JP3004222B2 - 透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明積層体及びそ
れを用いたディスプレイ用フィルターに関する。さらに
詳しくはプラズマディスプレイから発生する、健康に害
をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド
性、及び、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮
断する赤外線カット性、透明性に優れる透明積層体、及
び、それを用いた電磁波シールド性、近赤外線カット
性、高透明性、低反射性、耐候性・耐環境性に優れ、さ
らにまた、防眩性、アンチニュートンリング性を兼ね備
えたディスプレイ用フィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】社会が高度に情報化されてくるにしたが
って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進
歩、普及している。そのなかで、画像を表示するディス
プレイはテレビジョン装置用、パーソナルコンピュータ
ーのモニタ装置用等として著しく普及し、また、その大
型化とともに薄型化が進んでいる。近年、大型の薄型テ
レビ、薄型モニタなどの用途に適するものとして、プラ
ズマディスプレイが注目され、すでに市場に出始めてい
る。しかし、プラズマディスプレイは、その構造原理
上、強度の漏洩電磁界を発生する。近年、漏洩電磁界の
人体や他の機器に与える影響が議論されるようになって
おり、プラズマディスプレイから発生する漏洩電磁界を
所定の基準値以内に抑えることが必要となってきてい
る。この値の安全基準として、例えば、日本では、ＶＣ
ＣＩ（Voluntaly Control Council for Interference b
y data processing equipment electronic office mach
ine)による基準があり、米国では、ＦＣＣ(Federal Com
munication commission)による安全基準がある。

【０００３】またプラズマディスプレイは、強い近赤外
線光を発し、コードレスフォンや赤外線リモートコント
ローラ等の電子機器に作用して誤動作を引き起こす原因
となることがある。特に問題になる波長としては、赤外
線リモートコントローラや伝送系光通信に使用されてい
る８２０ｎｍと８８０ｎｍ、９８０ｎｍが挙げられる。
そのため、プラズマディスプレイからの、近赤外領域で
ある８００〜１０００ｎｍの波長領域の光を実用上問題
ないレベルまでカットする必要がある。

【０００４】上述したように、プラズマディスプレイを
使用する際には、プラズマディスプレイから環境中に放
射される電磁波及び近赤外線のレベルを低減することが
必要であり、そのため、プラズマディスプレイに、電磁
波シールド性及び近赤外線カット性を有するフィルター
を取り付けることが検討されている。当然のことなが
ら、このフィルターは、可視光に対しては透明性に優れ
ていることが必要である。さらに、場合により、ディス
プレイ前面に取り付けられることから、可視光の反射率
が小さく、防眩性やアンチニュートンリング性に優れて
いることが望まれる。

【０００５】近赤外線カット性に関しては、従来、近赤
外線吸収色素を用いて近赤外吸収フィルターを作製する
ことが知られているが、これには種々の問題がある。例
えば、近赤外線吸収色素として、シアニン類は光に対す
る安定性が悪く実用的でない。また、アントラキノン
類、ナフトキノン類は可視領域の吸収が大きく、これら
を用いて近赤外線吸収フィルターを作製した場合は、フ
ィルターの可視光線透過率が低くなるため問題となる。
一方、フタロシアニン色素は耐光性も高く、７００〜８
００ｎｍ領域での近赤外線光は良く吸収するが、誤動作
が問題になる８００ｎｍ以上の波長はうまく吸収できな
いものもあり、また、ナフタロシアニン色素は比較的高
価である。一般に、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光
といった環境による劣化が生じ、経時とともに近赤外線
カット性やフィルターの色目といった光学特性の変化が
生じてしまう問題があった。

【０００６】プラズマディスプレイは、強度かつ広い近
赤外線波長領域に渡って問題となる近赤外線を発するた
め、広い波長領域に渡って近赤外領域の吸収率の大きい
近赤外吸収フィルターを使用する必要がある。しかし、
問題とならない程度まで近赤外線の透過率を下げるため
には、フィルターに含有させる色素の量を増やさなけれ
ばならず、それに伴う、可視光線透過率の低下が問題と
なる。

【０００７】プラズマディスプレイ用フィルターとして
満たすべき要求性能は、電磁波シールド能等もあるた
め、要求性能の増加に伴う部材の増加は、コストの問題
や、部材の貼り合わせで生じる可視光線透過率減少、貼
り合わせ界面による反射強度の増加等の問題につなが
る。

【０００８】プラズマディスプレイ用フィルターとして
使用する際には、プラズマディスプレイからでる近赤外
線、電磁波をカットするためにディスプレイの前面に設
置するため、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さ
が低下することになる。一般に、ディスプレイ用フィル
ターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも５０％
以上、好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％
以上必要である。

【０００９】また、漏洩電磁界（電磁波）を遮蔽するに
は、ディスプレイ表面を導電性の大きな物体でおおう必
要がある。電磁波の遮蔽のためには、一般的には、アー
スされた金属メッシュ、または合成樹脂または金属繊維
のメッシュに金属被覆したものを用いるが、これらの方
法は、ディスプレイから発する光を透過しない部分が生
じたり、モワレ縞発生、歩留りの悪さによるコスト高な
どが問題となる。そこでＩＴＯ（Indium Tin Oxide）に
代表される透明導電膜を電磁波シールド層に用いること
も検討されている。このような透明導電膜に通常要求さ
れる導電性は、面抵抗として１０⁵ Ω／□以下、好まし
くは１０³ Ω／□以下である。

【００１０】透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、
パラジウムなどの金属薄膜；酸化インジウム、酸化第２
スズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜；金属薄膜と高屈
折率透明薄膜を交互に積層した多層薄膜などがある。こ
の中で、金属薄膜による透明導電膜は、高い導電性は得
られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収に
より、可視光線透過率の高いものは得られない。また、
酸化物半導体薄膜を用いたものは、金属薄膜を用いたも
のに比べて透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤外
線の反射能は乏しい。プラズマディスプレイから生じる
電磁波は非常に強度であり、ＩＴＯを透明導電層とした
電磁波シールド体で、プラズマディスプレイが発する電
磁波を遮蔽するものは得られていない。また、プラズマ
ディスプレイの電磁波シールド能を有し、かつディスプ
レイの透明性を損なわない高透明な電磁波シールド材、
または、さらに近赤外線カット能を有する電磁波シール
ド材も得られていない。

【００１１】これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明薄
膜とを積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性
及び光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域
における金属による反射の防止により、導電性、近赤外
線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好まし
い特性を有している。

【００１２】金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した
多層薄膜を用いた積層体は、特公平８−３２４３６号公
報に開示があるが、プラズマディスプレイの強度の電磁
波、近赤外線を抑止するに十分な性能はなく、また、デ
ィスプレイ用フィルターとしての用途は記載されていな
い。

【００１３】また、透明導電層に薄膜を用いた場合は、
一般に薄膜形成面が耐擦傷性に乏しいという問題点があ
る。また、透明導電層が金属薄膜もしくは金属薄膜を高
屈折率透明薄膜で挟み込んだ多層薄膜である場合は、使
用環境中のガスにより薄膜が化学変化又は物理変化を起
こしてしまう問題がある。特に金属薄膜に銀を用いてい
る場合は、高温高湿下において銀が凝集し、白化現象が
生じ、ディスプレイ用フィルターの視認性が低下してし
まう。したがって、透明導電層として薄膜を用いた場
合、特に金属薄膜と高屈折率透明薄膜を交互に積層した
多層薄膜を用いた場合、薄膜は耐擦傷性、環境安定性に
劣るため、薄膜の保護を目的とした透明保護層を必要と
する場合がある。

【００１４】また、ディスプレイ用フィルターは、ディ
スプレイの全面に設置されることから、高透明、低反射
性が要求される。さらに、場合により、アンチニュート
ンリング層が要求される。このため、直接、又は透明な
粘着材・接着剤を介して反射防止層を薄膜形成面上に設
ける場合や、同じく直接又は透明な粘着材・接着剤を介
してアンチニュートンリング層を薄膜形成面上に設ける
場合がある。

【００１５】しかしながら、透明積層体において、透明
導電層上に透明保護層や、反射防止層、アンチニュート
ンリング層、透明な粘着材層・接着剤層を形成すると、
透明積層体の光学特性の変化、特に、可視光反射強度の
増加とそれに伴う透明性の低下が生じてしまい、ひいて
はこのような透明積層体を用いたディスプレイ用フィル
ターの可視光反射強度の増加とそれに伴う透明性の低下
が生じてしまう。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
従来技術に鑑み、高透明性、さらにはプラズマディスプ
レイから発生する、健康に害をなすといわれている電磁
波を遮蔽する電磁波シールド性、及び、周辺電子機器の
誤操作をまねく近赤外線を遮断する赤外線カット性に優
れる透明積層体、及び、それを用いた電磁波シールド
性、近赤外線カット性、高透明性、低反射性、耐候性・
耐環境性に優れ、さらにまた、防眩性、アンチニュート
ンリング性を兼ね備えたディスプレイ用フィルターを提
供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、プラズマデ
ィスプレイから発生する非常に強度で、特に問題となる
２０〜１００ＭＨｚ帯域の電磁波を遮蔽し、さらには、
プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線光を周辺
機器誤動作が起こらない程度に抑止することができるデ
ィスプレイ用フィルターを得るためには、透明基体
（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、
銀又は銀の合金からなる金属薄膜層（Ｃ）との組合せ
（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上繰り返し
積層され、さらにその上に１層の高屈折率透明薄膜層
（Ｂ）が少なくとも積層されてなる、面抵抗３Ω／□以
下、可視光線透過率５０％以上、８２０ｎｍより長波長
の領域の光線透過率が２０％以下であることを特徴とす
る透明積層体が好ましいことを見いだし本発明を完成す
るに到った。

【００１８】すなわち、本発明は、（１） 透明基体
（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）
と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）と
が、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）との
組合せ（Ｂ）／（Ｃ）を繰返し単位として３回以上繰り
返して積層され、さらにその上に、高屈折率透明薄膜層
（Ｂ）が少なくとも積層されてなり、金属薄膜層と高屈
折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が構成さ
れ、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可
視光線透過率が５０％以上であり、かつ、８２０ｎｍよ
り長波長の領域の光線透過率が２０％以下であることを
特徴とする透明積層体、（２） 繰返し回数が３回であ
って、透明基体から数えて２番目の金属薄膜層が、１番
目および３番目の金属薄膜層より厚いことを特徴とする
（１）記載の透明積層体、（３） 高屈折率透明薄膜層
のうち、透明基体から最もはなれて積層されている高屈
折率透明薄膜層上に、透明な粘着材層または透明な接着
剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が２％以下で
あることを特徴とする（１）又は（２）記載の透明積層
体、（４） 透明基体（Ａ）が透明な高分子成形物であ
ることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の
透明積層体、（５） 高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が、主
として酸化インジウムで構成されることを特徴とする
（１）〜（４）のいずれかに記載の透明積層体、（６）
透明基体（Ａ）が色素を含有していることを特徴とす
る（１）〜（５）のいずれかに記載の透明積層体、
（７） ディスプレイ用フィルターにおいて、（１）〜
（６）のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体
の導電面上に形成された、金属を含む電極とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ用フィルター、（８） 電
極が、導電面上で、かつ、導電面の周縁部に連続的に形
成されていることを特徴とする（７）記載のディスプレ
イ用フィルター、（９） ディスプレイ用フィルターに
おいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体
と、該透明積層体の導電面上に形成された透明保護層
（Ｄ）とを有することを特徴とするディスプレイ用フィ
ルター、（１０） 透明保護層の透湿度が、１０ｇ／ｍ
² ・ｄａｙ以下であることを特徴とする（９）記載のデ
ィスプレイ用フィルター、（１１） 透明保護層が形成
された面における可視光線反射率が２％以下であること
を特徴とする（９）又は（１０）記載のディスプレイ用
フィルター、（１２） 透明保護層の表面に、０．１〜
１０μｍの大きさの微小な凹凸が形成されていることを
特徴とする（９）又は（１０）記載のディスプレイ用フ
ィルター、（１３） ディスプレイ用フィルターにおい
て、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、
透明成形体（Ｅ）とを有し、透明積層体の主面と透明成
形体の一方の主面とが貼り合わせていることを特徴とす
るディスプレイ用フィルター、（１４） 透明成形体の
他方の主面に、反射防止層、アンチグレア層およびアン
チニュートンリング層のいずれかが形成されていること
を特徴とする（１３）記載のディスプレイ用フィルタ
ー、（１５） （１３）のディスプレイ用フィルターの
両方の主面にアンチニュートンリング層が形成されてい
ることを特徴とするディスプレイ用フィルター、（１
６） ディスプレイ用フィルターにおいて、（１）〜
（６）のいずれかに記載の透明積層体と、金属を含む電
極、透明保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチニュートン
リング層、アンチグレア層、および透明成形体（Ｅ）か
らなる群から選ばれた２種類以上の付加層を備えてなる
ことを特徴とするディスプレイ用フィルター、（１７）
電極以外の付加層のいずれかに色素が含有されている
ことを特徴とする（１６）記載のディスプレイ用フィル
ター、（１８） ディスプレイ用フィルターにおいて、
（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、反射
防止層、アンチニュートンリング層およびアンチグレア
層の中から選ばれた１種の層からなる第１の部材と、透
明成形体（Ｅ）と、透明保護層（Ｄ）および金属を含む
電極の中から選ばれた１種以上からなる第２の部材とを
有し、第１の部材、透明成形体、透明積層体、第２の部
材の順に構成されていることを特徴とするディスプレイ
用フィルター、（１９） ディスプレイ用フィルターに
おいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体
と、色素を含有する透明成形物（Ｆ）とを有し、８２０
ｎｍより長波長の領域の光線透過率が１０％以下である
ことを特徴とするディスプレイ用フィルター、（２０）
プラズマディスプレイに取り付けられて使用されるフ
ィルターにおいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の
透明積層体を有し、８２０ｎｍより長波長の領域の光線
透過率が１０％以下であることを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ用フィルターに関するものである。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明の透明積層体は、透明基体
（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）
と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）との
組合せ、（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上
繰り返し積層され、さらにその上に高屈折率透明薄膜層
（Ｂ）が少なくとも積層されてなり、金属薄膜層と高屈
折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が構成さ
れ、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可
視光線透過率が５０％以上であり、８２０ｎｍより長波
長の領域の光線透過率が２０％以下のものである。

【００２０】本発明において、透明基体（Ａ）として
は、ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高
分子成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れに
くいため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視
波長領域において透明であればよく、その種類を具体的
にあげれば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレン
ナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミ
ド、トリアセチルセルロース等が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。これら透明な高分子成形物
は、主面が平滑であれば板（シート）状であってもフィ
ルム状であってもよい。シート状の高分子成形物を基体
として用いた場合には、基体が寸法安定性と機械的強度
に優れているため、寸法安定性と機械的強度に優れる透
明積層体が得られ、特にそれが要求される場合には好適
に使用できる。

【００２１】また、透明な高分子フィルムは可撓性を有
しており透明導電層をロール・ツー・ロール法で連続的
に形成することができるため、これを使用した場合には
効率よく、また、長尺大面積に透明積層体を生産できる
ことや、フィルム状の透明積層体をディスプレイのガラ
スやディスプレイ用フィルターのガラス支持体に貼り付
けることによりガラス破損時の飛散防止になることか
ら、これもまた好適に使用できる。この場合フィルムの
厚さは通常１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィ
ルムの厚さが１０μｍ未満では、基材としての機械的強
度に不足し、厚さが２５０μｍを超えると可撓性が不足
するためフィルムをロールで巻きとって利用するのに適
さない。

【００２２】これらの基体は、その表面に予めスパッタ
リング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子
線照射などのエッチング処理や、下塗り処理を施して、
この基体上に形成される薄膜層の上記基体に対する密着
性を向上させるようにしてもよい。透明基体と薄膜層と
の密着力を増強させるために、例えば、その間に任意の
無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては、ニ
ッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウム、
チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいは
これらの材料の２種類以上からなる合金があげられる
が、特にこれらに限定されるものではない。その厚さ
は、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ま
しくは０．０２ｎｍ〜１０ｎｍ程度である。無機物層の
厚さが薄いと密着力向上の十分な効果が得られず、逆に
厚すぎると透明性が損なわれる。形成される薄膜層が酸
化物であると、該無機物層の金属の一部または全部は、
実際には金属酸化物となっているが、密着力向上の効果
に問題はない。また、薄膜層を成膜する前に、必要に応
じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよ
い。

【００２３】本発明においては、かかる透明基体（Ａ）
の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄
膜層（Ｃ）を交互に積層する。その際、各金属薄膜層
（Ｃ）は、それぞれ両面から高屈折率透明薄膜層（Ｂ）
によってはさまれるように配置する。

【００２４】ところで、電磁波遮蔽は、電磁波シールド
体における電磁波の反射及び吸収の効果によってなされ
る。電磁波の吸収には、電磁波シールド体に導電性が必
要であり、プラズマディスプレイ用電磁波シールド体に
は、非常に低抵抗な導電層が要求される。また、ディス
プレイから発生する電磁波をすべて吸収するには、導電
層にはある値以上の厚みが必要であるが、導電層、つま
り、主たる導電層である金属薄膜層を厚くすると高屈折
率透明薄膜層を用いても可視光線透過率の低いものとな
ってしまう。したがって、多層積層により反射界面を増
やし、電磁波の反射を増やすことも重要である。

【００２５】電磁波シールド能を表すシールド効果は、
電磁波エネルギーをどの程度減衰させるかを表し、その
大きさはデシベル（ｄＢ）で表される。シールド効果
（ＳＥ）は、次に示す式（１）で表される相対評価であ
り、この数値が大きいほどシールド効果があるといえ
る。Ｅｉは入射電界強度、Ｅｔは伝送電界強度つまりシ
ールド体を透過した電磁波の電界強度を示し、いずれも
単位はＶ／ｍである。 ＳＥ＝２０Ｌｏｇ（Ｅｉ／Ｅｔ） （１）

【００２６】漏洩電磁界の規制値は、絶対値である放射
電界強度で示され、その単位はｄＢμＶ／ｍである。測
定対象物から３ｍ離れた規制値は、工業用途を対象とす
る場合は５０ｄＢμＶ／ｍであり、家庭用途を対象とす
る場合は４０ｄＢμＶ／ｍである。プラズマディスプレ
イの放射電界強度は２０〜１００ＭＨｚ帯域内で、対角
２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ
型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えているため、このまま
では家庭用途に使用することはできない。家庭用途とし
ては実用的には放射電界強度を４０ｄＢμＶ／ｍ以下、
好ましくは３５ｄＢμＶ／ｍ以下、より好ましくは３０
ｄＢμＶ／ｍ以下にする必要がある。プラズマディスプ
レイ単体の放射電界強度が５０ｄＢμＶ／ｍである場合
は、１０ｄＢ以上、好ましくは１５ｄＢ以上、より好ま
しくは２０ｄＢ以上のシールド効果を有する電磁波シー
ルドを必要とするのである。

【００２７】本発明者らは、上記のプラズマディスプレ
イに対する十分なシールド効果を達成するには、電磁波
シールド体とすべき透明積層体が、多層積層による多く
の電磁波反射界面を有し、かつ、面抵抗３Ω／□以下、
好ましくは２．５Ω／□以下、さらに好ましくは２Ω／
以下の低抵抗な導電性が必要であることを見いだした。

【００２８】また、プラズマディスプレイは、強度の近
赤外線を発するため、近赤外領域である８００〜１００
０ｎｍの波長領域の光を実用的に問題とならない程度に
カットする必要がある。例えば８２０ｎｍにおける光線
透過率を１０％以下にする必要があるが、部材数低減の
要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から電磁波シー
ルド体自体が近赤外線カット性を持つことが望ましい。
近赤外線吸収色素を併用する場合は、電磁波シールド体
に要求される近赤外線カット性は上記要求性能より低い
ものになるが、電磁波シールド体の近赤外線カット性が
あまり低いと近赤外線吸収色素の必要量が多くなり、従
って可視光線透過率の減少を招いてしまう。そのため、
電磁波シールド体である透明積層体は、８２０ｎｍより
長波長の領域における光線透過率が、２０％以下である
ことが望ましい。

【００２９】近赤外線カットには、金属の自由電子によ
る反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くする
と前述したように可視光線透過率も低くなり、薄くする
と近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さの金属
薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を２
段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、か
つ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことができ、ま
た、層数及び／またはそれぞれの層の厚さを制御するこ
とにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の
透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることが
できる。

【００３０】可視光線透過率が低いと、ディスプレイ設
置時に画像の鮮明さが低下するため、ディスプレイ用フ
ィルターの可視光線透過率は高い方が良く、少なくとも
５０％以上、好ましくは６０％以上、さらに好ましくは
７０％以上必要である。そのため、透明積層体の可視光
線透過率は、少なくとも５０％以上、好ましくは６０％
以上、さらに好ましくは７０％以上である。

【００３１】ディスプレイの発光輝度が高いと、コント
ラストをあげるためにニュートラル・デンシティ（Ｎ
Ｄ）フィルターが必要となる場合があり、ディスプレイ
用フィルターはＮＤフィルターの役割も果たすことが好
ましい。従ってディスプレイ用フィルターの可視光線透
過率は８０％以下であることを要求されることもある。
さらにフィルターの透過色は、ディスプレイのコントラ
スト等に大きく影響し、プラズマディスプレイ用フィル
ターには、緑色は不適であり、ニュートラルグレー、ま
たは、ニュートラルブルーであることが要求される。さ
らに、可視光線反射率が高いと、画面への照明器具等の
映り込みが大きくなり、視認性が低下する。反射色とし
ても、目立たない、白色、青色、紫色系が好ましい。こ
のためにも、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好
ましくなる。なお、本発明における可視光線透過率、可
視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性か
ら、ＪＩＳ（日本工業規格） Ｒ−３１０６に従って計
算されるものである。

【００３２】本発明の透明積層体において、金属薄膜層
（Ｃ）は、銀又は銀を含む合金からなる薄膜層である。
なかでも銀は、導電性、赤外線反射性および多層積層し
たときの可視光線透過性に優れているため好適に使用で
きる。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境
中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するた
め、銀に、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、ス
ズ等の環境に安定な金属を一種以上含んだ合金も好適に
使用できる。ここで、銀を含む合金の銀の含有率は、特
に限定されるものではないが銀単体薄膜の導電性、光学
特性と大きく変わらないことが望ましく、５０重量％以
上１００重量％未満程度とすることが好ましい。一般
に、銀に他の金属を添加すると、銀の優れた導電性、光
学特性を阻害するので、可能であれば、多層薄膜を構成
する複数の金属薄膜層のうち少なくとも１つの層は、銀
を合金にしないで用いることが望ましい。金属薄膜層の
すべてが、合金ではない銀からなる場合、優れた導電性
および光学特性を有する透明積層体が得られるが、耐環
境性が必ずしも十分ではない。

【００３３】本発明の透明積層体は、上述したように、
面抵抗３Ω／□以下、可視光線透過率５０％以上、８２
０ｎｍより長波長の領域（少なくとも８２０〜１０００
ｎｍの領域）の光線透過率が２０％以下であることを特
徴とする透明積層体である。このような透明積層体は、
透明基体（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層
（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層
（Ｃ）との組合せ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として
３回以上繰り返し積層し、さらにその上に１層の高屈折
率透明薄膜層（Ｂ）を少なくとも積層することによって
得られ、電磁波のシールド性のための電磁波反射界面数
の多い、低抵抗性、近赤外線カット性、透明性に優れた
ものである。

【００３４】本発明において、繰り返し積層数は、３回
〜６回が好ましい。つまり、本発明による透明積層体の
好ましい層構成は、（１）透明基体／高屈折率透明薄膜
層／銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（以下、金
属薄膜層という）／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／
高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜
層、または、（２）透明基体／高屈折率透明薄膜層／金
属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率
透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄
膜層／高屈折率透明薄膜層、または、（３）透明基体／
高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層
／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈
折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金
属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、（４）透明基
体／高屈折率透明薄膜層／銀又は銀を含む合金／高屈折
率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属
薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透
明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜
層／高屈折率透明薄膜層である。繰り返し回数が２回以
下であると、近赤外線の低透過率、可視光線の低反射
率、低抵抗性を同時に達成するのは困難であり、繰り返
し回数が７回以上だと生産装置の制限、生産性の問題が
大きくなり、また、可視光線透過率が低くなる。

【００３５】金属薄膜層の厚さは導電性、光学特性等か
ら光学設計的かつ実験的に求められ、透明積層体が要求
特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等
の観点から、金属薄膜層における金属原子の集合状態が
島状構造ではなく連続状態であることが必要なので、金
属薄膜層の４ｎｍ以上であることが望ましい。金属薄膜
層が厚すぎると透明性が問題になるので３０ｎｍ以下が
望ましい。

【００３６】金属薄膜層に隣接する高屈折率透明薄膜層
が酸化物であると、金属薄膜層の金属の一部は、実際に
は金属酸化物となっていることがある。しかしながら、
金属薄膜層におけるこのような金属酸化物の領域は、非
常に薄い領域であるため光学設計及び成膜上において、
問題となることはない。また、ｎ層（ｎ≧３）ある金属
薄膜層は、同じ厚さとは限らない。各金属薄膜層の組成
も同一とは限らない。すなわち、金属薄膜層の積層順に
応じて、金属薄膜層中の銀の含有量や、銀以外に使用す
る金属の種類を変えるようにしてもよい。金属薄膜層の
形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真
空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用で
きる。

【００３７】本発明において高屈折率透明薄膜層（Ｂ）
とは、可視光に対して透明性を有し、金属薄膜層との屈
折率の差によって、金属薄膜層における可視域の光線反
射を防止する効果を有するものであれば特に限定される
ものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６以
上、好ましくは１．７以上の屈折率の高い材料が用いら
れる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料とし
ては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、
スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジ
ウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等
の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛
などが挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金
属と酸素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレがあっ
ても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し
支えない。なかでも、酸化インジウムや酸化インジウム
と酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加
えて、成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が良好で
あることから好適に使用できる。また、ＩＴＯといった
比較的高い導電性を持つ酸化物半導体薄膜を用いること
によって、電磁波の吸収層を増やし、また透明積層体の
導電性を上げることができる。

【００３８】各高屈折率透明薄膜層の厚さは、透明基体
の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、高
屈折率透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的
に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以
上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好まし
くは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。また、ｍ層
（ｍ≧４）ある高屈折率透明薄膜は、同じ厚さとは限ら
ず、また、同じ透明薄膜材料でなくともよい。高屈折率
透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレー
ティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工
等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。

【００３９】各種の成膜方法の中でスパッタリングは、
膜厚制御、多層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈
折率透明薄膜層を容易に繰り返し連続的に成膜できる。
具体例として実施例において後述するが、主として酸化
インジウムで構成される高屈折率透明薄膜層と銀または
銀を含む合金からなる金属薄膜層をスパッタリング法に
より連続成膜する。主として酸化インジウムで構成され
る高屈折率透明薄膜層の形成には、インジウムを主成分
とする金属ターゲットまたは酸化インジウムを主成分と
する焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングを
行う。反応性スパッタリング法においては、スパッタガ
スにはアルゴン等の不活性ガス、反応性ガスには酸素を
用い、通常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）
あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法
等が利用できる。酸素ガス流量は得られる成膜速度等か
ら実験的に求められ、所望の透明性を持つ薄膜が得られ
るように制御する。銀または銀を含む合金からなる金属
薄膜層の形成には、銀または銀を含む合金をターゲット
としたスパッタリングを行う。スパッタガスには、アル
ゴン等の不活性ガスを用い、通常、圧力０．１〜２０ｍ
Ｔｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネ
トロンスパッタリング法等が利用できる。

【００４０】本発明において、透明積層体の機械的強度
や耐環境性を向上させるために、透明基体（Ａ）の導電
面ではない面に透明性を有するハードコート層を設けた
り、導電面の最表面に、導電性、光学特性を損なわない
程度に任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層
の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着
性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜
層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の
無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては銅、
ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チ
タン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこ
れらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。そ
の厚さは、好ましくは０．０２ｎｍ〜２ｎｍ程度で、厚
さが薄すぎると密着力向上の十分な効果が得られない。
高屈折率透明薄膜層が酸化物であると、該無機物層の金
属の一部または全部は、実際には金属酸化物となってい
るがその効果に問題はない。さらには、透明積層体の主
面に単層又は多層の任意の反射防止層を設けることによ
って、さらに透過率の高い透明積層体を得ることもでき
る。

【００４１】所望の光学特性の透明積層体を得るには、
透明基体および薄膜材料の屈折率、消光係数を用いたベ
クトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光
学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決
定する。また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等
を制御して成膜を行うこともできる。

【００４２】しかしながら、金属薄膜層を高屈折率透明
薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねた多層積層
の透明積層体は、透明な粘着材・接着剤を介して機能性
フィルムを薄膜形成面上に貼り合わせたり、薄膜保護を
目的とした透明保護層を薄膜形成面上に直接形成したり
すると、一般に光学特性が変化しやすく、特に可視光線
反射強度の増加とそれに伴う透過率の低下が生じてしま
う。これは、透明積層体への光の入射または出射媒体と
して屈折率１、消光係数０の真空または空気を用いて光
学設計を行うことや、成膜時の観察を、同様の条件下で
行っていることに起因していた。透明積層体が真空また
は空気中で可視光線反射強度が低くなるよう、光学設計
または成膜を行った場合、そのままでは可視光線反射強
度の低い透明積層体が得られる。しかしながら、透明な
粘着材・接着剤や透明保護層といった隣接層が薄膜形成
面上に形成されると、光の入射または出射媒質の光学特
性、特に屈折率が異なるため、透明薄膜層と媒質の間の
界面反射が変化すること、また、各薄膜層間、各薄膜層
−媒質間の光の干渉状態が変化するためで、光学特性、
特に可視光線波長領域における反射強度が変化してしま
う。以下の説明においては、金属薄膜層と高屈折率透明
薄膜層からなる多層積層構造のことを透明多層薄膜と呼
ぶ。

【００４３】従って、光の入射または出射媒質を、薄膜
形成面上に形成する予定の隣接層の屈折率、消光係数を
用いて、光学設計を行えばよい。隣接層は、先述した透
明な粘着材層・接着剤層や透明保護層であり、その厚み
は通常１μｍ以上、薄くとも０．５μｍ以上であり、透
明多層薄膜の厚みに比べ十分厚いので、光の入射または
出射媒質と見なせる。透明な粘着材・接着剤または透明
保護層に用いる材料の屈折率や消光係数は、アッベ屈折
計や、エリプソメトリー（楕円偏光解析法）等を用いる
ことによって測定することができる。また、高屈折率透
明薄膜層（Ｂ）、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜
層（Ｃ）の屈折率、消光係数はエリプソメトリー等を用
いることができる。

【００４４】アドミッタンス図を用いる方法は、透明基
体の光学定数（屈折率、消光係数）、透明基体上に形成
する薄膜の光学定数及び膜厚、さらにその上に形成する
第１層の薄膜の光学定数及び膜厚、さらにまたその上に
形成する第２層の薄膜の光学定数及び膜厚、・・・に従
って、積層体の光学アドミッタンスを求める手法で、光
の入射または出射媒質の光学アドミッタンスに近い値に
設計するほど媒質と透明薄膜層の界面反射を小さくする
ことができる。従って、透明積層体の光学アドミッタン
スと隣接層の光学アドミッタンスに近い値に設計するほ
ど媒質と透明薄膜層の界面反射を小さくすることができ
る。光学アドミッタンスはガウス単位系では複素屈折率
Ｎに数値的に等しいものである。ここでＮはＮ＝ｎ−ｉ
・ｋ（ｎ：屈折率、ｋ：消光係数）である。複素屈折率
つまりは光学アドミッタンスは波長に依存している。

【００４５】ところで、ヒトにおいては、５００〜６０
０ｎｍの波長領域は視感度が高いため、この波長領域の
反射を低くすることにより、視感上の可視光線反射率を
低下させることができる。従って、この波長領域の光学
アドミッタンスを重視して光学設計を行えばよい。

【００４６】機能性フィルムを透明積層体の薄膜形成面
上に貼り合わせる際には、透明な粘着材・接着剤を用い
る。具体的な材料として、アクリル系接着剤、シリコン
系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接
着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶ
Ａ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステ
ル、メラミン樹脂等があげられる。このような透明な粘
着材や接着剤の光学特性は、５００〜６００ｎｍにおい
て屈折率は１．４５〜１．７程度、消光係数はほぼ０で
ある。

【００４７】透明積層体は、その表面、裏面を考慮した
反射すなわち両面の反射が、透明多層薄膜の形成面上、
すなわち最上層の高屈折率透明薄膜層（Ｂ）上に透明な
粘着材・接着剤を形成しても、反射が大きく増加しない
ことが好ましい。すなわち、透明基体／透明多層薄膜／
透明な粘着材・接着剤の両面の反射が、透明積層体、す
なわち透明基体／透明多層薄膜の両面の反射より大きく
増加しないことが好ましい。好適には、可視光線反射率
の増加が２％以下であり、さらに好適には１％以下で、
さらには、可視光線反射率が増加しない、またさらには
可視光線反射率が減少することが好適である。このよう
な透明積層体を得ることによって、透明な粘着材・接着
剤を介して貼り合わせを行っても、可視光線反射率の低
く、それにともなって可視光線透過率の高いディスプレ
イ用フィルターを得ることができるのである。

【００４８】透明な粘着材・接着剤を介して貼り合わせ
を行うことを考慮して、光学アドミッタンスを用いる手
法で光学設計を行うと、透明基体（Ａ）の一方の主面上
に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）および銀又は銀を含む合
金からなる金属薄膜層（Ｃ）との組合せ（Ｂ）／（Ｃ）
を繰り返し単位として３回繰り返し積層し、さらにその
上に１層の高屈折率透明薄膜層（Ｂ）を積層し、かつ、
透明基体（Ａ）から数えて２番目の金属薄膜層（Ｃ）
を、１番目および３番目の金属薄膜層（Ｃ）より厚くす
ることにより、透明な粘着材・接着剤の光学アドミッタ
ンスに近い光学アドミッタンスを有する透明積層体を得
ることができ、従って、透明な粘着材・接着剤を薄膜形
成面上に形成しても、可視光線反射率の増加が２％以下
である透明積層体を得ることができることが分かった。

【００４９】上記の方法により形成した、高屈折率透明
薄膜層および銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層の
原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、誘導結合
プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフォード後方散乱法（ＲＢ
Ｓ）等により測定できる。また、層構成および膜厚は、
オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡に
よる断面観察等により測定できる。また膜厚は、成膜条
件と成膜速度の関係をあらかじめ明らかにした上で成膜
を行うことや、水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニ
タリングにより制御できる。

【００５０】上記のようにして本発明の透明積層体を得
るが、先述した様に、薄膜は耐擦傷性、耐環境性に乏し
く、薄膜が剥き出しのままではディスプレイ用フィルタ
ーとして使用することが難しい。従って、薄膜を保護す
る透明保護層（Ｄ）を形成することが好ましい。本発明
でいうところの透明保護層（Ｄ）とは、可視波長領域に
おいて透明であり、かつ、薄膜を保護する機能を有する
もので、該機能を有する膜、該機能を有する高分子フィ
ルム、高分子シート、ガラス等の透明な成形物、また
は、該機能を有する膜が形成されているものを示してい
る。透明保護層（Ｄ）を形成する基体に、該機能を有す
る膜を塗布、印刷または従来公知の各種成膜法により形
成しても、該機能を有する膜を形成した透明な成形物、
または、該機能を有する透明な成形物を任意の透明な粘
着材・接着剤を介して貼り付けても良い。これら透明保
護層の作成方法は特に制限を受けない。透明な成形物の
種類、厚さも特に制限を受けない。

【００５１】本発明の透明積層体を構成する銀は、化学
的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気等
によって劣化し、凝集、白化現象を起こすため、透明積
層体の薄膜形成面には、薄膜が使用環境中の汚染物質、
水蒸気にさらされないようにガスバリア性を有する層で
被覆することが肝要である。

【００５２】該透明保護層（Ｄ）がガスバリア性を有し
ていると好適である。必要とされるガスバリア性は、透
湿度で１０ｇ／ｍ² ・ｄａｙ以下、好ましくは５ｇ／ｍ
² ・ｄａｙ以下、さらに好ましくは１ｇ／ｍ² ・ｄａｙ
以下である。本発明でいうところのガスバリア性を有す
る透明保護層とは、可視波長領域で透明かつ前記ガスバ
リア性を有する層であり、ガスバリア性を有する膜、又
は、ガスバリア性を有する膜が形成されている透明な成
形物、ガスバリア性を有する透明な成形物などが挙げら
れる。

【００５３】ガスバリア性を有する透明保護層を透明積
層体に設ける際には、ガスバリア性を有する膜を、化学
的気相成長法（ＣＶＤ）、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、塗布、印刷、その他従来公知の各種
成膜法により形成しても良いし、ガスバリア性を有する
高分子フィルム、高分子シート、ガラス、または、ガス
バリア性を有する膜を形成した高分子フィルム、高分子
シートを任意の透明な粘着材・接着剤を介して貼り付け
ても良いし、さらには部材を貼り合わせる透明な粘着材
・接着剤がガスバリア性を有していても良い。これらガ
スバリア性を有す透明保護層の作製方法は特に制限を受
けない。

【００５４】ガスバリア性を有する膜の具体例として
は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化イン
ジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム等、また
はこれらの混合物、またはこれらに他の元素を微量に添
加した金属酸化物薄膜や、ポリ塩化ビニリデンほか、ア
クリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレ
タン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、特にこれ
らに限定されるものではない。これら膜の厚さは、金属
酸化物薄膜の場合１０〜２００ｎｍ、樹脂の場合１〜１
００μｍ程度であり、単層でも多層でも良いが、これも
また特に制限されるものではない。

【００５５】また、水蒸気透湿度が低い高分子フィルム
としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、
ポリ塩化ビニリデンや、塩化ビニリデンと塩化ビニル、
塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素
系樹脂等が挙げられるが、透湿度が１０ｇ／ｍ² ・ｄａ
ｙ以下、好ましくは５ｇ／ｍ² ・ｄａｙ以下、さらに好
ましくは１ｇ／ｍ² ・ｄａｙ以下であれば特に限定され
るものではない。透湿度が比較的高い場合でも、フィル
ムの厚みを増やすことや適当な添加物を加えることによ
り、透湿度は低下する。従って、上記の透湿度を達成す
るに十分な厚みを有するポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等
でも良い。

【００５６】電磁波に対するシールドとして本発明のデ
ィスプレイ用フィスターを用いる場合、透明積層体の導
電面に電極を設けてディスプレイの本体と透明積層体と
を電気的に接続することが広く行われている。このた
め、透明保護層（Ｄ）を形成する際に肝要なことは、デ
ィスプレイ用フィルターの導電面に形成される金属を含
む電極とディスプレイ本体との電気的接触を妨げないよ
うにすることである。すなわち、電極形成部分を除いて
薄膜形成面全てを透明保護層（Ｄ）で被覆するようにす
れば良い。

【００５７】銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜の劣
化を抑制するには、上述したような透明保護層を設ける
ほか、銀又は銀を含む合金の劣化を抑制する化合物を任
意の溶剤に溶かし込み、本発明の透明積層体の薄膜形成
面の表面または端面に塗布しても良い。

【００５８】本発明において、透明積層体あるいはディ
スプレイ用フィルターを構成する各部材の貼り合わせに
は、任意の透明な粘着材・接着剤を使用できる。この際
肝要なことはディスプレイからの光線透過部である中心
部分に用いられる粘着材または接着剤は可視光線に対し
て充分透明である必要がある。粘着材または接着剤は、
実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のも
のでもよい。粘着材は感圧型接着剤でシート状のものが
好適に使用できる。シート状粘着材貼り付け後または接
着材塗布後に各部材をラミネートすることによって貼り
合わせを行う。液状のものは塗布、貼り合わせ後に室温
放置または加熱により硬化する接着剤であり、接着剤の
塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、
グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が
挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考
慮、選定される。粘着材もしくは接着剤層の厚みは、特
に限定されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、
好ましくは１μｍ〜３０μｍである。粘着材または接着
剤を用いて貼り合わせた後は、貼り合わせ時に部材間に
入り込んだ空気を脱泡または、粘着材または接着剤に固
溶させ、さらには部材間の密着力を向上させる為に、加
圧、加温の条件で養生を行うことが好ましい。このと
き、加圧条件としては、一般的に数気圧〜２０気圧以下
程度であり、加温条件としては各部材の耐熱性に依る
が、一般的には室温以上、８０℃以下程度であるが、こ
れらに特に制限を受けない。

【００５９】また特に、ある種の機能を有するフィルム
を透明積層体の薄膜形成面側に貼り合わせる場合、その
際に使用する透明な粘着材・接着剤が、または、接着剤
・粘着材／該フィルムの水蒸気透湿度が１０ｇ／ｍ² ・
ｄａｙ以下、好ましくは５ｇ／ｍ² ・ｄａｙ以下、さら
に好ましくは１ｇ／ｍ² ・ｄａｙ以下のガスバリア性を
有している場合は、より好適に使用できる。

【００６０】一般に、電磁波シールドを必要とする機器
には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに
導電性材料を使用して電波を遮蔽する。ディスプレイの
如く透明性が必要である場合には、透明導電層膜を形成
した窓状の光学部材すなわちディスプレイ用フィルター
を設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電
荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃
がさないと、再び電磁波シールド体がアンテナとなって
電磁波を発振し電磁波遮蔽能が低下する。従って、電磁
波シールド性を付与したディスプレイ用フィルターは、
ディスプレイ装置本体のケース内部の導電部に、電気的
にオーミックにコンタクトしていることが好ましい。そ
のため、透明積層体は通電部分である薄膜形成面が一部
剥き出されており、前述の透明保護層をはじめとする薄
膜形成面に形成される層は、電気的接触を得る部分以外
に形成されている必要がある。

【００６１】透明積層体に対する電気的接触を良好とす
るために、透明積層体の導電面に金属を含む電極を形成
することが好ましい。電極形状は特に限定するものでは
ない。しかしながら、ディスプレイ用フィルターと電磁
波シールドを必要とする機器の間に、電磁波の漏洩する
隙間が存在しないことが肝要であり、また、金属を含む
電極と透明導電層の間に空気の層が存在しないことが重
要である。従って、透明積層体の導電面すなわち薄膜形
成面上且つ周縁部に連続的に、金属を含む電極を形成す
ると好適である。すなわち、ディスプレイからの光線透
過部である中心部分を除いて、枠状にかつ凹凸がないよ
うに金属を含む電極を形成する。これは、電極が、透明
導電層で電磁波が吸収されたときに誘起される電荷を効
率的にディスプレイ本体のケース内部へ逃がす役割も担
っているからである。電極形状の具体例を図１に示す。
透明成形体３０の上に透明積層体１０が形成され、か
つ、透明積層体１０の表面に、矩形の枠状に電極２０が
形成されている。電極２０は透明積層体１０の周縁部に
沿って配置している。なお、電極の形状はここに示すも
のに限定されるものではない。

【００６２】また、透明積層体の透明導電層（透明多層
薄膜）、金属を含む電極、ディスプレイ本体のケース内
部の比抵抗が大きく異なると、これらの接触部分でイン
ピーダンス差が生じ、その部分で電磁波が放出されてし
まう。通常、ケース内部の導電層は金属層であり、比抵
抗は１０^-5Ω・ｃｍ以下であるのに対し、透明導電層の
比抵抗は１０^-5〜１０^-4Ω・ｃｍ以上である。従って、
電極は比抵抗１×１０ ^-3Ω・ｃｍ以下であることが好ま
しい。

【００６３】電極に用いる材料は、導電性、耐触性およ
び導電面との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニ
ッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、等の単体も
しくは２種以上からなる合金や、合成樹脂と銀または銀
を含む合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスと銀
または銀を含む合金の混合物からなる銀ペーストを使用
できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ
法など、銀ペーストといったものは印刷、塗工する方法
など従来公知の方法を採用できる。金属を含む電極の厚
さは、これもまた特に限定されるものではないが、一般
的には、数μｍ〜数ｍｍ程度である。

【００６４】電極が形成されていない透明積層体をディ
スプレイ用フィルターとして用いた場合、このディスプ
レイ用フィルターにおいて、ディスプレイ本体と電気的
に接触する部分は、通電部である透明導電層が剥き出し
となる。透明導電層に用いられる薄膜は、先述した如
く、耐擦傷性、耐環境性に乏しいため、ディスプレイ本
体との電気的接触部分において透明導電層が剥き出しに
なっていると、信頼性の低下等につながる。このため、
ディスプレイ用フィルターとして用いる場合には、透明
導電層が剥き出しではなく、電極が形成されていること
が肝要なのである。金属を含む電極が十分厚い場合は、
電極が透明導電層の保護層となり、耐擦傷性、耐環境性
を付与することができる。このように、全透明導電層形
成面上が、透明保護層か電極で被覆されていることが望
ましい。どちらも形成されていない部分が存在すると、
その部分から環境中の汚染物質、水蒸気が入り込み、白
化現象が生じてしまう。

【００６５】透明基体（Ａ）として高分子フィルムを用
いた場合、前記のようにして得られた透明積層体は、強
度やディスプレイとの貼り合わせ時の平面性、設置方法
などの観点から、主面の平滑な板状の透明成形体（Ｅ）
と貼り合わせて用いることが望ましい。貼り合わせは、
透明成形体（Ｅ）の主面と、透明積層体の薄膜形成面で
ない主面を透明な粘着材・接着剤を介して行うと、電極
を形成し易く、かつ、ディスプレイ本体と電気的接触を
得るのに好適である。

【００６６】電磁波シールド能を必要としないディスプ
レイ用フィルターの場合、貼り合わせは透明積層体のど
ちらの主面でも良い。このとき、薄膜形成面を透明成形
体（Ｅ）の主面と貼り合わせる場合は透明な粘着材・接
着剤及び／又は透明成形体（Ｅ）が透明保護層の役割を
有していればよい。

【００６７】透明成形体としては、機械的強度や、軽
さ、割れにくさから、可視域において透明なプラスチッ
ク板が望ましいが、熱による変形等の少ない熱的安定性
からガラス板も好適に使用できる。プラスチック板の具
体例を挙げると、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）
をはじめとするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
透明ＡＢＳ樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定
されるものではない。特にＰＭＭＡはその広い波長領域
での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用でき
る。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわ
まずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に限
定されるものではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度で
ある。ガラス板を透明成形体（Ｅ）として使用する場合
は、機械的強度を付加するために化学強化加工または風
冷強化加工を行った半強化ガラス板または強化ガラス板
を用いることが望ましい。

【００６８】ディスプレイ用フィルターは、フィルター
の主面とディスプレイ表面を密着させて使用する場合、
ディスプレイ表面とディスプレイ用フィルターの密着度
が部分によって異なるために、それによって生じる間隙
を原因とするニュートンリングが発生してしまう。その
ため、ディスプレイ用フィルターのディスプレイ表面と
密着する主面上には、アンチニュートンリング層を形成
することが好ましい。電磁波シールドを目的としてディ
スプレイ用フィルターとの電気的接触を得る場合、アン
チニュートンリング層が金属を含む電極とディスプレイ
本体との接触を妨げることがあってはならない。

【００６９】また、ディスプレイへの照明器具等の映り
込みによって表示画面が見づらくなってしまうため、デ
ィスプレイ用フィルターの人側すなわち装着したときの
ディスプレイ本体側の反対側の面に、反射防止層を形成
することにより外光反射を抑制するか、アンチグレア層
を形成することによって防眩性を持たせることが必要で
ある。さらに、ディスプレイ用フィルターの外光反射
は、装着したときのディスプレイ本体側の面にも反射防
止層を形成することによって、さらに低減できる。ま
た、反射防止層の形成により、ディスプレイ用フィルタ
ーの反射を減じることによって、光線透過率を向上させ
ることができる。アンチグレア層、反射防止層もまた、
透明積層体の導電面側に形成される場合は、金属を含む
電極とディスプレイ用フィルターの電気的接触を妨げて
はならない。

【００７０】ここで、アンチニュートンリング層、アン
チグレア層、反射防止層とは、各機能を有する膜、また
は、対応する機能を有する膜が形成されているものを示
しているのであって、各層を形成する基体に、各機能を
有する膜を塗布または印刷または従来公知の各種成膜法
により形成しても、各機能を有する膜を形成した透明成
形物、または、各機能を有する透明成形物を任意の透明
な粘着材・接着剤を介して貼り付けても良い。これらの
作成方法は特に制限を受けない。透明成形物の種類、厚
さも特に制限を受けない。

【００７１】透明積層体の、透明導電層側にアンチニュ
ートンリング性及び／又はアンチグレア性、又は反射防
止性が要求される場合に、透明保護層（Ｄ）がアンチニ
ュートンリング性及び／又はアンチグレア性、又は反射
防止性を有していると好適である。この場合は、透明保
護層（Ｄ）上にさらに各機能を有する層を形成する必要
がない。また、逆に、アンチニュートンリング層、アン
チグレア層、反射防止層が、透明保護層の役割、すなわ
ち耐擦傷性やガスバリア性等を有している場合も好適で
ある。これらは、構成部材数または構成層数が減ること
により工程、コスト、部材間の界面反射を減じることが
できるからである。

【００７２】反射防止層は、反射防止膜を形成する基体
の光学特性を考慮し、前述したような光学設計によって
反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定す
る。反射防止層は、反射防止膜が形成されている面の可
視光線反射率が２％以下、好ましくは１．５％以下、よ
り好ましくは０．５％以下の性能を有することが望まし
い。反射防止膜が形成されている面の可視光線反射率
は、反対面（反射防止膜が形成されていない面）をサン
ドペーパーで荒らし、黒色塗装等により、反対面の反射
を無くして、反射防止膜が形成されている面のみでおこ
る反射光を測定することにより測定される。

【００７３】反射防止層として具体的には、可視域にお
いて屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、
フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコ
ン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学
膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化
物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、
硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル
樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多
層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容
易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積
層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有
し、基体の光学特性による光学設計の制限が少ない。こ
れらの無機化合物薄膜は、スパッタリング、イオンプレ
ーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗
工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化
合物薄膜は、湿式塗工等、従来公知の方法を採用でき
る。

【００７４】また、先述した如く、透明積層体の薄膜形
成面側に形成する反射防止層、すなわち、反射防止膜、
反射防止膜を形成した透明な成形物、または、反射防止
膜を有する透明な成形物が、ガスバリア性を有している
と、部材低減につながるため、好適である。具体例とし
ては、酸化珪素やフッ素系樹脂を１／４波長の光学膜厚
で単層形成したポリエチレンテレフタレートフィルム
や、フッ素系樹脂フィルムが挙げられ、これらは、水蒸
気透湿度が低く、また、反射防止能を有している。さら
には薄膜上に形成することによって耐擦傷性を付与する
ことができる。

【００７５】本発明でいうところのアンチニュートンリ
ング層とアンチグレア層は、用途が異なるだけで、０．
１μｍ〜１０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する
可視光線に対して透明な層を指している。アンチニュー
トンリング層はアンチグレア性を有している。特に具体
的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系
樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂
等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、
アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散
させインキ化したものを、バーコート法、リバースコー
ト法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート
法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒
径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹脂、
シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型
樹を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有す
る型を押しつけ硬化することによってもアンチニュート
ンリング層またはアンチグレア層を得ることができる。
さらには、例えばガラス板をフッ酸等でエッチングする
ように、基体を薬剤処理することによってもアンチグレ
ア層を得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤
のエッチング性により、アンチグレア層のヘイズを調節
する事ができる。要は適当な凹凸を有することが重要で
あり、必ずしも上記方法に限定されるものではない。ア
ンチグレア層またはアンチニュートンリング層のヘイズ
は０．５％以上２０％以下であり、好ましくは１％以上
１０％以下である。ヘイズが小さすぎるとアンチグレア
能またはアンチニュートンリング能が不十分であり、ヘ
イズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディス
プレイの視認性が悪くなる。

【００７６】また、透明積層体の薄膜形成面側の主面
に、アンチニュートンリング性及び／又はアンチグレア
性を要する場合、アンチニュートンリング及び／又はア
ンチグレア性を有する膜、またはアンチニュートンリン
グ及び／又はアンチグレア性を有する膜を形成した透明
な成形物、または、アンチニュートンリング及び／又は
アンチグレア性を有する透明な成形物が、ガスバリア性
を有していると、部材低減につながるため、好適であ
る。具体例としては、前述の透明保護層中に上記のよう
な無機化合物または有機化合物の粒子を分散させて透明
保護層がアンチニュートンリング性及び／又はアンチグ
レア性を付与する。また、アンチニュートンリング及び
／又はアンチグレア性を有する膜を形成したポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが水蒸気透湿度が低い場合
は、このフィルムを薄膜形成面上に透明な粘着材・接着
剤を介して貼り合わせればよく、薄膜上に形成すること
によって耐擦傷性も付与することができる。

【００７７】ディスプレイ用フィルターがディスプレイ
本体に密着せずに離れて設置される場合等、ディスプレ
イ用フィルターのアンチグレア層がディスプレイ表面か
ら比較的距離があると、画像の拡散によるボケが生じる
場合がある。この為このような設置方法の場合は、アン
チグレア層は防眩性を維持し、且つ、ディスプレイから
適当距離はなしても画像のボケのないヘイズのものを選
択することが肝要である。

【００７８】本発明のディスプレイ用フィルターは、上
述したように、透明積層体と、金属を含む電極、透明保
護層（Ｄ）、反射防止層、アンチニュートンリング層、
アンチグレア層、および透明成形体（Ｅ）からなる群か
ら選ばれた２種類以上の付加層を備えてなることが好ま
しい。

【００７９】さらには、ディスプレイ用フィルターに耐
擦傷性を付加させるために、特にフィルターのディスプ
レイ側でない方の表面に、光学特性をはじめとするディ
スプレイ用フィルターの特性を損なわない程度に透明性
を有するハードコート層を形成しても良い。アンチグレ
ア層がハードコート性を有していても良いし、反射防止
層がハードコート性を有していても良い。ハードコート
層が透明積層体の薄膜形成面側に要される場合は、透明
保護層がハードコート性を有していると好適である。

【００８０】ところで、ディスプレイ表面には、静電気
帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触し
たときに放電して電気ショックを受けることがあるた
め、静電防止処理を行うことが必要とされる場合があ
る。静電防止能については、ディスプレイ表面に導電層
を直接形成するか、導電層を有する部材をディスプレイ
表面に張り付け、導電層をアースすることにより解決で
きる。従って、ディスプレイ用フィルターに静電防止能
を付与するために、ディスプレイ用フィルターの利用者
側となる面に、導電層を設けても良い。この場合に導電
層は面抵抗で１０⁸Ω／□程度以下であれば良く、ま
た、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうもので
あってはならない。

【００８１】静電防止能を有するディスプレイ用フィル
ターは、静電防止用の透明導電層が以下のように形成さ
れていればよい。（１）アンチグレア層上に透明導電層
を形成する、（２）反射防止層またはアンチグレア層が
透明導電性を有している、である。（１）の方法では、
すでに述べたＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜を
前述したような方法で成膜するか、ＩＴＯを成膜した高
分子フィルムを貼り合わせることによって、静電防止用
の透明導電層を形成する。この際肝要なことは、静電防
止用の透明導電層を形成しても防眩性をあまり損なわな
いことである。アンチグレア層上に静電防止用の透明導
電層を形成する場合は、静電防止能の要求する導電性は
比較的低くて良いため、防眩性を損なわない程度の薄い
膜で十分効果がある。（２）の方法では、アンチグレア
層中にＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとす
る導電性超微粒子を分散させたものであり、反射防止層
の場合は、反射防止層の構成要素として透明導電膜を含
めて光学設計を行えばよい。具体例を挙げれば、基体／
ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物、基
体／ＩＴＯ／含フッ素化合物等が挙げられる。

【００８２】本発明の透明積層体は、電磁波シールド能
に加え、近赤外線カット性を有するが、透明積層体が８
２０ｎｍより長波長の領域での光線透過率が１０％満た
ない場合、積層体の近赤外線カット能を補填するため
に、近赤外線吸収色素を併用しても良い。また、先述し
たように、ディスプレイ用フィルターはニュートラルグ
レーまたはニュートラルブルーの透過色が望ましく、積
層体の色調を調整し、上記のような透過色のディスプレ
イ用フィルターを得るために、可視領域に吸収のある市
販の色素を調色用色素として併用しても良い。

【００８３】色素を含有させる方法としては、（１）透
明積層体の透明基体（Ａ）に色素を含有させたり、
（２）透明積層体に貼り合わせられたり、透明積層体に
形成される透明成形体（Ｅ）、透明保護層（Ｄ）、反射
防止層、アンチグレア層、アンチニュートリング層、ハ
ードコート層のいずれか１つ以上に色素を含有させた
り、（３）貼り合わせに使用される透明な粘着材・接着
剤のいずれか一つ以上に色素を含有させたり、（４）デ
ィスプレイ用フィルターの構成要素として、ディスプレ
イ用フィルターを構成する各部材のいずれかの間に、任
意の透明な粘着材・接着剤を介して色素を含有する透明
成形物（Ｆ）を貼り合わせたりする方法がある。このよ
うに色素を含有させたディスプレイ用フィルターは、色
素が近赤外線吸収色素である場合は薄膜による近赤外線
カット能を補填し、近赤外線カット能に優れ、色素が調
色用色素の場合は、透過色すなわち色調に優れる。本発
明でいうところの色素とは、可視波長領域に吸収を有す
る調色用色素、または、近赤外波長領域に吸収を有する
近赤外線吸収色素を示している。

【００８４】本発明で用いる近赤外線吸収色素は、積層
体の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイ
の発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収
するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度
も限定されるものではない。しかしながら、以下の式
（１）（化１）または式（２）（化２）で表されるジチ
オール錯体化合物、またはそれらの少なくとも１種以上
の混合物である場合、本発明のディスプレイ用フィルタ
ーは、よりすぐれた近赤外線カット能を有することがで
きる。下記式（１）、（２）の化合物は市販されている
ので、入手可能である。

【００８５】

【化１】 ［式中、Ａ¹ 〜Ａ⁸ は各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、チオシアナート基、シアナ
ート基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカ
ルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、置換又は
未置換のアリール基、置換又は未置換のアルコキシ基、
置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換の
アルキルチオ基、置換又は未置換のアリールチオ基、置
換又は未置換のアルキルアミノ基、あるいは置換又は未
置換のアリールアミノ基を表し、かつ、隣合う２個の置
換基が連結基を介してつながっていてもよく、Ｒ¹ 〜Ｒ
⁴ は各々独立に置換又は未置換のアルキル基、置換又は
未置換のアリール基を表し、Ｍはニッケル、白金、パラ
ジウムまたは銅を表し、Ｘは窒素原子又はリン原子を表
す。］

【００８６】

【化２】 ［式中、Ｂ¹ 〜Ｂ⁴ は各々独立に、水素原子、シアノ
基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボ
ニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置
換のアリール基を表し、かつ、隣合う２個の置換基が連
結基を介してつながっていてもよく、Ｍはニッケル、白
金、パラジウムまたは銅を表す。］

【００８７】可視領域に吸収のある市販の調色用色素の
濃度は、色素の吸収係数、調色を要する透明積層体の色
調、可視光線透過率およびディスプレイ用フィルターに
要する色調、可視光線透過率等から決まり、特に限定さ
れるものではない。可視領域において異なる吸収波長を
有する調色用色素を２種類以上使用しても良い。

【００８８】本発明でいう含有とは、基材の内部に含有
されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と
基材の間に挟まれた状態等を意味する。ここでいう基材
とは前述した透明積層体の透明基体（Ａ）、透明積層体
を貼り合わせる透明成形体（Ｅ）、透明保護層（Ｄ）、
反射防止層、アンチグレア層、アンチニュートンリング
層、ハードコート層のいずれか、または、ディスプレイ
用フィルターに挟み込む、近赤外線吸収色素を含有させ
る透明成形物（Ｆ）である。透明保護層（Ｄ）、反射防
止層、アンチグレア層、アンチニュートンリング層、ハ
ードコート層は各機能を有する膜中に色素を含有してい
ても、各機能を有する膜が色素を含有する透明成形物
（Ｆ）上に形成されていていても良い。色素を含有する
透明成形物（Ｆ）としては、透明プラスチック板、透明
高分子フィルム、ガラス等が挙げられる。色素の含有量
は、前述の如く、透明積層体の光学特性とディスプレイ
用フィルターに必要とする光学特性に依る。

【００８９】色素を用いて、色素を含有する透明成形物
（Ｆ）を作製する方法としては、特に限定されるもので
はないが、例えば、以下の３つの方法が利用できる。 （１）樹脂に色素を混練し、加熱成形してプラスチック
板或いは高分子フィルムを作製する方法、（２）色素を
含有する塗料を作製し、透明プラスチック板、透明高分
子フィルム、或いは透明ガラス板上にコーティングする
方法、（３）色素を接着剤に含有させて、合わせプラス
チック板、合わせ高分子フィルム、合わせガラス等を作
製する方法、等である。

【００９０】まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する
（１）の方法において、樹脂材料としては、プラスチッ
ク板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明
性の高いものが好ましく、具体例として、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エ
ステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ
塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及び
それらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル
酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ
化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、フッ化
ビニリデン／テトラフルオロエチレン共重合体、シアン
化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又
はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレ
ン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロ
プロピレン等のフッ素を含む化合物、ナイロン６、ナイ
ロン６６等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、
ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、ポリ
エチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエ
ーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹
脂に限定されるものではない。

【００９１】作製方法としては、用いる色素、ベース高
分子成形体によって、加工温度、フィルム化条件等が多
少異なるが、通常(i) 色素を、ベース高分子成形体の粉
体或いはペレットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、
溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、(ii)押
し出し機によりフィルム化する方法、(iii) 押し出し機
により原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１
軸乃至は２軸に延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルム
にする方法、等が挙げられる。なお、混練する際に、紫
外線吸収剤、可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤
を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作
製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の可
視光透過率等によって異なるが、通常、１ｐｐｍ〜２０
重量％である。

【００９２】塗料化してコーティングする（２）の方法
としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解
させて塗料化する方法、ジチオール錯体化合物を数μｍ
以下に微粒化してアクリルエマルジョン中に分散して水
系塗料とする方法、等がある。前者の方法では、通常、
脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオ
レフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或
いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用い
る。

【００９３】溶媒としては、ハロゲン系、アルコール
系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族
炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物
系等を用いる。

【００９４】色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティ
ングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等に
よって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通
常、０．１〜３０％である。また、バインダー樹脂濃度
は、塗料全体に対して、通常、１〜５０％である。

【００９５】アクリルエマルジョン系水系塗料の場合も
同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料にジチオー
ル錯体化合物を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを
分散させて得られる。塗料中には、紫外線吸収剤、酸化
防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよ
い。

【００９６】上記の方法で作製した塗料は、透明高分子
フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダ
ー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコー
ター、ダイコーター、或いはスプレー等でコーティング
して、色素を含有する基材を作製する。コーティング面
を保護するために保護層を設けたり、透明樹脂板、透明
高分子フィルム等をコーティング面に貼り合わせること
もできる。また、キャストフィルムも本方法に含まれ
る。

【００９７】色素を接着剤に含有させて、合わせ樹脂
板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス等を作製する
（３）の方法においては、接着剤として、一般的なシリ
コン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用、或いは合
わせガラス用のポリビニルブチラール接着剤（ＰＶ
Ｂ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等の合
わせガラス用の公知の透明接着剤が使用できる。色素を
０．１〜３０重量％添加した接着剤を用いて透明な樹脂
板同士、樹脂板と高分子フィルム、樹脂板とガラス、高
分子フィルム同士、高分子フィルムとガラス、ガラス同
士を接着してを作製する。

【００９８】上記の色素を含有する接着剤は、透明積層
体、透明積層体を貼り合わせる透明成形体（Ｅ）、透明
保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチグレア層、アンチニ
ュートンリング層、色素を含有する透明成形物（Ｆ）等
の各部材の貼り合わせに用いても良い。

【００９９】また、プラズマディスプレイ用フィルター
は、８００〜１０００ｎｍの波長領域で強度の近赤外線
をカットする必要があり、このために必要であれば、上
記の式（１）及び／または（２）で表されるジチオール
錯体化合物を２種類以上組み合わせることもできる。ま
た、さらに他の近赤外線吸収色素を１種類以上加えても
良い。また、近赤外線抑止能に加えて、好適な色調を有
するディスプレイ用フィルターを得るために、可視波長
領域に吸収を有する調色用色素を１種類以上加えても良
い。

【０１００】色素含有のディスプレイ用フィルターの耐
光性を上げるためにＵＶ吸収剤を含有した透明フィルム
（ＵＶカットフィルム）を貼りつけることもできるし、
ＵＶ吸収材を色素と共に含有させることもできる。

【０１０１】本発明に基づくディスプレイ用フィルター
の構成は、必要に応じて変えることができる。本発明の
透明積層体およびディスプレイ用フィルターは、近赤外
線抑止能に優れ、また、本発明のディスプレイ用フィル
ターは、通常一般の有機色素のみで近赤外線を抑止する
ディスプレイ用近赤外線カットフィルターに比較して、
湿度、熱、光といった環境による劣化が少ない。また先
述した式（１）（化１）または式（２）（化２）で表さ
れるジチオール錯体化合物、またはそれらの少なくとも
１種以上の混合物は、耐環境性に優れるため、これらを
色素として併用した場合も劣化が少ないディスプレイ用
フィルターが得られる。従って、本発明の積層体及びデ
ィスプレイ用フィルターは、近赤外線カットフィルター
としても好適に使用できる。

【０１０２】以上説明したような本発明の透明積層体及
びディスプレイ用フィルターの構成について、さらに詳
しく説明する。図２に示す本発明の好ましい実施態様に
よる透明積層体１０は、高分子フィルムなどからなる透
明基体１１の一方の主面上に、透明導電層１２が形成さ
れたものである。透明導電層１２は、透明基体１１の主
面上に、４層の高屈折率透明薄膜層１３と３層の金属薄
膜層１４を交互に積層することによって、形成されてい
る。高屈折率透明薄膜層１３は、典型的には、主として
酸化インジウムから構成されている。また、金属薄膜層
１４は、銀又は銀を含む合金から構成されている。ここ
で示した透明積層体１０では、３層ある金属薄膜層１４
のうち、中央の金属薄膜層１４が、他の金属薄膜層１４
よりも厚く形成されている。

【０１０３】図３に示す本発明の好ましい実施態様によ
るディスプレイ用フィルターは、図２に示す透明積層体
１０を使用したものであって、透明積層体１０の主面の
うち透明導電層１２が形成されていない方の主面が、透
明成形体３０の一方の主面に貼り合わされている。透明
成形体３０の他方の主面には、反射防止層５１として反
射防止フィルムが貼り合わされている。透明導電層１２
の表面のうち、周縁部を除く部分には、この透明導電層
１２を保護するための透明保護層４０が貼り付けられて
いる。また、透明導電層１２の表面のうち周縁部には、
透明導電層１２の側面も覆うようにして、電極２０が形
成されている。電極２０は、金属を含んでおり、透明導
電層１２をアースするためのものである。電極２０の平
面形状は、図１に示す通りである。このディスプレイ用
フィルターが装着されるプラズマディスプレイにおい
て、画面周縁部にアース用の導電層が形成されていれ
ば、プラズマディスプレイにディスプレイ用フィルター
を装着したときに、ディスプレイの導電層とフィルター
の電極２０とが電気的に接触することになり、透明導電
層１２のアースを行えることになる。また、枠状の部材
によって、ディスプレイ用フィルターとディスプレイの
画面部分とが隙間なく電気的に接続されることになり、
漏洩電磁波を著しく低減することが可能になる。なお、
透明導電層１２の保護のため、透明保護層４０が透明導
電層１２を覆う部分と電極２０が透明導電層１２を覆う
部分の間に隙間が生じないようにすることが重要であ
る。

【０１０４】本発明のディスプレイ用フィルターの用
途、装着方法としては大きく分けて、以下のものが挙げ
られるが、これらに特に制限されるものではない。 （１）電磁波シールド能および近赤外線カット能を有す
るディスプレイ用フィルターでフィルター主面をディス
プレイ画面に密着させて装着する。 （２）電磁波シールド能および近赤外線カット能を有す
るディスプレイ用フィルターでフィルター主面をディス
プレイ画面から離して装着する。 （３）近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィル
ターでディスプレイ画面に密着させて装着する。 （４）近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィル
ターでフィルター主面をディスプレイ画面から離して装
着する。

【０１０５】以下、上述の各装着方法に応じ、本発明の
好ましい実施態様による透明積層体及びディスプレイ用
フィルターについて、図面を用いて説明する。（１）の
場合、透明保護層がアンチニュートンリング層の機能を
有し、かつディスプレイ側にアース用の導電層を有する
ディスプレイにフィルターを装着する場合には、通常、
フィルターの電極がディスプレイ側に向くようにして装
着する。図３のディスプレイ用フィルターを用いるとす
ると、ディスプレイ側から順に、（金属を含む電極２０
・透明保護層４０）／透明積層体１０／透明成形体３０
／反射防止層５１の順で構成される。反射防止層の代わ
りに、図４に示すようにアンチグレア層５２を設けても
良い。

【０１０６】一方、透明保護層４０がアンチニュートン
リング層としての機能を有していない場合には、図５に
示すように、透明保護層４０に、さらにアンチニュート
ンリング層４１を貼り合わせる。この場合、ディスプレ
イ側から、（電極２０・アンチニュートンリング層４
１）／透明保護層４０／透明積層体１０／透明成形体３
０／反射防止層５１の順で構成される。もちろん、反射
防止層５１の代わりにアンチグレア層５２を設けても良
い。

【０１０７】さらに、ディスプレイ側にアース用の導電
層が形成されていない場合などには、透明成形体３０と
透明積層体１０との位置関係を上述とは逆にすることが
できる。この場合、透明保護層がアンチグレア層あるい
は反射防止層としての機能を有するのであれば、図６に
示すように、ディスプレイ側から、アンチニュートンリ
ング層５３／透明成形体３０／透明積層体１０／（透明
保護層４０・電極２０）となる。透明保護層４０がアン
チグレア層あるいは反射防止層としての機能を有してい
ない場合には、図７に示すように、ディスプレイ側か
ら、アンチニュートンリング層５３／透明成形体３０／
透明積層体１０／透明保護層４０／（反射防止層４２・
電極２０）の順で積層する。図８に示すように、反射防
止層４２の代わりにアンチグレア層４３を設けてよい。

【０１０８】（２）の場合は、ディスプレイとディスプ
レイ用フィルターを装着させないことにより、アンチニ
ュートンリング層を設けたり、透明保護層にアンチニュ
ートンリング層としての機能を持たせる必要はなくな
る。その代わり、ディスプレイ用フィルターの両方の主
面に、反射防止性あるいはアンチグレア性を持たせるよ
うにする必要がある。

【０１０９】透明保護層が、反射防止層またはアンチグ
レア層としての機能を有している場合には、図３、４に
示すようにディスプレイ用フィルターを構成する。ただ
し、ディスプレイ用フィルターのいずれの主面がディス
プレイ側に向くかはアース用導電層のある位置によって
決まる。透明保護層が、反射防止層またはアンチグレア
層としての機能を有していない場合には、図７、８に示
すディスプレイ用フィルターにおいて、アンチニュート
ンリング層５３を反射防止層５１あるいはアンチグレア
層５２に置き換えたものを使用することができる。ただ
し、ディスプレイ用フィルターのいずれの主面がディス
プレイ側に向くかは任意である。

【０１１０】（３）の場合は、ディスプレイ用フィルタ
ーに電極は必要でない。透明保護層がアンチニュートン
リング層としての機能を有している場合には、図９に示
したように、ディスプレイ側から、透明保護層４０／透
明積層体１０／透明成形体３０／反射防止層５１の順で
構成される。反射防止層５１の代わりに、アンチグレア
層５２を設けてもよい。透明保護層がアンチニュートン
リング層の機能を有していない場合には、図１０に示す
ように、透明保護層４０にさらにアンチニュートンリン
グ層４１を貼り合わせる。いずれの場合も、透明保護層
４０は、側面も含めて透明積層体１０の全面を覆うよう
に形成される。

【０１１１】（４）の場合には、透明保護層が反射防止
層またはアンチグレア層としての機能を有しているので
あれば、通常、（反射防止層またはアンチグレア層）／
透明積層体／透明成形体／（反射防止層またはアンチグ
レア層）の順でディスプレイ用フィルターが構成され
る。

【０１１２】本発明のディスプレイ用フィルターにおい
て、近赤外線吸収色素及び／又は調色用色素を用いる場
合は、フィルターを構成する上述の各構成要素のいずれ
か１つ以上に色素を含有するか、色素を含有する透明成
形物（Ｆ）を各構成要素の間のいずれかに挟み込む。例
えば、上述の（２）の場合において透明保護層が反射防
止層またはアンチグレア層としての機能を有する場合
は、ディスプレイ側から、（金属電極・透明保護層）／
透明積層体／透明成形体／色素を含有する透明成形物
（Ｆ）／（反射防止層またはアンチグレア層）の順で構
成される。色素を含有する透明成形物（Ｆ）上に反射防
止性またはアンチグレア性を有する膜を直接形成しても
良いし、各機能を有するフィルムを貼り合わせても良
い。

【０１１３】一般に、透明成形体（Ｅ）が透明な樹脂で
ある場合は、透明成形体（Ｅ）に透明積層体や各機能を
有する高分子フィルムを貼り合わせたとき、または、貼
り合わせにより作製したディスプレイ用フィルターの使
用時にディスプレイや使用環境による熱がかかったとき
に、ディスプレイ用フィルターが反ることがある。従っ
て、反りが発生しないように貼り合わせを行うことが肝
要である。各機能を有する高分子フィルムを貼り合わせ
る場合は、透明成形体（Ｅ）の片面のみではなく、両面
にフィルムの張力等のバランスをとって貼り合わせるこ
とが重要である。貼り合わせを行わない場合は、透明成
形体が反っていないことが肝要である。

【０１１４】特に、ディスプレイに装着した時にディス
プレイ用フィルターが利用者側に膨らむように反ると、
画像の視認性が低下する。アンチグレア層を形成してい
る場合は、画像のボケが生じる。

【０１１５】上記（３）の場合、アンチニュートンリン
グ層は、通常、アンチグレア性を有しており、さらにデ
ィスプレイ用フィルターの利用者側の面のアンチグレア
層がアンチニュートンリング性を有していれば、フィル
ターのどちらの面もディスプレイ画面に密着させて用い
ることができる。すなわち両面にアンチニュートンリン
グ層が形成されていることが好ましい。この場合は、デ
ィスプレイ用フィルターの反り方向を確認してから、利
用者側に膨らまずにディスプレイ本体に密着する好適な
向きで装着すればよい。図１１はこのようなディスプレ
イ用フィルターの一例を示している。このディスプレイ
用フィルターでは、第１のアンチニュートンリング層４
１／透明保護層４０／透明積層体１０／透明成形体３０
／第２のアンチニュートンリング層５３の順で積層して
いる。

【０１１６】本発明のディスプレイ用フィルターは、デ
ィスプレイに装着したとき、装着用冶具、電極部分等が
視認者から見えないようにするために、任意の額縁印刷
を施して良い。印刷形状、印刷面、印刷色、印刷方法は
特に特定されるものではない。また、ディスプレイに装
着するための穴加工等の加工を施しても良い。さらに偏
光フィルムや位相差フィルム等をつけて円偏光フィルタ
ーの性能を付加することで、ディスプレイ側からの反射
光を抑えることができ、さらに優れたフィルターとな
る。

【０１１７】本発明のディスプレイ用フィルターは可視
光線透過率が高いためディスプレイの鮮明度が損なわれ
ず、ディスプレイから発生する健康に害をなすといわれ
ている電磁波を遮蔽する電磁波シールド性に優れ、さら
に、ディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の
近赤外線光を効率よくカットするため、伝送系光通信等
が使用する波長に悪影響を与えることがなく、周辺にあ
る電子機器の赤外線リモートコントローラの誤動作を防
ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射
防止性または防眩性、アンチニュートンリング性を兼ね
備えている。

【０１１８】

【実施例】つぎに、本発明を実施例により具体的に説明
する。本発明はこれらによりなんら制限されるものでは
ない。以下の実施例および比較例で示す薄膜の厚さは、
成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚では
ない。 ［実施例１］２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、マグネトロン
ＤＣスパッタリング法により、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎ
ｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０
ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１５ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８
０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ
４０ｎｍ）の順に積層し、これによって、３層の金属薄
膜層と４層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明
積層体を作製した。ＩＴＯ薄膜は高屈折率透明薄膜層を
構成し、銀薄膜は金属薄膜層を構成する。ＩＴＯ薄膜の
成膜には、ターゲットとして酸化インジウム・酸化スズ
焼結体（組成比Ｉｎ₂ Ｏ₃ ：ＳｎＯ₂ ＝９０：１０ｗｔ
％）を、スパッタガスにはアルゴン・酸素混合ガス（全
圧２６６ｍＰａ：酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、
銀薄膜の成膜には、ターゲットとして銀を用い、スパッ
タガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用い
た。

【０１１９】［実施例２］実施例１と同様にして、２軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０
μｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、
銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎ
ｍ）、銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ７０
ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４
０ｎｍ）の順で積層し、本発明の透明積層体を作製し
た。

【０１２０】［実施例３］実施例１と同様にして、２軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０
μｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、
銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、
銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎ
ｍ）、銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎ
ｍ）の順で積層し、本発明の透明積層体を作製した。

【０１２１】［実施例４］実施例１と同様にして、２軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０
μｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、
銀薄膜（厚さ１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎ
ｍ）、銀薄膜（厚さ１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０
ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８
０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ
４０ｎｍ）の順で積層し、４層の金属薄膜層と５層の高
屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層体を作製し
た。

【０１２２】［実施例５］２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、
マグネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジ
ウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、
酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１
０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄
膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ６０ｎ
ｍ）、銀薄膜（厚さ６ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚
さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ６ｎｍ）、酸化インジウム
薄膜（厚さ２０ｎｍ）の順に積層し、５層の金属薄膜層
と６層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層
体を作製した。高屈折率透明薄膜層である酸化インジウ
ム薄膜の成膜には、ターゲットにインジウムを、スパッ
タガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：
酸素分圧８０ｍＰａ）を用いた。また、金属薄膜層であ
る銀薄膜の成膜には、ターゲットに銀を、スパッタガス
にアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。

【０１２３】［比較例１］実施例１と同様にして、２軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０
μｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、
銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ７０ｎｍ）、
銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）の
順に積層し、透明積層体を作製した。

【０１２４】［実施例６］２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、
マグネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジ
ウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、
酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１
０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄
膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ６０ｎ
ｍ）、銀−金合金薄膜（厚さ６ｎｍ）、酸化インジウム
薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（厚さ６ｎ
ｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ２０ｎｍ）の順に積層
し、５層の金属薄膜層と６層の高屈折率透明薄膜層を有
する本発明の透明積層体を作製した。ここで酸化インジ
ウムは高屈折率透明薄膜層を構成し、銀薄膜及び銀−金
合金薄膜は金属薄膜層を構成する。酸化インジウム薄膜
の成膜には、ターゲットにインジウムを、スパッタガス
にアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分
圧８０ｍＰａ）を用いた。銀薄膜の成膜には、ターゲッ
トに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍ
Ｐａ）を用いた。銀−金合金薄膜の成膜には、ターゲッ
トに銀−金合金（組成比、銀：金＝８５：１５ｗｔ％）
を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）
を用いた。

【０１２５】［実施例７］実施例１の透明積層体の主面
のうち薄膜が形成されていない方の面と、厚さ２ｍｍの
ＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリライト（商
品名）、４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）の主面と、透明な粘
着材を介して貼り合わせた。さらに透明積層体の薄膜形
成面すなわち導電面に図１に示すように銀ペースト（三
井東圧化学（株）製：ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン
印刷し、乾燥させ、厚さ２０μｍ、幅１０ｍｍの金属を
含む電極（比抵抗５×10^-5Ω・ｃｍ）を形成し、本発明
のディスプレイ用フィルターを作製した。

【０１２６】［実施例８］実施例５の本発明の透明積層
体（４７２ｍｍ×３５０ｍｍ）の薄膜形成面すなわち導
電面に、図１に示すように銀ペースト（三井東圧化学
（株）製）をスクリーン印刷し、乾燥させ、厚さ２０μ
ｍ、幅１０ｍｍの金属を含む電極を形成し、本発明のデ
ィスプレイ用フィルターを作製した。

【０１２７】［実施例９］ポリエチレンテレフタレート
ペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に下記式（３）
（化３）で示されるジチオール錯体を０．１ｗｔ％混合
し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚
み１００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィ
ルムを２軸延伸して、厚み５０μｍのフィルムとし、こ
のフィルムの一方の主面に、酸化珪素薄膜を電子ビーム
蒸着により厚さ９０ｎｍ形成し、反射防止フィルムを作
製した。該反射防止フィルムの反射防止膜形成面での可
視光線反射率は、反射防止膜が形成されていない面をサ
ンドペーパーで荒らし、黒色塗装を行った後、後述する
方法で可視光線反射率を得たところ、１．４％であっ
た。該反射防止フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｅ９６に準拠し
て透湿度を測定したところ、１．４ｇ／ｍ² ・ｄａｙで
あり、ガスバリア性を有していた。この近赤外線吸収色
素を含有し且つガスバリア性を有する反射防止（ガスバ
リア）フィルム（本発明でいうところの透明保護層且つ
反射防止層）の酸化珪素薄膜が形成されていないもう一
方の主面と、実施例１の本発明の透明積層体の薄膜形成
面をアクリル系粘着材（５００〜６００ｎｍにおいて屈
折率１．６４、消光係数０）を介して貼り合わせ、本発
明のディスプレイ用フィルターを作製した。

【０１２８】

【化３】

【０１２９】［実施例１０］実施例１の透明積層体の代
わりに実施例２の本発明の透明積層体を用いた以外は、
実施例９と同様に本発明のディスプレイ用フィルターを
作製した。 ［実施例１１］実施例１の透明積層体の代わりに実施例
３の本発明の透明積層体を用いた以外は、実施例９と同
様に本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。

【０１３０】［比較例２］実施例１の透明積層体の代わ
りに比較例１の透明積層体を用いた以外は、実施例９と
同様にディスプレイ用フィルターを作製した。 ［比較例３］実施例１の本発明の透明積層体の薄膜形成
面と、ポリカーボネートフィルム（厚さ：１００μｍ）
の主面を、実施例８と同様にアクリル系粘着材（５００
〜６００ｎｍにおいて屈折率１．６４、消光係数０）を
介して貼り合わせて、ディスプレイ用フィルターを作製
した。

【０１３１】［実施例１２］実施例５と同様にして、２
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ５０
μｍ）の一主面に、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎ
ｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜
（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化イン
ジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎ
ｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）の順で積層
し、本発明の透明積層体を作製した。

【０１３２】ポリエチレンテレフタレートペレット１２
０３（ユニチカ（株）製）に下記式（４）（化４）で示
されるジチオール錯体を０．１３ｗｔ％混合し、２６０
〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み１００μ
ｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸
延伸して、厚み５０μｍの色素フィルムとた。

【０１３３】

【化４】

【０１３４】また２軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルム（厚さ：１００μｍ）の一方の主面に、大日本
インキ化学工業（株）製熱硬化ワニス（ＳＦ−Ｃ−３３
５）３ｇをトルエン／メチルケトン（１０：１）の混合
溶媒１００ｇに溶解したものを塗布し、自然乾燥させ、
その後、１５０℃で２０秒間硬化させて１μｍ厚のアン
チニュートンリング層を形成し、アンチニュートンリン
グフィルムを作製した。アンチニュートンリング層のヘ
ーズをヘーズメーターを用いて測定したところ、２％で
あり、このアンチニュートンリングフィルムはアンチグ
レア性を有していた。

【０１３５】厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン
（株）製：アクリライト（商品名））の一方の主面と上
述の色素フィルムを貼り合わせ、さらに該透明積層体の
主面のうち透明多層薄膜を形成されていない方の面を、
ＰＭＭＡ板に貼り合わせた色素フィルム上に貼り合わせ
た。その後、透明積層体の薄膜形成面に、透明保護層と
してアクリル系樹脂をスクリーン印刷にて１０μｍ形成
し、該透明保護層上および該ＰＭＭＡ板の他方の主面上
に、該アンチニュートンリングフィルムをアンチニュー
トンリング層がディスプレイ側になるように透明な粘着
材を用いて貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フィル
ターを作製した。

【０１３６】［実施例１３］実施例５と同様にして、２
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ５０
μｍ）の一主面に、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎ
ｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜
（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１５ｎｍ）、酸化イン
ジウム薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎ
ｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）の順で積層
し、本発明の透明積層体（４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）を
作製した。

【０１３７】この透明積層体の薄膜が形成されていない
面と、片面にアンチグレア層を有する厚さ２ｍｍのＰＭ
ＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリフィルターＭＲ
−ＮＧ）のアンチグレア層の形成されていない面を貼り
合わせた。アンチグレア層のヘーズをヘーズメーターを
用いて測定したところ、２％であった。さらに透明積層
体の薄膜形成面すなわち導電面に図１に示すように銀ペ
ースト（三井東圧化学（株）製）をスクリーン印刷し、
乾燥させ、厚さ２０μｍ、幅１０ｍｍの金属を含む電極
を形成した。

【０１３８】また、２軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム（厚さ：１００μｍ）の一方の主面に、電子
ビーム蒸着により酸化珪素薄膜を厚さ９０ｎｍ形成し、
反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの反
射防止膜形成面での可視光線反射率は、実施例９と同様
に得たところ、１．４％であった。該反射防止フィルム
は、ＡＳＴＭ−Ｅ９６に準拠して透湿度を測定したとこ
ろ、０．８ｇ／ｍ² ・ｄａｙであり、ガスバリア性を有
していた。このガスバリア性を有する反射防止（ガスバ
リア）フィルム（本発明で言うところの透明保護層且つ
反射防止層）の酸化珪素薄膜が形成されていないもう一
方の主面と、透明積層体の薄膜形成面の金属を含む電極
が形成されていない部分を、透明な粘着材を介して貼り
合わせ、本発明のディスプレイ用フィルターを作製し
た。

【０１３９】［実施例１４］実施例１の本発明の透明積
層体の主面のうち透明多層薄膜が形成されていない方の
面と、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）
製：アクリライト（商品名）、４７０ｍｍ×３５０ｍ
ｍ）の主面を貼り合わせた。さらに実施例７と同様に金
属を含む電極（比抵抗５×10^-5Ω・ｃｍ）を形成した。

【０１４０】また、２軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、電子ビ
ーム蒸着によりフッ化マグネシウム薄膜を厚さ９５ｎｍ
形成し、第１の反射防止フィルムを作製した。該反射防
止フィルムの反射防止膜形成面での可視光線反射率は、
実施例９と同様に得たところ、０．８％であった。第１
の反射防止フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｅ９６に準拠して透
湿度を測定したところ、１．９ｇ／ｍ² ・ｄａｙであ
り、ガスバリア性を有していた。第１の反射防止（ガス
バリア）フィルム（本発明でいうところの透明保護層且
つ反射防止層）のフッ化マグネシウム薄膜が形成されて
いないもう一方の主面と、該透明積層体の薄膜形成面の
電極が形成されていない部分をアクリル系粘着材を介し
て貼り合わせた。ここで、アクリル系粘着材は、５００
〜６００ｎｍの波長領域において屈折率が１．６４、消
光係数が０のものであった。

【０１４１】またさらに、ポリエチレンテレフタレート
ペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に４５０ｎｍ〜
６００ｎｍに吸収を有する色素（三井東圧化学（株）
製、ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇ）を０．０１４ｗｔ％混合し、２
６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み１０
０μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを
２軸延伸して、厚み５０μｍの調色用色素フィルムと
し、このフィルムの一方の主面に、電子ビーム蒸着によ
りフッ化マグネシウム薄膜を厚さ９５ｎｍ形成し、第２
の反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの
反射防止膜形成面での可視光線反射率は、実施例９と同
様に得たところ０．８％であった。調色用色素を含有す
る第２の反射防止フィルムの薄膜が形成されていない面
と、該ＰＭＭＡ板のもう一方の主面を透明な粘着材を介
して貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フィルターを
作製した。

【０１４２】［実施例１５］実施例１の本発明の透明積
層体の薄膜が形成されていない面と、片面にアンチグレ
ア層を有する厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン
（株）製：アクリフィルターＭＲ−ＮＧ、４７０ｍｍ×
３５０ｍｍ）のアンチグレア層の形成されていない面を
透明な粘着材を介して貼り合わせた。アンチグレア層の
ヘーズをヘーズメーターを用いて測定したところ、２％
であった。さらに実施例７と同様に金属を含む電極（比
抵抗５×10^-5Ω・ｃｍ）を形成した。

【０１４３】また、実施例１４と同様に調色用フィルム
を作製し、このフィルムの一方の主面に、大日本インキ
化学工業（株）製熱硬化ワニス（ＳＦ−Ｃ−３３５）３
ｇをトルエン／メチルケトン（１０：１）の混合溶媒１
００ｇに溶解して、塗布、自然乾燥後、１５０℃で２０
秒間硬化させて１μｍ厚のアンチニュートンリング層を
形成し、アンチニュートンリングフィルムを作製した。
アンチニュートンリング層のヘーズをヘーズメーターを
用いて測定したところ、２％であった。該アンチニュー
トンリングフィルムは、ＡＳＴＭ−Ｅ９６に準拠して透
湿度を測定したところ、１．２ｇ／ｍ² ・ｄａｙであ
り、ガスバリア性を有していた。この調色用色素を含有
し、ガスバリア性を有するアンチニュートンリング（ガ
スバリア）フィルム（本発明でいうところの透明保護層
且つアンチニュートンリング層）のアンチニュートンリ
ング層が形成されていないもう一方の主面と、透明積層
体の薄膜形成面の電極が形成されていない部分で、ディ
スプレイ本体に装着したときに表示部と密着する部分の
面を、アクリル系粘着材（５００〜６００ｎｍにおいて
屈折率１．６４、消光係数０）を介して貼り合わせ、本
発明のディスプレイ用フィルターを作製した。

【０１４４】［実施例１６］実施例１の本発明の透明積
層体の主面のうち透明多層薄膜が形成されていない面
と、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製ア
クリライト、４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）の主面を貼り合
わせた。また２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（厚さ：１００μｍ）の一方の主面に、大日本イン
キ化学工業（株）製熱硬化ワニス（ＳＦ−Ｃ−３３５）
３ｇをトルエン／メチルケトン（１０：１）の混合溶媒
１００ｇに溶解して、塗布、自然乾燥後、１５０℃で２
０秒間硬化させて１μｍ厚のアンチニュートンリング層
を形成し、第１のアンチニュートンリングフィルムを作
製した。アンチニュートンリング層のヘーズをヘーズメ
ーターを用いて測定したところ、２％であった。第１の
アンチニュートンリングフィルムは、ＡＳＴＭ−Ｅ９６
に準拠して透湿度を測定したところ、１．２ｇ／ｍ ² ・
ｄａｙであり、ガスバリア性を有し、且つ、アンチグレ
ア性を有していた。

【０１４５】第１のアンチニュートンリングフィルムの
反対の主面と、透明積層体薄膜形成面をアクリル系粘着
材（５００〜６００ｎｍにおいて屈折率１．６４、消光
係数０）を介して貼り合わせた。この際、該アンチニュ
ートンリングフィルムが透明積層体の端面も覆い、薄膜
が環境に曝されないように形成した。

【０１４６】またさらに、実施例１５と同様に調色用色
素を含有する第２のアンチニュートンリングフィルムを
作製した。調色用色素を含有する第２のアンチニュート
ンリングフィルムはアンチグレア性を有していた。調色
用色素を含有する第２のアンチニュートンリングフィル
ムのアンチニュートンリング層が形成されていないもう
一方の主面と、該ＰＭＭＡ板のもう一方の主面を透明な
粘着材を介して貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フ
ィルターを作製した。

【０１４７】以上のようにして作製した実施例１〜６の
本発明の透明積層体、比較例１の透明積層体、実施例７
〜１３の本発明のディスプレイ用フィルター、及び比較
例２〜３のディスプレイ用フィルターについて、面抵抗
及び電磁波シールド能、可視光線透過率、近赤外線カッ
ト能、可視光線反射率、耐環境性を以下の方法で評価し
た。 １）面抵抗 実施例１〜４、６及び比較例１において、透明積層体の
面抵抗を、四探針測定法（プローブ間隔１ｍｍ）により
測定した。実施例８、１３においては、用いた透明積層
体の面抵抗を同様に測定した。結果を表１に示す。

【０１４８】２）電磁波シールド能 実施例１〜４、６及び比較例１で得られた透明積層体を
用いて下記の方法で得られたディスプレイ用フィルタ
ー、および実施例７、８、１３で得られたディスプレイ
用フィルターについて、電磁波のカット能力を測定し
た。

【０１４９】実施例１〜４、６及び比較例１の各透明積
層体について、薄膜が形成されていない面と厚さ２ｍｍ
のＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製アクリライト、４
７０ｍｍ×３５０ｍｍ）の主面を透明な粘着材を介して
貼り合わせ、ディスプレイ用フィルターを作製した。デ
ィスプレイ用フィルターを対角２１インチのプラズマデ
ィスプレイの画面に設置して、ダイポールアンテナを画
面中心位置から面の垂線方向３ｍの位置に設置し、アド
バンテスト製スペクトラム・アナライザ（ＴＰ４１７
２）で２０〜９０ＭＨｚ帯域における放射電界強度を測
定した。この際、透明積層体の導電面とディスプレイ本
体のアース用電極を接触させ、アースをとった。

【０１５０】実施例７、８、１３のディスプレイ用フィ
ルターにおいては、金属を含む電極とディスプレイ本体
のアース電極を接触させ、アースをとった。以上のよう
にして測定した放射電界強度は、３３、６２、７０、９
０ＭＨｚの各周波数で評価を行った。家庭用途としては
４０ｄＢμＶ／ｍ以下であると実用的であり、低いほど
良い。ディスプレイ用フィルターを設置しないプラズマ
ディスプレイの放射電界強度も併せて測定した。結果を
表１に示す。

【０１５１】３）可視光線透過率（Ｔ_vis ）及び近赤外
線透過率 実施例１〜６及び比較例１の透明積層体について、ま
た、実施例９〜１３及び比較例２のディスプレイ用フィ
ルターについて、それら測定対象物の透光部を小片に切
り出し、（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４０
０）により３００〜１０００ｎｍの平行光線透過率を測
定した。ここで求めた透過率から、ＪＩＳＲ−３１０６
に従って、可視光線透過率Ｔ_vis を計算した。近赤外線
透過率は８２０、８５０ｎｍ及び１０００ｎｍで評価を
行った。結果を表２に示す。

【０１５２】４）赤外線リモートコントローラに対する
限界距離試験 実施例１〜６及び比較例１の透明積層体について、ま
た、実施例９〜１３及び比較例２のディスプレイ用フィ
ルターについて、プラズマディスプレイから発生する近
赤外線による赤外線リモートコントローラに対する妨害
をどの程度抑制することができるかを評価した。実施例
１〜６及び比較例１の透明積層体について、また、実施
例９〜１１及び比較例２のディスプレイ用フィルターに
ついては、透明積層体の薄膜が形成されていない面と厚
さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリ
ライト（商品名）、４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）の主面を
透明な粘着材を介して貼り合わせディスプレイ用フィル
ターを作製し、このディスプレイ用フィルターを用いて
評価を行った。

【０１５３】試験対象のディスプレイ用フィルターを対
角２１インチのプラズマディスプレイの画面に設置し
て、赤外線リモートコントローラを使用する電子機器を
０．２ｍ〜５ｍディスプレイから離してその誤動作を確
認した。誤動作がある場合は、その限界距離を求めた。
限界距離が短いほど誤動作が少ないといえる。実用的に
は少なくとも２．５ｍ以下、好適には１．５ｍ以下であ
る。なお、ディスプレイ用フィルターを設置しないプラ
ズマディスプレイの限界距離も併せて測定した。結果を
表２に示す。

【０１５４】５）可視光線反射率（Ｒ_vis ） 実施例１〜４及び比較例１の透明積層体について、透明
積層体の薄膜形成面にアクリル系粘着材（５００〜６０
０ｎｍにおいて屈折率１．６４、消光係数０）を形成す
る前後で、測定対象物を小片に切り出し、反射積分球
（光線入射角度６°）を用いて（株）日立製作所製分光
光度計（Ｕ−３４００）により３００〜８００ｎｍにお
ける測定対象物両面の全光線反射率を測定した。ここで
求めた反射率からＪＩＳ Ｒ−３０１６に従って可視光
線反射率Ｒ_vis を計算した。結果を表３に示す。また、
実施例６の透明積層体、実施例９、１０、１１〜１６及
び比較例２、３のディスプレイ用フィルターについて
も、単体での可視光線反射率Ｒ_vis を求めた。結果を表
４に示す。

【０１５５】６）耐環境性（高温高湿試験） 実施例１、６の透明積層体について、また、実施例９、
１０、１１、１３〜１６及び比較例２、３のディスプレ
イ用フィルターについて、温度６０℃、湿度９５％の雰
囲気下で４８時間を放置し、白化の発生を調べた。この
環境条件４８時間放置後、白化（白点、全面白化）が発
生しない場合は、実用的であるといえる。結果を表４に
示す。なお、表４には、ディスプレイ用フィルターの場
合に透明積層体の薄膜形成面に貼り合わせたフィルムの
透湿度も示されている。

【０１５６】

【表１】

【０１５７】

【表２】

【０１５８】

【表３】

【０１５９】

【表４】

【０１６０】表１から明らかなように、面抵抗が３Ω／
□以下では、実用的な電磁波シールド効果が明らかに認
められ、面抵抗が低いほど電磁波シールド効果がある。
しかしながら、面抵抗が４．９Ω／□である比較例１の
透明積層体を用いた場合には、周波数帯域によって電磁
波シールド効果が実用的レベルではない。また、実施例
１と実施例７とを比較すると、金属を含む電極を形成
し、電極部をディスプレイ本体のアース用電極と接触さ
せるすることによって、電磁波シールド効果が増加して
いることが分かる。

【０１６１】表２から明らかなように、８２０ｎｍより
長波長の領域の光線透過率が１０％未満である実施例
１、２、４、５、６の透明積層体を用いたディスプレイ
用フィルター、及び、実施例１２、１３のディスプレイ
用フィルターは、誤動作限界距離が短く実用的な近赤外
線カット能を有している。実施例３の透明積層体を用い
たディスプレイ用フィルターは８２０ｎｍより長波長の
領域において光線透過率が１０％を越えており、誤動作
限界距離が大きいが、実用的範囲内である。しかし、比
較例１の透明積層体を用いたディスプレイ用フィルター
は、可視光線透過率は大きいものの、近赤外線の透過率
も大きいため、誤動作限界距離が大きく実用的でない。

【０１６２】また、実施例１、２の透明積層体に近赤外
線吸収色素を併用した実施例９、１０のディスプレイ用
フィルターは、近赤外線カット能は向上し、さらに実用
的になったが、実施例１、２に比べ、可視光線透過率は
減少した。実施例３の透明積層体に近赤外線吸収色素を
併用した実施例１１のディスプレイ用フィルターは、８
２０ｎｍより長波長の領域の光線透過率が１０％未満と
なり、近赤外線カット能が向上し、実用的になったが、
実施例３に比べ、可視光線透過率は減少した。比較例１
の透明積層体に近赤外線吸収色素を併用した比較例２の
ディスプレイ用フィルターは、近赤外線吸収色素を併用
しても、８２０ｎｍより長波長の領域において光線透過
率が１０％を越えているため、誤動作限界距離が大きく
実用的でない。比較例１の透明積層体に、８２０ｎｍよ
り長波長の領域の光線透過率が１０％未満となるよう
に、さらに１種以上の近赤外線吸収色素を加えると、可
視光線透過率が大幅に減少してしまう。

【０１６３】表３から明らかなように、透明基体上にＩ
ＴＯ薄膜と薄膜を交互に計７層積層し、かつ、透明基体
から数えて２番目の銀層が、１番目及び３番目の銀層よ
り厚い、実施例１、３の透明積層体は、透明な粘着材層
を薄膜形成面上に形成しても、可視光線反射率が減少
し、ディスプレイ用フィルターの用途に好適である。実
施例２、４及び比較例１の透明積層体は、透明な粘着材
層を形成した後に可視光線反射率が２％以上増加してい
る。

【０１６４】表４から明らかなように、反射防止層を併
用した実施例９〜１１及び比較例２のディスプレイ用フ
ィルターは、反射防止層を形成する前よりも、可視光線
反射率が大きく減少している。特に、透明基体上にＩＴ
Ｏ薄膜と薄膜を交互に計７層積層し、かつ、透明基体か
ら数えて２番目の銀層が、１番目及び３番目の銀層より
厚い、実施例１、３の透明積層体を用いた実施例９、１
１の本発明のディスプレイ用フィルターは、可視光線反
射率の減少が著しく、好適である。

【０１６５】また、耐環境性は、薄膜形成面にフィルム
を貼合していない実施例１が最も低く、薄膜形成面に貼
合したフィルムの透湿度が１０ｇ／ｍ² ・ｄａｙ以上で
ある比較例３は、白点が発生したため実用的ではない。
また、銀を含む合金の薄膜を用いた実施例６は、実施例
１と比べ、耐環境性が優れていた。

【０１６６】なお、表４には示されていないが、実施例
１４〜１５のディスプレイ用フィルターは、高温高湿試
験を行ったところ、透光部、電極部のどちらにおいても
白化は生じなかった。また、実施例１６のディスプレイ
用フィルターは、高温高湿試験を行ったところ、透光部
及びフィルター端面付近において、白化が生じなかっ
た。実施例１４のディスプレイ用フィルターの可視光線
透過率は６９％、可視光線反射率は２．５％であった。
実施例１５のディスプレイ用フィルターの可視光線透過
率は６７％であり、また、防眩性に優れていた。実施例
１６のディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は６
７％であり、また、防眩性に優れていた。

【０１６７】実施例１の透明積層体は、透過色が緑色
（平行光線透過率から計算したＬ^* ａ ^* ｂ^* 表色系でａ
^* ＝−８、ｂ^* ＝２）であったが、実施例１の透明積層
体に調色用を併用した実施例１４〜１６のディスプレイ
用フィルターはグレー（平行光線透過率から計算したＬ
^* ａ^* ｂ^* 表色系でａ^* ＝−３、ｂ^* ＝１）で好適な透
過色であり、プラズマディスプレイに設置したときにコ
ントラストが優れていた。また、実施例１４、１５の本
発明のディスプレイ用フィルターは、実施例７の本発明
のディスプレイ用フィルターと同等の電磁波シールド効
果を有しており、好適に使用できた。また、装着時に薄
膜形成面を痛めることがなかった。

【０１６８】また、実施例１２〜１６のディスプレイ用
フィルターをプラズマディスプレイの画面に設置したと
ころ、周辺の電子機器の誤動作は起こらず、さらに画像
は鮮明であり、また映り込みが少なく視認性が良かっ
た。

【０１６９】実施例１２、１５、１６のディスプレイ用
フィルターを、アンチニュートンリング層の形成されて
いる面を下にして、平坦なガラス上に重ねて乗せ、ディ
スプレイ用フィルターの四隅に重さ５００ｇのおもりを
のせた。ディスプレイ用フィルターの中心、直上から３
波長域発光型蛍光ランプ（三菱電機（株）製ルピカ（商
品名）：消費電力２０Ｗ）を照射しニュートンリングの
発生の有無をフィルター平面に対して１０〜８０゜の角
度から観察した。いずれも、アンチニュートンリング層
を有するディスプレイ用フィルターの主面をガラス板に
密着させてもニュートンリングは発生しなかった。実施
例１２、１６のディスプレイ用フィルターは、どちらの
主面も発生しなかった。

【０１７０】また、実施例１２、１５、１６のディスプ
レイ用フィルターをプラズマディスプレイの画面に密着
させて設置したところ、ニュートンリングが発生しなか
った。特に、実施例１２、１６のディスプレイ用フィル
ターは、どちらの面をディスプレイ側に向けて設置して
も、ニュートンリングが発生せず、また、映り込みが少
なく視認性が良かった。

【０１７１】

【発明の効果】以上のごとく、本発明によれば、プラズ
マディスプレイの発する強度の電磁波を遮蔽でき、ま
た、ディスプレイの鮮明性を損なわない可視域での高透
明性と、周辺電子機器の誤動作を誘発する８２０ｎｍよ
り長波長の近赤外光のカット能を有する透明積層体を提
供できる。また、この透明積層体を用いることによっ
て、ディスプレイの鮮明性を損なわない可視域での高透
明性と、周辺電子機器の誤動作を誘発する８２０ｎｍよ
り長波長の近赤外光のカット能をに優れる、８２０ｎｍ
より長波長の領域での光線透過率が１０％以下であるデ
ィスプレイ用フィルターを提供でき、電磁波シールド
能、耐候性・耐環境性、さらには、防眩性または反射防
止能、アンチニュートンリング性に優れるディスプレイ
用フィルターを提供できる。またさらに、色素を併用す
ることによって、さらに近赤外線抑止性に優れる及び／
又は好ましい透過色のディスプレイ用フィルターを提供
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
すディスプレイ側から見た平面図

【図２】本発明の透明積層体の一例を示す断面図

【図３】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図４】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図５】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図６】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図７】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図８】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図９】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図

【図１０】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を
示す断面図

【図１１】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を
示す断面図

【符号の説明】

１０ 透明積層体 １１ 透明基体（Ａ） １２ 透明導電層 １３ 高屈折率透明薄膜層 １４ 銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層 ２０ 金属を含む電極 ３０ 透明成形体 ４０ 透明保護層（Ｄ） ４１ アンチニュートンリング層 ４２ 反射防止層 ４３ アンチグレア層 ５１ 反射防止層 ５２ アンチグレア層 ５３ アンチニュートンリング層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９Ａ ３１８ ３１８Ａ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ // Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ (72)発明者 吉開 正彰 愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地 三井東圧化学株式会社内 (72)発明者 小山 正人 愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地 三井東圧化学株式会社内 審査官 中島 庸子 (56)参考文献 特開 昭63−239044（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−320663（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−55581（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 G09F 9/00 H05K 9/00

Claims (17)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基体（Ａ）の一方の主面上に、高屈
   折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる
   金属薄膜層（Ｃ）とが、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金
   属薄膜層（Ｃ）との組み合わせ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返
   し単位として３回以上６回以下繰り返して積層され、さ
   らにその上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されてな
   り、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によ
   って導電面が形成され、該導電面における面抵抗が３Ω
   ／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、
   かつ、８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの波長領域の光線透過
   率が当該波長領域の全域において２０％以下である透明
   積層体であり、当該基体（Ａ）から最もはなれて積層さ
   れている高屈折率透明薄膜上に、透明な粘着材または透
   明な接着剤層又は透明な保護層を積層しても、可視光線
   反射率の増加が２％以下であることを特徴とする透明積
   層体。
2. 【請求項２】 繰り返し単位数が３回であって、透明
   基体から数えて２番目の金属薄膜層が、１番目および３
   番目の金属薄膜層より厚いことを特徴とする請求項１に
   記載の透明積層体。
3. 【請求項３】 透明基体（A）から最もはなれて積層さ
   れている高屈折率透明薄膜（Ｂ）上に隣接して透明な粘
   着材又は透明な接着剤層又は透明な保護層が積層されて
   いることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層
   体。
4. 【請求項４】 高屈折透明薄膜層(B)が、インジウム、
   チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチ
   モン、タンタルの酸化物から少なくとも１つ選ばれた酸
   化物であることを特徴とする請求項１〜３に記載の透明
   積層体。
5. 【請求項５】 高屈折率透明薄膜層（B）が、インジウ
   ム、スズ、チタンの酸化物から少なくとも１つ選ばれた
   酸化物であることを特徴とする請求項１〜４に記載の透
   明積層体。
6. 【請求項６】 透明基体（Ａ）が透明な高分子成型物で
   あることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の
   透明積層体。
7. 【請求項７】 高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が、主として
   酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求項１
   〜６に記載の透明積層体。
8. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の透明積
   層体と、該透明積層体の導電面上に形成された、金属を
   含む電極とを有することを特徴とするディスプレイ用フ
   ィルター。
9. 【請求項９】 電極が、導電面上で、かつ、導電面の周
   縁部に連続的に形成されていることを特徴とする請求項
   ８記載のディスプレイ用フィルター。
10. 【請求項１０】 請求項１〜７のいずれかに記載の透明
    積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された透明保
    護層（Ｄ）とを有することを特徴とするディスプレイ用
    フィルター。
11. 【請求項１１】 透明保護層(D)の透湿度が、１０ｇ／
    ｍ^２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１０記
    載のディスプレイ用フィルター。
12. 【請求項１２】 透明保護層(D)が形成された面におけ
    る可視光線反射率が２％以下であることを特徴とする請
    求項１０または１１に記載のディスプレイ用フィルタ
    ー。
13. 【請求項１３】 透明保護層(D)の表面に０．１〜１０
    μｍの大きさの微小な凹凸が形成されていることを特徴
    とする請求項１０〜１２記載のディスプレイ用フィルタ
    ー。
14. 【請求項１４】 請求項１〜７のいずれかに記載の透明
    積層体と、透明成形体（Ｅ）を有し、透明積層体の主面
    と透明成形体の一方の主面とが貼り合わせられているこ
    とを特徴とするディスプレイ用フィルター。
15. 【請求項１５】 透明成形体(E)の他方の主面に、反射
    防止層、アンチグレア層およびアンチニュートンリング
    層のいずれかが形成されていることを特徴とする請求項
    １４記載のディスプレイ用フィルター。
16. 【請求項１６】 請求項１４記載のディスプレイ用フィ
    ルターの両方の主面にアンチニュートンリング層が形成
    されていることを特徴とするディスプレイ用フィルタ
    ー。
17. 【請求項１７】 請求項１〜７のいずれかに記載の透明
    積層体と、反射防止層、アンチニュートンリング層およ
    びアンチグレア層の中から選ばれた１種類の層からなる
    第１の部材と、透明成形体（Ｅ）と、透明保護層（Ｄ）
    および金属を含む電極の中から選ばれた１種類以上から
    なる第２の部材とを有し、第１の部材、透明成形体
    (E)、透明積層体、第２の部材の順に構成されているこ
    とを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルター。