JP3172369B2 - 集積型光起電力装置 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 claims description 2
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 11
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 ITO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光起電力装置に係り、
特に、透明電極の抵抗ロスを減少させて特性を高められ
るようにした光起電力装置に関するものである。
特に、透明電極の抵抗ロスを減少させて特性を高められ
るようにした光起電力装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】合金型アモルファスシリコン半導体を含
むアモルファスシリコン半導体を発電層に用いる光起電
力装置は、半導体層がガス反応で形成されること、結晶
のようにグレイダウンバウンダリングがないことなどか
ら大面積化が比較的容易である。しかし、面積が大きく
なるにつれて入射側電極、すなわち、透明電極の抵抗に
よる電力損失が主な原因となって変換効率は減少する傾
向にある。
むアモルファスシリコン半導体を発電層に用いる光起電
力装置は、半導体層がガス反応で形成されること、結晶
のようにグレイダウンバウンダリングがないことなどか
ら大面積化が比較的容易である。しかし、面積が大きく
なるにつれて入射側電極、すなわち、透明電極の抵抗に
よる電力損失が主な原因となって変換効率は減少する傾
向にある。
【0003】一方、所定の電圧をとるため、1枚の基板
上に複数の分割線で縞状に分割された多数の光起電力素
子を形成し、相隣接する光起電力間を順次直列接続(カ
スケード接続)した集積型光起電力装置が実用化されて
いる。
上に複数の分割線で縞状に分割された多数の光起電力素
子を形成し、相隣接する光起電力間を順次直列接続(カ
スケード接続)した集積型光起電力装置が実用化されて
いる。
【0004】図6及び図7は従来の集積型光起電力装置
を示し、図6は断面図、図7は平面図である。図6に示
すように、この集積型光起電力装置101は、酸化錫
(SnO2 )などからなる透明電極層をガラス基板10
2に積層し、所定の分割線103aに沿ってレーザ等で
除去して複数の縞状の透明電極104を形成した後、p
in接合の非晶質シリコンからなる発電層105を形成
し、分割線103bに沿ってレーザ等でこの発電層10
5の一部分を除去し、更にこの後、加熱蒸着法により銀
からなる裏面電極層を形成してから、分割線3cに沿っ
てレーザ等で裏面電極106を形成するという手順で作
られる。尚、図中103は、加工部であり、分割線3
a,3b,3cを含めて、ここでは分割線という。
を示し、図6は断面図、図7は平面図である。図6に示
すように、この集積型光起電力装置101は、酸化錫
(SnO2 )などからなる透明電極層をガラス基板10
2に積層し、所定の分割線103aに沿ってレーザ等で
除去して複数の縞状の透明電極104を形成した後、p
in接合の非晶質シリコンからなる発電層105を形成
し、分割線103bに沿ってレーザ等でこの発電層10
5の一部分を除去し、更にこの後、加熱蒸着法により銀
からなる裏面電極層を形成してから、分割線3cに沿っ
てレーザ等で裏面電極106を形成するという手順で作
られる。尚、図中103は、加工部であり、分割線3
a,3b,3cを含めて、ここでは分割線という。
【0005】図7に示すように、この分割線103は光
起電力装置101の面に直角な方向から見て互いに平行
に配置される直線状に形成される。尚、108は、この
集積型光起電力の端縁部であって、最左端の光起電力素
子の透明電極104に連なる電極106に相当する部分
であり、このためプラス側電極となる。
起電力装置101の面に直角な方向から見て互いに平行
に配置される直線状に形成される。尚、108は、この
集積型光起電力の端縁部であって、最左端の光起電力素
子の透明電極104に連なる電極106に相当する部分
であり、このためプラス側電極となる。
【0006】又、例えば図8に示すように、透明電極1
04に接するように形成された、この透明電極104よ
りも低抵抗材料からなるくし型の集電電極107を設け
た集積型光起電力装置111がある。この集電電極10
7に依り光起電力装置としての抵抗損失を低減すること
が可能となる。
04に接するように形成された、この透明電極104よ
りも低抵抗材料からなるくし型の集電電極107を設け
た集積型光起電力装置111がある。この集電電極10
7に依り光起電力装置としての抵抗損失を低減すること
が可能となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記透明電極104は
導電性が低いSnO2 、ITO、ZnOなどで構成され
ているが、光起電力装置の大面積化における抵抗損失増
大の主な原因になっており、集積型構造をする際の大き
な制限となっている。
導電性が低いSnO2 、ITO、ZnOなどで構成され
ているが、光起電力装置の大面積化における抵抗損失増
大の主な原因になっており、集積型構造をする際の大き
な制限となっている。
【0008】又、集電電極107を設けた場合には、透
明電極に基づく抵抗損失は低減できるが、この集電電極
107が発電層への入射光を遮光することとなり、光起
電力装置の受光面積を狭くするという問題がある。
明電極に基づく抵抗損失は低減できるが、この集電電極
107が発電層への入射光を遮光することとなり、光起
電力装置の受光面積を狭くするという問題がある。
【0009】本発明の第1の集積型光起電力装置は、上
記の事情を鑑みて、透明電極の抵抗損失を減少させて特
性を高められるようにした集積型光起電力装置を提供す
ることを目的とするものである。
記の事情を鑑みて、透明電極の抵抗損失を減少させて特
性を高められるようにした集積型光起電力装置を提供す
ることを目的とするものである。
【0010】又、本発明の第2の集積型光起電力装置
は、上記の目的に加えて、集電電極による受光面積の減
少を少なくさせて更に特性を高められるようにした集積
型光起電力装置を提供することを目的とするものであ
る。
は、上記の目的に加えて、集電電極による受光面積の減
少を少なくさせて更に特性を高められるようにした集積
型光起電力装置を提供することを目的とするものであ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の集積型光
起電力装置は、絶縁基板上に分割線で縞状に分割されて
なる複数の光起電力素子を、直列接続した集積型光起電
力装置において、上記の目的を達成するため、上記分割
線が1本置きに、又は全て波形状に形成され、隣接する
分割線の間隔が繰り返し拡縮されることを特徴とするも
のである。
起電力装置は、絶縁基板上に分割線で縞状に分割されて
なる複数の光起電力素子を、直列接続した集積型光起電
力装置において、上記の目的を達成するため、上記分割
線が1本置きに、又は全て波形状に形成され、隣接する
分割線の間隔が繰り返し拡縮されることを特徴とするも
のである。
【0012】又、本発明の第2の集積型光起電力装置
は、上記目的を達成するために、上記の構成に加えて、
隣接する分割線の間隔が最短間隔となる部分またはその
近傍にくし歯が位置するように光入射側電極に接して集
電電極が設けられたことを特徴とする。
は、上記目的を達成するために、上記の構成に加えて、
隣接する分割線の間隔が最短間隔となる部分またはその
近傍にくし歯が位置するように光入射側電極に接して集
電電極が設けられたことを特徴とする。
【0013】
【作用】1本置きの分割線、又は全ての分割線を波形状
に形成し、隣接する分割線の間隔が繰り返し拡縮される
ようにすれば、分割線の間隔が縮小された部分では透明
電極の距離が短くなり、その抵抗値が分割線の間隔が拡
大された部分よりも小さくなる。これにより、電流は抵
抗値が小さい分割線の間隔が縮小された部分により多く
流れ、収集するキャリアの量が大きくなり全体的な抵抗
損失が減少することになる。
に形成し、隣接する分割線の間隔が繰り返し拡縮される
ようにすれば、分割線の間隔が縮小された部分では透明
電極の距離が短くなり、その抵抗値が分割線の間隔が拡
大された部分よりも小さくなる。これにより、電流は抵
抗値が小さい分割線の間隔が縮小された部分により多く
流れ、収集するキャリアの量が大きくなり全体的な抵抗
損失が減少することになる。
【0014】又、集電電極を設ける場合には、この電流
が集中する分割線の間隔が縮小された部分に集電電極を
配置することにより、集電電極が占める面積を小さくす
ることができ、光起電力装置の有効面積の減少、即ち、
受光面積の減少を小さくできる。
が集中する分割線の間隔が縮小された部分に集電電極を
配置することにより、集電電極が占める面積を小さくす
ることができ、光起電力装置の有効面積の減少、即ち、
受光面積の減少を小さくできる。
【0015】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて具体的に説
明すれば、以下の通りである。
明すれば、以下の通りである。
【0016】図1に示すように、本発明の一実施例に係
る集積型光起電力装置1は、1枚のガラス基板2上に分
割線3で縞状に分割された多数の光起電力素子Cからな
り、この光起電力素子C自体は、図2に示すように、ガ
ラス基板2上透明電極4、発電層5及び裏面電極6を順
次積層形成した点では従来の集積型光起電力装置と同様
である。
る集積型光起電力装置1は、1枚のガラス基板2上に分
割線3で縞状に分割された多数の光起電力素子Cからな
り、この光起電力素子C自体は、図2に示すように、ガ
ラス基板2上透明電極4、発電層5及び裏面電極6を順
次積層形成した点では従来の集積型光起電力装置と同様
である。
【0017】この集積型光起電力装置1の製造方法とし
ては、酸化錫(SnO2 )からなる透明電極層をガラス
基板2に積層し、この透明電極層を所定の分割線3aに
沿ってQスイッチ付Nd:YAGレーザ(5J/cm2
のエネルギー密度)を照射することにより、その部分の
透明電極層を除去する。これにより、複数の縞状の透明
電極4を形成できる。次に、表1に示す条件で通常のプ
ラズマCVD法により、基板2上に分割された透明電極
4を覆うようにp/i間にカーボン量をグレーデッドさ
せたp−SiCバッファ層を備えたpin接合の非晶質
シリコンからなる発電層5を形成する。続いて、分割線
3bに沿ってQスイッチ付Nd:YAGレーザ(0.2
J/cm2 のエネルギー密度)をこの発電層5に照射す
ることにより、その照射された領域を除去し、光起電力
素子ごとにこの発電層5を分割する。更にこの後、加熱
蒸着法により銀からなる裏面電極層を形成してから、分
割線3cに沿ってQスイッチ付Nd:YAGレーザ(3
J/cm2 のエネルギー密度)を照射し、その照射され
た領域の裏面電極層と発電層5を除去して裏面電極6を
形成するという手順で作ったものである。尚、この実施
例では、上記分割線3a,3b,3cを含めた部分を加
工部とし、分割線3として示している。
ては、酸化錫(SnO2 )からなる透明電極層をガラス
基板2に積層し、この透明電極層を所定の分割線3aに
沿ってQスイッチ付Nd:YAGレーザ(5J/cm2
のエネルギー密度)を照射することにより、その部分の
透明電極層を除去する。これにより、複数の縞状の透明
電極4を形成できる。次に、表1に示す条件で通常のプ
ラズマCVD法により、基板2上に分割された透明電極
4を覆うようにp/i間にカーボン量をグレーデッドさ
せたp−SiCバッファ層を備えたpin接合の非晶質
シリコンからなる発電層5を形成する。続いて、分割線
3bに沿ってQスイッチ付Nd:YAGレーザ(0.2
J/cm2 のエネルギー密度)をこの発電層5に照射す
ることにより、その照射された領域を除去し、光起電力
素子ごとにこの発電層5を分割する。更にこの後、加熱
蒸着法により銀からなる裏面電極層を形成してから、分
割線3cに沿ってQスイッチ付Nd:YAGレーザ(3
J/cm2 のエネルギー密度)を照射し、その照射され
た領域の裏面電極層と発電層5を除去して裏面電極6を
形成するという手順で作ったものである。尚、この実施
例では、上記分割線3a,3b,3cを含めた部分を加
工部とし、分割線3として示している。
【0018】
【表1】
【0019】さて、この発明は、図1に示すように、こ
の集積型光起電力装置1の分割線3は全て三角波形状に
屈曲して形成され、かつ、隣接する分割線3を半波長ず
つずらすことにより隣接する分割線3の間隔が互いに繰
り返し拡縮されるようにしていることが従来の集積型光
起電力装置101・111と異なる。
の集積型光起電力装置1の分割線3は全て三角波形状に
屈曲して形成され、かつ、隣接する分割線3を半波長ず
つずらすことにより隣接する分割線3の間隔が互いに繰
り返し拡縮されるようにしていることが従来の集積型光
起電力装置101・111と異なる。
【0020】各分割線3の平均間隔は特に限定されない
が、従来例との比較を容易にするため、この実施例では
隣接する分割線3の平均間隔Wave.を図1に破線で示す
従来例の一例としての分割線105の間隔と同じ間隔の
9.9mmとしている。又、分割線3の最大間隔Wmax.
と最小間隔Wmin.との差は12mmとし、光起電力素子
Cの集積数は10段としている。
が、従来例との比較を容易にするため、この実施例では
隣接する分割線3の平均間隔Wave.を図1に破線で示す
従来例の一例としての分割線105の間隔と同じ間隔の
9.9mmとしている。又、分割線3の最大間隔Wmax.
と最小間隔Wmin.との差は12mmとし、光起電力素子
Cの集積数は10段としている。
【0021】この集積型光起電力装置1のAM1.5、
100mW/cm2 照射光下での出力電力を測定する
と、図3に示すように、約1185mWであった。比較
のため、同様にして作られ、平行な直線状の分割線10
3が9.9mm間隔で設けられ、セルCの集積数が10
である従来例のAM1.5、100mW/cm2 照射光
下での出力電力を測定すると約1092mWであり、分
割線3の間隔が繰り返し拡縮されるようにしたこの実施
例は、従来例を基準にすれば約8.9%出力が高められ
ていることが分かる。
100mW/cm2 照射光下での出力電力を測定する
と、図3に示すように、約1185mWであった。比較
のため、同様にして作られ、平行な直線状の分割線10
3が9.9mm間隔で設けられ、セルCの集積数が10
である従来例のAM1.5、100mW/cm2 照射光
下での出力電力を測定すると約1092mWであり、分
割線3の間隔が繰り返し拡縮されるようにしたこの実施
例は、従来例を基準にすれば約8.9%出力が高められ
ていることが分かる。
【0022】この実施例において、分割線3の最大間隔
Wmax.と最小間隔Wmin.との差を5mm、8mm、18
mmと異ならせた各変形例につきAM1.5、100m
W/cm2 照射光下での出力電力を測定したところ、図
3に示すようにそれぞれ約1139mW、約1179m
W、約1174mWであり、前記従来例に比べて出力電
力が高められていることと、上記一実施例のように分割
線3の最大間隔Wmax.と最小間隔Wmin.との差を12m
mとした時が最適であることとが分かる。
Wmax.と最小間隔Wmin.との差を5mm、8mm、18
mmと異ならせた各変形例につきAM1.5、100m
W/cm2 照射光下での出力電力を測定したところ、図
3に示すようにそれぞれ約1139mW、約1179m
W、約1174mWであり、前記従来例に比べて出力電
力が高められていることと、上記一実施例のように分割
線3の最大間隔Wmax.と最小間隔Wmin.との差を12m
mとした時が最適であることとが分かる。
【0023】更に、比較のために、分割線3の最大間隔
Wmax.と最小間隔Wmin.との差を2mmとした場合につ
いて出力電力を測定したところ従来例とほとんど変わり
がないことが分かった。
Wmax.と最小間隔Wmin.との差を2mmとした場合につ
いて出力電力を測定したところ従来例とほとんど変わり
がないことが分かった。
【0024】分割線3の平均間隔Wave.を9.9mmと
する場合には、分割線3の最大間隔Wmax.と最小間隔W
min.との差を19.8mm以上にすることはできないの
で、結局、分割線3の最大間隔Wmax.と最小間隔Wmin.
との差が2mm以上、19.8mm未満の範囲で出力電
力が増加する効果が得られることになり、図3によれば
特に4mmから18mmの範囲で顕著な効果が得られ、
12mmで最も顕著な効果が得られることが分かる。
する場合には、分割線3の最大間隔Wmax.と最小間隔W
min.との差を19.8mm以上にすることはできないの
で、結局、分割線3の最大間隔Wmax.と最小間隔Wmin.
との差が2mm以上、19.8mm未満の範囲で出力電
力が増加する効果が得られることになり、図3によれば
特に4mmから18mmの範囲で顕著な効果が得られ、
12mmで最も顕著な効果が得られることが分かる。
【0025】この出力電力の増大の主な原因は、分割線
3の間隔が平均間隔よりも縮小された部分では透明電極
4の距離が短くなり、透明電極4の抵抗値が分割線3の
間隔が拡大された部分よりも小さくなる結果、電流が抵
抗値が小さい分割線3の間隔が縮小された部分を通って
多く流れ、全体的な抵抗損失が減少するためであると思
われる。
3の間隔が平均間隔よりも縮小された部分では透明電極
4の距離が短くなり、透明電極4の抵抗値が分割線3の
間隔が拡大された部分よりも小さくなる結果、電流が抵
抗値が小さい分割線3の間隔が縮小された部分を通って
多く流れ、全体的な抵抗損失が減少するためであると思
われる。
【0026】また、分割線3の最大間隔Wmax.と最小間
隔Wmin.との差が12mmの場合に比べて18mmの場
合の方が出力が低下しているのは加工精度が低下したた
めであると思われる。
隔Wmin.との差が12mmの場合に比べて18mmの場
合の方が出力が低下しているのは加工精度が低下したた
めであると思われる。
【0027】本発明の又他の実施例では、例えば図4に
示すように、上記分割線3が正弦波状に形成され、隣接
する分割線3が半波長ずつずらして配置される。この分
割線3の最大間隔Wmax.と最小間隔Wmin.との差は12
mmとしてあり、この実施例についてAM1.5、10
0mW/cm2 照射光下での出力電力を測定したとこ
ろ、表2に示すように、1179mWであった。このこ
とから、分割線3の波形は最小間隔Wmin.の近傍で変化
率が急である場合の方が有利であることが分かった。
示すように、上記分割線3が正弦波状に形成され、隣接
する分割線3が半波長ずつずらして配置される。この分
割線3の最大間隔Wmax.と最小間隔Wmin.との差は12
mmとしてあり、この実施例についてAM1.5、10
0mW/cm2 照射光下での出力電力を測定したとこ
ろ、表2に示すように、1179mWであった。このこ
とから、分割線3の波形は最小間隔Wmin.の近傍で変化
率が急である場合の方が有利であることが分かった。
【0028】
【表2】
【0029】本発明の更に他の実施例では、SiO2 で
絶縁コートしたステンレス基板の上に銀からなる裏面電
極6が形成され、その上に表1と同じ条件で上記各実施
例とは逆にn型a−Si層、i型a−Si層、p型a−
SiC層の順に発電層5が形成され、更にその上に公知
のスパッタ法によってITOからなる透明電極4が形成
される。図5に示すように、この実施例の分割線3の形
状は上記の一実施例と同じであり、その分割線3の間隔
が最小間隔Wmin.となる位置にくしの歯が位置するくし
状の集電電極7が透明電極4に接して形成される。
絶縁コートしたステンレス基板の上に銀からなる裏面電
極6が形成され、その上に表1と同じ条件で上記各実施
例とは逆にn型a−Si層、i型a−Si層、p型a−
SiC層の順に発電層5が形成され、更にその上に公知
のスパッタ法によってITOからなる透明電極4が形成
される。図5に示すように、この実施例の分割線3の形
状は上記の一実施例と同じであり、その分割線3の間隔
が最小間隔Wmin.となる位置にくしの歯が位置するくし
状の集電電極7が透明電極4に接して形成される。
【0030】なお、この集電電極7のくしの間隔、すな
わち、分割線3の波形の波長は3〜15mmとしてい
る。
わち、分割線3の波形の波長は3〜15mmとしてい
る。
【0031】この実施例のAM1.5、100mW/c
m2 照射光下での出力電力を測定したところ、表3に示
すように1145mWであった。
m2 照射光下での出力電力を測定したところ、表3に示
すように1145mWであった。
【0032】比較のために、同じような手順にしたがっ
て形成され、図8に示すように、9.9mm間隔で平行
な直線状に分割線103を配置し、透明電極104に接
するように、くし型の集電電極107を設けたセル数1
0段の他の従来例についてAM1.5、100mW/c
m2 照射光下での出力電力を測定したところ、表3に示
すように1022mWであった。
て形成され、図8に示すように、9.9mm間隔で平行
な直線状に分割線103を配置し、透明電極104に接
するように、くし型の集電電極107を設けたセル数1
0段の他の従来例についてAM1.5、100mW/c
m2 照射光下での出力電力を測定したところ、表3に示
すように1022mWであった。
【0033】
【表3】
【0034】他の従来例に出力電力が集電電極107を
設けない従来例に比べて出力電力が小さくなっているの
は集電電極107によって光起電力装置の有効面積が狭
められたためと思われる。又、この実施例の出力電圧が
上記一実施例にくらべて小さくなっているのも同じ理由
によるものと思われる。
設けない従来例に比べて出力電力が小さくなっているの
は集電電極107によって光起電力装置の有効面積が狭
められたためと思われる。又、この実施例の出力電圧が
上記一実施例にくらべて小さくなっているのも同じ理由
によるものと思われる。
【0035】しかし、集電電極107を設けない従来例
に比べて上記一実施例の出力増加が約8.9%であるの
に対して、この実施例によれば上記他の従来例に比べ
て、他の従来例を基準にすれば約12%の出力増加が見
られる。
に比べて上記一実施例の出力増加が約8.9%であるの
に対して、この実施例によれば上記他の従来例に比べ
て、他の従来例を基準にすれば約12%の出力増加が見
られる。
【0036】したがって、この出力増加は、分割線3の
間隔が縮小された部分を通ってより多くの電流が流れ、
全体的な抵抗損失が減少することと、集電電極7が分割
線3の間隔が最小間隔Wmin.となる位置にくしの歯が位
置するように形成されているため、上記他の従来例に比
べて集電電極7の面積が小さくなり、光起電力装置の有
効面積が狭められたこととの相乗作用の結果であると思
われる。
間隔が縮小された部分を通ってより多くの電流が流れ、
全体的な抵抗損失が減少することと、集電電極7が分割
線3の間隔が最小間隔Wmin.となる位置にくしの歯が位
置するように形成されているため、上記他の従来例に比
べて集電電極7の面積が小さくなり、光起電力装置の有
効面積が狭められたこととの相乗作用の結果であると思
われる。
【0037】上記の各実施例では、全ての分割線3が波
形状に形成されているが、分割線3を1本置きに波形状
に形成しても分割線3の間隔が繰り返し拡縮されるので
同様の効果が得られる。
形状に形成されているが、分割線3を1本置きに波形状
に形成しても分割線3の間隔が繰り返し拡縮されるので
同様の効果が得られる。
【0038】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明は集積型
光起電力装置の分割線が波形状に形成され、隣接する分
割線の間隔が互いに繰り返し拡縮されるので、分割線の
間隔が平均間隔よりも縮小された部分の抵抗値が減少
し、その部分に電流が集中して全体的な抵抗損失が減少
し、特性を高めることができるという効果が得られる。
光起電力装置の分割線が波形状に形成され、隣接する分
割線の間隔が互いに繰り返し拡縮されるので、分割線の
間隔が平均間隔よりも縮小された部分の抵抗値が減少
し、その部分に電流が集中して全体的な抵抗損失が減少
し、特性を高めることができるという効果が得られる。
【0039】また、本発明において、特に隣接する分割
線の間隔が最短間隔となる部分またはその近傍にくし歯
が位置するように光入射側電極に接して集電電極が設け
られる場合には、集電電極のくし歯が透明電極を覆う面
積が小さくなるので、集電電極による光起電力装置の有
効面積の減少、即ち、受光面積の減少を減少させること
ができ、これにより、更に特性を高めることができる。
線の間隔が最短間隔となる部分またはその近傍にくし歯
が位置するように光入射側電極に接して集電電極が設け
られる場合には、集電電極のくし歯が透明電極を覆う面
積が小さくなるので、集電電極による光起電力装置の有
効面積の減少、即ち、受光面積の減少を減少させること
ができ、これにより、更に特性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の平面図である。
【図2】本発明の一実施例の要部の断面模式図である。
【図3】本発明の一実施例及びその変形例並びに従来例
の特性図である。
の特性図である。
【図4】本発明の又他の実施例の平面図である。
【図5】本発明の更に他の実施例の平面図である。
【図6】従来例の要部の断面模式図である。
【図7】従来例の平面図である。
【図8】他の従来例の平面図である。
2 ガラス基板 3 分割線 4 透明電極 5 発電層 6 裏面電極 7 集電電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 31/04 - 31/078
Claims (2)
- 【請求項1】 絶縁基板上に分割線で縞状に分割された
光起電力素子を、直列接続した集積型光起電力装置にお
いて、 上記分割線が1本置きに、又は全て波形状に形成され、
隣接する分割線の間隔が互いに繰り返し拡縮されること
を特徴とする集積型光起電力装置。 - 【請求項2】 隣接する分割線の間隔が最短間隔となる
部分またはその近傍にくし歯が位置するように光入射側
電極に接して集電電極が設けられたことを特徴とする請
求項1に記載の集積型光起電力装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18566294A JP3172369B2 (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | 集積型光起電力装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18566294A JP3172369B2 (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | 集積型光起電力装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0851226A JPH0851226A (ja) | 1996-02-20 |
JP3172369B2 true JP3172369B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=16174681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18566294A Expired - Fee Related JP3172369B2 (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | 集積型光起電力装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3172369B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6306513B1 (en) | 1999-03-30 | 2001-10-23 | Hoya Corporation | Optical element having cured film |
WO2011061950A1 (ja) * | 2009-11-17 | 2011-05-26 | 三菱電機株式会社 | 薄膜太陽電池およびその製造方法 |
KR20140049065A (ko) * | 2011-09-19 | 2014-04-24 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 직렬 연결형 박막 태양광 모듈 및 박막 태양 전지의 직렬 연결 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5565802B2 (ja) * | 2010-05-20 | 2014-08-06 | シャープ株式会社 | 光透過型太陽電池モジュール |
JP2013243165A (ja) * | 2010-09-16 | 2013-12-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 光電変換装置 |
FR2972299B1 (fr) * | 2011-03-01 | 2016-11-25 | Commissariat Energie Atomique | Procédé pour la mise en série électrique monolithique de cellules photovoltaïques d'un module solaire et module photovoltaïque mettant en œuvre ce procédé |
JP2013110249A (ja) * | 2011-11-21 | 2013-06-06 | Kyocera Corp | 光電変換装置、および光電変換装置の製造方法 |
JP5693762B2 (ja) * | 2014-02-06 | 2015-04-01 | シャープ株式会社 | 光透過型太陽電池モジュール |
CN108713255B (zh) * | 2016-02-26 | 2021-12-21 | 京瓷株式会社 | 太阳能电池元件 |
JP6978005B2 (ja) * | 2016-07-29 | 2021-12-08 | サンパワー コーポレイション | 非直線的な縁部に沿って重なり合う、屋根板状に重ねられた太陽電池 |
US10741703B2 (en) * | 2016-07-29 | 2020-08-11 | Sunpower Corporation | Shingled solar cells overlapping along non-linear edges |
DE102017122530B4 (de) * | 2017-09-28 | 2023-02-23 | Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Photovoltaikmodul mit auf der Rückseite ineinandergreifenden Kontakten |
DE102017130162B4 (de) * | 2017-12-15 | 2023-06-07 | Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Dünnschicht-Photovoltaikmodul mit zwei Ausgangsleistungen |
-
1994
- 1994-08-08 JP JP18566294A patent/JP3172369B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6306513B1 (en) | 1999-03-30 | 2001-10-23 | Hoya Corporation | Optical element having cured film |
WO2011061950A1 (ja) * | 2009-11-17 | 2011-05-26 | 三菱電機株式会社 | 薄膜太陽電池およびその製造方法 |
JP5220204B2 (ja) * | 2009-11-17 | 2013-06-26 | 三菱電機株式会社 | 薄膜太陽電池およびその製造方法 |
KR20140049065A (ko) * | 2011-09-19 | 2014-04-24 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 직렬 연결형 박막 태양광 모듈 및 박막 태양 전지의 직렬 연결 방법 |
KR101652607B1 (ko) * | 2011-09-19 | 2016-08-30 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 직렬 연결형 박막 태양광 모듈 및 박막 태양 전지의 직렬 연결 방법 |
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---|---|
JPH0851226A (ja) | 1996-02-20 |
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