JP3342322B2 - Led素子表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のLED(Li
ght Emitting Diode;発光ダイオード)素子を含んで構
成されるLED表示装置の製造方法に関し、とくにLE
D素子の実装に特徴を有するLED表示装置の製造方法
に関する。
ght Emitting Diode;発光ダイオード)素子を含んで構
成されるLED表示装置の製造方法に関し、とくにLE
D素子の実装に特徴を有するLED表示装置の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】LED素子は、一般にpn接合のダイオ
ードであり、材料や製造方法により様々な色の発光を呈
するものがある。この様々な発光色のLED素子を用い
て表示画素を構成することによって、単色表示やカラー
表示のLED表示装置が製造される。LED表示装置
は、他のCRT(Cathode Ray Tube;ブラウン管)や液
晶などの表示装置に比べて、表示単位すなわちLED素
子が大きく、100インチ以上の大画面表示として用い
られることが多い。
ードであり、材料や製造方法により様々な色の発光を呈
するものがある。この様々な発光色のLED素子を用い
て表示画素を構成することによって、単色表示やカラー
表示のLED表示装置が製造される。LED表示装置
は、他のCRT(Cathode Ray Tube;ブラウン管)や液
晶などの表示装置に比べて、表示単位すなわちLED素
子が大きく、100インチ以上の大画面表示として用い
られることが多い。
【0003】一方で、100インチ以下の表示装置を製
造して、CRTや液晶の表示装置と同等かそれ以上の品
位を得るために、すなわち画素の精細度、輝度またはコ
ントラストなどの品位を得るために、LED素子を小さ
くするか、またはLED素子を密集させて実装する必要
がある。LED表示装置の構成画素となるLED素子
は、たとえば500μm×500μm×500μm以下
の大きさにする必要がある。
造して、CRTや液晶の表示装置と同等かそれ以上の品
位を得るために、すなわち画素の精細度、輝度またはコ
ントラストなどの品位を得るために、LED素子を小さ
くするか、またはLED素子を密集させて実装する必要
がある。LED表示装置の構成画素となるLED素子
は、たとえば500μm×500μm×500μm以下
の大きさにする必要がある。
【0004】実装の方法については、LED素子の電極
がpn接合の両側にあるようなものは、通常、一方の電
極が導電性接着剤で固定接続され、もう一方の電極はワ
イヤボンディングされて実装される。また、pn接合の
片側だけに電極が形成されたLED素子は、以下のよう
にして実装される。
がpn接合の両側にあるようなものは、通常、一方の電
極が導電性接着剤で固定接続され、もう一方の電極はワ
イヤボンディングされて実装される。また、pn接合の
片側だけに電極が形成されたLED素子は、以下のよう
にして実装される。
【0005】図14(a)は従来技術のLED表示装置
を構成するLED素子20の構造を示す平面図であり、
図14(b)は図14(a)の切断面線A−Aから見た
断面図である。LED素子20は、基板1上にn型層2
およびp型層3がこの順番に積層され、n型層2および
p型層3の一部がエッチングによって除去されて、n型
層2が露出している。露出したn型層2上には電極5が
形成され、残余のp型層3上には電極6が形成されてお
り、電極5および電極6の表面は、ともに基板1に関し
て同じ側を向いている。
を構成するLED素子20の構造を示す平面図であり、
図14(b)は図14(a)の切断面線A−Aから見た
断面図である。LED素子20は、基板1上にn型層2
およびp型層3がこの順番に積層され、n型層2および
p型層3の一部がエッチングによって除去されて、n型
層2が露出している。露出したn型層2上には電極5が
形成され、残余のp型層3上には電極6が形成されてお
り、電極5および電極6の表面は、ともに基板1に関し
て同じ側を向いている。
【0006】図15は図14のLED素子20のワイヤ
ボンディングによる実装構造を示す断面図である。LE
D素子20の電極5および電極6は、配線基板7に対面
する向きと反対向きに配置され、電極5および電極6は
配線基板7のカソード電極9およびアノード電極10
に、Au線などを用いてそれぞれワイヤボンディングさ
れる。
ボンディングによる実装構造を示す断面図である。LE
D素子20の電極5および電極6は、配線基板7に対面
する向きと反対向きに配置され、電極5および電極6は
配線基板7のカソード電極9およびアノード電極10
に、Au線などを用いてそれぞれワイヤボンディングさ
れる。
【0007】図16はLED素子20のバンプ15およ
びバンプ16による実装構造を示す断面図である。バン
プ15およびバンプ16はAuなどから成り、電極5お
よび電極6上に、個々のLED素子20ごとに蒸着した
り、ボール状に成型したものを接着したりした後に、配
線基板7上のカソード電極9およびアノード電極10に
接続される。接続は、異方導電性樹脂または絶縁性樹脂
などから成る接着剤13を隙間に塗布して加圧固定する
ことによって行われる。LED素子20が配線基板7上
に配置される向きは図15とは逆向きで、バンプ15お
よびバンプ16が配線基板7に対面するように配置され
る。
びバンプ16による実装構造を示す断面図である。バン
プ15およびバンプ16はAuなどから成り、電極5お
よび電極6上に、個々のLED素子20ごとに蒸着した
り、ボール状に成型したものを接着したりした後に、配
線基板7上のカソード電極9およびアノード電極10に
接続される。接続は、異方導電性樹脂または絶縁性樹脂
などから成る接着剤13を隙間に塗布して加圧固定する
ことによって行われる。LED素子20が配線基板7上
に配置される向きは図15とは逆向きで、バンプ15お
よびバンプ16が配線基板7に対面するように配置され
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図15のワイヤボンデ
ィングによる実装構造では、個々のLED素子20ごと
にワイヤボンディングする必要があり、LED表示装置
の製造工程において非能率的である。また、ワイヤボン
ドが2本も必要であり、かなりの場所をとるのでスペー
スの利用効率が悪い。
ィングによる実装構造では、個々のLED素子20ごと
にワイヤボンディングする必要があり、LED表示装置
の製造工程において非能率的である。また、ワイヤボン
ドが2本も必要であり、かなりの場所をとるのでスペー
スの利用効率が悪い。
【0009】図16のバンプ15およびバンプ16を介
在させた実装構造では、ワイヤボンディングが不要で、
スペースの利用効率が良い反面、バンプ15およびバン
プ16を含むLED素子20の厚み、すなわち基板1底
面からバンプ15およびバンプ16表面までの長さを高
精度に制御できない。この長さが制御できないと、確実
な実装が困難である。また、図16のLED素子20を
複数個用いて、LED表示装置を製造しようとしても、
LED素子の厚みを制御できないと、これらを同時に実
装できなくなり、製造工程は非能率的である。
在させた実装構造では、ワイヤボンディングが不要で、
スペースの利用効率が良い反面、バンプ15およびバン
プ16を含むLED素子20の厚み、すなわち基板1底
面からバンプ15およびバンプ16表面までの長さを高
精度に制御できない。この長さが制御できないと、確実
な実装が困難である。また、図16のLED素子20を
複数個用いて、LED表示装置を製造しようとしても、
LED素子の厚みを制御できないと、これらを同時に実
装できなくなり、製造工程は非能率的である。
【0010】本発明の目的は、簡易な構成で、能率的に
製造できるLED表示装置の製造方法を提供することで
ある。
製造できるLED表示装置の製造方法を提供することで
ある。
【0011】
【0012】
【0013】
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、接合したn型
層およびp型層を基板に形成した後、一方の層の一部を
除去して、接合方向の一方側にそれぞれ露出する各層の
チップ接続面を有するLEDチップ部を形成する工程
と、各チップ接続面上に所定形状の上部空間を残し、電
気絶縁部を形成する工程と、前記電気絶縁部を覆いかつ
前記各チップ接続面上の前記上部空間を埋めて導電性樹
脂を塗布する工程と、前記電気絶縁部上の前記導電性樹
脂の一部を除去して前記電気絶縁部の一部を露出させる
とともに接続電極を形成する工程と、基板を分割して、
複数のLED素子を形成する工程と、各LED素子の接
続電極を、配線基板上の配線に対面させて接続する工程
とを含むことを特徴とするLED表示装置の製造方法で
ある。
層およびp型層を基板に形成した後、一方の層の一部を
除去して、接合方向の一方側にそれぞれ露出する各層の
チップ接続面を有するLEDチップ部を形成する工程
と、各チップ接続面上に所定形状の上部空間を残し、電
気絶縁部を形成する工程と、前記電気絶縁部を覆いかつ
前記各チップ接続面上の前記上部空間を埋めて導電性樹
脂を塗布する工程と、前記電気絶縁部上の前記導電性樹
脂の一部を除去して前記電気絶縁部の一部を露出させる
とともに接続電極を形成する工程と、基板を分割して、
複数のLED素子を形成する工程と、各LED素子の接
続電極を、配線基板上の配線に対面させて接続する工程
とを含むことを特徴とするLED表示装置の製造方法で
ある。
【0015】
【0016】また本発明は、前記導電性樹脂の塗布が印
刷の方法によるものであることを特徴とする。本発明に
従えば、印刷の方法により導電性樹脂を塗布するので塗
布厚にばらつきがなくなる素子としての厚みの精度が向
上する。
刷の方法によるものであることを特徴とする。本発明に
従えば、印刷の方法により導電性樹脂を塗布するので塗
布厚にばらつきがなくなる素子としての厚みの精度が向
上する。
【0017】また本発明は、p型層およびn型層の材料
が異なり青、赤および緑の3色発光用のLEDチップ部
を個々に形成した後、各LEDチップ部のチップ接続面
上に、それぞれ素子接続面の高さが等しい接続電極を形
成して、各LED素子を形成して、配線基板上に配置す
ることを特徴とする。本発明に従えば、材料を様々に変
えて発光色の異なる3種類のLED素子を形成して、3
種類ともに素子接続面の高さを等しくする。すなわち、
材料等の違いによってLEDチップ部の厚みが異なるこ
とが多いが、素子接続面の高さが等しい接続電極を形成
するので、これに合わせて素子電極の厚みが調整され
る。よって、3種類のLED素子の素子接続面の高さを
揃えることができ、複数のLED素子を配線基板に一括
して接続でき、能率的にLED表示装置を製造すること
ができる。
が異なり青、赤および緑の3色発光用のLEDチップ部
を個々に形成した後、各LEDチップ部のチップ接続面
上に、それぞれ素子接続面の高さが等しい接続電極を形
成して、各LED素子を形成して、配線基板上に配置す
ることを特徴とする。本発明に従えば、材料を様々に変
えて発光色の異なる3種類のLED素子を形成して、3
種類ともに素子接続面の高さを等しくする。すなわち、
材料等の違いによってLEDチップ部の厚みが異なるこ
とが多いが、素子接続面の高さが等しい接続電極を形成
するので、これに合わせて素子電極の厚みが調整され
る。よって、3種類のLED素子の素子接続面の高さを
揃えることができ、複数のLED素子を配線基板に一括
して接続でき、能率的にLED表示装置を製造すること
ができる。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態であるLED
表示装置の製造方法を、以下のように図1〜図13を用
いて説明する。まず図1〜図8を用いて、LED表示装
置を構成するLED素子の製造方法とその構造を説明す
る。このうち、図1〜図5を用いて青色のLED素子5
0を説明し、図6〜図8を用いて赤色のLED素子90
を説明する。つぎに図9〜図13を用いて、LED素子
を実装してLED表示装置を製造する方法とその構造を
説明する。
表示装置の製造方法を、以下のように図1〜図13を用
いて説明する。まず図1〜図8を用いて、LED表示装
置を構成するLED素子の製造方法とその構造を説明す
る。このうち、図1〜図5を用いて青色のLED素子5
0を説明し、図6〜図8を用いて赤色のLED素子90
を説明する。つぎに図9〜図13を用いて、LED素子
を実装してLED表示装置を製造する方法とその構造を
説明する。
【0019】なお、本実施形態のLED表示装置は、
青、赤および緑の3色発光用のLED素子から成り、カ
ラー表示が可能である。緑色のLED素子については、
青色のLED素子50と同じ構造でもよいし、赤色のL
ED素子90と同じ構造でもよい。各LED素子の大き
さは、たとえば300μm×300μm×300μmほ
どである。
青、赤および緑の3色発光用のLED素子から成り、カ
ラー表示が可能である。緑色のLED素子については、
青色のLED素子50と同じ構造でもよいし、赤色のL
ED素子90と同じ構造でもよい。各LED素子の大き
さは、たとえば300μm×300μm×300μmほ
どである。
【0020】(青色LED素子)図1は、青色LED素
子50の製造に用いられる半導体ウエハ30の層構造を
示す断面図である。半導体ウエハ30は、サファイア基
板31上にGaNバッファ層36、n型GaN層37、
n型GaAlN層38、GaInN発光層34、p型G
aAlN層39およびp型GaN層40がこの順に積層
されたものであり、厚みはW1である。
子50の製造に用いられる半導体ウエハ30の層構造を
示す断面図である。半導体ウエハ30は、サファイア基
板31上にGaNバッファ層36、n型GaN層37、
n型GaAlN層38、GaInN発光層34、p型G
aAlN層39およびp型GaN層40がこの順に積層
されたものであり、厚みはW1である。
【0021】なお、これ以降は説明の簡略化のために、
GaNバッファ層36、n型GaN層37およびn型G
aAlN層38をまとめてn型層32とし、p型GaA
lN層39およびp型GaN層40をまとめてp型層3
3とする。図2〜図13においても同様に、n型層32
およびp型層33だけを描き、発光層34はn型層32
およびp型層33に比べて極めて薄いので、省略する。
GaNバッファ層36、n型GaN層37およびn型G
aAlN層38をまとめてn型層32とし、p型GaA
lN層39およびp型GaN層40をまとめてp型層3
3とする。図2〜図13においても同様に、n型層32
およびp型層33だけを描き、発光層34はn型層32
およびp型層33に比べて極めて薄いので、省略する。
【0022】図2(a)〜図2(e)は、半導体ウエハ
30を用いて青色LED素子50を製造する工程を段階
的に示す断面図である。図2(a)では、半導体ウエハ
30の所定の領域をp型層33から発光層34を越えて
n型層32の内部までエッチングで取り除き、またはダ
イヤモンドブレードなどで切削することによって取り除
き、n型層32のチップ接続面132を露出させ、残っ
たp型層33の表面をチップ接続面133とする。チッ
プ接続面132上に、オーミックな金属薄膜のチップ電
極45を蒸着することによって形成し、チップ接続面1
33上に同じくオーミックな金属薄膜のチップ電極46
を蒸着して形成する。両電極ともに全面にわたる電極と
して、可能な限り電気抵抗の小さい特性を実現すること
が望ましい。
30を用いて青色LED素子50を製造する工程を段階
的に示す断面図である。図2(a)では、半導体ウエハ
30の所定の領域をp型層33から発光層34を越えて
n型層32の内部までエッチングで取り除き、またはダ
イヤモンドブレードなどで切削することによって取り除
き、n型層32のチップ接続面132を露出させ、残っ
たp型層33の表面をチップ接続面133とする。チッ
プ接続面132上に、オーミックな金属薄膜のチップ電
極45を蒸着することによって形成し、チップ接続面1
33上に同じくオーミックな金属薄膜のチップ電極46
を蒸着して形成する。両電極ともに全面にわたる電極と
して、可能な限り電気抵抗の小さい特性を実現すること
が望ましい。
【0023】図2(b)では、図2(a)のエッチング
等によって積層方向の切断面に露出した発光層34、ま
たはn型層32とp型層33との接合面を被覆するよう
に、かつチップ電極45上に所定の形状の上部空間13
4を残し、チップ電極46上に所定の形状の上部空間1
35を残して、電気絶縁部43を形成する。上部空間1
34および上部空間135は、チップ接続面133から
の高さを数10μmとする。電気絶縁部43は、光硬化
型の材料であり、たとえばエポキシアクリレートなどの
モノマに感光剤を適宜混練したペースト状樹脂などから
成る。このような樹脂の所定量をメタルマスクなどを用
いて、一旦、全面に印刷塗布した後に、前述のような形
状の上部空間134および上部空間135が残るよう
に、マスキングして露光して現像するフォトエッチング
によって、電気絶縁部43を形成する。図2(a)およ
び図2(b)の工程によって、半導体ウエハ30の一部
を除去して、チップ電極45とチップ電極46と電気絶
縁部43とを形成したものを半導体ウエハ29とする。
等によって積層方向の切断面に露出した発光層34、ま
たはn型層32とp型層33との接合面を被覆するよう
に、かつチップ電極45上に所定の形状の上部空間13
4を残し、チップ電極46上に所定の形状の上部空間1
35を残して、電気絶縁部43を形成する。上部空間1
34および上部空間135は、チップ接続面133から
の高さを数10μmとする。電気絶縁部43は、光硬化
型の材料であり、たとえばエポキシアクリレートなどの
モノマに感光剤を適宜混練したペースト状樹脂などから
成る。このような樹脂の所定量をメタルマスクなどを用
いて、一旦、全面に印刷塗布した後に、前述のような形
状の上部空間134および上部空間135が残るよう
に、マスキングして露光して現像するフォトエッチング
によって、電気絶縁部43を形成する。図2(a)およ
び図2(b)の工程によって、半導体ウエハ30の一部
を除去して、チップ電極45とチップ電極46と電気絶
縁部43とを形成したものを半導体ウエハ29とする。
【0024】図2(c)では、Agエポキシペーストま
たはAuエポキシペーストなどの導電性樹脂が、半導体
ウエハ29の上部空間134および上部空間135を埋
めて、さらに電気絶縁部43を覆い隠すように印刷塗布
される。塗布された導電性樹脂は加熱硬化されて導電樹
脂層44となるが、このときに、ウエハの反りを誘発し
て後の工程に支障をきたすことがあるので、100℃〜
120℃程度で充分硬化して加熱収縮ができる限り小さ
くなるように、導電性樹脂の組成は厳選される。
たはAuエポキシペーストなどの導電性樹脂が、半導体
ウエハ29の上部空間134および上部空間135を埋
めて、さらに電気絶縁部43を覆い隠すように印刷塗布
される。塗布された導電性樹脂は加熱硬化されて導電樹
脂層44となるが、このときに、ウエハの反りを誘発し
て後の工程に支障をきたすことがあるので、100℃〜
120℃程度で充分硬化して加熱収縮ができる限り小さ
くなるように、導電性樹脂の組成は厳選される。
【0025】図2(d)では、電気絶縁部43上の導電
性樹脂層44の一部をダイヤモンドブレードなどで切削
して、電気絶縁部43の一部を露出させる。すなわちハ
ーフダイスであるが、このハーフダイスを行うことによ
って、チップ電極45上に残った導電性樹脂層44の一
部を素子電極55とし、チップ電極46上に残った導電
性樹脂層44の一部を素子電極56とする。ここで、チ
ップ電極45と素子電極55とを合わせて接続電極15
5とし、チップ電極46と素子電極56とを合わせて接
続電極156とする。また、素子電極55の表面を素子
接続面136とし、素子電極56の表面を素子接続面1
37とする。
性樹脂層44の一部をダイヤモンドブレードなどで切削
して、電気絶縁部43の一部を露出させる。すなわちハ
ーフダイスであるが、このハーフダイスを行うことによ
って、チップ電極45上に残った導電性樹脂層44の一
部を素子電極55とし、チップ電極46上に残った導電
性樹脂層44の一部を素子電極56とする。ここで、チ
ップ電極45と素子電極55とを合わせて接続電極15
5とし、チップ電極46と素子電極56とを合わせて接
続電極156とする。また、素子電極55の表面を素子
接続面136とし、素子電極56の表面を素子接続面1
37とする。
【0026】図2(e)では、半導体ウエハ29に電気
絶縁部43と接続電極155と接続電極156とを形成
したものを、フルダイスによって複数のLED素子50
に分割する。分割は、p型層33を切削することなく、
電気絶縁部43の一部が切削面上に露出するように切削
して行う。チップ電極45は素子電極55だけに、チッ
プ電極46は素子電極56だけに電気的に接続される。
絶縁部43と接続電極155と接続電極156とを形成
したものを、フルダイスによって複数のLED素子50
に分割する。分割は、p型層33を切削することなく、
電気絶縁部43の一部が切削面上に露出するように切削
して行う。チップ電極45は素子電極55だけに、チッ
プ電極46は素子電極56だけに電気的に接続される。
【0027】なお図2(b)では、チップ接続面132
およびチップ接続面133の電気絶縁部43によって被
覆されない部分の面積を可能な限り広くして、この上に
形成される素子電極55および素子電極56の電気的な
特性を確保することが好ましい。しかし一方で、図2
(e)の工程では、素子電極55および素子電極56
が、それぞれチップ電極45およびチップ電極46だけ
に電気的に接続されるので、ハーフダイスは必ず電気絶
縁部43を切削しながら行われる。その結果、電気絶縁
部43は切削された端面に露出した形状になり、チップ
電極45の電気絶縁部43によって被覆されない部分の
面積はある程度狭くなり、切削のために必要な大きさの
電気絶縁部43が確保される。電気絶縁部43の大きさ
は、素子電極の電気的特性と切削の精度とのバランスを
考慮して、決定する必要がある。
およびチップ接続面133の電気絶縁部43によって被
覆されない部分の面積を可能な限り広くして、この上に
形成される素子電極55および素子電極56の電気的な
特性を確保することが好ましい。しかし一方で、図2
(e)の工程では、素子電極55および素子電極56
が、それぞれチップ電極45およびチップ電極46だけ
に電気的に接続されるので、ハーフダイスは必ず電気絶
縁部43を切削しながら行われる。その結果、電気絶縁
部43は切削された端面に露出した形状になり、チップ
電極45の電気絶縁部43によって被覆されない部分の
面積はある程度狭くなり、切削のために必要な大きさの
電気絶縁部43が確保される。電気絶縁部43の大きさ
は、素子電極の電気的特性と切削の精度とのバランスを
考慮して、決定する必要がある。
【0028】また、電気絶縁部43を形成するときの樹
脂の塗布厚については、図2(d)のハーフダイスによ
って、素子電極55と素子電極56とを分離するとき
に、誤ってp型層33を切削しないように、ダイヤモン
ドブレードの位置の精度を考慮する必要がある。たとえ
ば、前述したように、p型層33表面より少なくとも数
10μm以上高くなるような塗布厚が必要である。
脂の塗布厚については、図2(d)のハーフダイスによ
って、素子電極55と素子電極56とを分離するとき
に、誤ってp型層33を切削しないように、ダイヤモン
ドブレードの位置の精度を考慮する必要がある。たとえ
ば、前述したように、p型層33表面より少なくとも数
10μm以上高くなるような塗布厚が必要である。
【0029】また、図2(c)に示されるように、基板
31の底面から素子接続面136までの長さを、素子接
続面136の高さW2とする。同様に素子接続面137
の高さもW2である。導電性樹脂の塗布厚は、LED素
子50の厚みがW2に一致するように設定しなければな
らない。また、高さW2のばらつきは、±10μm以内
に納まることが望ましい。半導体ウエハ30の厚みW1
は、通常、場所によって±30μm程度のばらつきがあ
るが、後述する図3のスクリーン印刷法によって導電性
樹脂を塗布すれば、このばらつきは吸収されて、素子の
厚みの精度は±10μmに抑えられる。
31の底面から素子接続面136までの長さを、素子接
続面136の高さW2とする。同様に素子接続面137
の高さもW2である。導電性樹脂の塗布厚は、LED素
子50の厚みがW2に一致するように設定しなければな
らない。また、高さW2のばらつきは、±10μm以内
に納まることが望ましい。半導体ウエハ30の厚みW1
は、通常、場所によって±30μm程度のばらつきがあ
るが、後述する図3のスクリーン印刷法によって導電性
樹脂を塗布すれば、このばらつきは吸収されて、素子の
厚みの精度は±10μmに抑えられる。
【0030】図3(a)〜図3(d)はスクリーン印刷
法によって導電性樹脂を塗布する工程を示す断面図であ
り、これによって図2(c)の導電性樹脂層44を形成
する。図3(a)では、図2(b)の半導体ウエハ29
が吸着ステージ66に固定される。図3(b)では、適
宜な厚さのステンレス製などのメタルマスク67を、半
導体ウエハ29上に形成されたチップ電極46の表面、
または電気絶縁部43に接触させて被覆する。メタルマ
スク67上の片隅に所定量の電極材料としてAgエポキ
シペーストなどの導電性樹脂塊44aを装填する。
法によって導電性樹脂を塗布する工程を示す断面図であ
り、これによって図2(c)の導電性樹脂層44を形成
する。図3(a)では、図2(b)の半導体ウエハ29
が吸着ステージ66に固定される。図3(b)では、適
宜な厚さのステンレス製などのメタルマスク67を、半
導体ウエハ29上に形成されたチップ電極46の表面、
または電気絶縁部43に接触させて被覆する。メタルマ
スク67上の片隅に所定量の電極材料としてAgエポキ
シペーストなどの導電性樹脂塊44aを装填する。
【0031】図3(c)では、吸着ステージ66上の半
導体ウエハ29が固定される表面から常に高さW2だけ
離れて、平行に移動できるステンレスブレードなどから
成るスキージ68を用いて、導電性樹脂を半導体ウエハ
29上に印刷塗布して導電性樹脂層44を形成する。な
お、吸着ステージ66とスキージ68との距離、すなわ
ちスキージの高さW2のばらつきは、前述したように±
10μm未満の精度で実現される。図3(d)では、メ
タルマスク67を半導体ウエハ29から分離して印刷を
終了する。
導体ウエハ29が固定される表面から常に高さW2だけ
離れて、平行に移動できるステンレスブレードなどから
成るスキージ68を用いて、導電性樹脂を半導体ウエハ
29上に印刷塗布して導電性樹脂層44を形成する。な
お、吸着ステージ66とスキージ68との距離、すなわ
ちスキージの高さW2のばらつきは、前述したように±
10μm未満の精度で実現される。図3(d)では、メ
タルマスク67を半導体ウエハ29から分離して印刷を
終了する。
【0032】このように図2および図3に示す製造方法
によって形成されたLED素子50は、次の図4および
図5に示すような構造となる。
によって形成されたLED素子50は、次の図4および
図5に示すような構造となる。
【0033】図4はLED素子50の構成を示す斜視図
であり、図5(a)は断面図であり、図5(b)は素子
電極側から見た平面図であり、図5(c)は基板31側
から見た底面図である。なお図5(a)の断面図は、図
5(b)の切断面線B−Bから見た図である。
であり、図5(a)は断面図であり、図5(b)は素子
電極側から見た平面図であり、図5(c)は基板31側
から見た底面図である。なお図5(a)の断面図は、図
5(b)の切断面線B−Bから見た図である。
【0034】図4、図5(a)および図5(b)に示す
ように、素子電極55および素子電極56は電気絶縁部
43によって電気的に絶縁されている。これら2電極は
ともに基板31の一方側に形成されていて、素子接続面
136または素子接続面137の高さは、ともにW2で
ある。基板31の他方側の底面には、図5(c)に示す
ように電極は形成されない。
ように、素子電極55および素子電極56は電気絶縁部
43によって電気的に絶縁されている。これら2電極は
ともに基板31の一方側に形成されていて、素子接続面
136または素子接続面137の高さは、ともにW2で
ある。基板31の他方側の底面には、図5(c)に示す
ように電極は形成されない。
【0035】上述した図2および図3の製造方法によれ
ば、素子接続面136および素子接続面137が同じ高
さW2であるような、接続電極155および接続電極1
56を有するLED素子50を形成することができる。
また、複数のLED素子50は、半導体ウエハ29にま
とめて形成された後に分割することによって得られるの
で、すべてのLED素子50の素子接続面の高さを等し
くW2とすることができる。
ば、素子接続面136および素子接続面137が同じ高
さW2であるような、接続電極155および接続電極1
56を有するLED素子50を形成することができる。
また、複数のLED素子50は、半導体ウエハ29にま
とめて形成された後に分割することによって得られるの
で、すべてのLED素子50の素子接続面の高さを等し
くW2とすることができる。
【0036】(赤色LED素子)図6は、赤色LED素
子90に用いられる半導体ウエハ230の層構造を示す
断面図である。半導体ウエハ230は、n型層32、活
性層34およびp型層33がこの順に接合して構成さ
れ、全体の厚みはW3である。図1の半導体ウエハ30
との違いは、各層の構成材料が異なって厚みが異なり、
絶縁性のサファイア基板31が存在しない点である。
子90に用いられる半導体ウエハ230の層構造を示す
断面図である。半導体ウエハ230は、n型層32、活
性層34およびp型層33がこの順に接合して構成さ
れ、全体の厚みはW3である。図1の半導体ウエハ30
との違いは、各層の構成材料が異なって厚みが異なり、
絶縁性のサファイア基板31が存在しない点である。
【0037】図7(a)〜図7(e)は、半導体ウエハ
230を用いて赤色LED素子90を製造する方法を示
す断面図である。図7(a)および図7(b)では、図
2(a)および図2(b)と同様に半導体ウエハ230
の一部をエッチング等で取り除き、チップ電極45およ
びチップ電極46を形成し、電気絶縁部43を形成し
て、これを半導体ウエハ229とする。図7(c)で
は、図2(c)および図3と同様にスキージ68の高さ
をW2に設定して、導電性樹脂を塗布して導電性樹脂層
44を形成する。図7(d)および図7(e)では、図
2(d)および図2(e)と同様にして、導電性樹脂層
44の一部を除去して、素子電極55および素子電極5
6を形成する。半導体ウエハ229上に電気絶縁部43
と接続電極155と接続電極156とを形成したもの
を、複数のLED素子90に分割する。
230を用いて赤色LED素子90を製造する方法を示
す断面図である。図7(a)および図7(b)では、図
2(a)および図2(b)と同様に半導体ウエハ230
の一部をエッチング等で取り除き、チップ電極45およ
びチップ電極46を形成し、電気絶縁部43を形成し
て、これを半導体ウエハ229とする。図7(c)で
は、図2(c)および図3と同様にスキージ68の高さ
をW2に設定して、導電性樹脂を塗布して導電性樹脂層
44を形成する。図7(d)および図7(e)では、図
2(d)および図2(e)と同様にして、導電性樹脂層
44の一部を除去して、素子電極55および素子電極5
6を形成する。半導体ウエハ229上に電気絶縁部43
と接続電極155と接続電極156とを形成したもの
を、複数のLED素子90に分割する。
【0038】図8は、赤色LED素子90の構造を示し
ており、図8(a)は断面図であり、図8(b)は素子
電極側から見た平面図であり、図8(c)はn型層32
側から見た底面図である。図8(a)は図8(b)の切
断面線C−Cから見た図である。これらはサファイア基
板1を除いて図5と同じ構造になっている。
ており、図8(a)は断面図であり、図8(b)は素子
電極側から見た平面図であり、図8(c)はn型層32
側から見た底面図である。図8(a)は図8(b)の切
断面線C−Cから見た図である。これらはサファイア基
板1を除いて図5と同じ構造になっている。
【0039】上述した図7の製造方法によれば、図8に
示すように、半導体ウエハ230の厚みがW3となり、
図1の半導体ウエハ30の厚みW1とは異なることが多
いが、図2の青色LED素子50と同様に、素子接続面
136および素子接続面137のそれぞれの高さをW2
とすることができる。
示すように、半導体ウエハ230の厚みがW3となり、
図1の半導体ウエハ30の厚みW1とは異なることが多
いが、図2の青色LED素子50と同様に、素子接続面
136および素子接続面137のそれぞれの高さをW2
とすることができる。
【0040】(緑色LED素子)緑色LED素子につい
ては図示しないが、前述したとおり、青色LED素子5
0または赤色LED素子90と同じ構造を有する。各層
の材料等が異なってLEDチップ部の厚みが異なること
が多いが、素子電極を形成する工程において、スキージ
68の高さをW2に設定して、素子接続面の高さをW2
に揃える。こうして、緑色LED素子の素子接続面の高
さは、青色LED素子50および赤色LED素子90の
素子接続面の高さW2と同一とすることができる。
ては図示しないが、前述したとおり、青色LED素子5
0または赤色LED素子90と同じ構造を有する。各層
の材料等が異なってLEDチップ部の厚みが異なること
が多いが、素子電極を形成する工程において、スキージ
68の高さをW2に設定して、素子接続面の高さをW2
に揃える。こうして、緑色LED素子の素子接続面の高
さは、青色LED素子50および赤色LED素子90の
素子接続面の高さW2と同一とすることができる。
【0041】(LED素子の実装)このように製造され
た青色LED素子50、赤色LED素子90および緑色
LED素子を以下に示すように実装してカラーLED表
示装置とする。
た青色LED素子50、赤色LED素子90および緑色
LED素子を以下に示すように実装してカラーLED表
示装置とする。
【0042】図9は青色LED素子50および赤色LE
D素子90を実装した状態を示す部分断面図である。本
実施形態のLED表示装置となる部分は、図9のうちの
配線基板77と、配線基板77の上に形成されている配
線79〜配線82と、配線79および配線80に接続さ
れるLED素子50と、配線81および配線82に接続
されるLED素子90と、接着剤75とで構成される。
各LED素子の配線基板77への接続は、フェイスダウ
ン型のボンディングであり、異方導電性樹脂などの接着
剤75によって、LED素子50およびLED素子90
が配線基板77に接着されて行われる。この後、下型7
2上にLED素子50およびLED素子90を搭載した
配線基板77を載せて、上型73を当接させて加圧およ
び加熱して固定する。
D素子90を実装した状態を示す部分断面図である。本
実施形態のLED表示装置となる部分は、図9のうちの
配線基板77と、配線基板77の上に形成されている配
線79〜配線82と、配線79および配線80に接続さ
れるLED素子50と、配線81および配線82に接続
されるLED素子90と、接着剤75とで構成される。
各LED素子の配線基板77への接続は、フェイスダウ
ン型のボンディングであり、異方導電性樹脂などの接着
剤75によって、LED素子50およびLED素子90
が配線基板77に接着されて行われる。この後、下型7
2上にLED素子50およびLED素子90を搭載した
配線基板77を載せて、上型73を当接させて加圧およ
び加熱して固定する。
【0043】下型72は、Alなどで加工して平滑な載
置面を有し、加熱用のヒータの役割を有する。上型73
は、同様に平滑な押圧面を有し、LED素子50および
LED素子90に当接する押圧面には緩衝材74が設け
られている。緩衝材74はシリコンラバーなどの耐熱性
の材質から成り、厚さは数10μm〜数100μm程度
である。この緩衝材74は、個々のLED素子の厚みの
ばらつきが±10μm程度であるなら、ばらつきを吸収
して平坦な表示面を形成できるものである。
置面を有し、加熱用のヒータの役割を有する。上型73
は、同様に平滑な押圧面を有し、LED素子50および
LED素子90に当接する押圧面には緩衝材74が設け
られている。緩衝材74はシリコンラバーなどの耐熱性
の材質から成り、厚さは数10μm〜数100μm程度
である。この緩衝材74は、個々のLED素子の厚みの
ばらつきが±10μm程度であるなら、ばらつきを吸収
して平坦な表示面を形成できるものである。
【0044】このように青、赤色のLED素子は同じ厚
みW2を有しており、互いに平行で平坦な2枚の型に挟
むことで、同時に圧着できる。緑色のLED素子につい
ても、図示していないが、同様に厚みW2が同じなので
同時に圧着できる。また、各色のLED素子が複数であ
っても同様で、すべてのLED素子が同時に圧着でき
る。
みW2を有しており、互いに平行で平坦な2枚の型に挟
むことで、同時に圧着できる。緑色のLED素子につい
ても、図示していないが、同様に厚みW2が同じなので
同時に圧着できる。また、各色のLED素子が複数であ
っても同様で、すべてのLED素子が同時に圧着でき
る。
【0045】つぎに、配線基板77上での各色のLED
素子の配置関係を、以下の図10〜図13を用いて説明
する。
素子の配置関係を、以下の図10〜図13を用いて説明
する。
【0046】図10は各LED素子の配置関係を示すL
ED表示装置の部分平面図である。1個の青色LED素
子50、1個の赤色LED素子90および1個の緑色L
ED素子100は、1個の表示画素95を構成する。こ
れら3種のLED素子はL字状に配置されて、それぞれ
の接続電極の一方は同じ配線94に共通して接続され、
他方は別々の配線91、配線92および配線93に接続
される。このような複数の表示画素95が、配線基板7
7上にマトリクス状に配列される。なお、図9の配線8
0および配線82はともに配線94に相当し、図9の配
線79および配線81はそれぞれ配線91〜配線93の
いずれかに相当するものである。
ED表示装置の部分平面図である。1個の青色LED素
子50、1個の赤色LED素子90および1個の緑色L
ED素子100は、1個の表示画素95を構成する。こ
れら3種のLED素子はL字状に配置されて、それぞれ
の接続電極の一方は同じ配線94に共通して接続され、
他方は別々の配線91、配線92および配線93に接続
される。このような複数の表示画素95が、配線基板7
7上にマトリクス状に配列される。なお、図9の配線8
0および配線82はともに配線94に相当し、図9の配
線79および配線81はそれぞれ配線91〜配線93の
いずれかに相当するものである。
【0047】図11は1個の表示画素95の電気的な構
成を示す回路図である。LED素子50、LED素子9
0およびLED素子100のそれぞれのカソード電極は
共通の配線94に接続され、アノード電極は別々の配線
91、配線92および配線93に接続される。このよう
に、1個の表示画素95内において、各LED素子の一
方の接続電極に接続される配線を共有させることで、表
示装置を簡易な構成としている。
成を示す回路図である。LED素子50、LED素子9
0およびLED素子100のそれぞれのカソード電極は
共通の配線94に接続され、アノード電極は別々の配線
91、配線92および配線93に接続される。このよう
に、1個の表示画素95内において、各LED素子の一
方の接続電極に接続される配線を共有させることで、表
示装置を簡易な構成としている。
【0048】図12は、LED表示装置200の表示面
を示す平面図である。図12中の十文字の位置Pに1個
の表示画素95が配置され、全体ではマトリクス状に3
2×16の表示画素が配列される。
を示す平面図である。図12中の十文字の位置Pに1個
の表示画素95が配置され、全体ではマトリクス状に3
2×16の表示画素が配列される。
【0049】図13は、LED表示装置200の電気的
構成を示す回路図である。X方向およびY方向は、配線
基板77上の互いに直交する2方向である。X方向に3
2個の表示画素、Y方向に16個の表示画素がマトリク
ス状に配列される。X方向に並ぶ1行の表示画素95内
のLED素子のカソード電極は、すべてX方向に延びる
1本の配線94に接続され、Y方向に並ぶ1列の表示画
素95内のLED素子のアノード電極はすべてY方向に
延びる3本の配線91、配線92および配線93にそれ
ぞれ接続される。
構成を示す回路図である。X方向およびY方向は、配線
基板77上の互いに直交する2方向である。X方向に3
2個の表示画素、Y方向に16個の表示画素がマトリク
ス状に配列される。X方向に並ぶ1行の表示画素95内
のLED素子のカソード電極は、すべてX方向に延びる
1本の配線94に接続され、Y方向に並ぶ1列の表示画
素95内のLED素子のアノード電極はすべてY方向に
延びる3本の配線91、配線92および配線93にそれ
ぞれ接続される。
【0050】本実施形態では、青、赤および緑の3色の
LED素子から成り、カラー表示を行うLED表示装置
を示したが、青、赤および緑色の組み合わせに限るもの
ではない。また、2色のLED素子から成るLED表示
装置でもよく、単色のものでもよい。2色または3色の
LED表示装置では、単色のものに比べて、各LED素
子の材料等が互いに異なり、各層の厚みも異なることが
多いが、素子接続面の高さはすべて等しくなる。
LED素子から成り、カラー表示を行うLED表示装置
を示したが、青、赤および緑色の組み合わせに限るもの
ではない。また、2色のLED素子から成るLED表示
装置でもよく、単色のものでもよい。2色または3色の
LED表示装置では、単色のものに比べて、各LED素
子の材料等が互いに異なり、各層の厚みも異なることが
多いが、素子接続面の高さはすべて等しくなる。
【0051】また、図1の半導体ウエハ30では7層構
造とし、図6の半導体ウエハ230では省略して3層構
造としたが、これに限らず、n型層32およびp型層3
3が含まれて発光する構造であればよい。
造とし、図6の半導体ウエハ230では省略して3層構
造としたが、これに限らず、n型層32およびp型層3
3が含まれて発光する構造であればよい。
【0052】さらに、上述した青色以外の構造のLED
素子の材料およびその発光色としては、たとえば下記に
挙げるようなものがある。LED素子90に示したn型
層32/p型層33の材料を、GaP/GaPとすると
赤色、黄緑色または緑色を発光するLED素子となる。
GaP/GaAsPとすると赤色、橙色または黄色を発
光するLED素子となる。また、GaAlAs/GaA
lAsとすると赤色を発光するLED素子となる。ただ
し、GaAlAs/GaAlAsとした場合に限り、L
ED素子のp型層33/n型層32の順とする。
素子の材料およびその発光色としては、たとえば下記に
挙げるようなものがある。LED素子90に示したn型
層32/p型層33の材料を、GaP/GaPとすると
赤色、黄緑色または緑色を発光するLED素子となる。
GaP/GaAsPとすると赤色、橙色または黄色を発
光するLED素子となる。また、GaAlAs/GaA
lAsとすると赤色を発光するLED素子となる。ただ
し、GaAlAs/GaAlAsとした場合に限り、L
ED素子のp型層33/n型層32の順とする。
【0053】しかし、これに限るものではなく、絶縁基
板上にp型層およびn型層が積層されたもの、n型基板
上にp型層を形成したもの、またはp型基板上にn型層
を形成したものなどであればよい。
板上にp型層およびn型層が積層されたもの、n型基板
上にp型層を形成したもの、またはp型基板上にn型層
を形成したものなどであればよい。
【0054】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、複数のL
ED素子の素子接続面を精度よく一致させ、一括して同
時に全LED素子を実装でき、簡易な構成で効率よく光
を取り出すことができ、装置の信頼性を向上することが
できる。
ED素子の素子接続面を精度よく一致させ、一括して同
時に全LED素子を実装でき、簡易な構成で効率よく光
を取り出すことができ、装置の信頼性を向上することが
できる。
【0055】また本発明によれば、材料を様々に変えて
発光色の異なる3種類のLED素子が形成され、LED
チップ部の厚みが異なっても、接続電極の厚みを調整す
ることで、3種類のLED素子の素子接続面の高さを揃
えることができる。
発光色の異なる3種類のLED素子が形成され、LED
チップ部の厚みが異なっても、接続電極の厚みを調整す
ることで、3種類のLED素子の素子接続面の高さを揃
えることができる。
【図1】青色LED素子50に用いられる半導体ウエハ
30の層構造を示す断面図である。
30の層構造を示す断面図である。
【図2】半導体ウエハ30を用いてLED素子50を製
造する工程を示す断面図である。
造する工程を示す断面図である。
【図3】スクリーン印刷法で導電性樹脂を塗布する工程
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図4】LED素子50の斜視図である。
【図5】図5(a)はLED素子50の構成を示す断面
図であり、図5(b)は素子電極側から見た平面図であ
り、図5(c)は基板31側から見た底面図である。
図であり、図5(b)は素子電極側から見た平面図であ
り、図5(c)は基板31側から見た底面図である。
【図6】赤色LED素子90に用いられる半導体ウエハ
230の層構造を示す断面図である。
230の層構造を示す断面図である。
【図7】半導体ウエハ230を用いてLED素子90を
製造する方法を示す断面図である。
製造する方法を示す断面図である。
【図8】図8は赤色LED素子90の構造を示してお
り、図8(a)は断面図であり、図8(b)は素子電極
側から見た平面図であり、図8(c)はn型層32側か
ら見た底面図である。
り、図8(a)は断面図であり、図8(b)は素子電極
側から見た平面図であり、図8(c)はn型層32側か
ら見た底面図である。
【図9】青色LED素子50および赤色LED素子90
を実装した状態を示す断面図である。
を実装した状態を示す断面図である。
【図10】配線基板77上でのLED素子の配置関係を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図11】1個の表示画素95の電気的構成を示す回路
図である。
図である。
【図12】LED表示装置200の表示面を示す平面図
である。
である。
【図13】LED表示装置200の表示画素95および
配線の接続関係を示す図である。
配線の接続関係を示す図である。
【図14】図14(a)は従来技術のLED素子20の
構造を示す平面図であり、図10(b)は断面図であ
る。
構造を示す平面図であり、図10(b)は断面図であ
る。
【図15】LED素子20のワイヤボンディングによる
実装構造を示す断面図である。
実装構造を示す断面図である。
【図16】LED素子20のバンプ15およびバンプ1
6による実装構造を示す断面図である。
6による実装構造を示す断面図である。
31 サファイア基板 32 n型層 33 p型層 43 電気絶縁部 44 導電性樹脂層 50,90,100 LED素子 68 スキージ 77 配線基板 79〜81,92〜94 配線 132,133 チップ接続面 134,135 上部空間 136,137 素子接続面 155,156 接続電極 W2 素子接続面の高さ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 33/00
Claims (3)
- 【請求項1】 接合したn型層およびp型層を基板に形
成した後、一方の層の一部を除去して、接合方向の一方
側にそれぞれ露出する各層のチップ接続面を有するLE
Dチップ部を形成する工程と、 各チップ接続面上に所定形状の上部空間を残し、電気絶
縁部を形成する工程と、 前記電気絶縁部を覆いかつ前記各チップ接続面上の前記
上部空間を埋めて導電性樹脂を塗布する工程と、 前記電気絶縁部上の前記導電性樹脂の一部を除去して前
記電気絶縁部の一部を露出させるとともに接続電極を形
成する工程と、 基板を分割して、複数のLED素子を形成する工程と、 各LED素子の接続電極を、配線基板上の配線に対面さ
せて接続する工程とを含むことを特徴とするLED表示
装置の製造方法。 - 【請求項2】 前記導電性樹脂の塗布が印刷の方法によ
るものであることを特徴とする請求項1記載のLED表
示装置の製造方法。 - 【請求項3】 p型層およびn型層の材料が異なり青、
赤および緑の3色発光用のLEDチップ部を個々に形成
した後、各LEDチップ部のチップ接続面上に、それぞ
れ素子接続面の高さが等しい接続電極を形成して、各L
ED素子を形成して、配線基板上に配置することを特徴
とする請求項1記載のLED表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP31668896A JP3342322B2 (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | Led素子表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31668896A JP3342322B2 (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | Led素子表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10163536A JPH10163536A (ja) | 1998-06-19 |
JP3342322B2 true JP3342322B2 (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=18079806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31668896A Expired - Fee Related JP3342322B2 (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | Led素子表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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JP4461616B2 (ja) | 2000-12-14 | 2010-05-12 | ソニー株式会社 | 素子の転写方法、素子保持基板の形成方法、及び素子保持基板 |
JP4649745B2 (ja) | 2001-02-01 | 2011-03-16 | ソニー株式会社 | 発光素子の転写方法 |
WO2002084631A1 (fr) | 2001-04-11 | 2002-10-24 | Sony Corporation | Procede de transfert d'element, procede de disposition d'element mettant en oeuvre ce procede et procede de production d'un appareil d'affichage d'image |
JP2003005674A (ja) * | 2001-06-18 | 2003-01-08 | Sony Corp | 表示素子及び画像表示装置 |
JP2003045901A (ja) | 2001-08-01 | 2003-02-14 | Sony Corp | 素子の転写方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法 |
JP2003077940A (ja) | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Sony Corp | 素子の転写方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法 |
JP4120223B2 (ja) * | 2002-01-16 | 2008-07-16 | ソニー株式会社 | 電子部品の製造方法、これを用いた画像表示装置 |
CN1305187C (zh) * | 2002-01-21 | 2007-03-14 | 松下电器产业株式会社 | 氮化物半导体激光元件及其制造方法 |
KR100964399B1 (ko) * | 2003-03-08 | 2010-06-17 | 삼성전자주식회사 | 반도체 레이저 다이오드 및 이를 채용한 반도체 레이저다이오드 조립체 |
NL1029688C2 (nl) * | 2005-08-05 | 2007-02-06 | Lemnis Lighting Ip Gmbh | Werkwijze voor het vervaardigen van een elektrische schakeling voorzien van een veelvoud van LED's. |
EP1976354A4 (en) * | 2006-01-20 | 2012-08-01 | Fujitsu Ltd | STRUCTURE AND METHOD FOR MOUNTING COMPONENTS INTO PELLETS AND ELECTRONIC DEVICE |
EP1845514B1 (en) * | 2006-04-14 | 2013-10-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for driving the same |
JP4811669B2 (ja) * | 2007-06-22 | 2011-11-09 | 日本精機株式会社 | プリント配線板 |
US7985979B2 (en) * | 2007-12-19 | 2011-07-26 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Semiconductor light emitting device with light extraction structures |
JP4724222B2 (ja) | 2008-12-12 | 2011-07-13 | 株式会社東芝 | 発光装置の製造方法 |
JP2011071272A (ja) | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Toshiba Corp | 半導体発光装置及びその製造方法 |
JP5378130B2 (ja) | 2009-09-25 | 2013-12-25 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置 |
JP5349260B2 (ja) | 2009-11-19 | 2013-11-20 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置及びその製造方法 |
JP5414579B2 (ja) | 2009-11-19 | 2014-02-12 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置 |
JP5537446B2 (ja) | 2011-01-14 | 2014-07-02 | 株式会社東芝 | 発光装置、発光モジュール、発光装置の製造方法 |
JP5603793B2 (ja) | 2011-02-09 | 2014-10-08 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置 |
WO2016047133A1 (ja) * | 2014-09-26 | 2016-03-31 | 東芝ホクト電子株式会社 | 発光モジュール |
JP6170232B1 (ja) * | 2016-08-11 | 2017-07-26 | ルーメンス カンパニー リミテッド | Ledチップグループのアレイを含むディスプレイモジュール及びその製造方法 |
WO2018030695A1 (ko) | 2016-08-11 | 2018-02-15 | 주식회사 루멘스 | 엘이디 모듈 및 그 제조방법 |
-
1996
- 1996-11-27 JP JP31668896A patent/JP3342322B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH10163536A (ja) | 1998-06-19 |
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