JP3208000B2 - 基板保持システム - Google Patents
基板保持システムInfo
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- JP3208000B2 JP3208000B2 JP5649294A JP5649294A JP3208000B2 JP 3208000 B2 JP3208000 B2 JP 3208000B2 JP 5649294 A JP5649294 A JP 5649294A JP 5649294 A JP5649294 A JP 5649294A JP 3208000 B2 JP3208000 B2 JP 3208000B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子製造過程の
際に用いられる露光装置に関し、特に、マスクやウェハ
等を真空吸着により吸着保持する真空保持システムに関
する。
際に用いられる露光装置に関し、特に、マスクやウェハ
等を真空吸着により吸着保持する真空保持システムに関
する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、マスクやウェハ等を真空吸着に
より吸着保持する真空保持システムとしては、特開平２
−８１４５７号公報に示されているようなＸ線露光装置
の真空保持システムがある。
より吸着保持する真空保持システムとしては、特開平２
−８１４５７号公報に示されているようなＸ線露光装置
の真空保持システムがある。
【０００３】図３は、上記公報に開示されている、Ｘ線
露光装置の保持システムの概略構成図である。
露光装置の保持システムの概略構成図である。
【０００４】図３に示すＸ線露光装置の保持システム
は、被保持物を確実に吸着保持し停電時にも被保持物を
吸着し続けるようにしたものであって、以下のような構
成のものとなっている。
は、被保持物を確実に吸着保持し停電時にも被保持物を
吸着し続けるようにしたものであって、以下のような構
成のものとなっている。
【０００５】ステージ収納室１０１は、鏡筒１０８を介
して図示しない光源と接続されている。ステージ収納室
１０１と鏡筒１０８との接続部にはベリリウム（Ｂｅ）
製の遮断窓１０７が設けられ、上記光源から発したＸ線
はこの遮断窓１０７介してステージ収納室１０１内に導
入される。
して図示しない光源と接続されている。ステージ収納室
１０１と鏡筒１０８との接続部にはベリリウム（Ｂｅ）
製の遮断窓１０７が設けられ、上記光源から発したＸ線
はこの遮断窓１０７介してステージ収納室１０１内に導
入される。
【０００６】上記ステージ収納室１０１には、真空ポン
プ１１９およびヘリウム（Ｈｅ）源がそれぞれバルブ１
１８およびバルブ１２０を介して接続されており、これ
らによってステージ収納室１０１の室内の大気がヘリウ
ム（Ｈｅ）に置換される。
プ１１９およびヘリウム（Ｈｅ）源がそれぞれバルブ１
１８およびバルブ１２０を介して接続されており、これ
らによってステージ収納室１０１の室内の大気がヘリウ
ム（Ｈｅ）に置換される。
【０００７】Ｘ線の被照射体であるマスク１０６および
ウェハ１０５は、それぞれマスクチャック１０３および
ウェハチャック１０４に保持されている。ウェハチャッ
ク１０４は、ウェハステージ１０９に固定されている。
これらの部分は、全てステージ収納室１０１内に密封収
納されている。
ウェハ１０５は、それぞれマスクチャック１０３および
ウェハチャック１０４に保持されている。ウェハチャッ
ク１０４は、ウェハステージ１０９に固定されている。
これらの部分は、全てステージ収納室１０１内に密封収
納されている。
【０００８】さらに上記ステージ収納室１０１には、ウ
ェハ１０５を図示しないロードロックチャンバーとの間
で搬入搬出するためのウェハハンド１１０が設けられて
いる。 マスク１０６はマスクチャック１０３に機械的
に保持される。ウェハチャック１０４およびウェハハン
ド１１０におけるウェハの吸着は全て真空吸着力による
ものであり、その真空吸着は、フィールドスルー用の配
管１１１，１１２を介して外部に設置された油回転ポン
プ１１５によって行なわれる。
ェハ１０５を図示しないロードロックチャンバーとの間
で搬入搬出するためのウェハハンド１１０が設けられて
いる。 マスク１０６はマスクチャック１０３に機械的
に保持される。ウェハチャック１０４およびウェハハン
ド１１０におけるウェハの吸着は全て真空吸着力による
ものであり、その真空吸着は、フィールドスルー用の配
管１１１，１１２を介して外部に設置された油回転ポン
プ１１５によって行なわれる。
【０００９】上記配管１１１，１１２上にはバルブ１１
３，１１４およびアキュムレータチャンバー１３５が設
けられている。また、油回転ポンプ１１５には、通常用
電源１１６および停電時用電源１１７が電源切替器１３
７を介して接続され、停電時には電源切替器１３７によ
って、油回転ポンプ１１５へ電力を供給する電源が通常
用電源１１６から停電時用電源１１７に切り替わる。
３，１１４およびアキュムレータチャンバー１３５が設
けられている。また、油回転ポンプ１１５には、通常用
電源１１６および停電時用電源１１７が電源切替器１３
７を介して接続され、停電時には電源切替器１３７によ
って、油回転ポンプ１１５へ電力を供給する電源が通常
用電源１１６から停電時用電源１１７に切り替わる。
【００１０】また、上記電源切替器１３７には電圧検知
回路１３６が設けられており、上述の停電をこの電圧検
知回路１３６によって検知され、上述の切り替え動作が
行なわれる。
回路１３６が設けられており、上述の停電をこの電圧検
知回路１３６によって検知され、上述の切り替え動作が
行なわれる。
【００１１】次に、上記の如く構成されたＸ線露光装置
の保持システムの動作について説明する。
の保持システムの動作について説明する。
【００１２】最初、ステージ収納室１０１は大気の状態
であり、この状態でマスク１０６がマスクチャック１０
３に機械的に固定される。次に、バルブ１１８を開き真
空ポンプ１１９を用いてステージ収納室１０１内の圧力
を所定の圧力（例えば１０-3Torr）まで下げる。その
後、バルブ１１８を閉じてバルブ１２０を開き、ステー
ジ収納室１０１内の圧力が所定の圧力（例えば１００To
rr）になるまでヘリウムを供給する。
であり、この状態でマスク１０６がマスクチャック１０
３に機械的に固定される。次に、バルブ１１８を開き真
空ポンプ１１９を用いてステージ収納室１０１内の圧力
を所定の圧力（例えば１０-3Torr）まで下げる。その
後、バルブ１１８を閉じてバルブ１２０を開き、ステー
ジ収納室１０１内の圧力が所定の圧力（例えば１００To
rr）になるまでヘリウムを供給する。
【００１３】ヘリウムが供給されてステージ収納室１０
１内の圧力が所定の圧力になると、ウェハハンド１１０
によってウェハ１０５がウェハチャック１０４に搬入さ
れ、真空吸着によりウェハ１０５がウェハチャック１０
４に固定される。このときのウェハチャック１０４およ
びウェハハンド１１０における真空吸着は、バルブ１１
３，１１４を介して油回転ポンプ１１５によって行なわ
れる。なお、ウェハハンド１１０によるウェハ１０５の
保持は鉛直に行なわれる。
１内の圧力が所定の圧力になると、ウェハハンド１１０
によってウェハ１０５がウェハチャック１０４に搬入さ
れ、真空吸着によりウェハ１０５がウェハチャック１０
４に固定される。このときのウェハチャック１０４およ
びウェハハンド１１０における真空吸着は、バルブ１１
３，１１４を介して油回転ポンプ１１５によって行なわ
れる。なお、ウェハハンド１１０によるウェハ１０５の
保持は鉛直に行なわれる。
【００１４】上記油回転ポンプ１１５の到達圧力は１０
-2Torr以下であり、例えばステージ収納室１０１が１０
０Torrであった場合には、０．１３Ｋｇ／ｃｍ2の吸着
力が得られることとなり、結果、確実にウェハ１０５が
吸着保持される。
-2Torr以下であり、例えばステージ収納室１０１が１０
０Torrであった場合には、０．１３Ｋｇ／ｃｍ2の吸着
力が得られることとなり、結果、確実にウェハ１０５が
吸着保持される。
【００１５】上述のような保持システムを使用している
ときに停電が生じた場合には、その停電の発生が電圧検
知回路１３６によって検知される。停電の発生が検知さ
れると、切替器１３７は、油回転ポンプ１１５への電力
供給を通常時用電源１１６から停電時用電源１１７へ切
り替える。すると、油回転ポンプ１１５への電力供給は
停電によって遮断されることなく停電時用電源１１７か
ら供給される。結果、ウェハチャック１０４は、停電前
の真空吸着力を維持し続けることとなり、ウェハ１０５
は停電時でも落下することなくウェハチャック１０４に
固定される。
ときに停電が生じた場合には、その停電の発生が電圧検
知回路１３６によって検知される。停電の発生が検知さ
れると、切替器１３７は、油回転ポンプ１１５への電力
供給を通常時用電源１１６から停電時用電源１１７へ切
り替える。すると、油回転ポンプ１１５への電力供給は
停電によって遮断されることなく停電時用電源１１７か
ら供給される。結果、ウェハチャック１０４は、停電前
の真空吸着力を維持し続けることとなり、ウェハ１０５
は停電時でも落下することなくウェハチャック１０４に
固定される。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】上述のＸ線露光装置は
通常クリーンルームに設置される。この場合、Ｘ線露光
装置の保持システムに用いられる無停電電源装置（以
下、ＵＰＳという）は、クリーンルームの外か内のどち
らかに設置されるが、一般的には、配線上の問題および
ＵＰＳの操作上の問題からクリーンルーム内に設置され
るのが望ましい。このようにＵＰＳがクリーンルーム内
に設置された場合には、当然クリーンルームの床面積の
制約上設置されるＵＰＳの大きさも制限される。
通常クリーンルームに設置される。この場合、Ｘ線露光
装置の保持システムに用いられる無停電電源装置（以
下、ＵＰＳという）は、クリーンルームの外か内のどち
らかに設置されるが、一般的には、配線上の問題および
ＵＰＳの操作上の問題からクリーンルーム内に設置され
るのが望ましい。このようにＵＰＳがクリーンルーム内
に設置された場合には、当然クリーンルームの床面積の
制約上設置されるＵＰＳの大きさも制限される。
【００１７】前述した従来の保持システムの場合、各吸
着手段における真空引きは１台のポンプで行なわれてお
り、しかもそのポンプは、ウェハが落下したり、ずれた
りすることがなく、かつ、各チャック間のウェハの受け
渡しを正確に行なうことができる真空吸着力を発生させ
るだけの真空排気能力が必要とされるため、容量の大き
なものが使用されていた。そのため、停電時にはそのポ
ンプの負荷容量を考慮した容量の大きなバックアップ電
源が必要となり、結果、従来の保持システムではＵＰＳ
が大型なものとなっていた。このＵＰＳの大型化は、上
記制約上から問題となっていた。また、容量の大きなバ
ックアップ電源を必要とすることからコストが高くなる
という問題もあった。
着手段における真空引きは１台のポンプで行なわれてお
り、しかもそのポンプは、ウェハが落下したり、ずれた
りすることがなく、かつ、各チャック間のウェハの受け
渡しを正確に行なうことができる真空吸着力を発生させ
るだけの真空排気能力が必要とされるため、容量の大き
なものが使用されていた。そのため、停電時にはそのポ
ンプの負荷容量を考慮した容量の大きなバックアップ電
源が必要となり、結果、従来の保持システムではＵＰＳ
が大型なものとなっていた。このＵＰＳの大型化は、上
記制約上から問題となっていた。また、容量の大きなバ
ックアップ電源を必要とすることからコストが高くなる
という問題もあった。
【００１８】本発明は上記従来例が有する課題を解決す
ることを目的とする。より具体的な目的は、停電時に使
用されるバックアップ電源の容量を小さくすることがで
きるシステムを提供することである。別の目的はシステ
ムのコストを低減することである。
ることを目的とする。より具体的な目的は、停電時に使
用されるバックアップ電源の容量を小さくすることがで
きるシステムを提供することである。別の目的はシステ
ムのコストを低減することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明の基板保持システ
ムは、真空吸着により基板を保持する保持機構と、該保
持機構に真空を供給するための第１及び第２真空排気機
構と、該第１及び第２真空排気機構に電力を供給するた
めのメイン電源と、該メイン電源とは別に設けられたバ
ックアップ電源と、前記メイン電源の出力が正常である
場合には前記メイン電源によって前記第１及び第２真空
排気機構を駆動し、前記メイン電源の出力が停止した場
合には前記バックアップ電源によって前記第２真空排気
機構を駆動して前記第１真空排気機構は駆動しないよう
に制御する制御手段を有することを特徴とする。
ムは、真空吸着により基板を保持する保持機構と、該保
持機構に真空を供給するための第１及び第２真空排気機
構と、該第１及び第２真空排気機構に電力を供給するた
めのメイン電源と、該メイン電源とは別に設けられたバ
ックアップ電源と、前記メイン電源の出力が正常である
場合には前記メイン電源によって前記第１及び第２真空
排気機構を駆動し、前記メイン電源の出力が停止した場
合には前記バックアップ電源によって前記第２真空排気
機構を駆動して前記第１真空排気機構は駆動しないよう
に制御する制御手段を有することを特徴とする。
【００２０】この場合、前記基板は被露光ウエハであっ
てもよい。さらに、前記基板に対して露光エネルギを与
える手段を更に有するものであってもよい。さらに、前
記保持機構を大気圧より低い圧力に置くための収納室を
更に有するものであってもよいく、この場合、前記収納
室内を排気するための、前記第１及び第２真空排気機構
とは別の排気手段を更に有するものであってもよい。
てもよい。さらに、前記基板に対して露光エネルギを与
える手段を更に有するものであってもよい。さらに、前
記保持機構を大気圧より低い圧力に置くための収納室を
更に有するものであってもよいく、この場合、前記収納
室内を排気するための、前記第１及び第２真空排気機構
とは別の排気手段を更に有するものであってもよい。
【００２１】さらに、前記保持機構は、基板を固定保持
するチャック、もしくは基板を保持して搬送するハンド
を有するものであってもよい。さらに、前記基板は、鉛
直方向に保持されるように構成されていてもよい。
するチャック、もしくは基板を保持して搬送するハンド
を有するものであってもよい。さらに、前記基板は、鉛
直方向に保持されるように構成されていてもよい。
【００２２】さらに、前記制御手段は、電圧をモニタす
る手段を有するものであってもよく、この場合は、前記
制御手段は、該モニタした電圧に応じて前記メイン電源
の出力の正常／停止を判断するのであってもよい。さら
に、前記バックアップ電源は無停電電源であってもよ
い。
る手段を有するものであってもよく、この場合は、前記
制御手段は、該モニタした電圧に応じて前記メイン電源
の出力の正常／停止を判断するのであってもよい。さら
に、前記バックアップ電源は無停電電源であってもよ
い。
【００２３】さらに、前記第２真空排気機構は、基板を
保持するのに必要最小限の排気能力を有するものであっ
てもよい。
保持するのに必要最小限の排気能力を有するものであっ
てもよい。
【００２４】
【作用】上述の如く構成された保持システムでは、通常
時は各チャック手段における真空排気は２つの真空排気
手段よって行なわれ、停電時はいずれか１方の真空排気
手段によって行なわれる。よって、停電時に要する電力
供給は、上記一方の真空排気手段の消費電力のみについ
て行なわれれば良いこととなり、停電時の消費電力の低
減を図ることが可能となる。
時は各チャック手段における真空排気は２つの真空排気
手段よって行なわれ、停電時はいずれか１方の真空排気
手段によって行なわれる。よって、停電時に要する電力
供給は、上記一方の真空排気手段の消費電力のみについ
て行なわれれば良いこととなり、停電時の消費電力の低
減を図ることが可能となる。
【００２５】また、上記保持システムにおいて、一方の
真空排気手段はウェハが落下したり、ずれたりすること
がなく、かつ、各チャック間のウェハの受け渡しを正確
に行なうことができる真空吸着力を発生させるだけの真
空排気能力を有し、他方の真空排気手段は、真空排気能
力が上記真空排気手段の真空排気能力より小さく、か
つ、所定のチャック手段がマスクおよびウェハ等を吸着
保持するのに要する必要最小限の真空吸着力を発生させ
るだけの真空排気能力有するよう設定される。
真空排気手段はウェハが落下したり、ずれたりすること
がなく、かつ、各チャック間のウェハの受け渡しを正確
に行なうことができる真空吸着力を発生させるだけの真
空排気能力を有し、他方の真空排気手段は、真空排気能
力が上記真空排気手段の真空排気能力より小さく、か
つ、所定のチャック手段がマスクおよびウェハ等を吸着
保持するのに要する必要最小限の真空吸着力を発生させ
るだけの真空排気能力有するよう設定される。
【００２６】上記の如く設定されれば、停電時には真空
排気能力の小さい方の真空排気手段が用いられるので、
停電時の消費電力が低減される。
排気能力の小さい方の真空排気手段が用いられるので、
停電時の消費電力が低減される。
【００２７】また、上述の保持システムにおいて、第２
の電源は真空排気能力の小さい方の真空排気手段のみを
バックアップするので、電源としては容量の小さいもの
が使用される。
の電源は真空排気能力の小さい方の真空排気手段のみを
バックアップするので、電源としては容量の小さいもの
が使用される。
【００２８】さらに、上記保持システムにおいて、各チ
ャック手段は容器内の圧力が大気圧より低く保たれた密
閉容器に収納され、一方の真空排気手段は、一方の真空
排気手段はウェハが落下したり、ずれたりすることがな
く、かつ、各チャック間のウェハの受け渡しを正確に行
なうことができる真空吸着力を発生させるだけの真空排
気能力を有し、他方の真空排気手段は、真空排気能力が
上記真空排気手段の真空排気能力より小さく、かつ、所
定のチャック手段がマスクおよびウェハ等を吸着保持す
るのに要する必要最小限の真空吸着力を発生させるだけ
の真空排気能力有するよう設定される。
ャック手段は容器内の圧力が大気圧より低く保たれた密
閉容器に収納され、一方の真空排気手段は、一方の真空
排気手段はウェハが落下したり、ずれたりすることがな
く、かつ、各チャック間のウェハの受け渡しを正確に行
なうことができる真空吸着力を発生させるだけの真空排
気能力を有し、他方の真空排気手段は、真空排気能力が
上記真空排気手段の真空排気能力より小さく、かつ、所
定のチャック手段がマスクおよびウェハ等を吸着保持す
るのに要する必要最小限の真空吸着力を発生させるだけ
の真空排気能力有するよう設定される。
【００２９】上記の如く設定されれば、本発明の保持シ
ステムは、Ｘ線露光装置におけるマスクおよびウェハの
保持システムとして用いることが可能となる。この場合
も、停電時には真空排気能力の小さい方の真空排気手段
が用いられるので、停電時の消費電力が低減される。
ステムは、Ｘ線露光装置におけるマスクおよびウェハの
保持システムとして用いることが可能となる。この場合
も、停電時には真空排気能力の小さい方の真空排気手段
が用いられるので、停電時の消費電力が低減される。
【００３０】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００３１】図１は、本発明の保持システムの概略構成
図である。
図である。
【００３２】本実施例の保持システムは、Ｘ線露光装置
に使用されるものであり、被保持物を真空吸着により確
実に吸着保持し、停電時には容量の小さなバックアップ
電源を用いて被保持物を落下させることなく吸着し続け
るようにしたものである。その構成は、以下のようなも
のとなっている。
に使用されるものであり、被保持物を真空吸着により確
実に吸着保持し、停電時には容量の小さなバックアップ
電源を用いて被保持物を落下させることなく吸着し続け
るようにしたものである。その構成は、以下のようなも
のとなっている。
【００３３】ステージ収納室１は、鏡筒８を介してシン
クロトロン放射源などのＸ線光源１００と接続されてい
る。ステージ収納室１と鏡筒８との接続部にはベリリウ
ム（Ｂｅ）製の遮断窓７が設けられ、上記Ｘ線光源１０
０から発したＸ線はこの遮断窓７介してステージ収納室
１内に導入される。
クロトロン放射源などのＸ線光源１００と接続されてい
る。ステージ収納室１と鏡筒８との接続部にはベリリウ
ム（Ｂｅ）製の遮断窓７が設けられ、上記Ｘ線光源１０
０から発したＸ線はこの遮断窓７介してステージ収納室
１内に導入される。
【００３４】また、ステージ収納室１には、真空ポンプ
１９およびヘリウム（Ｈｅ）源がバルブ１８およびバル
ブ２０をそれぞれ介して接続されており、これらを用い
ることによってステージ収納室１０１の室内の大気がヘ
リウム（Ｈｅ）に置換される。
１９およびヘリウム（Ｈｅ）源がバルブ１８およびバル
ブ２０をそれぞれ介して接続されており、これらを用い
ることによってステージ収納室１０１の室内の大気がヘ
リウム（Ｈｅ）に置換される。
【００３５】Ｘ線の被照射体であるマスク６およびウェ
ハ５は、それぞれマスクチャック３およびウェハチャッ
ク４に保持される。これらの部分は、全てステージ収納
室１内に密封収納されている。なお、上記ステージ収納
室１には、ウェハ５を図示しないロードロックチャンバ
ーとの間で搬入搬出するためのウェハハンド１０が設け
られている。
ハ５は、それぞれマスクチャック３およびウェハチャッ
ク４に保持される。これらの部分は、全てステージ収納
室１内に密封収納されている。なお、上記ステージ収納
室１には、ウェハ５を図示しないロードロックチャンバ
ーとの間で搬入搬出するためのウェハハンド１０が設け
られている。
【００３６】上述の装置において、マスク６はマスクチ
ャック３に機械的に保持される。ウェハチャック４およ
びウェハハンド１０におけるウェハの吸着は全て真空吸
着力によるものであり、その真空吸着は、フィールドス
ルー用の配管１１，１２を介して外部に設置されたメイ
ンポンプ１５およびバックアップポンプ５８によって行
なわれる。
ャック３に機械的に保持される。ウェハチャック４およ
びウェハハンド１０におけるウェハの吸着は全て真空吸
着力によるものであり、その真空吸着は、フィールドス
ルー用の配管１１，１２を介して外部に設置されたメイ
ンポンプ１５およびバックアップポンプ５８によって行
なわれる。
【００３７】上記配管１１，１２上には、バルブ１３，
１４および絞り弁５４，５５がそれぞれ設けられてい
る。バルブ１３，１４は配管の開閉を行ない、絞り弁５
４，５５は配管内の圧力変化を緩和する。この絞り弁５
４，５５としては、特開平４−１９９６５５号公報に開
示されている絞り弁が用いられる。また、配管１１，１
２はアキュムレータチャンバー３５を介してメインポン
プ１５およびバックアップポンプ５８に接続されてい
る。
１４および絞り弁５４，５５がそれぞれ設けられてい
る。バルブ１３，１４は配管の開閉を行ない、絞り弁５
４，５５は配管内の圧力変化を緩和する。この絞り弁５
４，５５としては、特開平４−１９９６５５号公報に開
示されている絞り弁が用いられる。また、配管１１，１
２はアキュムレータチャンバー３５を介してメインポン
プ１５およびバックアップポンプ５８に接続されてい
る。
【００３８】メインポンプ１５には商用電源等の通常用
電源１６が接続され、バックアップポンプ５８には通常
用電源１６および停電時用電源１１７が電源切替器３７
を介して接続されている。この電源切替器３７は、停電
時にバックアップポンプ５８の電源入力ラインを通常用
電源１６から停電時用電源１７へ切り替えるものであ
る。また、上記電源切替器３７には監視手段である電圧
検知回路３６が設けられており、上述の停電をこの電圧
検知回路３６が検知する。これらの電源系は以下のよう
な構成となっている。
電源１６が接続され、バックアップポンプ５８には通常
用電源１６および停電時用電源１１７が電源切替器３７
を介して接続されている。この電源切替器３７は、停電
時にバックアップポンプ５８の電源入力ラインを通常用
電源１６から停電時用電源１７へ切り替えるものであ
る。また、上記電源切替器３７には監視手段である電圧
検知回路３６が設けられており、上述の停電をこの電圧
検知回路３６が検知する。これらの電源系は以下のよう
な構成となっている。
【００３９】切替回路３７の一方の入力端は通常用電源
１６の出力ラインに接続され、他方の入力端は停電時用
電源１７の出力ラインに接続され、出力端はバックアッ
プポンプ５８の入力ラインに接続されている。また、電
圧検知回路３６は、通常用電源１６および停電時用電源
１７の双方の出力ラインに接続されており、双方のライ
ンの電圧を検出する。さらに、その検出結果に基づいて
切替回路３７の切替制御を行なう。
１６の出力ラインに接続され、他方の入力端は停電時用
電源１７の出力ラインに接続され、出力端はバックアッ
プポンプ５８の入力ラインに接続されている。また、電
圧検知回路３６は、通常用電源１６および停電時用電源
１７の双方の出力ラインに接続されており、双方のライ
ンの電圧を検出する。さらに、その検出結果に基づいて
切替回路３７の切替制御を行なう。
【００４０】なお、本実施例では、通常時は各吸着手段
における真空引きがメインポンプ１５およびバックアッ
プポンプ５８の双方で行なわれるが、停電時は所定の吸
着手段（ここでは、停電時にウェハを保持している吸着
手段をいう）のみにおける真空引きがバックアップポン
プ５８のみで行なわれる。
における真空引きがメインポンプ１５およびバックアッ
プポンプ５８の双方で行なわれるが、停電時は所定の吸
着手段（ここでは、停電時にウェハを保持している吸着
手段をいう）のみにおける真空引きがバックアップポン
プ５８のみで行なわれる。
【００４１】また、上述した保持システムが用いられる
Ｘ線露光装置では、電源のバックアップは、バックアッ
プしないと装置の破損や被保持物の落下が起こりうる部
分についてのみ行ない、その他の部分については電源の
バックアップは行なわない。すなわち、停電時の際は、
復電するまでその時の装置の状態を維持できれば十分で
あることから、装置への電源供給は必要最小限に抑制さ
れたものとなっている。
Ｘ線露光装置では、電源のバックアップは、バックアッ
プしないと装置の破損や被保持物の落下が起こりうる部
分についてのみ行ない、その他の部分については電源の
バックアップは行なわない。すなわち、停電時の際は、
復電するまでその時の装置の状態を維持できれば十分で
あることから、装置への電源供給は必要最小限に抑制さ
れたものとなっている。
【００４２】上述の停電時の場合を考慮し、本実施例で
は、バックアップポンプ５８は、真空排気能力がメイン
ポンプ１５の真空排気能力より小さい能力（数分の１程
度の能力）のものとなっている。
は、バックアップポンプ５８は、真空排気能力がメイン
ポンプ１５の真空排気能力より小さい能力（数分の１程
度の能力）のものとなっている。
【００４３】次に、上述のように構成されたＸ線露光装
置の保持システムの動作について説明する。
置の保持システムの動作について説明する。
【００４４】最初、ステージ収納室１は大気の状態であ
り、この状態でマスク６がマスクチャック３に機械的に
固定される。次に、バルブ１８を開き真空ポンプ１９を
用いてステージ収納室１内の圧力を所定の圧力（例えば
１０-3Torr）まで下げる。圧力が所定の圧力まで下がっ
たらバルブ１８を閉じ、今度はバルブ２０を開いて、ス
テージ収納室１内の圧力が所定の圧力（例えば１００To
rr）になるまでヘリウムを供給する。
り、この状態でマスク６がマスクチャック３に機械的に
固定される。次に、バルブ１８を開き真空ポンプ１９を
用いてステージ収納室１内の圧力を所定の圧力（例えば
１０-3Torr）まで下げる。圧力が所定の圧力まで下がっ
たらバルブ１８を閉じ、今度はバルブ２０を開いて、ス
テージ収納室１内の圧力が所定の圧力（例えば１００To
rr）になるまでヘリウムを供給する。
【００４５】ヘリウムが供給されてステージ収納室１内
の圧力が所定の圧力になると、ウェハハンド１０によっ
てウェハ５が真空吸着されウェハチャック４に搬入され
る。このときのウェハ５の搬入は以下の手順で行なわれ
る。
の圧力が所定の圧力になると、ウェハハンド１０によっ
てウェハ５が真空吸着されウェハチャック４に搬入され
る。このときのウェハ５の搬入は以下の手順で行なわれ
る。
【００４６】まず、バルブ１３を閉じバルブ１４を開
く。すると、ウェハハンド１０に所定の真空吸着力が生
じ、ウェハ５はウェハハンド１０に真空吸着される。こ
のとき、ウェハハンド１０によるウェハ５の保持は、鉛
直方向に行なわれる。
く。すると、ウェハハンド１０に所定の真空吸着力が生
じ、ウェハ５はウェハハンド１０に真空吸着される。こ
のとき、ウェハハンド１０によるウェハ５の保持は、鉛
直方向に行なわれる。
【００４７】ウェハ５はウェハハンド１０によって、真
空吸着されたままステージ収納室１内をウェハチャック
４の位置まで搬送される。ウェハ５がウェハチャック４
上にくると、ウェハハンド１０は＋Ｚ方向に移動し、ウ
ェハ５をウェハチャック４に近付ける。
空吸着されたままステージ収納室１内をウェハチャック
４の位置まで搬送される。ウェハ５がウェハチャック４
上にくると、ウェハハンド１０は＋Ｚ方向に移動し、ウ
ェハ５をウェハチャック４に近付ける。
【００４８】ウェハ５とウェハチャック４との間が所定
の間隔になったところでバルブ１３が開放され、ウェハ
チャック４にも所定の真空吸着力が生じる。さらにウェ
ハ５をウェハチャック４に近付け、双方がほぼ接触する
程度まで近付いたところで、バルブ１４を閉じてウェハ
ハンド１０の吸着を停止する。すると、ウェハ５がウェ
ハチャック４に吸着されて受渡しが終了する。なお、以
上のような動作の逆を行なえば、ウェハ５をウェハチャ
ック４からウェハハンド１０へ受け渡すことができる。
の間隔になったところでバルブ１３が開放され、ウェハ
チャック４にも所定の真空吸着力が生じる。さらにウェ
ハ５をウェハチャック４に近付け、双方がほぼ接触する
程度まで近付いたところで、バルブ１４を閉じてウェハ
ハンド１０の吸着を停止する。すると、ウェハ５がウェ
ハチャック４に吸着されて受渡しが終了する。なお、以
上のような動作の逆を行なえば、ウェハ５をウェハチャ
ック４からウェハハンド１０へ受け渡すことができる。
【００４９】上述のウェハチャック４およびウェハハン
ド１０における真空吸着は、メインポンプ１５およびバ
ックアップポンプ５８の双方によって行なわれている。
これらのポンプの真空排気能力は、以下のように設定さ
れている。
ド１０における真空吸着は、メインポンプ１５およびバ
ックアップポンプ５８の双方によって行なわれている。
これらのポンプの真空排気能力は、以下のように設定さ
れている。
【００５０】ウェハハンド１０あるいはウェハチャック
４がウェハ５を真空吸着する際、その真空排気能力は、
ウェハの大きさ、吸着面の摩擦係数、絞り弁５４，５５
の抵抗、およびウェハ５受け渡し時のウェハチャック４
とウェハハンド１０の間隔等によって決る。
４がウェハ５を真空吸着する際、その真空排気能力は、
ウェハの大きさ、吸着面の摩擦係数、絞り弁５４，５５
の抵抗、およびウェハ５受け渡し時のウェハチャック４
とウェハハンド１０の間隔等によって決る。
【００５１】ウェハハンド１０あるいはウェハチャック
４がウェハ５を単に吸着保持するのであれば、その真空
排気能力はウェハハンド１０あるいはウェハチャック４
をステージ収納室１内の圧力に比べて２０Ｔｏｒｒ（２
６６６Ｐａ）程度低い圧力まで真空引きできれば十分で
ある。
４がウェハ５を単に吸着保持するのであれば、その真空
排気能力はウェハハンド１０あるいはウェハチャック４
をステージ収納室１内の圧力に比べて２０Ｔｏｒｒ（２
６６６Ｐａ）程度低い圧力まで真空引きできれば十分で
ある。
【００５２】しかし、上述のウェハ５をウェハハンド１
０からウェハチャック４へ受け渡す場合には、ウェハ５
が落下したり、ずれたりすることがないよう正確に受け
渡しを行なうことが必要であるため、このときのポンプ
の真空排気能力は上記真空排気能力よりも大きな能力が
必要とされる。
０からウェハチャック４へ受け渡す場合には、ウェハ５
が落下したり、ずれたりすることがないよう正確に受け
渡しを行なうことが必要であるため、このときのポンプ
の真空排気能力は上記真空排気能力よりも大きな能力が
必要とされる。
【００５３】しかも、上述の受け渡しの際、ウェハ５と
ウェハチャック４との面を平行にすることは現実問題と
して難しく、受け渡し時のウェハ５とウェハチャック４
との間隔はある程度以上必要となるため、この間隔を考
慮した真空排気能力が必要とされる。さらに、各配管１
１，１２上にはそれぞれ絞り弁５４，５５が設けられて
いるため、この絞り弁の抵抗も考慮した真空排気能力が
必要とされる。
ウェハチャック４との面を平行にすることは現実問題と
して難しく、受け渡し時のウェハ５とウェハチャック４
との間隔はある程度以上必要となるため、この間隔を考
慮した真空排気能力が必要とされる。さらに、各配管１
１，１２上にはそれぞれ絞り弁５４，５５が設けられて
いるため、この絞り弁の抵抗も考慮した真空排気能力が
必要とされる。
【００５４】すなわち、本実施例では、ウェハ受け渡し
時に要求されるポンプの真空排気能力は、ウェハハンド
１０あるいはウェハチャック４をステージ収納室１内の
圧力よりも１００Ｔｏｒｒ（１３３３０Ｐａ）程度低い
圧力まで真空引きできることが要求される。
時に要求されるポンプの真空排気能力は、ウェハハンド
１０あるいはウェハチャック４をステージ収納室１内の
圧力よりも１００Ｔｏｒｒ（１３３３０Ｐａ）程度低い
圧力まで真空引きできることが要求される。
【００５５】以上のことから、本実施例に用いられるメ
インポンプ１５およびバックアップポンプ５８の双方を
合わせた真空排気能力は、ウェハハンド１０あるいはウ
ェハチャック４にステージ収納室１内の圧力よりも１０
０Ｔｏｒｒ（１３３３０Ｐａ）程度低い圧力を発生され
るだけの真空排気能力に設定される。
インポンプ１５およびバックアップポンプ５８の双方を
合わせた真空排気能力は、ウェハハンド１０あるいはウ
ェハチャック４にステージ収納室１内の圧力よりも１０
０Ｔｏｒｒ（１３３３０Ｐａ）程度低い圧力を発生され
るだけの真空排気能力に設定される。
【００５６】ただし、停電時にはバックアップポンプ５
８のみが稼働し、その際ウェハ５の受け渡し動作は行な
われないので、バックアップポンプ５８は単にウェハ５
を吸着保持するだけの真空排気能力を有すれば良いこと
となり、上述の如くその真空排気能力はウェハハンド１
０あるいはウェハチャック４にステージ収納室１内の圧
力に比べて２０Ｔｏｒｒ（２６６６Ｐａ）程度低い圧力
を発生させるだけの真空排気能力に設定される。
８のみが稼働し、その際ウェハ５の受け渡し動作は行な
われないので、バックアップポンプ５８は単にウェハ５
を吸着保持するだけの真空排気能力を有すれば良いこと
となり、上述の如くその真空排気能力はウェハハンド１
０あるいはウェハチャック４にステージ収納室１内の圧
力に比べて２０Ｔｏｒｒ（２６６６Ｐａ）程度低い圧力
を発生させるだけの真空排気能力に設定される。
【００５７】なお、上述の受渡し動作においては、バル
ブ１３およびバルブ１４が同時に開放される場合があ
り、この場合には一方の真空系が空引きしている状態と
なる。この場合は、絞り弁５４，５５によって空引き状
態となった真空系へのステージ収納室１内からの気体の
流入が緩和されるため、その真空系の配管内の圧力は急
激には変化しない。すなわち、本実施例では、バルブ１
３およびバルブ１４が同時に開放され一方の真空系が空
引き状態となっても、絞り弁５４，５５によりその真空
系の空引きによる圧力変動が所定範囲に抑えられるた
め、その影響は他の真空系の真空吸着力には影響しな
い。
ブ１３およびバルブ１４が同時に開放される場合があ
り、この場合には一方の真空系が空引きしている状態と
なる。この場合は、絞り弁５４，５５によって空引き状
態となった真空系へのステージ収納室１内からの気体の
流入が緩和されるため、その真空系の配管内の圧力は急
激には変化しない。すなわち、本実施例では、バルブ１
３およびバルブ１４が同時に開放され一方の真空系が空
引き状態となっても、絞り弁５４，５５によりその真空
系の空引きによる圧力変動が所定範囲に抑えられるた
め、その影響は他の真空系の真空吸着力には影響しな
い。
【００５８】次に、停電時における上記保持システムの
動作について説明する。
動作について説明する。
【００５９】上述の保持システムでは、停電が生じると
その停電の発生が電圧検知回路３６によって検知され
る。停電の発生を検知した電圧検知回路３６は、切替器
３７を制御し、バックアップポンプ５８の電源入力ライ
ンを通常時用電源１６から停電時用電源１７へ切り替え
る。すると、バックアップポンプ５８への電力供給は停
電によって遮断されることなく停電時用電源１７から供
給されるようになる。
その停電の発生が電圧検知回路３６によって検知され
る。停電の発生を検知した電圧検知回路３６は、切替器
３７を制御し、バックアップポンプ５８の電源入力ライ
ンを通常時用電源１６から停電時用電源１７へ切り替え
る。すると、バックアップポンプ５８への電力供給は停
電によって遮断されることなく停電時用電源１７から供
給されるようになる。
【００６０】図２は、本実施例の保持システムの停電時
における動作のシーケンスを表したものである。以下、
図２を参照して停電時の動作について説明する。
における動作のシーケンスを表したものである。以下、
図２を参照して停電時の動作について説明する。
【００６１】例えば、ウェハハンド１０がウェハ５を搬
送しているとする。図２に示すように、通常時電源１６
の出力は正常であり、電圧検知回路３６は正常を検知し
ており、メインポンプ１５およびバックアップポンプ５
８は共に稼働しいる。このとき、バルブ１３はクロー
ズ、バルブ１４はオープンとなっている。
送しているとする。図２に示すように、通常時電源１６
の出力は正常であり、電圧検知回路３６は正常を検知し
ており、メインポンプ１５およびバックアップポンプ５
８は共に稼働しいる。このとき、バルブ１３はクロー
ズ、バルブ１４はオープンとなっている。
【００６２】次に、ウェハ５をウェハハンド１０からウ
ェハチャック４へ渡す動作が開始されると、バルブ１３
がオープンとなる。その後、バルブ１４がクローズとな
りウェハ５の受渡しが終了する。
ェハチャック４へ渡す動作が開始されると、バルブ１３
がオープンとなる。その後、バルブ１４がクローズとな
りウェハ５の受渡しが終了する。
【００６３】ここで、停電が発生すると、通常用電源１
６は停電となりメインポンプは停止する。電圧検知回路
３６は異常を検知してバックアップポンプ５８の電源入
力ラインを通常時用電源１６から停電時用電源１７に切
り替える。このことにより、バックアップポンプは停止
することなく稼働し続ける。
６は停電となりメインポンプは停止する。電圧検知回路
３６は異常を検知してバックアップポンプ５８の電源入
力ラインを通常時用電源１６から停電時用電源１７に切
り替える。このことにより、バックアップポンプは停止
することなく稼働し続ける。
【００６４】上記状態では、バルブ１３がオープン、バ
ルブ１４がクローズとなっており、バックアップポンプ
５８はバルブ１３を介してウェハチャック４における真
空吸着を行なう。結果、ウェハチャック４は、ステージ
収納室１内の圧力に対してウェハ５を吸着するのに要す
る真空吸着力を維持し続けることとなり、ウェハ５は停
電時でもウェハチャック４に固定される。このような状
態で、装置は動作を停止し、復電に備えてその状態を維
持し続ける。
ルブ１４がクローズとなっており、バックアップポンプ
５８はバルブ１３を介してウェハチャック４における真
空吸着を行なう。結果、ウェハチャック４は、ステージ
収納室１内の圧力に対してウェハ５を吸着するのに要す
る真空吸着力を維持し続けることとなり、ウェハ５は停
電時でもウェハチャック４に固定される。このような状
態で、装置は動作を停止し、復電に備えてその状態を維
持し続ける。
【００６５】停電が解消されると、通常時用電源１６が
正常となり、メインポンプ１５が稼働状態となる。同時
に、電圧検知回路３６は正常を検知しバックアップポン
プ５８の電源入力ラインを停電時用電源１７から通常時
用電源１６に切り替える。
正常となり、メインポンプ１５が稼働状態となる。同時
に、電圧検知回路３６は正常を検知しバックアップポン
プ５８の電源入力ラインを停電時用電源１７から通常時
用電源１６に切り替える。
【００６６】上述のようにして、メインポンプ１５およ
びバックアップポンプ５８が稼働を開始すると、装置は
バルブ１３，１４の状態維持を解消し、異常回復処理と
してウェハ５の回収動作等を行なう。
びバックアップポンプ５８が稼働を開始すると、装置は
バルブ１３，１４の状態維持を解消し、異常回復処理と
してウェハ５の回収動作等を行なう。
【００６７】なお、上述した例では、ウェハ５がウェハ
チャック４に真空吸着された状態における停電について
説明したが、ウェハ５がウェハハンド１０に真空吸着さ
れた場合についても上述の場合と同様の動作となる。
チャック４に真空吸着された状態における停電について
説明したが、ウェハ５がウェハハンド１０に真空吸着さ
れた場合についても上述の場合と同様の動作となる。
【００６８】この場合には、ウェハ５がウェハハンド１
０に真空吸着された状態で維持されることとなり、装置
はウェハハンド１０の移動を停止しその状態を復電まで
維持し続ける。復電後、装置は異常回復処理を行なう。
０に真空吸着された状態で維持されることとなり、装置
はウェハハンド１０の移動を停止しその状態を復電まで
維持し続ける。復電後、装置は異常回復処理を行なう。
【００６９】また、ウェハ５をウェハハンド１０からウ
ェハチャック４へ受け渡す際に停電になった場合、すな
わち、バルブ１３，１４の双方が開放となり、一方の真
空系が空引きとなる状態の場合は、絞り弁５４，５５が
配管１１，１２内の圧力変動を所定範囲に抑えられるた
め、ウェハ５はウェハチャック４あるいはウェハハンド
１０のいずれかに真空吸着された状態で維持される。
ェハチャック４へ受け渡す際に停電になった場合、すな
わち、バルブ１３，１４の双方が開放となり、一方の真
空系が空引きとなる状態の場合は、絞り弁５４，５５が
配管１１，１２内の圧力変動を所定範囲に抑えられるた
め、ウェハ５はウェハチャック４あるいはウェハハンド
１０のいずれかに真空吸着された状態で維持される。
【００７０】本実施例の保持システムにおいて、バック
アップポンプの真空排気能力は、メインポンプの真空排
気能力より小さく設定される。その設定される真空排気
能力の最小能力は、ステージ収納室１内の圧力に対し、
ウェハチャックあるいはウェハハンドが、ウェハを落下
させたり、ずれたりすることのないよう吸着保持できる
必要最小限の吸着力を発生させる真空排気能力である。
すなわち、本実施例では、バックアップポンプとして、
上記最小能力を最大真空排気能力とするポンプを用いる
ことにより、停電時の消費電力の低減、ひいては停電用
のバックアップ電源の小容量化・小型化に大きな効果を
奏する。
アップポンプの真空排気能力は、メインポンプの真空排
気能力より小さく設定される。その設定される真空排気
能力の最小能力は、ステージ収納室１内の圧力に対し、
ウェハチャックあるいはウェハハンドが、ウェハを落下
させたり、ずれたりすることのないよう吸着保持できる
必要最小限の吸着力を発生させる真空排気能力である。
すなわち、本実施例では、バックアップポンプとして、
上記最小能力を最大真空排気能力とするポンプを用いる
ことにより、停電時の消費電力の低減、ひいては停電用
のバックアップ電源の小容量化・小型化に大きな効果を
奏する。
【００７１】なお、本実施例ではＸ線露光装置における
保持システムについて説明してきたが、真空吸着手段を
有する他の露光装置、例えば光露光装置や電子線露光装
置などについても同様に適用できることは言うまでもな
い。
保持システムについて説明してきたが、真空吸着手段を
有する他の露光装置、例えば光露光装置や電子線露光装
置などについても同様に適用できることは言うまでもな
い。
【００７２】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載するような効果を奏する。
いるので、以下に記載するような効果を奏する。
【００７３】請求項１に記載のものについては、停電時
にける消費電力を低減することができるため、バックア
ップ電源の小容量化・小型化を図ることができる。ま
た、システムの低コスト化を図ることができる。さら
に、第１及び第２真空排気機構により真空排気が行われ
るので、排気能力の高いものを提供することができる。
さらに、停電した場合には、第２真空排気機構のみの駆
動で吸着動作が保持されるので、停電時に必要とされる
消費電力を第２真空排気機構の駆動に要する電力のみと
することができる。
にける消費電力を低減することができるため、バックア
ップ電源の小容量化・小型化を図ることができる。ま
た、システムの低コスト化を図ることができる。さら
に、第１及び第２真空排気機構により真空排気が行われ
るので、排気能力の高いものを提供することができる。
さらに、停電した場合には、第２真空排気機構のみの駆
動で吸着動作が保持されるので、停電時に必要とされる
消費電力を第２真空排気機構の駆動に要する電力のみと
することができる。
【００７４】請求項２〜請求項５に記載のものについて
は、上記各効果を奏する基板保持システムを持つ露光装
置を提供することができる。これらのうち請求項４およ
び請求項５に記載のものについては、上記各効果を奏す
る基板保持システムを持つＸ線露光装置を提供すること
ができる。
は、上記各効果を奏する基板保持システムを持つ露光装
置を提供することができる。これらのうち請求項４およ
び請求項５に記載のものについては、上記各効果を奏す
る基板保持システムを持つＸ線露光装置を提供すること
ができる。
【００７５】請求項６に記載のものについては、上記各
効果を奏する、基板等の搬入搬出が可能な保持システム
を提供することができる。また、請求項７に記載のもの
については、基板の吸着が鉛直方向に行われるので、す
くない吸着力で効率よく基板を保持でき、さらにバック
アップ電源の小容量化・小型化、システムの低コスト化
を図ることができる。
効果を奏する、基板等の搬入搬出が可能な保持システム
を提供することができる。また、請求項７に記載のもの
については、基板の吸着が鉛直方向に行われるので、す
くない吸着力で効率よく基板を保持でき、さらにバック
アップ電源の小容量化・小型化、システムの低コスト化
を図ることができる。
【００７６】請求項８および請求項９に記載のものにつ
いては、上記各効果に加えて、簡単な停電監視手段を提
供することができる。また、請求項１０および請求項１
１に記載のものについては、上記各効果を奏する無停電
システムを提供することができる。
いては、上記各効果に加えて、簡単な停電監視手段を提
供することができる。また、請求項１０および請求項１
１に記載のものについては、上記各効果を奏する無停電
システムを提供することができる。
【００７７】
【図１】本発明の一実施例の保持システムの概略構成
図。
図。
【図２】本実施例の保持システムの停電時における動作
のシーケンスを表した図。
のシーケンスを表した図。
【図３】従来の保持システムの概略構成図。
【符号の説明】 １ ステージ収納室 ２ ステージ ３ マスクチャック ４ ウェハ ５ ウェハチャック ６ マスク ７ 遮断窓 ８ 鏡筒 １０ ウェハハンド １１，１２ 配管 １３，１４，１８，２０ バルブ １５ メインポンプ １６ 通常時用電源 １７ 停電時用電源 １９ 真空ポンプ ３５ アキュムレータチャンバー ３６ 電圧検地回路 ３７ 切替器 ５４、５５ 絞り弁 ５８ バックアップポンプ １００ Ｘ線光源 １０９ ウェハステージ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−81457（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−97239（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−144709（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−211816（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−190427（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−211815（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 H01L 21/68
Claims (11)
- 【請求項１】 真空吸着により基板を保持する保持機構
と、該保持機構に真空を供給するための第１及び第２真
空排気機構と、該第１及び第２真空排気機構に電力を供
給するためのメイン電源と、該メイン電源とは別に設け
られたバックアップ電源と、前記メイン電源の出力が正
常である場合には前記メイン電源によって前記第１及び
第２真空排気機構を駆動し、前記メイン電源の出力が停
止した場合には前記バックアップ電源によって前記第２
真空排気機構を駆動して前記第１真空排気機構は駆動し
ないように制御する制御手段を有することを特徴とする
基板保持システム。 - 【請求項２】 請求項１に記載の基板保持システムにお
いて、前記基板は被露光ウエハであることを特徴とする
基板保持システム。 - 【請求項３】 請求項１に記載の基板保持システムにお
いて、前記基板に対して露光エネルギを与える手段を更
に有することを特徴とする基板保持システム。 - 【請求項４】 請求項１に記載の基板保持システムにお
いて、前記保持機構を大気圧より低い圧力に置くための
収納室を更に有することを特徴とする基板保持システ
ム。 - 【請求項５】 請求項４に記載の基板保持システムにお
いて、前記収納室内を排気するための、前記第１及び第
２真空排気機構とは別の排気手段を更に有することを特
徴とする基板保持システム。 - 【請求項６】 請求項１に記載の基板保持システムにお
いて、前記保持機構は、基板を固定保持するチャック、
もしくは基板を保持して搬送するハンドを有することを
特徴とする基板保持システム。 - 【請求項７】 請求項１に記載の基板保持システムにお
いて、前記基板は、鉛直方向に保持されることを特徴と
する基板保持システム。 - 【請求項８】 請求項１に記載の基板保持システムにお
いて、前記制御手段は、電圧をモニタする手段を有する
ことを特徴とする基板保持システム。 - 【請求項９】 請求項８に記載の基板保持システムにお
いて、前記制御手段は、該モニタした電圧に応じて前記
メイン電源の出力の正常／停止を判断することを特徴と
する基板保持システム。 - 【請求項１０】 請求項１に記載の基板保持システムに
おいて、前記バックアップ電源は無停電電源であること
を特徴とする基板保持システム。 - 【請求項１１】 請求項１に記載の基板保持システムに
おいて、前記第２真空排気機構は、基板を保持するのに
必要最小限の排気能力を有することを特徴とする基板保
持システム。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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