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JP3286097B2 - 摺動部材およびその製造方法 - Google Patents

摺動部材およびその製造方法

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JP3286097B2
JP3286097B2 JP33626594A JP33626594A JP3286097B2 JP 3286097 B2 JP3286097 B2 JP 3286097B2 JP 33626594 A JP33626594 A JP 33626594A JP 33626594 A JP33626594 A JP 33626594A JP 3286097 B2 JP3286097 B2 JP 3286097B2
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JP
Japan
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film
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sliding member
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弘人 福留
信行 山下
昭二 田中
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帝国ピストンリング株式会社
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  • Pistons, Piston Rings, And Cylinders (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐摩耗性と靱性とに優
れた摺動部材に関し、例えばピストンリング等の内燃機
関用摺動部材に適用して有効なものである。
【0002】
【従来の技術】近年、エンジンの高出力化や排ガス規制
の対応に伴って、ピストンリングの使用環境がますます
苛酷になっているため、摺動面の表面処理として従来使
用されている硬質Crめっきや窒化処理では耐久性能を
満足できないエンジンが多くなってきた。
【0003】この状況に対処するため、PVD法を利用
した窒化チタン皮膜や窒化クロム皮膜を被覆したピスト
ンリング(特開昭57−57867号参照)が提案され
ている。また、更に、長寿命を実現するために、窒化ク
ロムよりも耐摩耗性の高い窒化モリブデン皮膜を被覆し
たピストンリング(特開平2−134468号、特開平
6−17933号、特開平6−25826号参照)が提
案されている。
【0004】更に、金属モリブデン中に炭化物、窒化物
あるいは酸化物からなる硬質粒子を分散させた溶射皮膜
が知られているが、これらは硬質粒子あるいは金属粒子
が1μm以上の複合組織であり、摺動部の耐脱落性およ
び皮膜の密着性が劣る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】窒化モリブデン皮膜は
非常に硬くて耐摩耗性に優れているが、脆い性質がある
ため、摺動による過度の繰り返し応力を受けると皮膜に
欠けやクラックが発生し、その欠けまたはクラックが進
行して剥離に到る場合がある。
【0006】本発明の目的は、耐摩耗性と靱性の両方に
優れた硬質皮膜を被覆した摺動部材およびその製造方法
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも摺
動面に硬質皮膜が被覆されている摺動部材であって、前
記硬質皮膜が、重量比で、Cr1〜25%、N4〜1
5.5%、残Moからなる三元系皮膜であり、少なくと
も窒化モリブデン(Mo)と窒化クロム(Cr
)とを含み、皮膜硬さがビッカース硬さ(HV)で
1600〜2600であり、結晶粒径が1μm未満であ
ることを特徴とする。
【0008】なお、上記において、Crの含有量は下限
が5重量%、上限は15重量%がより好ましく、Nの含
有量は下限が6.5重量%、上限は13.0重量%がよ
り好ましい。
【0009】また、皮膜硬さはビッカース硬さで、下限
が1700、上限は2400がより好ましい。
【0010】また、皮膜を形成する窒化モリブデンや窒
化クロム等の結晶粒径は0.1μm未満がより好まし
い。
【0011】上記硬質皮膜はPVD法により被覆するこ
とができる。なお、PVD法には蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法がある。
【0012】例えばイオンプレーティング法で上記硬質
皮膜を被覆する場合には、蒸発源として、Mo金属から
なる蒸発源、Cr金属からなる蒸発源、およびMo−C
r合金からなる蒸発源のうちの少なくとも2つの蒸発源
を設け、各蒸発源におけるアーク電流の大きさを適宜の
値に設定し、窒素雰囲気中で行うことができる。なお、
所定比率のMo−Cr合金からなる1つの蒸発源を使用
して窒素雰囲気中で行うこともできる。
【0013】
【作用】本発明の摺動部材は硬質皮膜が窒化モリブデン
と窒化クロムを含んでいるMo−Cr−Nの三元系皮膜
であることにより、耐摩耗性に優れており、窒化クロム
が含まれていることによって靱性にも優れる。
【0014】皮膜中のCrの含有量は、1重量%未満で
は窒化モリブデンの靱性を向上させる効果がなく、25
重量%を越えると耐摩耗性が低下する。
【0015】皮膜中のNが4重量%未満、あるいは1
5.5重量%を越えると、皮膜の靱性が低下する。
【0016】また、皮膜硬さがビッカース硬さで260
0を越えると皮膜靱性が低下し、1600未満では皮膜
の靱性が低下するとともに、皮膜の摩耗量が多くなり、
耐摩耗性が低下する。
【0017】また、皮膜を形成する窒化モリブデンや窒
化クロム等の結晶粒径が1μm以上であると、摺動部の
耐脱落性および皮膜の密着性が劣る。
【0018】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるピストンリン
グの一部分を示す縦断面図である。本実施例におけるピ
ストンリング1は鋼、鋳鉄、チタンあるいはチタン合金
等で形成されている矩形断面リングである。ピストンリ
ング1の外周面にはアークイオンプレーティングによっ
て硬質皮膜2が被覆されている。
【0019】硬質皮膜2は重量比で、Cr1〜25%、
N4〜15.5%、残Moからなる皮膜であり、少なく
とも窒化モリブデン(MoX Y )と窒化クロム(Cr
X Y )とを含み、皮膜硬さがビッカース硬さで160
0〜2600であり、結晶粒径が1μm未満である。そ
して硬質皮膜2の膜厚は5μm〜80μmが好適であ
る。
【0020】アークイオンプレーティング法はイオンプ
レーティングの一つで、真空アーク放電を利用して、陰
極の皮膜材料を蒸気化、イオン化して、被コーティング
物の表面に皮膜を形成するものである。このアークイオ
ンプレーティング法は蒸気のイオン化率が高く、緻密で
密着性に優れた皮膜が得られる特長がある。
【0021】図2に基づいて、アークイオンプレーティ
ング装置の基本的構成を説明する。真空チャンバ10内
に、皮膜を形成する材料からなる陰極(蒸発源)11
と、皮膜が形成される被コーティング物12が設置され
ている。陰極(蒸発源)11は真空チャンバ10の外側
に設置されているアーク供給源13に接続されており、
アーク供給源13には図示外の陽極が接続されている。
被コーティング物12にはバイアス電圧供給源14によ
って負のバイアス電圧が印加されるように構成されてい
る。真空チャンバ10にはプロセスガスの供給源に接続
されているガス入口15と、ポンプに接続されている排
気口16とが設けられている。
【0022】したがって、真空チャンバ10内におい
て、陰極(蒸発源)11と陽極との間でアーク放電が起
こされると、アークは陰極(蒸発源)11の表面上にア
ークスポットを形成し、陰極(蒸発源)11の表面上を
ランダムにかつ高速に移動する。アークスポットに集中
するアーク電流(数十〜数百A)のエネルギーにより、
陰極(蒸発源)11の材料は瞬時に蒸発すると同時に金
属イオン17となり、真空中に飛び出す。一方、バイア
ス電圧が被コーティング物12に印加されることによ
り、金属イオン17は加速され、反応ガス粒子18とと
もに被コーティング物12の表面に密着し、緻密な皮膜
が生成される。
【0023】本発明においては、上記アークイオンプレ
ーティング装置において、真空チャンバ10内にMo金
属からなる陰極(蒸発源)、Cr金属からなる陰極(蒸
発源)、およびMo−Cr合金からなる陰極(蒸発源)
のうちの少なくとも2つの陰極(蒸発源)が設置されて
おり(図は2つの陰極を有するものを示してある。)、
プロセスガスとして窒素ガスが使用されることにより、
被コーティング物12としてのピストンリングに、重量
比で、Cr1〜25%、N4〜15.5%、残Moから
なり、少なくとも窒化モリブデン(MoX Y )と窒化
クロム(CrXY )とを含み、皮膜硬さがビッカース
硬さで1600〜2600であり、結晶粒径が1μm未
満である硬質皮膜を被覆することができる。なお、各陰
極(蒸発源)11におけるアーク電流の大きさは独立し
て調節できるように構成されている。
【0024】上記において、CrとMoの成分量は次の
ようにして決定できる。図3はアーク電流と成膜スピー
ドとの関係を示す。陰極(蒸発源)の材料がMo金属
で、バイアス電圧が30Vの場合を示している。なお、
陰極(蒸発源)の材料がCr金属やMo−Cr合金であ
る場合もほぼ同等の結果を示す。図3に示されているよ
うに、成膜スピードすなわち陰極(蒸発源)の蒸発量は
アーク電流(40A〜200A)の増加に伴って略比例
的に上昇している。なお、アーク電流が40A以下では
アークが発生しない。
【0025】上記で明らかなように、陰極(蒸発源)の
蒸発量はアーク電流の大きさを変更することによって調
整することができる。したがって、MoとCrの成分量
の調整は、各陰極(蒸発源)におけるアーク電流の大き
さを調整することによって行える。MoとCrの含有量
に対応する、各陰極(蒸発源)におけるアーク電流の大
きさは、図3、およびCr金属蒸発源、Mo−Cr合金
蒸発源における図3に対応する図(図示していないが、
前述したように図3と略同じ結果を示す。)に基づいて
容易に決定できる。
【0026】表1は、各陰極(蒸発源)の材料と各陰極
におけるアーク電流の大きさの具体的な一例を示してい
る。
【0027】
【0028】また、Nの含有量の調整は、窒素雰囲気で
ある真空チャンバ10内の圧力を0〜20mTorrの
範囲で調整することによって行うことができる。
【0029】皮膜硬度の調整は、イオンプレーティング
の際のバイアス電圧を5〜200Vの範囲でコントロー
ルすることによって行うことができる。バイアス電圧を
高くすると、硬度は上昇する。
【0030】以下、硬質皮膜の耐摩耗性および靱性を評
価するために行った各種試験について説明する。
【0031】表2、表3および表4に、皮膜靱性試験、
耐摩耗性試験、耐久試験に使用する硬質皮膜の組成、C
r含有量、N含有量、皮膜硬さを示す。なお、皮膜の成
分はCr、Nの他はMoである。また、皮膜を形成する
窒化モリブデン、窒化クロム、Mo、Crの結晶粒径は
それぞれ0.1μm未満であった。
【0032】
【0033】
【0034】
【0035】硬質皮膜2の靱性を評価するために、ファ
ンデアホルスト摩擦試験機を使用して皮膜靱性試験を行
った。ファンデアホルスト摩擦試験機を使用して行う試
験の概要を図4に基づいて説明する。
【0036】ピストンリング1が、水平軸を中心に回転
するロータ(鋳鉄材:JIS FC250)30の外周
面31の上端にロータ30の軸心に沿って配設され、ピ
ストンリング1に荷重Pが作用されてロータ30の外周
面31上に押接される。この状態で、ピストンリング1
とロータ30の接触部分に潤滑油を供給しながらロータ
30を回転させる。そして種々の荷重で試験を行い、ピ
ストンリング1の硬質皮膜を顕微鏡観察(100倍)
し、損傷(欠けやクラック)が認められたときの荷重を
皮膜損傷荷重とした。
【0037】測定は表2、表3および表4に示す硬質皮
膜を被覆したピストンリングについて行った。
【0038】試験条件は下記の通りである。 荷重 :50〜180N(5N毎) 回転数:1000rpm 時間 :3min 潤滑 :10w ディーゼルエンジンオイル
【0039】(Cr含有量と耐クラック荷重)図5に、
Cr含有量と耐クラック荷重との関係について、上記フ
ァンデアホルスト摩擦試験機を使用して行った試験結果
(N:10.0%、なお、Crが10.0%のものは実
施例3)を示す。
【0040】図5の試験結果に示されているように、C
r含有量が1.0重量%以上でクラック発生荷重が大き
く、摺動時の皮膜靱性が優れていることがわかる。
【0041】(N含有量と耐クラック荷重)図6に、N
含有量と耐クラック荷重との関係について、上記ファン
デアホルスト摩擦試験機を使用して行った試験結果(C
r:10.0%、なお、Nが10.0%のものは実施例
3)を示す。
【0042】図6の試験結果に示されているように、N
含有量が4〜15.5重量%の範囲でクラック発生荷重
が大きく、摺動時の皮膜靱性が優れていることがわか
る。
【0043】(皮膜硬さと耐クラック荷重)図7に、皮
膜硬さと耐クラック荷重との関係について、上記ファン
デアホルスト摩擦試験機を使用して行った試験結果(C
r:25.0%,N:6.0%、Cr:10.0%,
N:10.0%、Cr:1.0%,N:15.5%)を
示す。
【0044】図7の試験結果に示されているように、皮
膜硬さがビッカース硬さで1600〜2600の範囲で
クラック発生荷重が大きく、摺動時の皮膜靱性が優れて
いることがわかる。
【0045】次に、硬質皮膜2の耐摩耗性を評価するた
めに、図8に示す往復動摩擦試験機を使用して耐摩耗性
試験を行った。
【0046】図8に示す往復動摩擦試験機の概要を説明
すると、ピストンリングに対応するピン状の上試験片2
0は、固定ブロック21により保持され、上方から油圧
シリンダ22により下向きの荷重が加えられて、後述す
る下試験片23に押接される。一方、シリンダに対応す
る矩形の平盤形状の下試験片23は可動ブロック24に
より保持され、クランク機構25により往復動せしめら
れる。26はロードセルである。
【0047】上試験片20の摩耗量は図9(a)に示す
如く、上試験片20の試験前形状27と試験後形状28
を測定し、その差を測定することにより算出する。下試
験片23の摩耗量は図9(b)に示す如く、摺動部分に
おいて離間する3ケ所A,B,Cの凹み量を測定し、そ
の平均値で示す。
【0048】試験条件は以下の通りである。 1.供試試料 A.下試験片:シリンダブロック用鋳鉄製(FC250
相当材)平板(寸法:長さ70mm、幅17mm、厚さ
14mm)の試験面をバフ研磨し、面粗さを0.1μm
以下にしたもの。なお、硬さはロックウエル硬さ(HR
B)で90である。 B.上試験片:ピストンリング用鋼棒(寸法:直径8m
m、長さ23mm)の端面を18mmRの球面仕上げし
たもの。鋼棒はマルテンサイト系17Crステンレス材
であり、鋼棒の表面に表2、表3および表4に記載の硬
質皮膜を被覆した。
【0049】2.摩耗試験条件 ならし:50N×100cpm×5min 本試験:200N×600cpm×60min 潤滑 :軽油相当粘度油
【0050】図10に、上記の往復動摩擦試験を行った
試験結果(N:10.0%、なお、Crが10.0%の
ものは実施例3)を示す。
【0051】図10の試験結果に示されているように、
Crの含有量が25重量%以下で摩耗量が少なく、摺動
時の耐摩耗性が優れていることがわかる。
【0052】次に、表2、表3および表4に示す硬質皮
膜を外周面に被覆したピストンリングをエンジンテスト
に供した。すなわち、φ86mmの直列4気筒ディーゼ
ルエンジンに前記ピストンリングを組み込み、全負荷の
条件で250時間の耐久試験を行った。
【0053】図10に、上記耐久試験を行った摩耗結果
(N:10.0%、なお、Crが10.0%のものは実
施例3)を示す。
【0054】図10の試験結果に示されているように、
ピストンリングは硬質皮膜のCr含有量が25重量%以
下で皮膜摩耗量が少なく、耐摩耗性が優れていることが
わかる。
【0055】また、表5、表6および表7に皮膜損傷結
果を示す。
【0056】
【0057】
【0058】
【0059】表5、表6および表7の試験結果に示され
ているように、本実施例におけるピストンリングは硬質
皮膜に欠けやクラックの発生は無く、靱性が優れている
ことがわかる。
【0060】なお、上記実施例ではピストンリングの外
周面に硬質皮膜を被覆した例を示したが、硬質皮膜はピ
ストンリングの外周面と上下面、さらには外周面と上下
面と内周面とに被覆するようにしてもよい。
【0061】また、上記実施例ではピストンリングに硬
質皮膜を被覆した例を示したが、硬質皮膜はピストンリ
ングに被覆するに限らず、他の摺動部材、例えば内燃機
関の動弁系部品であるタペットやカム等の少なくとも摺
動面に被覆すれば有効である。
【0062】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の摺動部材
における硬質皮膜は耐摩耗性と靱性が優れている。した
がって、本発明を例えばピストンリングに適用すること
によって、苛酷な条件下においても充分な耐久性を具備
させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるピストンリングの一部
分を示す縦断面図である。
【図2】アークイオンプレーティング装置の構成を説明
する図である。
【図3】アーク電流と成膜スピードとの関係を示すグラ
フである。
【図4】(a)はファンデアホルスト摩擦試験機の概要
を示す一部断面正面図、(b)は同側面図である。
【図5】Cr含有量とクラック発生荷重との関係を示す
グラフである。
【図6】N含有量とクラック発生荷重との関係を示すグ
ラフである。
【図7】皮膜硬さとクラック発生荷重との関係を示すグ
ラフである。
【図8】往復動摩擦試験機の概要を示す正面図である。
【図9】(a)は上試験片の摩耗量算出説明図、(b)
は下試験片の摩耗量算出説明図である。
【図10】Cr含有量と摩耗量との関係を示すグラフで
ある。
【符号の説明】
1 ピストンリング 2 硬質皮膜 10 真空チャンバ 11 陰極(蒸発源) 12 被コーティング物 13 アーク供給源 14 バイアス電圧供給源 15 ガス入口 16 排気口 17 金属イオン 18 反応ガス粒子 20 上試験片 21 固定ブロック 22 油圧シリンダ 23 下試験片 24 可動ブロック 25 クランク機構 26 ロードセル 27 上試験片の試験前形状 28 上試験片の試験後形状 30 ロータ 31 ロータ外周面
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−300130(JP,A) 特開 平6−265023(JP,A) 特開 平5−78821(JP,A) 特開 平6−17933(JP,A) 特開 昭52−57006(JP,A) 実開 平4−8747(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F16J 9/26

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも摺動面に硬質皮膜が被覆され
    ている摺動部材であって、 前記硬質皮膜が、重量比で、Cr1〜25%、N4〜1
    5.5%、残Moからなる三元系皮膜であり、少なくと
    も窒化モリブデンと窒化クロムとを含み、皮膜硬さがビ
    ッカース硬さで1600〜2600であり、結晶粒径が
    1μm未満であることを特徴とする摺動部材。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の摺動部材の製造方法であ
    って、前記硬質皮膜をPVD法により被覆することを特
    徴とする摺動部材の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記PVD法がイオンプレーティング法
    であることを特徴とする請求項2記載の摺動部材の製造
    方法。
  4. 【請求項4】 Mo金属からなる蒸発源、Cr金属から
    なる蒸発源、およびMo−Cr合金からなる蒸発源のう
    ちの少なくとも2つの蒸発源を有しており、各蒸発源に
    おけるアーク電流の大きさを適宜の値に設定し、窒素雰
    囲気中でイオンプレーティングを行うことを特徴とする
    請求項3記載の摺動部材の製造方法。
  5. 【請求項5】 Mo−Cr合金からなる蒸発源を有して
    おり、窒素雰囲気中でイオンプレーティングを行うこと
    を特徴とする請求項3記載の摺動部材の製造方法。
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