JP2916557B2 - 塗布装置 - Google Patents
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- G—PHYSICS
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- Materials Engineering (AREA)
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、移動中の支持体表面に
向けて連続的に押出した塗布液を、支持体表面に均一な
厚さをもって高速薄層塗布するエクストルージョン型の
塗布装置に関するものである。
向けて連続的に押出した塗布液を、支持体表面に均一な
厚さをもって高速薄層塗布するエクストルージョン型の
塗布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】移動中の支持体表面に向けて連続的に押
出した塗布液を、支持体表面に均一な厚さをもって高速
薄層塗布するエクストルージョン型塗布装置は、種々検
討され、塗布ヘッドの上流側エッジをプレコート層によ
って液封し塗布層へのエア同伴を遮断する方法として、
同一組成の液をプレコートする方法（特開昭５８−２０
５５６１号公報参照）、プレコートとしての溶剤を支持
体上に塗布する方法（特開昭６１−１３９９２９号公報
参照）等が開示されている。これらの塗布方法により、
高速での薄層塗布を実現することができる。しかしなが
らこの塗布装置はエクストルージョン型塗布装置におい
て、下流側エッジと支持体との間が加圧状態となり塗布
層がスムージングされるため、支持体の幅方向不均一が
ある場合には、塗布膜厚みも幅方向に不均一なものとな
る。さらに、支持体上やプレコート塗布液あるいは塗布
層塗布液中に異物が混入していた場合、下流側エッジ上
に異物がトラップされやすく、それによりスジが発生し
やすくなる。なお、ここにいう塗布液としては、例えば
写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護・帯電防止あ
るいは滑性用塗布液等であり、その代表的な製品として
は、各種写真フィルム、印画紙、磁気ディスクや磁気テ
ープのごとき磁気記録媒体等がある。
出した塗布液を、支持体表面に均一な厚さをもって高速
薄層塗布するエクストルージョン型塗布装置は、種々検
討され、塗布ヘッドの上流側エッジをプレコート層によ
って液封し塗布層へのエア同伴を遮断する方法として、
同一組成の液をプレコートする方法（特開昭５８−２０
５５６１号公報参照）、プレコートとしての溶剤を支持
体上に塗布する方法（特開昭６１−１３９９２９号公報
参照）等が開示されている。これらの塗布方法により、
高速での薄層塗布を実現することができる。しかしなが
らこの塗布装置はエクストルージョン型塗布装置におい
て、下流側エッジと支持体との間が加圧状態となり塗布
層がスムージングされるため、支持体の幅方向不均一が
ある場合には、塗布膜厚みも幅方向に不均一なものとな
る。さらに、支持体上やプレコート塗布液あるいは塗布
層塗布液中に異物が混入していた場合、下流側エッジ上
に異物がトラップされやすく、それによりスジが発生し
やすくなる。なお、ここにいう塗布液としては、例えば
写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護・帯電防止あ
るいは滑性用塗布液等であり、その代表的な製品として
は、各種写真フィルム、印画紙、磁気ディスクや磁気テ
ープのごとき磁気記録媒体等がある。
【０００３】本出願人は先にこれらを改善して、スジ故
障や、支持体の厚み，ヤング率等の不均一に起因する塗
布膜厚みの変動を回避出来、さらには塗布液のスロット
通過時に圧力損失を少くすることのできる塗布装置とし
て、特開昭６３−２００６９号公報に記載の塗布装置を
出願した。前記特開昭６３−２００６９号公報には、図
５に示すような、支持体の塗布面にあらかじめ塗布され
た有機溶剤によって液封された状態で、支持体移動方向
に対して上流側に位置するフロントエッジと、支持体移
動方向に対して下流側に位置し先端が前記フロントエッ
ジよりも反支持体方向に後退した鋭利なバックエッジと
を有するエクストルージョン型ヘッドにより、支持体に
塗布層を形成する塗布装置が開示されている。
障や、支持体の厚み，ヤング率等の不均一に起因する塗
布膜厚みの変動を回避出来、さらには塗布液のスロット
通過時に圧力損失を少くすることのできる塗布装置とし
て、特開昭６３−２００６９号公報に記載の塗布装置を
出願した。前記特開昭６３−２００６９号公報には、図
５に示すような、支持体の塗布面にあらかじめ塗布され
た有機溶剤によって液封された状態で、支持体移動方向
に対して上流側に位置するフロントエッジと、支持体移
動方向に対して下流側に位置し先端が前記フロントエッ
ジよりも反支持体方向に後退した鋭利なバックエッジと
を有するエクストルージョン型ヘッドにより、支持体に
塗布層を形成する塗布装置が開示されている。
【０００４】この装置によれば、支持体の塗布面に、ま
ず有機溶剤が、グラビアコーター、ロールコーター、ブ
レードコーター、エクストルージョンコーターなどの一
般的に用いられている公知の塗布装置により塗布され、
この溶剤層により、フロントエッジ上流側からの同伴空
気が塗布層へ浸入することが防止され、欠陥のない塗布
状態が維持される高速塗布が可能である。バックエッジ
３（本明細書においては支持体走行方向の下流側のエッ
ジをいう）は、フロントエッジ２（支持体上流側のエッ
ジ）のスリット８の出口部における接線よりも反支持体
方向に、その鋭利な先端部が位置するように配設され
る。これにより、バックエッジ３には支持体１による加
圧力が働かないから、バックエッジ３の先端に異物がト
ラップされるのを防止でき、またバックエッジ３により
支持体が削られるのを防止できる。更に、波打ち（ベ
コ）等により支持体面が平面でなくても、塗膜厚みが波
うち等の影響を受け難くなり、非常に優れた塗布製品が
得られる。
ず有機溶剤が、グラビアコーター、ロールコーター、ブ
レードコーター、エクストルージョンコーターなどの一
般的に用いられている公知の塗布装置により塗布され、
この溶剤層により、フロントエッジ上流側からの同伴空
気が塗布層へ浸入することが防止され、欠陥のない塗布
状態が維持される高速塗布が可能である。バックエッジ
３（本明細書においては支持体走行方向の下流側のエッ
ジをいう）は、フロントエッジ２（支持体上流側のエッ
ジ）のスリット８の出口部における接線よりも反支持体
方向に、その鋭利な先端部が位置するように配設され
る。これにより、バックエッジ３には支持体１による加
圧力が働かないから、バックエッジ３の先端に異物がト
ラップされるのを防止でき、またバックエッジ３により
支持体が削られるのを防止できる。更に、波打ち（ベ
コ）等により支持体面が平面でなくても、塗膜厚みが波
うち等の影響を受け難くなり、非常に優れた塗布製品が
得られる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この塗
布装置においては、塗布中に支持体のバタツキや送液の
圧力変動等、支持体搬送系や送液系などの何らかの外乱
が生じることにより、バックエッジの下流側斜面に塗布
液が付着し、これが先端部にまでわたる弱固化した汚れ
となり、この汚れが塗布面を傷付けスジ等の塗布欠陥が
発生するという問題があった。また、バックエッジの汚
れだけに限らず、バックエッジの先端部が欠けることに
よっても、同様なスジ等の塗布欠陥が発生する。本発明
の目的は、前記従来の問題点を解消し、スジ等の欠陥が
なく均一な薄層塗膜を高速で安定して形成できる塗布装
置を提供することにある。
布装置においては、塗布中に支持体のバタツキや送液の
圧力変動等、支持体搬送系や送液系などの何らかの外乱
が生じることにより、バックエッジの下流側斜面に塗布
液が付着し、これが先端部にまでわたる弱固化した汚れ
となり、この汚れが塗布面を傷付けスジ等の塗布欠陥が
発生するという問題があった。また、バックエッジの汚
れだけに限らず、バックエッジの先端部が欠けることに
よっても、同様なスジ等の塗布欠陥が発生する。本発明
の目的は、前記従来の問題点を解消し、スジ等の欠陥が
なく均一な薄層塗膜を高速で安定して形成できる塗布装
置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
有機溶剤を主体とするプレコート液を支持体の塗布面に
あらかじめ塗布して液封した状態で、支持体移動方向に
対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移
動方向に対して下流側に位置し先端が前記フロントエッ
ジよりも反支持体方向に後退したバックエッジとを有す
るエクストルージョン型ヘッドにより、前記支持体上に
一層以上の塗布層を形成する塗布装置において、前記バ
ックエッジの先端部に面取り面を形成し、前記面取り面
と前記バックエッジの前記下流側傾斜面とのなす角度α
が ４０°≦α≦１４０°、 前記面取り面と前記バックエッジの前記上流側傾斜面の
角度βが ４０°≦β＜１８０°、 前記面取り面の幅Ｌ（ｍｍ）が ０．００２≦Ｌ であり、前記バックエッジの前記下流側傾斜面と前記ヘ
ッドから離れて行く前記支持体とのなす角度θを２５°
以上に設定して塗布することを特徴とする塗布装置によ
り達成される。
有機溶剤を主体とするプレコート液を支持体の塗布面に
あらかじめ塗布して液封した状態で、支持体移動方向に
対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移
動方向に対して下流側に位置し先端が前記フロントエッ
ジよりも反支持体方向に後退したバックエッジとを有す
るエクストルージョン型ヘッドにより、前記支持体上に
一層以上の塗布層を形成する塗布装置において、前記バ
ックエッジの先端部に面取り面を形成し、前記面取り面
と前記バックエッジの前記下流側傾斜面とのなす角度α
が ４０°≦α≦１４０°、 前記面取り面と前記バックエッジの前記上流側傾斜面の
角度βが ４０°≦β＜１８０°、 前記面取り面の幅Ｌ（ｍｍ）が ０．００２≦Ｌ であり、前記バックエッジの前記下流側傾斜面と前記ヘ
ッドから離れて行く前記支持体とのなす角度θを２５°
以上に設定して塗布することを特徴とする塗布装置によ
り達成される。
【０００７】
【実施態様】以下、添付図面を参照して本発明の一実施
態様を説明する。塗布ヘッドの形状、支持体との位置関
係を図１及び図２に示す。図２はヘッド先端部分の概略
図であり、図１はヘッド先端部分の拡大図である。な
お、図示しない部分については図５に示す従来の構成と
同様である。フロントエッジ２は、塗布液７を吐出する
スリット８の出口から支持体移動方向の上流側に位置
し、かつ下流側に配設したバックエッジ３の先端部より
も支持体寄りに突出している。更に、前記フロントエッ
ジ２は支持体１に対向するエッジ面全域が支持体側に膨
らむように形成されている。支持体側に膨らむ形態とし
ては、一般的には曲率を持った湾曲面が用いられるが、
同伴空気の巻き込みを防止できれば、湾曲面に限らな
い。
態様を説明する。塗布ヘッドの形状、支持体との位置関
係を図１及び図２に示す。図２はヘッド先端部分の概略
図であり、図１はヘッド先端部分の拡大図である。な
お、図示しない部分については図５に示す従来の構成と
同様である。フロントエッジ２は、塗布液７を吐出する
スリット８の出口から支持体移動方向の上流側に位置
し、かつ下流側に配設したバックエッジ３の先端部より
も支持体寄りに突出している。更に、前記フロントエッ
ジ２は支持体１に対向するエッジ面全域が支持体側に膨
らむように形成されている。支持体側に膨らむ形態とし
ては、一般的には曲率を持った湾曲面が用いられるが、
同伴空気の巻き込みを防止できれば、湾曲面に限らな
い。
【０００８】前記バックエッジ３は、前記フロントエッ
ジ２のスリット８の出口部における接線よりも反支持体
方向にその先端部が後退するように配設される。更に、
前記バックエッジ３はスリット８の出口部で最も支持体
に接近した先端部分を面取りした形状であり、スリット
８より吐出される塗布液は、バックエッジ先端部で分離
し、これより下流ではスムージングされない。前記スリ
ット８は液溜めとなるポケット部９に連通しているが、
該スリット８の形状はポケット部９から支持体１に向け
て幅が漸減するように形成されていても良く、また平行
でも良い。
ジ２のスリット８の出口部における接線よりも反支持体
方向にその先端部が後退するように配設される。更に、
前記バックエッジ３はスリット８の出口部で最も支持体
に接近した先端部分を面取りした形状であり、スリット
８より吐出される塗布液は、バックエッジ先端部で分離
し、これより下流ではスムージングされない。前記スリ
ット８は液溜めとなるポケット部９に連通しているが、
該スリット８の形状はポケット部９から支持体１に向け
て幅が漸減するように形成されていても良く、また平行
でも良い。
【０００９】本発明は、前記バックエッジ３の下流側斜
面４と該バックエッジ３の先端から離れていく支持体１
とのなす角度（以下、出口角という。）θを２５°以
上、好ましくは３０°以上にすることにより、下流側斜
面４に塗布液が溢れるのを防止するものである。具体的
には、バックエッジ先端の角度とヘッドに対する支持体
の位置関係（角度）を選定することにより、上記出口角
θを実現することが出来る。同時に２層以上を塗布する
ためにヘッドが３個以上のエッジを有する場合、図３に
示すように最も下流のエッジの下流側斜面４と前記支持
体１とのなす出口角θを２５°以上、好ましくは３０°
以上にすればよい。
面４と該バックエッジ３の先端から離れていく支持体１
とのなす角度（以下、出口角という。）θを２５°以
上、好ましくは３０°以上にすることにより、下流側斜
面４に塗布液が溢れるのを防止するものである。具体的
には、バックエッジ先端の角度とヘッドに対する支持体
の位置関係（角度）を選定することにより、上記出口角
θを実現することが出来る。同時に２層以上を塗布する
ためにヘッドが３個以上のエッジを有する場合、図３に
示すように最も下流のエッジの下流側斜面４と前記支持
体１とのなす出口角θを２５°以上、好ましくは３０°
以上にすればよい。
【００１０】前記バックエッジ３の先端の面取り面の両
端における角度α、βは４０°≦α≦１４０°、４０°
≦β＜１８０°。
端における角度α、βは４０°≦α≦１４０°、４０°
≦β＜１８０°。
【００１１】本実施態様において前記角度αは４０°≦
α≦１４０°であるが、好ましくは ６０°≦α≦
１２０°、特に好ましくは ８０°≦α≦１００°であ
る。角度αが小さいと前記バックエッジ３の先端が欠け
る恐れがあるが、角度αが上記範囲であれば、該バック
エッジの先端が欠けることはない。また、前記角度βは
４０°≦β＜１８０°であるが、好ましくは１１０°≦
β≦１６０°、特に好ましくは１２０°≦β≦１５０°
である。また、面取り面の幅Ｌ（ｍｍ）は０．００２≦
Ｌであるが、好ましくは０．０１≦Ｌ≦０．５、特に好
ましくは０．０２≦Ｌ≦０．１である。
α≦１４０°であるが、好ましくは ６０°≦α≦
１２０°、特に好ましくは ８０°≦α≦１００°であ
る。角度αが小さいと前記バックエッジ３の先端が欠け
る恐れがあるが、角度αが上記範囲であれば、該バック
エッジの先端が欠けることはない。また、前記角度βは
４０°≦β＜１８０°であるが、好ましくは１１０°≦
β≦１６０°、特に好ましくは１２０°≦β≦１５０°
である。また、面取り面の幅Ｌ（ｍｍ）は０．００２≦
Ｌであるが、好ましくは０．０１≦Ｌ≦０．５、特に好
ましくは０．０２≦Ｌ≦０．１である。
【００１２】角度βが小さかったり、面取り幅Ｌが大き
いと、バックエッジ先端と前記支持体１との間の塗布液
の圧力が高くなり、厚塗り状態になってしまうが、角度
β及び面取り幅Ｌが上記範囲であれば、厚塗りを防止す
ることができる。また、前記角度θは２５°以上である
が、好ましくは３５°≦θ≦９０°、特に好ましくは４
０°≦θ≦７０°である。
いと、バックエッジ先端と前記支持体１との間の塗布液
の圧力が高くなり、厚塗り状態になってしまうが、角度
β及び面取り幅Ｌが上記範囲であれば、厚塗りを防止す
ることができる。また、前記角度θは２５°以上である
が、好ましくは３５°≦θ≦９０°、特に好ましくは４
０°≦θ≦７０°である。
【００１３】前記バックエッジ３の下流側斜面４の濡れ
性が低ければ、塗布液の付着性も低く汚れを防止できる
が、前記下流側斜面４と前記支持体１とのなす角度θが
上記範囲であれば、下流側斜面の濡れ性にかかわりな
く、塗布液の付着による汚れを防止することができる。
前記バックエッジ３の下流側斜面４とヘッドから離れて
行く前記支持体１とのなす角度θを２５°以上にしてお
くだけでも、塗布時に塗布液が前記バックエッジ３の下
流側斜面４に接することはなく、該バックエッジ３の汚
れを防止でき、該バックエッジ３の汚れに起因するスジ
状の塗布欠陥の発生を防止することができる。
性が低ければ、塗布液の付着性も低く汚れを防止できる
が、前記下流側斜面４と前記支持体１とのなす角度θが
上記範囲であれば、下流側斜面の濡れ性にかかわりな
く、塗布液の付着による汚れを防止することができる。
前記バックエッジ３の下流側斜面４とヘッドから離れて
行く前記支持体１とのなす角度θを２５°以上にしてお
くだけでも、塗布時に塗布液が前記バックエッジ３の下
流側斜面４に接することはなく、該バックエッジ３の汚
れを防止でき、該バックエッジ３の汚れに起因するスジ
状の塗布欠陥の発生を防止することができる。
【００１４】しかし、前記バックエッジ３の先端がシャ
ープエッジであると、前記持体１あるいは塗布液との接
触等により部分的に欠けることがあり、エッジの欠損部
分によるスジ状の塗布欠陥が発生する恐れがある。そこ
で、スジ状の塗布欠陥の発生を確実に防止するために、
本発明では前述のように前記バックエッジ３の先端部に
面取りを施し、先端部の強度を上げている。この面取り
面は、平面とするのが加工上は容易であるが、目的に応
じて湾曲面あるいは多段の面取りとしてもよい。また、
面取り幅が微小だと面取り加工後の角度αの測定が困難
な場合があるが、この場合は面取りをする砥石の設定角
度を以て前記角度αとすることができる。
ープエッジであると、前記持体１あるいは塗布液との接
触等により部分的に欠けることがあり、エッジの欠損部
分によるスジ状の塗布欠陥が発生する恐れがある。そこ
で、スジ状の塗布欠陥の発生を確実に防止するために、
本発明では前述のように前記バックエッジ３の先端部に
面取りを施し、先端部の強度を上げている。この面取り
面は、平面とするのが加工上は容易であるが、目的に応
じて湾曲面あるいは多段の面取りとしてもよい。また、
面取り幅が微小だと面取り加工後の角度αの測定が困難
な場合があるが、この場合は面取りをする砥石の設定角
度を以て前記角度αとすることができる。
【００１５】前記バックエッジ３の下流側斜面４と前記
支持体１とのなす角度αは、該支持体１の搬送方向を調
整することによって設定することができる。前記支持体
１の搬送方向が固定であれば、前記バックエッジの下流
側斜面４の傾斜角度を調整することにより設定すること
ができる。この場合、単に前記下流側斜面４の角度だけ
に限らず、上述のようにバックエッジ先端の角度や、前
記塗布液の通路となる前記スリット８の支持体１に対す
る角度を調整しても、前記角度αを設定することがで
き、どのような方策によってもよい。塗布ヘッドの先端
部分の材質としては、ステンレス鋼、高速度鋼等を用い
ることができるが、高精度な仕上げが必要な場合には、
超硬合金やセラミックが好ましい。
支持体１とのなす角度αは、該支持体１の搬送方向を調
整することによって設定することができる。前記支持体
１の搬送方向が固定であれば、前記バックエッジの下流
側斜面４の傾斜角度を調整することにより設定すること
ができる。この場合、単に前記下流側斜面４の角度だけ
に限らず、上述のようにバックエッジ先端の角度や、前
記塗布液の通路となる前記スリット８の支持体１に対す
る角度を調整しても、前記角度αを設定することがで
き、どのような方策によってもよい。塗布ヘッドの先端
部分の材質としては、ステンレス鋼、高速度鋼等を用い
ることができるが、高精度な仕上げが必要な場合には、
超硬合金やセラミックが好ましい。
【００１６】送液系としては、塗布液の性質に応じた公
知の技術を用いる。特に、磁性塗布液の場合には、一般
的には凝集性を持っており、したがって、凝集をしない
程度の剪断力を塗布液に与えるように送液することが好
ましい。具体的には、特願昭６３−６３６０１号の明細
書、特開昭６２−９５１７４号各公報に記載のローター
を用いることができる。特願昭６３−６３６０１号の明
細書などに示されるローターのない場合には、ポンプと
塗布ヘッドとの間の配管径は５０ｍｍ以下、磁性液塗布
ヘッドのポケット径は２〜２０ｍｍ、磁性液塗布ヘッド
のスリット幅は０．０５ｍｍ〜１ｍｍ、スリット長は５
ｍｍ〜１５０ｍｍが好ましいが、これに限るものではな
い。
知の技術を用いる。特に、磁性塗布液の場合には、一般
的には凝集性を持っており、したがって、凝集をしない
程度の剪断力を塗布液に与えるように送液することが好
ましい。具体的には、特願昭６３−６３６０１号の明細
書、特開昭６２−９５１７４号各公報に記載のローター
を用いることができる。特願昭６３−６３６０１号の明
細書などに示されるローターのない場合には、ポンプと
塗布ヘッドとの間の配管径は５０ｍｍ以下、磁性液塗布
ヘッドのポケット径は２〜２０ｍｍ、磁性液塗布ヘッド
のスリット幅は０．０５ｍｍ〜１ｍｍ、スリット長は５
ｍｍ〜１５０ｍｍが好ましいが、これに限るものではな
い。
【００１７】塗布液塗布ヘッドは２本のガイドロール間
に設置されるが、塗布液塗布ヘッドとその上流側のガイ
ドロールとの間にプレコート液塗布ヘッドを設置しても
構わない。塗布液塗布ヘッドに対する支持体のラップ角
度は２°〜６０°であり、塗布液塗布ヘッドにおいてラ
ップを形成するためのスパンは一般的には５０〜３００
０ｍｍであるが、これに限るものではない。
に設置されるが、塗布液塗布ヘッドとその上流側のガイ
ドロールとの間にプレコート液塗布ヘッドを設置しても
構わない。塗布液塗布ヘッドに対する支持体のラップ角
度は２°〜６０°であり、塗布液塗布ヘッドにおいてラ
ップを形成するためのスパンは一般的には５０〜３００
０ｍｍであるが、これに限るものではない。
【００１８】本発明で用いる前記塗布液７としては、写
真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護用塗布液、帯電
防止用塗布液、滑性用塗布液等があり、これらを塗布さ
れた代表的な製品としては、各種写真フィルム、印画
紙、磁気記録媒体等がある。本発明において、前記支持
体１の塗布面にはあらかじめ有機溶剤を主体とする低粘
度の液が、グラビアコーター、ロールコーター、ブレー
ドコーター、エクストルージョンコーターなどの一般的
に用いられている公知の塗布装置によって塗布される。
このあらかじめ塗布された低粘度の液により、塗布液が
塗布されるときのフロントエッジ上流側での同伴空気の
巻き込みが防止され、好適な塗布状態が維持される。よ
り安定した塗布状態を維持するには、支持体とフロント
エッジとの間隙を通過する量よりも過剰に低粘度の液を
塗布し、フロントエッジで過剰分の低粘度の液を掻き落
としながら塗布液を塗布することが望ましい。
真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護用塗布液、帯電
防止用塗布液、滑性用塗布液等があり、これらを塗布さ
れた代表的な製品としては、各種写真フィルム、印画
紙、磁気記録媒体等がある。本発明において、前記支持
体１の塗布面にはあらかじめ有機溶剤を主体とする低粘
度の液が、グラビアコーター、ロールコーター、ブレー
ドコーター、エクストルージョンコーターなどの一般的
に用いられている公知の塗布装置によって塗布される。
このあらかじめ塗布された低粘度の液により、塗布液が
塗布されるときのフロントエッジ上流側での同伴空気の
巻き込みが防止され、好適な塗布状態が維持される。よ
り安定した塗布状態を維持するには、支持体とフロント
エッジとの間隙を通過する量よりも過剰に低粘度の液を
塗布し、フロントエッジで過剰分の低粘度の液を掻き落
としながら塗布液を塗布することが望ましい。
【００１９】本発明でいう有機溶剤を主体とするプレコ
ート液６は低粘度の液であり、ここでいう低粘度とは、
トルエン、メチルエチルケトン、酢酸ブチル、シクロヘ
キサノン等の有機溶剤単独、あるいはこれらを組み合わ
せた液、あるいはバインダーをこれらの液に溶解させた
液であり、粘度としては２０ｃｐ以下が好ましく、更に
好ましくは５ｃｐ以下である。バインダーとしては後述
の塗布液に用いるバインダーを用いる。また、本発明に
おいて少なくとも一層以上の塗布層とは、磁気記録媒体
においては、磁性層のみの場合と、磁性層が重層構造に
なっているものと、磁性層と非磁性層の組み合わせで少
なくとも磁性層を一層含む構成になっているものを含
む。磁気記録媒体以外においても、同様に、公知の層構
成が可能である。
ート液６は低粘度の液であり、ここでいう低粘度とは、
トルエン、メチルエチルケトン、酢酸ブチル、シクロヘ
キサノン等の有機溶剤単独、あるいはこれらを組み合わ
せた液、あるいはバインダーをこれらの液に溶解させた
液であり、粘度としては２０ｃｐ以下が好ましく、更に
好ましくは５ｃｐ以下である。バインダーとしては後述
の塗布液に用いるバインダーを用いる。また、本発明に
おいて少なくとも一層以上の塗布層とは、磁気記録媒体
においては、磁性層のみの場合と、磁性層が重層構造に
なっているものと、磁性層と非磁性層の組み合わせで少
なくとも磁性層を一層含む構成になっているものを含
む。磁気記録媒体以外においても、同様に、公知の層構
成が可能である。
【００２０】本発明により磁気記録媒体の前記塗布液７
により磁性層を形成する場合、磁性層には強磁性微粉末
が使用される。強磁性微粉末としては、γ−Ｆｅ
2 Ｏ3 、Ｃｏ含有のγ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3Ｏ4 、Ｃｏ
含有のＦｅ3 Ｏ4 、γ−ＦｅＯｘ、Ｃｏ含有のγ−Ｆｅ
Ｏｘ（Ｘ＝１．３３〜１．５０）、ＣｒＯ2 、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−
Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金な
ど、公知の強磁性微粉末が使用でき、これら強磁性微粉
末の粒子サイズは約０．００５〜１ミクロンの長さで、
軸長／軸幅の比は、１／１〜５０／１程度である。又、
これらの強磁性体微粉末の比表面積は、１ｍ2 ／ｇ〜７
０ｍ2 ／ｇ程度である。また強磁性微粉末として、板状
六方晶のバリウムフェライトも使用できる。バリウムフ
ェライトの粒子サイズは約０．００１〜１ミクロンの直
径で、厚みが直径の１／２〜１／２０である。バリウム
フェライトの比重は４〜６ｇ／ｃｃで、比表面は１ｍ2
／ｇ〜７０ｍ2 ／ｇである。
により磁性層を形成する場合、磁性層には強磁性微粉末
が使用される。強磁性微粉末としては、γ−Ｆｅ
2 Ｏ3 、Ｃｏ含有のγ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3Ｏ4 、Ｃｏ
含有のＦｅ3 Ｏ4 、γ−ＦｅＯｘ、Ｃｏ含有のγ−Ｆｅ
Ｏｘ（Ｘ＝１．３３〜１．５０）、ＣｒＯ2 、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−
Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金な
ど、公知の強磁性微粉末が使用でき、これら強磁性微粉
末の粒子サイズは約０．００５〜１ミクロンの長さで、
軸長／軸幅の比は、１／１〜５０／１程度である。又、
これらの強磁性体微粉末の比表面積は、１ｍ2 ／ｇ〜７
０ｍ2 ／ｇ程度である。また強磁性微粉末として、板状
六方晶のバリウムフェライトも使用できる。バリウムフ
ェライトの粒子サイズは約０．００１〜１ミクロンの直
径で、厚みが直径の１／２〜１／２０である。バリウム
フェライトの比重は４〜６ｇ／ｃｃで、比表面は１ｍ2
／ｇ〜７０ｍ2 ／ｇである。
【００２１】磁性層には強磁性微粉末と共にバインダー
が使用される。使用されるバインダーとしては従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が挙げられる。熱可塑性樹脂としては軟化温度が
１５０℃以下、平均分子量が１０，０００〜３００，０
００、重合度が約５０〜２，０００程度のもので、例え
ば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステルアクリルニトリル共重合体、ア
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸
エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合
体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹
脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビ
ニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタ
ジェンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポ
リビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースア
セテートブチレート、セルロースジアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニト
ロセルロース等）、スチレブタジェン共重合体、ポリエ
ステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル
共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。
が使用される。使用されるバインダーとしては従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が挙げられる。熱可塑性樹脂としては軟化温度が
１５０℃以下、平均分子量が１０，０００〜３００，０
００、重合度が約５０〜２，０００程度のもので、例え
ば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステルアクリルニトリル共重合体、ア
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸
エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合
体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹
脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビ
ニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタ
ジェンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポ
リビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースア
セテートブチレート、セルロースジアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニト
ロセルロース等）、スチレブタジェン共重合体、ポリエ
ステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル
共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。
【００２２】熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、
塗布液の状態では２００，０００以下の分子量のもので
あり、磁性層形成用組成物を塗布し、乾燥させた後、加
熱すると、これらの樹脂が縮合、付加等の反応を生じて
分子量が無限大のものとなり得る。また、これらの樹脂
の中で、樹脂が熱分解するまでの問に軟化または溶融し
ないものであることが望ましい。具体的には、例えばフ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、硬化型ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ン樹脂、反応型アクリル系樹脂、エポキシポリアミド樹
脂、ニトロセルローズメラミン樹脂、高分子量ポリエス
テル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタ
クリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの
混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネート
との混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリ
コール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイ
ソシアネートの混合物、ポリアミド樹脂及びこれらの混
合物などがある。バインダー中に分散する強磁性微粉
末、溶剤、又、添加剤としての分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤及び非磁性支持体等は従来使用されてい
たものが同様に使用される。
塗布液の状態では２００，０００以下の分子量のもので
あり、磁性層形成用組成物を塗布し、乾燥させた後、加
熱すると、これらの樹脂が縮合、付加等の反応を生じて
分子量が無限大のものとなり得る。また、これらの樹脂
の中で、樹脂が熱分解するまでの問に軟化または溶融し
ないものであることが望ましい。具体的には、例えばフ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、硬化型ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ン樹脂、反応型アクリル系樹脂、エポキシポリアミド樹
脂、ニトロセルローズメラミン樹脂、高分子量ポリエス
テル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタ
クリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの
混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネート
との混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリ
コール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイ
ソシアネートの混合物、ポリアミド樹脂及びこれらの混
合物などがある。バインダー中に分散する強磁性微粉
末、溶剤、又、添加剤としての分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤及び非磁性支持体等は従来使用されてい
たものが同様に使用される。
【００２３】分散剤としてはカプリル酸、カプリン酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン
酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜１８個の脂肪酸
（Ｒ1 ＣＯＯＨ、Ｒ1 は炭素数１１〜１７個のアルキル
またはアルケニル基）：前記の脂肪酸のアルカリ金属
（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ，
Ｃａ，Ｂａ）から成る金属石鹸：前記の脂肪酸エステル
の弗素を含有した化合物：前記の脂肪酸のアミド：ポリ
アルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル：レジチ
ン：トリアルキルポリオレフィンオキシ第四アンモニウ
ム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンはエチレ
ン、プロピレンなど）：等が使用される。この他に炭素
数１２以上の高級アルコール、およびこれらの他に硫酸
エステル等も使用可能である。潤滑剤としては前述の分
散剤もその効果が認められるが、ジアルキルポリシロキ
サン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリ
シロキサン（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノアル
キルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数
１〜５個、アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニルポ
リシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アルキ
ルは炭素数１〜５個）などのシリコンオイル、グラファ
イトなどの導電性微粉末：二硫化モリブデン、二酸化タ
ングステンなどの無機微粉末：ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラ
フルオロエチレンなどのプラスチック微粉末：α−オレ
フィン重合物：常温で液状の不飽和脂肪属炭化水素（二
重結合が末端の炭素に結合したα−オレフィン、炭素数
約２０）：炭素数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素
数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、フルオロカーボン類などが使用できる。
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン
酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜１８個の脂肪酸
（Ｒ1 ＣＯＯＨ、Ｒ1 は炭素数１１〜１７個のアルキル
またはアルケニル基）：前記の脂肪酸のアルカリ金属
（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ，
Ｃａ，Ｂａ）から成る金属石鹸：前記の脂肪酸エステル
の弗素を含有した化合物：前記の脂肪酸のアミド：ポリ
アルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル：レジチ
ン：トリアルキルポリオレフィンオキシ第四アンモニウ
ム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンはエチレ
ン、プロピレンなど）：等が使用される。この他に炭素
数１２以上の高級アルコール、およびこれらの他に硫酸
エステル等も使用可能である。潤滑剤としては前述の分
散剤もその効果が認められるが、ジアルキルポリシロキ
サン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリ
シロキサン（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノアル
キルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数
１〜５個、アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニルポ
リシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アルキ
ルは炭素数１〜５個）などのシリコンオイル、グラファ
イトなどの導電性微粉末：二硫化モリブデン、二酸化タ
ングステンなどの無機微粉末：ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラ
フルオロエチレンなどのプラスチック微粉末：α−オレ
フィン重合物：常温で液状の不飽和脂肪属炭化水素（二
重結合が末端の炭素に結合したα−オレフィン、炭素数
約２０）：炭素数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素
数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、フルオロカーボン類などが使用できる。
【００２４】研磨剤としては溶融アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、コランダム、人造コラ
ンダム、ダイアモンド、人造ダイアモンド、ザクロ石、
エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）等が使用され
る。帯電防止剤としてはカーボンブラック、カーボンブ
ラックグラフトポリマーなどの導電性微粉末：サポニン
などの天然界面活性剤：アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などの，ノニオン界面活性
剤：高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、
ピリジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類などのカチオン界面活性剤：カルボン酸基、スル
ホン酸基、燐酸基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等
の酸性基を含むアニオン界面活性剤：アミノ酸類、アミ
ノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エ
ステル類等の両性活性剤などが使用される。
素、酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、コランダム、人造コラ
ンダム、ダイアモンド、人造ダイアモンド、ザクロ石、
エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）等が使用され
る。帯電防止剤としてはカーボンブラック、カーボンブ
ラックグラフトポリマーなどの導電性微粉末：サポニン
などの天然界面活性剤：アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などの，ノニオン界面活性
剤：高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、
ピリジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類などのカチオン界面活性剤：カルボン酸基、スル
ホン酸基、燐酸基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等
の酸性基を含むアニオン界面活性剤：アミノ酸類、アミ
ノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エ
ステル類等の両性活性剤などが使用される。
【００２５】塗布溶媒に使用する有機溶媒としては、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン系：酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノ
エチルエーテル等のエステル系：ベンゼン、トルエン、
キシレン等のタール系（芳香族炭化水素）：メチレンク
ロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホ
ルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の
塩素化炭化水素等がある。溶剤の量は磁性微粉末の２〜
３倍である。バインダー１００重量部に対して、分散剤
は０．５〜２０重量部、潤滑剤は０．２〜２０重量部、
研磨剤は０．５〜２０重量部、帯電防止剤として使用す
る導電性微粉末は０．２〜２０重量部、同じく帯電防止
剤として使用する界面活性剤は０．１〜１０重量部であ
る。磁性粉末及び前述の結合剤、分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤、溶剤等は混練されて磁性塗料とされ
る。
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン系：酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノ
エチルエーテル等のエステル系：ベンゼン、トルエン、
キシレン等のタール系（芳香族炭化水素）：メチレンク
ロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホ
ルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の
塩素化炭化水素等がある。溶剤の量は磁性微粉末の２〜
３倍である。バインダー１００重量部に対して、分散剤
は０．５〜２０重量部、潤滑剤は０．２〜２０重量部、
研磨剤は０．５〜２０重量部、帯電防止剤として使用す
る導電性微粉末は０．２〜２０重量部、同じく帯電防止
剤として使用する界面活性剤は０．１〜１０重量部であ
る。磁性粉末及び前述の結合剤、分散剤、潤滑剤、研磨
剤、帯電防止剤、溶剤等は混練されて磁性塗料とされ
る。
【００２６】これらの磁性層を設ける支持体の素材とし
てはポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタ
レートなどのごときポリエステル、ポリプロピレンのご
ときポリオレフィン、三酢酸セルローズや二酢酸セルロ
ーズのごときセルローズ誘導体、ポリ塩化ビニルのごと
きビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド樹脂、
ポリスルホンなどのプラスチックのフィルム、アルミニ
ュウム、銅などの金属材料、ガラスなどのセラミックス
などがある。これらの支持体は、あらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、金属蒸着処
理、アルカル処理などの前処理が施されていてもよい。
支持体は、種々所望の形状のものでよい。
てはポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタ
レートなどのごときポリエステル、ポリプロピレンのご
ときポリオレフィン、三酢酸セルローズや二酢酸セルロ
ーズのごときセルローズ誘導体、ポリ塩化ビニルのごと
きビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド樹脂、
ポリスルホンなどのプラスチックのフィルム、アルミニ
ュウム、銅などの金属材料、ガラスなどのセラミックス
などがある。これらの支持体は、あらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、金属蒸着処
理、アルカル処理などの前処理が施されていてもよい。
支持体は、種々所望の形状のものでよい。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の塗布装置は
バックエッジが支持体から離れるように後退した構成に
おいて、バックエッジの先端部分形状を特定の形状に限
定してその強度を高めた構造であるとともに、前記支持
体とバックエッジ面との角度を一定以上に保つようにし
たので、エッジ欠けを防止できると共にバックエッジ面
への塗布液の周り込み等による該面の汚れを回避でき、
前記支持体の幅方向の不均一による幅方向塗膜厚み変動
やスジ発生を抑えることができ、塗布厚みが均一で、し
かもスジ等の欠陥のない塗布を行える。特に、磁気記録
媒体における磁性層の塗布に適用した場合では、電磁変
換特性が良好な磁気記録媒体を、高速で安定して製造す
ることが出来るようになった。
バックエッジが支持体から離れるように後退した構成に
おいて、バックエッジの先端部分形状を特定の形状に限
定してその強度を高めた構造であるとともに、前記支持
体とバックエッジ面との角度を一定以上に保つようにし
たので、エッジ欠けを防止できると共にバックエッジ面
への塗布液の周り込み等による該面の汚れを回避でき、
前記支持体の幅方向の不均一による幅方向塗膜厚み変動
やスジ発生を抑えることができ、塗布厚みが均一で、し
かもスジ等の欠陥のない塗布を行える。特に、磁気記録
媒体における磁性層の塗布に適用した場合では、電磁変
換特性が良好な磁気記録媒体を、高速で安定して製造す
ることが出来るようになった。
【００２８】
【実施例】次に、実施例によって、本発明の装置の新規
な効果を一層明確にすることができる。 （実施例１）下記塗布液組成に示す各成分をボールミル
に入れて十分に混合分散させた後、エポキシ樹脂（エポ
キシ当量５００）を３０重量部加えて均一に混合分散さ
せて磁性塗布液（磁性分散液）とした。こうして得られ
た磁性塗布液の粘度を、ロトビスコ粘度計にて測定した
ところ、各剪断速度において図４に示すように剪断速度
が高くなるのにともなって粘度が低下するチキソトロピ
ックな粘度特性を示した。
な効果を一層明確にすることができる。 （実施例１）下記塗布液組成に示す各成分をボールミル
に入れて十分に混合分散させた後、エポキシ樹脂（エポ
キシ当量５００）を３０重量部加えて均一に混合分散さ
せて磁性塗布液（磁性分散液）とした。こうして得られ
た磁性塗布液の粘度を、ロトビスコ粘度計にて測定した
ところ、各剪断速度において図４に示すように剪断速度
が高くなるのにともなって粘度が低下するチキソトロピ
ックな粘度特性を示した。
【００２９】 塗布液組成： γ−Ｆｅ2 Ｏ3 粉末 （長径方向の平均粒径０．５μの針状粒子、 抗磁力３２０エルステッド） ・・・３００重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 （共重合比８７：１３、重合度４００） ・・・ ３０重量部 導電性カーボン ・・・ ２０重量部 ポリアミド樹脂（アミン価３００） ・・・ １５重量部 レシチン ・・・ ６重量部 シリコンオイル（ジメチルポリシロキサン） ・・・ ３重量部 キシロール ・・・３００重量部 メチルイソブチルケトン ・・・３００重量部 ｎ−ブタノール ・・・１００重量部 また、プレコート液はメチルイソブチルケトンを使用
し、バー塗布方式で厚み２．０μｍ（ウェット状態）に
塗布した。
し、バー塗布方式で厚み２．０μｍ（ウェット状態）に
塗布した。
【００３０】このプレコート液によって液封された状態
で、図１に示すような構成のエクストルージョン型ヘッ
ドで、バックエッジの先端角φ＝５０のヘッドを用い、
支持体としてポリエチレンテレフタレートの厚さ１５μ
ｍ，幅５００ｍｍのウエブに対して、パスローラの位置
を変えて、前記出口角θを２０°，２５°，３０°にす
ることによって、張力１０ｋｇ／全幅，塗布速度６００
ｍ／分で塗布を行った。更に、面取り面の角度α、β、
面取り幅Ｌを一定にして塗布を行った。結果を表１に示
す。なお、以下の各表において、塗布厚誤差は設定厚と
の差で、スジの発生本数は塗布面積１０，０００ｍ2 当
りの本数であり、評価記号は、◎は実用上とても良い、
○は実用上良い、△は実用上使用可能、×は実用上使用
不可能を表す。
で、図１に示すような構成のエクストルージョン型ヘッ
ドで、バックエッジの先端角φ＝５０のヘッドを用い、
支持体としてポリエチレンテレフタレートの厚さ１５μ
ｍ，幅５００ｍｍのウエブに対して、パスローラの位置
を変えて、前記出口角θを２０°，２５°，３０°にす
ることによって、張力１０ｋｇ／全幅，塗布速度６００
ｍ／分で塗布を行った。更に、面取り面の角度α、β、
面取り幅Ｌを一定にして塗布を行った。結果を表１に示
す。なお、以下の各表において、塗布厚誤差は設定厚と
の差で、スジの発生本数は塗布面積１０，０００ｍ2 当
りの本数であり、評価記号は、◎は実用上とても良い、
○は実用上良い、△は実用上使用可能、×は実用上使用
不可能を表す。
【００３１】
【表１】
【００３２】表１に示す結果から明らかなように、出口
角θが２５°以上であれば、塗布厚の誤差が３％以下で
あり、スジの発生も１本程度であり、総合的に良好な塗
布が行われたことがわかる。更に、出口角θが３０°以
上であれば、上記効果が更に顕著であることがわかる。
角θが２５°以上であれば、塗布厚の誤差が３％以下で
あり、スジの発生も１本程度であり、総合的に良好な塗
布が行われたことがわかる。更に、出口角θが３０°以
上であれば、上記効果が更に顕著であることがわかる。
【００３３】（実施例２）実施例１において、先端角φ
及びパスロールの位置を変え、出口角θを一定（２５
°）にし、面取り面の角度αを変えた以外は、実施例１
と同様に塗布した。結果を表２に示す。
及びパスロールの位置を変え、出口角θを一定（２５
°）にし、面取り面の角度αを変えた以外は、実施例１
と同様に塗布した。結果を表２に示す。
【００３４】
【表２】
【００３５】表２に示す結果から明らかなように、面取
り面の角度αが５０°〜１４０°の範囲では、塗布厚の
誤差が３％以下であり、スジの発生も２本程度であり、
総合的に良好な塗布が行われたことがわかる。なお、角
度αが５０°より小さい場合、塗布時にスジが生じた
が、これは面取りによりヘッドに新たな欠けを生じたた
めと推定される。また、角度αが１４０°を超える場合
には、ヘッドの欠けの発生はなかったが、塗布時にスジ
が発生し易くなった。この状態で塗布後のエッジ面を観
察したところ、バックエッジ３の下流側斜面４に塗布液
の汚れが付着しており、下流側メニスカスがバックエッ
ジ端部で離されなくなった結果、スジ発生に至ったもの
と考えられる。
り面の角度αが５０°〜１４０°の範囲では、塗布厚の
誤差が３％以下であり、スジの発生も２本程度であり、
総合的に良好な塗布が行われたことがわかる。なお、角
度αが５０°より小さい場合、塗布時にスジが生じた
が、これは面取りによりヘッドに新たな欠けを生じたた
めと推定される。また、角度αが１４０°を超える場合
には、ヘッドの欠けの発生はなかったが、塗布時にスジ
が発生し易くなった。この状態で塗布後のエッジ面を観
察したところ、バックエッジ３の下流側斜面４に塗布液
の汚れが付着しており、下流側メニスカスがバックエッ
ジ端部で離されなくなった結果、スジ発生に至ったもの
と考えられる。
【００３６】（実施例３）実施例１において、先端角φ
及びパスロールの位置を変え、出口角θを一定（２５
°）にし、角度βを変えた以外は、実施例１と同様に塗
布した。結果を表３に示す。
及びパスロールの位置を変え、出口角θを一定（２５
°）にし、角度βを変えた以外は、実施例１と同様に塗
布した。結果を表３に示す。
【００３７】
【表３】
【００３８】表３に示す結果から明らかなように、面取
り面の角度βが１１０°〜１６０°の範囲では、塗布厚
の誤差が４％以下であり、スジの発生も２本程度であ
り、総合的に良好な塗布が行われたことがわかる。
り面の角度βが１１０°〜１６０°の範囲では、塗布厚
の誤差が４％以下であり、スジの発生も２本程度であ
り、総合的に良好な塗布が行われたことがわかる。
【００３９】（実施例４）実施例１において、出口角θ
を一定（２５°）にし、面取り幅Ｌを変えた以外は、実
施例１と同様に塗布した。結果を表４に示す。
を一定（２５°）にし、面取り幅Ｌを変えた以外は、実
施例１と同様に塗布した。結果を表４に示す。
【００４０】
【表４】
【００４１】表４に示す結果から明らかなように、面取
り面の幅Ｌが０．００２ｍｍ以上では、塗布厚の誤差が
３％以内であり、スジの発生も２本程度であり、総合的
に良好な塗布が行われたことがわかる。
り面の幅Ｌが０．００２ｍｍ以上では、塗布厚の誤差が
３％以内であり、スジの発生も２本程度であり、総合的
に良好な塗布が行われたことがわかる。
【００４２】（実施例５）実施例１において、出口角
θ、面取り面の角度α、β、面取り面の幅Ｌを表５のよ
うに変えた以外は実施例１と同様に塗布した。結果を表
５に示す。
θ、面取り面の角度α、β、面取り面の幅Ｌを表５のよ
うに変えた以外は実施例１と同様に塗布した。結果を表
５に示す。
【００４３】
【表５】
【００４４】表５に示す結果から明らかなように、θ、
α、β、Ｌの一つが本発明の範囲から外れた値のときに
は、塗布厚誤差やスジ発生本数が増えて評価が多少下が
った。したがって、θ、α、β、Ｌがすべて本発明の範
囲を満足することが好ましいことがわかった。
α、β、Ｌの一つが本発明の範囲から外れた値のときに
は、塗布厚誤差やスジ発生本数が増えて評価が多少下が
った。したがって、θ、α、β、Ｌがすべて本発明の範
囲を満足することが好ましいことがわかった。
【図１】本発明のヘッドのバックエッジの下流側斜面と
前記ヘッドから離れていく支持体とのなす角θと、バッ
クエッジ端の面取り面下流端における面取り面の接線
と、同端におけるバックエッジ下流面のなす角度αを説
明するための塗布ヘッドの部分拡大側面断面図である。
前記ヘッドから離れていく支持体とのなす角θと、バッ
クエッジ端の面取り面下流端における面取り面の接線
と、同端におけるバックエッジ下流面のなす角度αを説
明するための塗布ヘッドの部分拡大側面断面図である。
【図２】本発明の塗布ヘッドの一実施態様であって、一
層塗布ヘッドの場合を示すの部分側面断面図である。
層塗布ヘッドの場合を示すの部分側面断面図である。
【図３】本発明の塗布ヘッドの一実施態様であって、二
層の塗布ヘッドの場合の部分側面断面図である。
層の塗布ヘッドの場合の部分側面断面図である。
【図４】本発明を磁性塗布液に用いた場合の一実施例の
剪断速度に対する粘度のグラフ
剪断速度に対する粘度のグラフ
【図５】本発明を実施する対象となる塗布ヘッドの一例
の側面断面図
の側面断面図
１ 支持体 ２ フロントエッジ ３ バックエッジ ４ バックエッジ下流側斜面 θ 出口角 ６ プレコート液 ７，７ａ，７ｂ 塗布液 ８，８ａ，８ｂ スリット ９ ポケット α バックエッジの外側先端角 β バックエッジの内側先端角 Ｌ 面取り幅 φ バックエッジ先端角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 都丸 美喜男 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−35959（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−296464（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B05C 5/00 - 5/02
Claims (1)
- 【請求項１】 有機溶剤を主体とするプレコート液を支
持体の塗布面にあらかじめ塗布して液封した状態で、支
持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジ
と、該支持体移動方向に対して下流側に位置し先端が前
記フロントエッジよりも反支持体方向に後退したバック
エッジとを有するエクストルージョン型ヘッドにより、
前記支持体上に一層以上の塗布層を形成する塗布装置に
おいて、 前記バックエッジの先端部に面取り面を形成
し、 前記面取り面と前記バックエッジの前記下流側傾斜面と
のなす角度αが ４０°≦α≦１４０°、 前記面取り面と前記バックエッジの前記上流側傾斜面の
角度βが ４０°≦β＜１８０°、 前記面取り面の幅Ｌ（ｍｍ）が ０．００２≦Ｌ であり、 前記バックエッジの前記下流側傾斜面と前記ヘッドから
離れて行く前記支持体とのなす角度θを２５°以上に設
定して塗布することを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| EP93106158A EP0566124B1 (en) | 1992-04-16 | 1993-04-15 | Coating apparatus |
| US08/348,070 US5518773A (en) | 1992-04-16 | 1994-11-23 | Extrusion coating method |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4122612A JP2916557B2 (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 塗布装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05293420A JPH05293420A (ja) | 1993-11-09 |
| JP2916557B2 true JP2916557B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=14840262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4122612A Expired - Fee Related JP2916557B2 (ja) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | 塗布装置 |
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| US5741549A (en) * | 1994-04-29 | 1998-04-21 | Maier; Gary W. | Slide die coating method and apparatus with improved die lip |
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| EP0757596B1 (en) * | 1994-04-29 | 2008-05-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multiple layer and slide die coating method and apparatus |
| US5639305A (en) * | 1994-04-29 | 1997-06-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Die coating method and apparatus |
| US5728430A (en) * | 1995-06-07 | 1998-03-17 | Avery Dennison Corporation | Method for multilayer coating using pressure gradient regulation |
| ATE209531T1 (de) * | 1994-09-16 | 2001-12-15 | Avery Dennison Corp | Verfahren zur herstellung eines mehrschicht- klebemittels durch extrusionsbeschichtung und beschichtungskopf |
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| DE19504930A1 (de) * | 1995-02-15 | 1996-08-22 | Basf Magnetics Gmbh | Vorrichtung zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
| US6824828B2 (en) * | 1995-06-07 | 2004-11-30 | Avery Dennison Corporation | Method for forming multilayer release liners |
| JP3254574B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2002-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及びその装置 |
| US6548117B2 (en) * | 2000-06-26 | 2003-04-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for coating a running web using a plurality of coating liquids |
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| US20050233073A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-20 | The Procter & Gamble Company | Method and apparatus for applying coatings, for instance for sanitary products |
| FI118040B (sv) * | 2005-02-23 | 2007-06-15 | Kwh Pipe Ab Oy | Förfarande för framställning av rör belagda med avdragbart skyddsskikt |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE2521995A1 (de) * | 1975-05-16 | 1976-11-25 | Ciba Geigy Ag | Gleitflaechenbeschichtungsvorrichtung |
| JPS58104666A (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
| JPS58205561A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法及び装置 |
| JPH0680531B2 (ja) * | 1984-12-11 | 1994-10-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体塗布方法 |
| JPH0677711B2 (ja) * | 1986-07-15 | 1994-10-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
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| JP2565414B2 (ja) * | 1990-04-16 | 1996-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| EP0452859B1 (en) * | 1990-04-18 | 1997-02-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Facsimile apparatus comprising cordless telephone set |
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-
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- 1992-04-16 JP JP4122612A patent/JP2916557B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 1993-04-15 EP EP04003306A patent/EP1422555A1/en not_active Withdrawn
- 1993-04-15 EP EP93106158A patent/EP0566124B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-15 DE DE69333948T patent/DE69333948T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1994-11-23 US US08/348,070 patent/US5518773A/en not_active Expired - Lifetime
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