用ダイオード、9,10はソースを上記ボロメー
タ1〜4に接続した水平FETスイッチ、11は水平F
ETスイッチ9,10のゲートGに接続した水平走査回
路、12はバイアス電流出力端子、13,14は画素分
離用ダイオード5〜8のカソードにドレインDを接続し
バイアス電流出力端子12にソースSを接続した垂直F
ETスイッチ、15は垂直FETスイッチ13,14の
ゲートGに接続した垂直走査回路、16はバイアス電流
入力端子、17は水平FETスイッチ9,10のドレイ
ンDとバイアス電流入力端子16との間に接続した固定
負荷抵抗、18は水平FETスイッチ9,10のドレイ
ンDと固定負荷抵抗17との接点に入力を接続したアン
プ、19はアンプ18の出力端子であり、上記1〜19
はシリコン等で形成した基板20上に形成したものであ
る。ここでは説明の簡素化のため、2×2画素のものを
示した。また、固定負荷抵抗17の抵抗値はボロメータ
1〜4の各抵抗値と、垂直FETスイッチ13,14の
各導通抵抗値と、水平FETスイッチ9,10の各導通
抵抗値の和にほぼ等しい値に設定してある。次に図10
は従来の赤外線撮像素子を用いて撮像を行なう際の構成
を示すブロック図である。図中、21は赤外光学系、2
2は基板20に熱的に接続したペルチェ素子、23は水
平走査回路11、垂直走査回路15、バイアス電流入力
端子16、バイアス電流出力端子12、出力端子19に
接続した素子駆動及び表示処理回路である。
を示す接続図である。図中、1〜4はボロメータ、5〜
8はアノードをボロメータ1〜4にそれぞれ接続した画
素分離用ダイオード、9,10はソースを上記ボロメー
タ1〜4に接続した水平FETスイッチ、11は水平F
ETスイッチ9,10のゲートGに接続した水平走査回
路、12はバイアス電流出力端子、13,14は画素分
離用ダイオード5〜8のカソードにドレインDを接続し
バイアス電流出力端子12にソースSを接続した垂直F
ETスイッチ、15は垂直FETスイッチ13,14の
ゲートGに接続した垂直走査回路、16はバイアス電流
入力端子、17は水平FETスイッチ9,10のドレイ
ンDとバイアス電流入力端子16との間に接続した固定
負荷抵抗、18は水平FETスイッチ9,10のドレイ
ンDと固定負荷抵抗17との接点に入力を接続したアン
プ、19はアンプ18の出力端子であり、上記1〜19
はシリコン等で形成した基板20上に形成したものであ
る。ここでは説明の簡素化のため、2×2画素のものを
示した。また、固定負荷抵抗17の抵抗値はボロメータ
1〜4の各抵抗値と、垂直FETスイッチ13,14の
各導通抵抗値と、水平FETスイッチ9,10の各導通
抵抗値の和にほぼ等しい値に設定してある。次に図10
は従来の赤外線撮像素子を用いて撮像を行なう際の構成
を示すブロック図である。図中、21は赤外光学系、2
2は基板20に熱的に接続したペルチェ素子、23は水
平走査回路11、垂直走査回路15、バイアス電流入力
端子16、バイアス電流出力端子12、出力端子19に
接続した素子駆動及び表示処理回路である。
【0003】次に動作について説明する。まず基板20
をペルチェ素子22を用いて一定の温度に制御する。次
に素子駆動及び表示処理回路23から垂直走査回路駆動
クロック、水平走査回路駆動クロックを水平走査回路1
1、垂直走査回路15にそれぞれ入力する。同様に素子
駆動及び表示処理回路23からバイアス電圧をバイアス
電流入力端子16、バイアス電流出力端子12間に入力
する。
をペルチェ素子22を用いて一定の温度に制御する。次
に素子駆動及び表示処理回路23から垂直走査回路駆動
クロック、水平走査回路駆動クロックを水平走査回路1
1、垂直走査回路15にそれぞれ入力する。同様に素子
駆動及び表示処理回路23からバイアス電圧をバイアス
電流入力端子16、バイアス電流出力端子12間に入力
する。
【0004】次に被撮像物体が放射する赤外線を赤外光
学系21によりボロメータ1〜4が配列した基板20上
に結像する。ボロメータ1〜4は被撮像物体が放射する
赤外線を吸収し、放射赤外線の強度に比例した微小な温
度上昇がボロメータ1〜4にそれぞれ生じる。ボロメー
タ1〜4はポリシリコンや酸化バナジウム等、温度によ
る抵抗変化の大きな材料により形成されており、上記温
度上昇によりボロメータ1〜4の抵抗値がおのおの変化
する。次に垂直走査回路15及び水平走査回路11から
垂直FETスイッチ13,14及び水平FETスイッチ
9,10にクロックを送り、順次導通状態にする。一例
として、ボロメータ1の抵抗を読み出す際には垂直FE
Tスイッチ13と水平FETスイッチ9を導通状態とす
る。この時、電流はバイアス電流入力端子16→固定負
荷抵抗17→水平FETスイッチ9→ボロメータ1→画
素分離用ダイオード5→垂直FETスイッチ13→バイ
アス電流出力端子12の順に流れる。この時に、ボロメ
ータ3→画素分離用ダイオード7→画素分離用ダイオー
ド8→ボロメータ4→ボロメータ2→画素分離用ダイオ
ード6の順に経由するバイパスが本来のルートに対して
並列に出来るが、画素分離用ダイオード8が逆方向とな
り、上記バイパスを電気的に遮断し、所望の画素を選択
して読み出す。ボロメータ2,3,4を読み出す際には
画素分離用ダイオード7,6,5がそれぞれ逆方向とな
り、所望の画素を選択する。
学系21によりボロメータ1〜4が配列した基板20上
に結像する。ボロメータ1〜4は被撮像物体が放射する
赤外線を吸収し、放射赤外線の強度に比例した微小な温
度上昇がボロメータ1〜4にそれぞれ生じる。ボロメー
タ1〜4はポリシリコンや酸化バナジウム等、温度によ
る抵抗変化の大きな材料により形成されており、上記温
度上昇によりボロメータ1〜4の抵抗値がおのおの変化
する。次に垂直走査回路15及び水平走査回路11から
垂直FETスイッチ13,14及び水平FETスイッチ
9,10にクロックを送り、順次導通状態にする。一例
として、ボロメータ1の抵抗を読み出す際には垂直FE
Tスイッチ13と水平FETスイッチ9を導通状態とす
る。この時、電流はバイアス電流入力端子16→固定負
荷抵抗17→水平FETスイッチ9→ボロメータ1→画
素分離用ダイオード5→垂直FETスイッチ13→バイ
アス電流出力端子12の順に流れる。この時に、ボロメ
ータ3→画素分離用ダイオード7→画素分離用ダイオー
ド8→ボロメータ4→ボロメータ2→画素分離用ダイオ
ード6の順に経由するバイパスが本来のルートに対して
並列に出来るが、画素分離用ダイオード8が逆方向とな
り、上記バイパスを電気的に遮断し、所望の画素を選択
して読み出す。ボロメータ2,3,4を読み出す際には
画素分離用ダイオード7,6,5がそれぞれ逆方向とな
り、所望の画素を選択する。
【0005】図11は赤外線撮像素子の読出しのタイミ
ングとアンプ18への入力電圧の関係を示す図であり、
各ボロメータの抵抗値に対応する信号電圧はバイアス電
圧の約50%において入射赤外線の量に応じて微小に変
化する。一方、水平FETスイッチ9,10が共にOF
Fの期間はアンプ18への入力はバイアス電圧まで上昇
する。この電圧をアンプ18で増幅した後、出力端子1
9から出力する。
ングとアンプ18への入力電圧の関係を示す図であり、
各ボロメータの抵抗値に対応する信号電圧はバイアス電
圧の約50%において入射赤外線の量に応じて微小に変
化する。一方、水平FETスイッチ9,10が共にOF
Fの期間はアンプ18への入力はバイアス電圧まで上昇
する。この電圧をアンプ18で増幅した後、出力端子1
9から出力する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の赤外線撮像素子
は上記のように構成されており、水平FETスイッチ
9,10のいずれか一方が導通状態の期間にアンプ18
に入力される信号電圧はバイアス電圧の約50%におい
て入射赤外線の量に応じて微小に変化するのに対し、水
平FETスイッチ9,10が共にOFFの期間はアンプ
18への入力はバイアス電圧まで上昇するため、両期間
のレベルの差が入射赤外線の強弱により生じる信号の振
幅と比較して非常に大きく、素子駆動及び表示処理回路
23の周波数帯域幅を信号読出し必要な周波数帯域と比
較して十分広帯域にして過渡応答特性を向上させる必要
があり、雑音が増加し、S/Nが低下するという難点が
あった。さらに、ボロメータ1〜4の抵抗、垂直FET
スイッチ13,14の導通抵抗、水平FETスイッチ
9,10の導通抵抗は温度により変化するため、基板2
0の温度は一定値に制御しているものの、周囲温度の変
化等の外乱により基板20の温度が少しでも変動すると
入射赤外線の変化による信号出力よりも大きなオフセッ
ト変動が出力されるという難点があった。
は上記のように構成されており、水平FETスイッチ
9,10のいずれか一方が導通状態の期間にアンプ18
に入力される信号電圧はバイアス電圧の約50%におい
て入射赤外線の量に応じて微小に変化するのに対し、水
平FETスイッチ9,10が共にOFFの期間はアンプ
18への入力はバイアス電圧まで上昇するため、両期間
のレベルの差が入射赤外線の強弱により生じる信号の振
幅と比較して非常に大きく、素子駆動及び表示処理回路
23の周波数帯域幅を信号読出し必要な周波数帯域と比
較して十分広帯域にして過渡応答特性を向上させる必要
があり、雑音が増加し、S/Nが低下するという難点が
あった。さらに、ボロメータ1〜4の抵抗、垂直FET
スイッチ13,14の導通抵抗、水平FETスイッチ
9,10の導通抵抗は温度により変化するため、基板2
0の温度は一定値に制御しているものの、周囲温度の変
化等の外乱により基板20の温度が少しでも変動すると
入射赤外線の変化による信号出力よりも大きなオフセッ
ト変動が出力されるという難点があった。
【0007】この発明は上記のような難点を解決するた
めになされたもので、外部回路の狭帯域化が可能で高い
S/Nで撮像が可能であり、さらに、基板の温度変動に
よる出力オフセット変動が小さい赤外線撮像素子を得る
ことを目的とする。
めになされたもので、外部回路の狭帯域化が可能で高い
S/Nで撮像が可能であり、さらに、基板の温度変動に
よる出力オフセット変動が小さい赤外線撮像素子を得る
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明の実施例1によ
る赤外線撮像素子は、アンプの入力にアノードを接続し
たクランプ用ダイオードと、上記クランプ用ダイオード
のカソードに接続したクランプ電圧入力端子とを備えた
ものである。
る赤外線撮像素子は、アンプの入力にアノードを接続し
たクランプ用ダイオードと、上記クランプ用ダイオード
のカソードに接続したクランプ電圧入力端子とを備えた
ものである。
【0009】この発明の実施例2による赤外線撮像素子
は、従来の画素分離用ダイオードを各ボロメータにカソ
ードを接続した画素分離用ダイオードにより置き換え、
アンプの入力にアノードを接続したクランプ用ダイオー
ドと、上記クランプ用ダイオードのカソードに接続した
クランプ電圧入力端子とを備えたものである。
は、従来の画素分離用ダイオードを各ボロメータにカソ
ードを接続した画素分離用ダイオードにより置き換え、
アンプの入力にアノードを接続したクランプ用ダイオー
ドと、上記クランプ用ダイオードのカソードに接続した
クランプ電圧入力端子とを備えたものである。
【0010】この発明の実施例3による赤外線撮像素子
は、バイアス電流入力端子とバイアス電流出力端子とを
互いに置き換え、アンプの入力にカソードを接続したク
ランプ用ダイオードと、上記クランプ用ダイオードのア
ノードに接続したクランプ電圧入力端子とを備えたもの
である。
は、バイアス電流入力端子とバイアス電流出力端子とを
互いに置き換え、アンプの入力にカソードを接続したク
ランプ用ダイオードと、上記クランプ用ダイオードのア
ノードに接続したクランプ電圧入力端子とを備えたもの
である。
【0011】この発明の実施例4による赤外線撮像素子
は、バイアス電流入力端子とバイアス電流出力端子とを
互いに置き換え、実施例3の画素分離用ダイオードを各
ボロメータにカソードを接続した画素分離用ダイオード
により置き換え、アンプの入力にカソードを接続したク
ランプ用ダイオードと、上記クランプ用ダイオードのア
ノードに接続したクランプ電圧入力端子とを備えたもの
である。
は、バイアス電流入力端子とバイアス電流出力端子とを
互いに置き換え、実施例3の画素分離用ダイオードを各
ボロメータにカソードを接続した画素分離用ダイオード
により置き換え、アンプの入力にカソードを接続したク
ランプ用ダイオードと、上記クランプ用ダイオードのア
ノードに接続したクランプ電圧入力端子とを備えたもの
である。
【0012】この発明の実施例5による赤外線撮像素子
は、抵抗値がボロメータと同様の温度変化をする変動負
荷抵抗と、順方向電圧が画素分離用ダイオードと同様の
温度変化をする補償用ダイオードと、垂直FETスイッ
チの導通抵抗と水平FETスイッチの導通抵抗の和にほ
ぼ等しい擬似抵抗とにより上記固定負荷抵抗を置き換え
たものである。
は、抵抗値がボロメータと同様の温度変化をする変動負
荷抵抗と、順方向電圧が画素分離用ダイオードと同様の
温度変化をする補償用ダイオードと、垂直FETスイッ
チの導通抵抗と水平FETスイッチの導通抵抗の和にほ
ぼ等しい擬似抵抗とにより上記固定負荷抵抗を置き換え
たものである。
【0013】この発明の実施例6による赤外線撮像素子
は、抵抗値がボロメータと同様の温度変化をする変動負
荷抵抗と、順方向電圧が画素分離用ダイオードと同様の
温度変化をする補償用ダイオードと、各温度において垂
直FETスイッチとほぼ等しい導通抵抗を有する補償用
垂直FETスイッチと、各温度において水平FETスイ
ッチとほぼ等しい導通抵抗を有する補償用水平FETス
イッチとにより上記固定負荷抵抗を置き換え、上記補償
用垂直FETスイッチのゲートに接続した補償用垂直F
ETスイッチ制御端子と、上記補償用水平FETスイッ
チのゲートに接続した補償用水平FETスイッチ制御端
子とを備えたものである。
は、抵抗値がボロメータと同様の温度変化をする変動負
荷抵抗と、順方向電圧が画素分離用ダイオードと同様の
温度変化をする補償用ダイオードと、各温度において垂
直FETスイッチとほぼ等しい導通抵抗を有する補償用
垂直FETスイッチと、各温度において水平FETスイ
ッチとほぼ等しい導通抵抗を有する補償用水平FETス
イッチとにより上記固定負荷抵抗を置き換え、上記補償
用垂直FETスイッチのゲートに接続した補償用垂直F
ETスイッチ制御端子と、上記補償用水平FETスイッ
チのゲートに接続した補償用水平FETスイッチ制御端
子とを備えたものである。
【0014】
【作用】この発明の実施例1,2による赤外線撮像素子
は、クランプ用ダイオードにより水平FETスイッチが
OFFの期間のアンプへの入力電圧をバイアス電圧より
も低い電圧に維持し、アンプへの入力電圧のスイング幅
を小さくする。
は、クランプ用ダイオードにより水平FETスイッチが
OFFの期間のアンプへの入力電圧をバイアス電圧より
も低い電圧に維持し、アンプへの入力電圧のスイング幅
を小さくする。
【0015】この発明の実施例3,4による赤外線撮像
素子は、クランプ用ダイオードにより、水平FETスイ
ッチがOFFの期間のアンプへの入力電圧をバイアス電
流出力端子12よりも高い電位に維持し、アンプへの入
力電圧のスイング幅を小さくする。
素子は、クランプ用ダイオードにより、水平FETスイ
ッチがOFFの期間のアンプへの入力電圧をバイアス電
流出力端子12よりも高い電位に維持し、アンプへの入
力電圧のスイング幅を小さくする。
【0016】この発明の実施例5による赤外線撮像素子
は、変動負荷抵抗の抵抗値がボロメータの抵抗値に対し
各温度において常に等しくなるよう変化し、さらに、補
償用ダイオードの順方向電圧が画素分離用ダイオードの
順方向電圧に対し各温度において常に等しくなるよう変
化し、基板の温度変動によるアンプへの入力電圧の変動
を相殺する。
は、変動負荷抵抗の抵抗値がボロメータの抵抗値に対し
各温度において常に等しくなるよう変化し、さらに、補
償用ダイオードの順方向電圧が画素分離用ダイオードの
順方向電圧に対し各温度において常に等しくなるよう変
化し、基板の温度変動によるアンプへの入力電圧の変動
を相殺する。
【0017】この発明の実施例6による赤外線撮像素子
は、変動負荷抵抗の抵抗値と補償用垂直FETスイッチ
の導通抵抗と補償用水平FETスイッチの導通抵抗の和
がボロメータの抵抗値と垂直FETスイッチの導通抵抗
と水平FETスイッチの導通抵抗の和に対し各温度にお
いて常に等しくなるように変化し、さらに、補償用ダイ
オードの順方向電圧が画素分離用ダイオードの順方向電
圧に対し各温度において常に等しくなるよう変化し、基
板の温度変動によるアンプへの入力電圧の変動を実施例
5よりもさらに精度よく相殺する。
は、変動負荷抵抗の抵抗値と補償用垂直FETスイッチ
の導通抵抗と補償用水平FETスイッチの導通抵抗の和
がボロメータの抵抗値と垂直FETスイッチの導通抵抗
と水平FETスイッチの導通抵抗の和に対し各温度にお
いて常に等しくなるように変化し、さらに、補償用ダイ
オードの順方向電圧が画素分離用ダイオードの順方向電
圧に対し各温度において常に等しくなるよう変化し、基
板の温度変動によるアンプへの入力電圧の変動を実施例
5よりもさらに精度よく相殺する。
【0018】
実施例1.図1はこの発明による赤外線カメラの実施例
1を示す接続図である。図中、1〜20は従来の素子と
同じものである。24はアンプ18の入力端にアノード
を接続したクランプ用ダイオード、25はクランプ用ダ
イオード24のカソードに接続したクランプ電圧入力端
子である。以降、実施例6までの説明においては、固定
負荷抵抗17の抵抗値は従来の素子と同様のボロメータ
1〜4の各抵抗値と、垂直FETスイッチ13,14の
各導通抵抗値と、水平FETスイッチ9,10の各導通
抵抗値の和にほぼ等しい値であるとする。また、垂直F
ETスイッチ13,14、水平FETスイッチ9,10
の各ドレイン、ソースの向きは逆でもよく、さらに、バ
イアス電流出力端子12の電位は0Vであるとして説明
を行なう。
1を示す接続図である。図中、1〜20は従来の素子と
同じものである。24はアンプ18の入力端にアノード
を接続したクランプ用ダイオード、25はクランプ用ダ
イオード24のカソードに接続したクランプ電圧入力端
子である。以降、実施例6までの説明においては、固定
負荷抵抗17の抵抗値は従来の素子と同様のボロメータ
1〜4の各抵抗値と、垂直FETスイッチ13,14の
各導通抵抗値と、水平FETスイッチ9,10の各導通
抵抗値の和にほぼ等しい値であるとする。また、垂直F
ETスイッチ13,14、水平FETスイッチ9,10
の各ドレイン、ソースの向きは逆でもよく、さらに、バ
イアス電流出力端子12の電位は0Vであるとして説明
を行なう。
【0019】次にこの発明による赤外線撮像素子の動作
について説明する。基板20を一定温度に制御し、次に
垂直FETスイッチ13,14及び水平FETスイッチ
9,10を図2に示すタイミングで順次導通状態にして
バイアス電流入力端子16からバイアス電流出力端子1
2に向かってバイアス電流を流し、ボロメータ1〜4の
各抵抗値に対応する信号電圧を出力端子19から出力す
る動作は従来の素子と同じである。クランプ電圧入力端
子25はバイアス電圧よりも低いクランプ電圧を入力
し、水平FETスイッチ9,10が共にOFFの期間の
アンプ18への入力電圧が読出し期間中の信号電圧より
高く、かつ、バイアス電圧より低くなるようにする。図
2はこの発明による赤外線撮像素子の読出しのタイミン
グとアンプ18への入力電圧の関係を示す図であり、図
中、26は従来の素子のアンプ18への入力電圧の波
形、27はこの発明の赤外線撮像素子のアンプ18への
入力電圧の波形である。ボロメータ1〜4を読み出して
いる期間のアンプ18への入力電圧は従来の素子と同様
にバイアス電圧の約50%であり、水平FETスイッチ
9,10が共にOFFの期間はクランプ用ダイオード2
4が順方向となるため、バイアス電圧より低い電圧がア
ンプ18へ入力され、アンプ18への入力電圧のスイン
グ幅は従来と比較して小さくなる。
について説明する。基板20を一定温度に制御し、次に
垂直FETスイッチ13,14及び水平FETスイッチ
9,10を図2に示すタイミングで順次導通状態にして
バイアス電流入力端子16からバイアス電流出力端子1
2に向かってバイアス電流を流し、ボロメータ1〜4の
各抵抗値に対応する信号電圧を出力端子19から出力す
る動作は従来の素子と同じである。クランプ電圧入力端
子25はバイアス電圧よりも低いクランプ電圧を入力
し、水平FETスイッチ9,10が共にOFFの期間の
アンプ18への入力電圧が読出し期間中の信号電圧より
高く、かつ、バイアス電圧より低くなるようにする。図
2はこの発明による赤外線撮像素子の読出しのタイミン
グとアンプ18への入力電圧の関係を示す図であり、図
中、26は従来の素子のアンプ18への入力電圧の波
形、27はこの発明の赤外線撮像素子のアンプ18への
入力電圧の波形である。ボロメータ1〜4を読み出して
いる期間のアンプ18への入力電圧は従来の素子と同様
にバイアス電圧の約50%であり、水平FETスイッチ
9,10が共にOFFの期間はクランプ用ダイオード2
4が順方向となるため、バイアス電圧より低い電圧がア
ンプ18へ入力され、アンプ18への入力電圧のスイン
グ幅は従来と比較して小さくなる。
【0020】実施例2.図3はこの発明による赤外線撮
像素子の実施例2を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20は従来と同じもの、24,25は実施例1と同
じものである。28〜31はカソードをボロメータ1〜
4にそれぞれ接続し、アノードを水平FETスイッチ
9,10のソースに接続した画素分離用ダイオードであ
る。
像素子の実施例2を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20は従来と同じもの、24,25は実施例1と同
じものである。28〜31はカソードをボロメータ1〜
4にそれぞれ接続し、アノードを水平FETスイッチ
9,10のソースに接続した画素分離用ダイオードであ
る。
【0021】次にこの発明による赤外線撮像素子の動作
について説明する。この発明による赤外線撮像素子にお
いては、画素分離用ダイオード28,29,30,31
は、それぞれ実施例1の画素分離用ダイオード5,6,
7,8と同様に、読出しの際の各画素の電気的分離を行
なう。例えば、垂直FETスイッチ13、水平FETス
イッチ9を導通状態にしてボロメータ1を読み出す際に
は、画素分離用ダイオード30→ボロメータ3→ボロメ
ータ4→画素分離用ダイオード31→画素分離用ダイオ
ード29→ボロメータ2の順に経由するバイパスが本来
のルートに対して並列に出来るが、画素分離用ダイオー
ド31が逆方向となり、上記バイパスを電気的に遮断す
る。ボロメータ2,3,4を読み出す際には画素分離用
ダイオード30,29,28がそれぞれ逆方向となり、
バイパスを電気的に遮断する。他の動作は、クランプ用
ダイオード36の動作を含め、実施例1と同じである。
について説明する。この発明による赤外線撮像素子にお
いては、画素分離用ダイオード28,29,30,31
は、それぞれ実施例1の画素分離用ダイオード5,6,
7,8と同様に、読出しの際の各画素の電気的分離を行
なう。例えば、垂直FETスイッチ13、水平FETス
イッチ9を導通状態にしてボロメータ1を読み出す際に
は、画素分離用ダイオード30→ボロメータ3→ボロメ
ータ4→画素分離用ダイオード31→画素分離用ダイオ
ード29→ボロメータ2の順に経由するバイパスが本来
のルートに対して並列に出来るが、画素分離用ダイオー
ド31が逆方向となり、上記バイパスを電気的に遮断す
る。ボロメータ2,3,4を読み出す際には画素分離用
ダイオード30,29,28がそれぞれ逆方向となり、
バイパスを電気的に遮断する。他の動作は、クランプ用
ダイオード36の動作を含め、実施例1と同じである。
【0022】実施例3.図4はこの発明による赤外線撮
像素子の実施例3を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20は従来と同じもの、25は実施例1と同じもの
である。32〜35はアノードをボロメータ1〜4にそ
れぞれ接続し、カソードを水平FETスイッチ9,10
のソースに接続した画素分離用ダイオードである。36
はアンプ18の入力にカソードを接続したクランプ用ダ
イオードである。
像素子の実施例3を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20は従来と同じもの、25は実施例1と同じもの
である。32〜35はアノードをボロメータ1〜4にそ
れぞれ接続し、カソードを水平FETスイッチ9,10
のソースに接続した画素分離用ダイオードである。36
はアンプ18の入力にカソードを接続したクランプ用ダ
イオードである。
【0023】次にこの発明による赤外線撮像素子の動作
について説明する。基板20の温度を一定に制御し、バ
イアス電流入力端子16からバイアス電流出力端子12
に向かって従来及び実施例1,2とは逆の方向にバイア
ス電流を流す。次に垂直FETスイッチ13,14、水
平FETスイッチ9,10を図5に示すタイミングで順
次導通状態にしてボロメータ1〜4の抵抗値に対応する
信号電圧を出力端子19から出力する。0Vより高いク
ランプ電圧をクランプ電圧入力端子25に入力し、水平
FETスイッチ9,10が共にOFFの期間のアンプ1
8への入力電圧が0Vより高く、かつ、読出し期間中の
信号電圧より低くなるようにする。図5はこの発明によ
る赤外線撮像素子の読出しのタイミングとアンプ18へ
の入力電圧の関係を示す図であり、図中、37は従来の
赤外線撮像素子のアンプ18への入力電圧の波形、38
は本発明の赤外線撮像素子のアンプ18への入力電圧の
波形である。ボロメータ1〜4を読み出している期間の
アンプ18への入力電圧は従来と同様にバイアス電圧の
約50%であり、水平FETスイッチ9,10が共にO
FFの期間はクランプ用ダイオード36が順方向となる
ため、0Vよりも高い電圧がアンプ18へ入力され、ア
ンプ18への入力電圧のスイング幅は従来と比較して小
さくなる。
について説明する。基板20の温度を一定に制御し、バ
イアス電流入力端子16からバイアス電流出力端子12
に向かって従来及び実施例1,2とは逆の方向にバイア
ス電流を流す。次に垂直FETスイッチ13,14、水
平FETスイッチ9,10を図5に示すタイミングで順
次導通状態にしてボロメータ1〜4の抵抗値に対応する
信号電圧を出力端子19から出力する。0Vより高いク
ランプ電圧をクランプ電圧入力端子25に入力し、水平
FETスイッチ9,10が共にOFFの期間のアンプ1
8への入力電圧が0Vより高く、かつ、読出し期間中の
信号電圧より低くなるようにする。図5はこの発明によ
る赤外線撮像素子の読出しのタイミングとアンプ18へ
の入力電圧の関係を示す図であり、図中、37は従来の
赤外線撮像素子のアンプ18への入力電圧の波形、38
は本発明の赤外線撮像素子のアンプ18への入力電圧の
波形である。ボロメータ1〜4を読み出している期間の
アンプ18への入力電圧は従来と同様にバイアス電圧の
約50%であり、水平FETスイッチ9,10が共にO
FFの期間はクランプ用ダイオード36が順方向となる
ため、0Vよりも高い電圧がアンプ18へ入力され、ア
ンプ18への入力電圧のスイング幅は従来と比較して小
さくなる。
【0024】実施例4.図6はこの発明による赤外線撮
像素子の実施例4を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20は従来と同じもの、25,36は実施例1と同
じものである。39〜42はカソードをボロメータ1〜
4にそれぞれ接続し、アノードを垂直FETスイッチ1
3,14のドレインに接続した画素分離用ダイオードで
ある。
像素子の実施例4を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20は従来と同じもの、25,36は実施例1と同
じものである。39〜42はカソードをボロメータ1〜
4にそれぞれ接続し、アノードを垂直FETスイッチ1
3,14のドレインに接続した画素分離用ダイオードで
ある。
【0025】次にこの発明による赤外線撮像素子の動作
について説明する。この発明による赤外線撮像素子にお
いては、画素分離用ダイオード39,40,41,42
は、それぞれ実施例3の画素分離用ダイオード32,3
3,34,35と同様に、読出しの際の各画素の電気的
分離を行なう。例えば、垂直FETスイッチ13、水平
FETスイッチ9を導通状態にしてボロメータ1を読み
出す際には、画素分離用ダイオード40→ボロメータ2
→ボロメータ4→画素分離用ダイオード42→画素分離
用ダイオード41→ボロメータ3の順に経由するバイパ
スが本来のルートに対して並列に出来るが、画素分離用
ダイオード42が逆方向となり、上記バイパスを電気的
に遮断する。ボロメータ2,3,4を読み出す際には画
素分離用ダイオード41,40,39がそれぞれ逆方向
となり、バイパスを電気的に遮断する。他の動作は、ク
ランプ用ダイオード36の動作を含め、実施例3と同じ
である。
について説明する。この発明による赤外線撮像素子にお
いては、画素分離用ダイオード39,40,41,42
は、それぞれ実施例3の画素分離用ダイオード32,3
3,34,35と同様に、読出しの際の各画素の電気的
分離を行なう。例えば、垂直FETスイッチ13、水平
FETスイッチ9を導通状態にしてボロメータ1を読み
出す際には、画素分離用ダイオード40→ボロメータ2
→ボロメータ4→画素分離用ダイオード42→画素分離
用ダイオード41→ボロメータ3の順に経由するバイパ
スが本来のルートに対して並列に出来るが、画素分離用
ダイオード42が逆方向となり、上記バイパスを電気的
に遮断する。ボロメータ2,3,4を読み出す際には画
素分離用ダイオード41,40,39がそれぞれ逆方向
となり、バイパスを電気的に遮断する。他の動作は、ク
ランプ用ダイオード36の動作を含め、実施例3と同じ
である。
【0026】実施例5.図7はこの発明による赤外線撮
像素子の実施例5を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20,25,36,39〜42は実施例4と同じも
のである。43はボロメータ1〜4と同一の材料、構造
で製造した変動負荷抵抗、44は垂直FETスイッチ1
3、14の1個当たりの導通抵抗と水平FETスイッチ
9,10の1個当たりの導通抵抗の和にほぼ等しい擬似
抵抗、45は画素分離用ダイオード39〜42と同一の
材料、構造で製造した補償用ダイオードである。変動負
荷抵抗43、擬似抵抗44、補償用ダイオード45はア
ンプ18の入力端子とバイアス電流出力端子12との間
に直列に接続されている。補償用ダイオード45はバイ
アス電流入力端子16からバイアス電流出力端子12に
向かい画素分離用ダイオード39〜42と順方向が同じ
向きとなるよう、接続されている。変動負荷抵抗43は
ボロメータ1〜4と同一の材料、構造で製造することに
より、各温度においてボロメータ1〜4とほぼ等しい抵
抗値を有するように製造されている。補償用ダイオード
45に関しても、画素分離用ダイオード39〜42と同
一の材料、構造で製造することにより、各温度におい
て、画素分離用ダイオード39〜42とほぼ等しい順方
向電圧を有するように製造されている。
像素子の実施例5を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20,25,36,39〜42は実施例4と同じも
のである。43はボロメータ1〜4と同一の材料、構造
で製造した変動負荷抵抗、44は垂直FETスイッチ1
3、14の1個当たりの導通抵抗と水平FETスイッチ
9,10の1個当たりの導通抵抗の和にほぼ等しい擬似
抵抗、45は画素分離用ダイオード39〜42と同一の
材料、構造で製造した補償用ダイオードである。変動負
荷抵抗43、擬似抵抗44、補償用ダイオード45はア
ンプ18の入力端子とバイアス電流出力端子12との間
に直列に接続されている。補償用ダイオード45はバイ
アス電流入力端子16からバイアス電流出力端子12に
向かい画素分離用ダイオード39〜42と順方向が同じ
向きとなるよう、接続されている。変動負荷抵抗43は
ボロメータ1〜4と同一の材料、構造で製造することに
より、各温度においてボロメータ1〜4とほぼ等しい抵
抗値を有するように製造されている。補償用ダイオード
45に関しても、画素分離用ダイオード39〜42と同
一の材料、構造で製造することにより、各温度におい
て、画素分離用ダイオード39〜42とほぼ等しい順方
向電圧を有するように製造されている。
【0027】次にこの発明による7赤外線撮像素子の動
作について説明する。外乱等により基板20の温度が変
動すると、ボロメータ1〜4の抵抗、垂直FETスイッ
チ13,14の導通抵抗、水平FETスイッチ9,10
の導通抵抗、画素分離用ダイオード39〜42の順方向
電圧は変化するが、同時に変動負荷抵抗43の抵抗、補
償用ダイオード45の順方向電圧もボロメータ1〜4及
び画素分離用ダイオード39〜42と同じように変化
し、互いの変化を相殺し、従来の素子及び実施例1〜4
と比較して出力オフセットの変動を低減する。その他の
動作は実施例4と同じである。
作について説明する。外乱等により基板20の温度が変
動すると、ボロメータ1〜4の抵抗、垂直FETスイッ
チ13,14の導通抵抗、水平FETスイッチ9,10
の導通抵抗、画素分離用ダイオード39〜42の順方向
電圧は変化するが、同時に変動負荷抵抗43の抵抗、補
償用ダイオード45の順方向電圧もボロメータ1〜4及
び画素分離用ダイオード39〜42と同じように変化
し、互いの変化を相殺し、従来の素子及び実施例1〜4
と比較して出力オフセットの変動を低減する。その他の
動作は実施例4と同じである。
【0028】実施例6.図8はこの発明による赤外線撮
像素子の実施例6を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20,25,36,39〜43,45は実施例4と
同じものである。46は垂直FETスイッチ13,14
と同一の材料、構造で製造した補償用垂直FETスイッ
チ、47は補償用垂直FETスイッチ46のゲートに接
続した補償用垂直FETスイッチ制御端子、48は水平
FETスイッチ9,10と同一の材料、構造で製造した
補償用水平FETスイッチ、49は補償用水平FETス
イッチ48のゲートに接続した補償用水平FETスイッ
チ制御端子である。変動負荷抵抗43、補償用ダイオー
ド45、補償用垂直FETスイッチ46、補償用水平F
ETスイッチ48はアンプ18の入力とバイアス電流出
力端子12との間に直列に接続されている。補償用垂直
FETスイッチ46、補償用水平FETスイッチ48は
それぞれ垂直FETスイッチ13,14、水平FETス
イッチ9,10と同一の材料、構造で製造することによ
り、各温度において垂直FETスイッチ13,14、水
平FETスイッチ9,10とほぼ等しい導通抵抗を有す
るように製造されている。なお、垂直FETスイッチ1
3,14、水平FETスイッチ9,10、補償用垂直F
ETスイッチ46、補償用水平FETスイッチ48の各
ソース、ドレインの接続が逆でもよい。
像素子の実施例6を示す接続図である。図中、1〜4,
9〜20,25,36,39〜43,45は実施例4と
同じものである。46は垂直FETスイッチ13,14
と同一の材料、構造で製造した補償用垂直FETスイッ
チ、47は補償用垂直FETスイッチ46のゲートに接
続した補償用垂直FETスイッチ制御端子、48は水平
FETスイッチ9,10と同一の材料、構造で製造した
補償用水平FETスイッチ、49は補償用水平FETス
イッチ48のゲートに接続した補償用水平FETスイッ
チ制御端子である。変動負荷抵抗43、補償用ダイオー
ド45、補償用垂直FETスイッチ46、補償用水平F
ETスイッチ48はアンプ18の入力とバイアス電流出
力端子12との間に直列に接続されている。補償用垂直
FETスイッチ46、補償用水平FETスイッチ48は
それぞれ垂直FETスイッチ13,14、水平FETス
イッチ9,10と同一の材料、構造で製造することによ
り、各温度において垂直FETスイッチ13,14、水
平FETスイッチ9,10とほぼ等しい導通抵抗を有す
るように製造されている。なお、垂直FETスイッチ1
3,14、水平FETスイッチ9,10、補償用垂直F
ETスイッチ46、補償用水平FETスイッチ48の各
ソース、ドレインの接続が逆でもよい。
【0029】次にこの発明による赤外線撮像素子の動作
について説明する。垂直FETスイッチ13,14を導
通状態にする際に入力するゲート電圧に等しい電圧を補
償用垂直FETスイッチ制御端子47に入力する。同様
に、水平FETスイッチ9,10を導通状態にする際に
入力するゲート電圧に等しい電圧を補償用水平FET電
圧制御49に印加する。基板20の温度が変動すると、
その影響によりボロメータ1〜4の抵抗、垂直FETス
イッチ13,14及び水平FETスイッチ9,10の導
通抵抗、画素分離用ダイオード39〜42の順方向電圧
は変化するが、同時に変動負荷抵抗43の抵抗、補償用
ダイオード45の順方向電圧、補償用垂直FETスイッ
チ46、補償用水平FETスイッチ48の導通抵抗もそ
れぞれボロメータ1〜4、画素分離用ダイオード39〜
42、垂直FETスイッチ13,14、水平FETスイ
ッチ9,10と同じように変化するため、互いの変化を
実施例5よりも精度良く相殺し、素子の温度変動による
出力オフセットの変動をさらに低減する。
について説明する。垂直FETスイッチ13,14を導
通状態にする際に入力するゲート電圧に等しい電圧を補
償用垂直FETスイッチ制御端子47に入力する。同様
に、水平FETスイッチ9,10を導通状態にする際に
入力するゲート電圧に等しい電圧を補償用水平FET電
圧制御49に印加する。基板20の温度が変動すると、
その影響によりボロメータ1〜4の抵抗、垂直FETス
イッチ13,14及び水平FETスイッチ9,10の導
通抵抗、画素分離用ダイオード39〜42の順方向電圧
は変化するが、同時に変動負荷抵抗43の抵抗、補償用
ダイオード45の順方向電圧、補償用垂直FETスイッ
チ46、補償用水平FETスイッチ48の導通抵抗もそ
れぞれボロメータ1〜4、画素分離用ダイオード39〜
42、垂直FETスイッチ13,14、水平FETスイ
ッチ9,10と同じように変化するため、互いの変化を
実施例5よりも精度良く相殺し、素子の温度変動による
出力オフセットの変動をさらに低減する。
【0030】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、クラ
ンプ用ダイオード24又は36をアンプ18の入力端に
接続したため、水平FETスイッチ9,10がONの期
間と共にOFFの期間との電圧の差が小さくなり、外部
に接続した素子駆動及び表示処理回路の周波数帯域幅を
狭帯域化することが出来、雑音が少なくS/Nの高い撮
像の行なえる赤外線撮像素子が得られる効果がある。
ンプ用ダイオード24又は36をアンプ18の入力端に
接続したため、水平FETスイッチ9,10がONの期
間と共にOFFの期間との電圧の差が小さくなり、外部
に接続した素子駆動及び表示処理回路の周波数帯域幅を
狭帯域化することが出来、雑音が少なくS/Nの高い撮
像の行なえる赤外線撮像素子が得られる効果がある。
【0031】また、この発明によれば、各温度において
変動負荷抵抗43、補償用ダイオード45がそれぞれボ
ロメータ1〜4、画素分離用ダイオード39〜42とほ
ぼ等しい抵抗値となり、温度変動による変化を相殺する
ため、基板20の温度変動による出力オフセット変動が
小さく、安定した赤外線撮像素子が得られる効果があ
る。
変動負荷抵抗43、補償用ダイオード45がそれぞれボ
ロメータ1〜4、画素分離用ダイオード39〜42とほ
ぼ等しい抵抗値となり、温度変動による変化を相殺する
ため、基板20の温度変動による出力オフセット変動が
小さく、安定した赤外線撮像素子が得られる効果があ
る。
【0032】この発明によれば、各温度において変動負
荷抵抗43、補償用ダイオード45、補償用垂直FET
スイッチ46、補償用水平FETスイッチ48がそれぞ
れボロメータ1〜4、画素分離用ダイオード39〜4
2、垂直FETスイッチ13,14、水平FETスイッ
チ9,10とほぼ等しい抵抗値となり、温度変動による
変化をさらに精度良く相殺するため、基板20の温度変
動に対する出力オフセット変動がさらに小さく、安定し
た赤外線撮像素子が得られる効果がある。
荷抵抗43、補償用ダイオード45、補償用垂直FET
スイッチ46、補償用水平FETスイッチ48がそれぞ
れボロメータ1〜4、画素分離用ダイオード39〜4
2、垂直FETスイッチ13,14、水平FETスイッ
チ9,10とほぼ等しい抵抗値となり、温度変動による
変化をさらに精度良く相殺するため、基板20の温度変
動に対する出力オフセット変動がさらに小さく、安定し
た赤外線撮像素子が得られる効果がある。
【図1】 この発明による赤外線撮像素子の実施例1を
示す接続図である。
示す接続図である。
【図2】 この発明による赤外線撮像素子の実施例1の
動作を示す図である。
動作を示す図である。
【図3】 この発明による赤外線撮像素子の実施例2を
示す接続図である。
示す接続図である。
【図4】 この発明による赤外線撮像素子の実施例3を
示す接続図である。
示す接続図である。
【図5】 この発明による赤外線撮像素子の実施例3の
動作を示す図である。
動作を示す図である。
【図6】 この発明による赤外線撮像素子の実施例4を
示す接続図である。
示す接続図である。
【図7】 この発明による赤外線撮像素子の実施例5を
示す接続図である。
示す接続図である。
【図8】 この発明による赤外線撮像素子の実施例6を
示す接続図である。
示す接続図である。
【図9】 従来の赤外線撮像素子の一実施例を示す接続
図である。
図である。
【図10】 従来の赤外線撮像素子を用いて撮像を行な
う際の構成を示す図である。
う際の構成を示す図である。
【図11】 従来の赤外線撮像素子の動作を示す図であ
る。
る。
1 ボロメータ、2 ボロメータ、3 ボロメータ、4
ボロメータ、5 画素分離用ダイオード、6 画素分
離用ダイオード、7 画素分離用ダイオード、8 画素
分離用ダイオード、9 水平FETスイッチ、10 水
平FETスイッチ、11 水平走査回路、12 バイア
ス電流出力端子、13 垂直FETスイッチ、14 垂
直FETスイッチ、15 垂直走査回路、16バイアス
電流入力端子、17 固定負荷抵抗、18 アンプ、1
9 出力端子、20 基板、24クランプ用ダイオー
ド、25 クランプ電圧入力端子、28 画素分離用ダ
イオード、29 画素分離用ダイオード、30 画素分
離用ダイオード、31 画素分離用ダイオード、32
画素分離用ダイオード、33 画素分離用ダイオード、
34 画素分離用ダイオード、35 画素分離用ダイオ
ード、36 クランプ用ダイオード、39 画素分離用
ダイオード、40 画素分離用ダイオード、41 画素
分離用ダイオード、42 画素分離用ダイオード、43
変動負荷抵抗、44 擬似抵抗、45 補償用ダイオ
ード、46 補償用垂直FETスイッチ、47 補償用
垂直FETスイッチ制御端子、48 補償用水平FET
スイッチ、49 補償用水平FETスイッチ制御端子。
ボロメータ、5 画素分離用ダイオード、6 画素分
離用ダイオード、7 画素分離用ダイオード、8 画素
分離用ダイオード、9 水平FETスイッチ、10 水
平FETスイッチ、11 水平走査回路、12 バイア
ス電流出力端子、13 垂直FETスイッチ、14 垂
直FETスイッチ、15 垂直走査回路、16バイアス
電流入力端子、17 固定負荷抵抗、18 アンプ、1
9 出力端子、20 基板、24クランプ用ダイオー
ド、25 クランプ電圧入力端子、28 画素分離用ダ
イオード、29 画素分離用ダイオード、30 画素分
離用ダイオード、31 画素分離用ダイオード、32
画素分離用ダイオード、33 画素分離用ダイオード、
34 画素分離用ダイオード、35 画素分離用ダイオ
ード、36 クランプ用ダイオード、39 画素分離用
ダイオード、40 画素分離用ダイオード、41 画素
分離用ダイオード、42 画素分離用ダイオード、43
変動負荷抵抗、44 擬似抵抗、45 補償用ダイオ
ード、46 補償用垂直FETスイッチ、47 補償用
垂直FETスイッチ制御端子、48 補償用水平FET
スイッチ、49 補償用水平FETスイッチ制御端子。
フロントページの続き (72)発明者 兼田 修 尼崎市塚口本町八丁目1番1号 三菱電 機株式会社 半導体基礎研究所内 (56)参考文献 特開 平7−154702(JP,A) 特開 平2−196929(JP,A) 特開 平6−253214(JP,A) 特開 平6−197279(JP,A) 国際公開94/950(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01J 5/00 - 5/62 G01J 1/00 - 1/60 H04N 5/33 WPI(DIALOG) JICSTファイル(JOIS)
Claims (6)
- 【請求項1】 2次元に配列したボロメータと、上記各
ボロメータにアノードを接続した画素分離用ダイオード
と、各行に設置した垂直FETスイッチと、上記垂直F
ETスイッチの各ゲートに接続した垂直走査回路と、各
列に設置した水平FETスイッチと、上記水平FETス
イッチの各ゲートに接続した水平走査回路と、上記画素
分離用ダイオードのカソードに上記垂直FETスイッチ
のソース及びドレインを経由して接続したバイアス電流
出力端子と、バイアス電流入力端子と、一方の端子を上
記バイアス電流入力端子に接続しもう一方の端子を上記
水平FETスイッチのソース及びドレインを経由して上
記ボロメータに接続した負荷抵抗と、上記水平FETス
イッチと上記負荷抵抗との接点に入力を接続したアンプ
と、上記アンプの出力に接続した出力端子と、上記アン
プの入力にアノードを接続したクランプ用ダイオード
と、上記クランプ用ダイオードのカソードに接続したク
ランプ電圧入力端子とを基板上に備えたことを特徴とす
る赤外線撮像素子。 - 【請求項2】 2次元に配列したボロメータと、上記各
ボロメータにカソードを接続した画素分離用ダイオード
と、各行に設置した垂直FETスイッチと、上記垂直F
ETスイッチの各ゲートに接続した垂直走査回路と、各
列に設置した水平FETスイッチと、上記水平FETス
イッチの各ゲートに接続した水平走査回路と、上記各ボ
ロメータに上記垂直FETスイッチのソース及びドレイ
ンを経由して接続したバイアス電流出力端子と、バイア
ス電流入力端子と、一方の端子を上記バイアス電流入力
端子に接続しもう一方の端子を上記水平FETスイッチ
のソース及びドレインを経由して上記画素分離用ダイオ
ードのアノードに接続した負荷抵抗と、上記水平FET
スイッチと上記負荷抵抗との接点に入力を接続したアン
プと、上記アンプの出力に接続した出力端子と、上記ア
ンプの入力にアノードを接続したクランプ用ダイオード
と、上記クランプ用ダイオードのカソードに接続したク
ランプ電圧入力端子とを基板上に備えたことを特徴とす
る赤外線撮像素子。 - 【請求項3】 2次元に配列したボロメータと、上記各
ボロメータにアノードを接続した画素分離用ダイオード
と、各行に設置した垂直FETスイッチと、上記垂直F
ETスイッチの各ゲートに接続した垂直走査回路と、各
列に設置した水平FETスイッチと、上記水平FETス
イッチの各ゲートに接続した水平走査回路と、上記ボロ
メータに上記垂直FETスイッチのソース及びドレイン
を経由して接続したバイアス電流入力端子と、バイアス
電流出力端子と、上記画素分離用ダイオードのカソード
に上記水平FETスイッチのソース及びドレインを経由
して一方の端子を接続しもう一方の端子をバイアス電流
出力端子に接続した負荷抵抗と、上記水平FETスイッ
チと上記負荷抵抗との接点に入力を接続したアンプと、
上記アンプの出力に接続した出力端子と、上記アンプの
入力にカソードを接続したクランプ用ダイオードと、上
記クランプ用ダイオードのアノードに接続したクランプ
電圧入力端子とを基板上に備えたことを特徴とする赤外
線撮像素子。 - 【請求項4】 2次元に配列したボロメータと、上記各
ボロメータにカソードを接続した画素分離用ダイオード
と、各行に設置した垂直FETスイッチと、上記垂直F
ETスイッチの各ゲートに接続した垂直走査回路と、各
列に設置した水平FETスイッチと、上記水平FETス
イッチの各ゲートに接続した水平走査回路と、上記画素
分離用ダイオードのアノードに上記垂直FETスイッチ
のソース及びドレインを経由して接続したバイアス電流
入力端子と、バイアス電流出力端子と、上記ボロメータ
に上記水平FETスイッチのソース及びドレインを経由
して一方の端子を接続しもう一方の端子をバイアス電流
出力端子に接続した負荷抵抗と、上記水平FETスイッ
チと上記負荷抵抗との接点に入力を接続したアンプと、
上記アンプの出力に接続した出力端子と、上記アンプの
入力にカソードを接続したクランプ用ダイオードと、上
記クランプ用ダイオードのアノードに接続したクランプ
電圧入力端子とを基板上に備えたことを特徴とする赤外
線撮像素子。 - 【請求項5】 上記負荷抵抗は、抵抗値が上記ボロメー
タと同様の温度変化をする変動負荷抵抗と、上記垂直F
ETスイッチと上記水平FETスイッチの導通抵抗の和
にほぼ等しい抵抗値を有する擬似抵抗と、順方向電圧が
上記画素分離用ダイオードと同様の温度変化をする補償
用ダイオードとにより構成したことを特徴とする請求項
1,2,3,4いずれか記載の赤外線撮像素子。 - 【請求項6】 上記負荷抵抗は、抵抗値が上記ボロメー
タと同様の温度変化をする変動負荷抵抗と、各温度にお
いて上記垂直FETスイッチの導通抵抗にほぼ等しい導
通抵抗を有する補償用垂直FETスイッチと、上記補償
用垂直FETスイッチのゲートに接続した補償用垂直F
ETスイッチ制御端子と、各温度において上記水平FE
Tスイッチの導通抵抗にほぼ等しい導通抵抗を有する補
償用水平FETスイッチと、上記補償用水平FETスイ
ッチのゲートに接続した補償用水平FETスイッチ制御
端子と、順方向電圧が上記画素分離用ダイオードと同様
の温度変化をする補償用ダイオードとにより構成したこ
とを特徴とする請求項1,2,3,4いずれか記載の赤
外線撮像素子。
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