JP2992464B2 - 集電電極用被覆ワイヤ、該集電電極用被覆ワイヤを用いた光起電力素子及びその製造方法 - Google Patents
集電電極用被覆ワイヤ、該集電電極用被覆ワイヤを用いた光起電力素子及びその製造方法Info
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Description
イヤ、該集電電極用被覆ワイヤを用いた光起電力素子及
びその製造方法に係る。より詳細には、長期保存性が高
く、接着性、耐湿度性及び耐熱性の良好な集電電極用被
覆ワイヤに関する。また、この集電電極用被覆ワイヤを
用いた、初期特性及び長期信頼性の高い光起電力素子
と、生産上の歩留まりの高い光起電力素子の製造方法に
関する
力発電、水力発電などの既存発電方法の問題を解決する
代替エネルギー源として注目されている。その中でも、
アモルファスシリコン太陽電池は、結晶系の太陽電池に
比較して低コストで、かつ大面積の太陽電池が製造でき
るため、各種の研究がなされている。このアモルファス
シリコン太陽電池を実用化するに当たり重要な技術課題
の1つとして、光電変換効率を向上させることが挙げら
れる。この技術課題を解決すべく、以下に示すような各
種の検討が鋭意進められている。
ては、例えば、ステンレス等からなる導電性基板の表面
上に、裏面電極、半導体層、受光面電極を順次積層した
構造が公知である。この受光面電極は、例えば透明導電
性酸化物によって形成される。
を集めるための細い金属からなる集電電極が配設され
る。前記集電電極は、太陽電池の光入射面側に設けられ
るため、その面積はいわゆるシャドウロスとなり、太陽
電池の発電に寄与する有効面積が減少することとなる。
この理由から、前記集電電極は、比較的細い櫛状に形成
されることが多い。すなわち、前記集電電極は、通常細
くかつ長い形状となるため、電気抵抗が小さくなるよう
な材料選定、及び、断面形状の設計が要求される。
記集電電極によって集められた電流を集めるために、バ
スバー電極と呼ばれる電極が形成される。バスバー電極
は、前記集電電極と比べてより太い金属で作製される。
て、変換効率を向上させる目的から、集電電極によるシ
ャドウロス、及び電気抵抗ロスを最小限にする研究開発
の現状について説明する。
ドウロス、電気抵抗ロスを少なくするために、例えば、
比抵抗の小さな材料、すなわち、銀(1.62×10-6
Ωcm)や銅(1.72×10-6Ωcm)が、好適な材
料として多用されている。
えば、蒸着法、メッキ法、スクリーン印刷法等の方法が
用いられている。
こと、真空プロセスを用いるためスループットが低いこ
と、また、線状のパターンを形成するためにはマスキン
グが必要となること、またさらに、マスク部分に堆積し
た金属は無駄になること等が挙げられる。また、スクリ
ーン印刷法の問題点としては、低抵抗な電極を得ること
が困難なことが挙げられる。
も低いものでも4.0×10-5Ωcmであり、純粋なバ
ルクの銀よりも1桁比抵抗が大きい、すなわち1桁抵抗
が高い。この様な材料を用いて、集電電極の面積を変え
ずに抵抗を下げる方法としては、以下の3つがある。
合、実用的に可能な厚みは10μm〜20μmである。
この様な厚みでは、例えば10cm以上の長い集電電極
を形成するためには、電気抵抗ロスを小さくするために
必然的に集電電極幅が200μm程度以上となりアスペ
クト比(厚みと幅の比)が1:10の様に小さくなって
しまいシャドウロスが大きいという問題があった。
び米国特許第4,283,591号において、金属ワイ
ヤに導電性粒子を含むポリマーで被覆した電極を、集電
電極とする方法が開示されている。米国特許第4,26
0,429号に開示された集電電極用被覆ワイヤの断面
図を図1(a)に示す。図1(a)において101は金
属ワイヤ、102は導電性樹脂からなる被覆層である。
この発明は導電性の良い銅等の金属ワイヤを用いるた
め、長い集電電極を形成した場合でも電気抵抗ロスが少
なく、またアスペクト比が1:1とできるためシャドウ
ロスも小さくできるという利点がある。また、米国特許
第4,260,429号では、ワイヤの固定には導電性
接着材を用いて簡便な方法で接着できることが特徴であ
る。また、米国特許第4,283,591号において
は、金属電極がCu2S層に物理的接触を起こらなくし
てCu2S層からの銅の析出を無くすことが考案されて
いる。
は、前記金属ワイヤにメッキを施した後、導電性粒子を
含むポリマーで被覆した電極も提案されている。しか
し、上記従来技術には、次のような問題がある。
どを行うと、ピンホールやショートなどの欠陥部分で上
部電極と下部電極の短絡が発生し、シャント抵抗が小さ
くなり変換効率が低くなったり、歩留まりが悪化したり
する問題があった。本発明者らの実験によりこの現象が
光や湿度の影響により前記金属ワイヤのイオン成分が導
電性樹脂内を徐々に拡散し、前記半導体素子に到達する
電気化学的な反応が起こるためであることが分かった。
4,260,429号に開示されるような電極は、金属
ワイヤと半導体素子との間の良好な電気的導通を得るこ
とが主目的であり、金属ワイヤと半導体素子との間の電
気化学的な反応により故障が発生する問題を解決する思
想は含んでいなかった。
示されるような電極を太陽電池に用いた場合、十分な接
着力が得られない部分が生じるという問題があった。す
なわち、太陽電池基板上のみならず、取り出し電極の金
属タブの両方に接着接続が必要な際に、金属タブの材質
により、殆ど接着力が得られない場合があった。
うに屋外での使用が必要である場合、過酷な条件下で長
期間使用しても、電極と太陽電池との接着力に変化がな
いことが要求される。すなわち、前記電極を用いた太陽
電池では、長期の屋外暴露や、加速試験としての温湿度
試験、耐熱試験などを行うと、接着力が減少することに
より、シリーズ抵抗が上昇し変換効率が低下するという
問題があった。
力のみならず、湿度や熱の影響で、電極を構成している
金属ワイヤと被覆層との間の接着力が減少し、被覆層の
剥れなどの問題もあった。 vi)被覆層が緻密な被覆膜として形成されていないため
に、湿度の影響を受けやすかった。
製造し、貯蔵して使用出来ることが望ましいが、従来の
電極では、金属ワイヤに樹脂を被覆して乾燥する場合、
熱硬化性樹脂を用いた場合には乾燥後の樹脂の硬化促進
を制御することが難しく、電極を太陽電池上に形成する
際に十分な接着力が得られないという問題があった。更
に、熱硬化成樹脂を接着時に硬化させる際に硬化剤の工
夫がないため比較的長い硬化時間を要した。
電極形成後の工程でラミネーションなどの熱履歴により
電極が変形し線幅の変化や、部分的な剥離部の発生や電
極の位置ずれなどの問題があった。
である場合、過酷な条件下で長期間使用しても電極と太
陽電池のとの接着力に変化がないことが要求される。前
記電極を用いた太陽電池では、長期の屋外暴露や、加速
試験としての温湿度試験などを行うと、接着力が減少す
ることにより、シリーズ抵抗が上昇し変換効率が低下す
るという問題があった。
てしまい金属ワイヤが太陽電池基板に接触する可能性が
あり、この現象に対する具体的対策については述べられ
ていなかった。
起こらない様にする思想はあるものの実使用時において
金属イオンが導電性樹脂内を徐々に拡散し故障を起こす
問題の防止などには言及していなかった。
4,283,591号の場合 上記いずれの方法でも被覆層の膜厚の均一性、良好な
導電性を安定的に得ることが困難であった。
のリーク電流が発生し、その程度が大きい場合、上部電
極と下部電極の短絡が生じた。そのため、シャント抵抗
が小さくなり変換効率が低くなったり、歩留まりが悪化
したりする問題があった。
基板に接触する可能性があり、屋外で使用する場合には
光や湿度の影響を受け、マイグレーションやシャント封
止の十分な効果は期待出来なかった。
ァスシリコン太陽電池に用いた場合、上部電極と下部電
極との短絡が発生し、シャント抵抗が小さくなり変換効
率が低くなり、製造上の歩留まりが悪化したりする問題
があった。
の場合、導電性接着材の被覆後に、防湿層やラミネート
被覆層を形成した時、塗料溶剤が浸透して溶解したり軟
化するため、熱履歴によってシリーズ抵抗が上昇する。
湿度試験などを行った場合、光起電力素子としてのシリ
ーズ抵抗が上昇し、変換効率が低下する。
ることが出来ず、電極形成上制限があった。
保存性が高く、接着性及び耐湿度リーク性の良好な集電
電極用被覆ワイヤを提供することである。
用被覆ワイヤを用いることにより、上部電極と下部電極
との短絡の発生が回避でき、導電性接着材で被覆した電
極への塗料溶剤の浸透がなく、かつ、シリーズ抵抗の上
昇が少ないため、初期特性及び長期信頼性の高い光起電
力素子を提供することである。
の歩留まりが高く、安定した製造が可能な光起電力素子
の製造方法を提供することである。
ワイヤは、導電性接着材からなる被覆層を有する金属ワ
イヤが、前記被覆層を介して光起電力素子に接着形成さ
れている集電電極用被覆ワイヤにおいて、前記金属ワイ
ヤの金属イオンが、該集電電極用被覆ワイヤの表面にマ
イグレーションすることを防ぐ被覆層を有することを特
徴とする。
も1つのpin接合又はpn接合からなる半導体層と、
前記半導体層の光入射側に設けた集電電極とからなる光
起電力素子において、前記集電電極が、導電性接着材か
らなる被覆層を有する金属ワイヤであって、前記金属ワ
イヤの金属イオンが、該集電電極用被覆ワイヤの表面に
マイグレーションすることを防ぐ被覆層を有し、該被覆
層を介して光起電力素子に接着形成される集電電極用被
覆ワイヤを用いたことを特徴とする。
は、光入射側に集電電極を設けた構成の光起電力素子の
製造方法において、導電性接着材からなる被覆層を有す
る金属ワイヤであって、前記金属ワイヤの金属イオン
が、該集電電極用被覆ワイヤの表面にマイグレーション
することを防ぐ被覆層を有する集電電極用被覆ワイヤ
を、熱、圧力、又は熱と圧力によって、前記光起電力素
子の光入射面と付着させることを特徴とする。
従来の集電電極形成において、ワイヤに導電性樹脂を被
覆し乾燥した後の工程で起こる問題は、光や湿度のある
環境において起電力が集電電極に印加され金属ワイヤか
らイオンが導電性樹脂層内を拡散することにより起こる
ことが分かった。また、徒来の集電電極形成においてシ
ャントが発生する問題は導電性樹脂からなる被覆層が1
層であり、金属ワイヤが半導体層あるいは透明導電膜に
接触する可能性があるためであることが分かった。すな
わち、従来の集電電極においては、熱圧着時に金属ワイ
ヤが導電性樹脂を介在させずに直接半導体層に接触して
しまうことが防げないため、欠陥部分と金属ワイヤとの
接触が起こり初期の歩留まりを低下させる原因であるこ
とが分かった。さらにこの様な接触を防いでも導電性樹
脂の微小な空孔や樹脂自体の透湿性及びイオン透過性な
どによって実使用時に金属イオンが拡散することが分か
った。また、長期信頼性の問題の原因は、高分子樹脂で
ラミネートされた太陽電池においては、前記高分子樹脂
の防湿性が必ずしも完全ではないがために、屋外使用時
に湿度が入り銅等の金属ワイヤの表面が湿度によって酸
化されることにより導電性樹脂との導電性が悪くなるた
めであることが分かった。
着力に関して前記導電性樹脂層の架橋密度をコントロー
ルできないことが問題であることが分かった。すなわ
ち、従来の集電電極用被覆ワイヤにおいて導電性樹脂を
形成する高分子樹脂に熱硬化樹脂を用いた場合には乾燥
後に保存途中などに樹脂の硬化が促進することが問題で
あり、熱可塑性樹脂を用いた場合には樹脂が架橋しない
ために後工程の熱履歴により樹脂の流動性が大きすぎる
ことが問題であった。
れている低抵抗な銅線やアルミニウム線などは安価で優
れた導電体である。エナメル線等はこれらの金属線に絶
縁塗料を被覆するわけだが、一般に無機物質である金属
体を有機物質を含む材料で被覆することは容易でない。
更に、この被覆層を介して、半導体や金属体に接着をす
る場合十分な接着力が得られない場合がある。これは、
被覆層の有機物質と半導体や金属体との間に特別な結合
が存在しないためである。このことは、金属体の材質や
表面状態により更に深刻な問題となり、湿度の影響を受
けることにより殆ど接着力が得られなくなることを見い
だした。
は鋭意検討した結果、太陽電池表面に電極を形成する工
程の前後で導電性樹脂層の架橋密度をブロックイソシア
ネート等の硬化剤を用いてコントロールすることによ
り、加熱乾燥後、樹脂の硬化が進行せず保存性が良好
で、電極形状の変化がなく良好な接着性を得られること
を見いだした。
けてそれぞれの層に湿度と金属イオンに対するバリア機
能、金属ワイヤと半導体層または透明電極との接着機能
を分担させることで良好な特性の太陽電池が得られ、信
頼性も向上することを見いだした。
樹脂と導電性フィラーから構成される被覆層を金属ワイ
ヤに設けることにより、金属体表面が有機物質と結合し
やすいように改質され、金属体と有機物質を含む導電性
樹脂層との間に高い密着性が得られることを見いだし
た。
ものであり、以下では各請求項ごとに、その作用につい
て説明する。
層を有する金属ワイヤが、前記被覆層を介して光起電力
素子に接着形成されている集電電極用被覆ワイヤにおい
て、前記金属ワイヤの金属イオンが、前記光起電力素子
の半導体層に拡散しないようにした。その結果、該金属
ワイヤと該光起電力素子の半導体層が短絡して、該光起
電力素子の変換効率の低下が発生するのを防ぐことが可
能となる。
以上の電圧が前記金属ワイヤに印加された場合において
も、前記被覆層が前記金属イオンの拡散を防ぐ機能を有
するため、該金属ワイヤに印加される電圧の大きさに依
存せず、該金属ワイヤと該光起電力素子の半導体層が短
絡して、該光起電力素子の変換効率の低下が発生するの
を防ぐことが可能となる。
子及び高分子樹脂からなるため、導電性接着材の比抵抗
を0.1Ωcm以上100Ωcm以下の範囲で可変制御
することができる。
ング剤、導電性粒子及び高分子樹脂からなるため、金属
体(例えば、金属ワイヤ)表面が有機物質と結合しやす
いように改質され、金属体と有機物質を含む導電性樹脂
層との間に高い密着性が得られる。
ラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、
アルミニウム系カップリング剤から選ばれる少なくとも
1種類としたため、異種物質間の界面を制御することが
できる。すなわち、無機物質(金属体)と有機物質(導
電性樹脂中バインダー樹脂)との結合の仲立ちの役目を
果たし両者を強固に結びつけることができる。
1μm以下の空隙半径において0.04ml/g以下と
したため、導電性接着材の中の銀が、イオン化してマイ
グレーションすることによって発生する短絡を防止でき
る。
子量が、500以上50,000以下であるため、前記
金属イオンの拡散を防ぐことが可能となる。
が20%以上100%以下であるため、電極形成後に熱
履歴を与えても電極の変形やずれなどが抑えられる。そ
の結果、前記金属イオンの拡散を防ぐことが可能とな
る。
層以上であり、かつ、少なくとも最外層以外の内側の被
覆層を構成する導電性接着材が、請求項7又は8に記載
の高分子樹脂からなるため、各層に異なった機能、例え
ば、湿度と金属イオンに対するバリア機能、金属ワイヤ
と半導体層または透明電極との接着機能を分担させるこ
とが可能となった。特に、少なくとも最外層以外の内側
の層を構成する導電性樹脂が請求項7又は8に記載の高
分子樹脂からなるため、前記金属イオンの拡散を防ぐこ
とができる。
2層以上であり、かつ、少なくとも最外層の被覆層を構
成する導電性接着材が、未硬化の熱硬化性高分子樹脂か
らなるため、前記集電電極用被覆ワイヤは保存が可能で
あり、光起電力素子上で電極形成する際に硬化が完了
し、十分な接着力が得られる。その結果、集電電極形成
後の工程、例えばラミネーション工程などの熱履歴によ
り電極が変形し線幅の変化や、部分的な剥離部の発生や
電極の位置ずれなどの発生が防止可能となる。
くとも2層から構成されており、かつ、より電極に近接
する層を構成する該導電性接着材の軟化点が、製造工程
で加えられる該光起電力素子の熱履歴の最高温度よりも
高くしたため、防湿層形成工程での溶解や剥離、ラミネ
ーション工程での変形や剥離を回避することができる。
抗を0.1Ωcm以上100Ωcm以下の範囲に限定し
たため、シャント発生に対する封止機能を有し、かつ、
電気抵抗ロスを無視しうる範囲とすることができる。
タン、フェノキシ、エポキシ、ブチラール、フェノー
ル、ポリイミド、ポリアミド及びポリアミドイミドから
選ばれる少なくとも1種類からなるため、樹脂の硬さを
広範囲で選択することができる。その結果、金属ワイヤ
に塗膜を形成し易く、作業性に優れ、良好な柔軟性が得
られる。更に、熱硬化が可能で、その結果耐久性の向上
を図ることができる。
れる硬化剤を、ブロックイソシアネートとしたため、光
起電力素子の表面に電極を形成する行程の前後で、導電
性接着材の架橋密度を制御することが可能となる。その
結果、集電電極用被覆ワイヤ作製時の取扱いが容易で、
保存安定性が確保される。更に、集電電極用被覆ワイ ヤ
に対して導電性接着材が塗布される工程を、低コスト稼
働させることができる。
ス転移点を100℃以上としたため、導電性接着材で被
覆された電極を、光起電力素子のセル表面に圧着する場
合、導電性接着材で被覆された電極への塗料溶剤の浸透
を防止できる。
子の平均粒子径を0.02μm以上15μm以下の範囲
に限定したため、形成する被覆層の厚みより小さく、か
つ、粒子同士が接触することによる比抵抗の増加が抑え
られる。
ファイト、カーボンブラック、In2O3,TiO2,S
nO2,ITO,ZnO,及びこれらに三価の金属元素
からなるドーパントを添加したものから選ばれる少なく
とも1種類としたため、導電性粒子の平均粒径を0.0
2μm以上15μm以下とすることができる。
体層上に配設された透明電極と前記導電性接着材が接し
て設けられた。その結果、半導体層上に、半導体層が吸
収する光に対して透明な透明電極を設けることで、面方
向において抵抗が大きい非単結晶半導体では特に効率が
向上する。
接合又はpn接合からなる半導体層と、前記半導体層の
光入射側に設けた集電電極とからなる光起電力素子にお
いて、前記集電電極が、請求項1乃至17のいずれか1
項に記載の集電電極用被覆ワイヤからなるため、初期特
性及び長期信頼性の高い光起電力素子が得られた。
に透明電極を有し、かつ、前記透明電極上に前記集電電
極を設けたため、集電性が高く、シリーズ抵抗が十分に
低い光起電力素子が得られた。
シリコン、多結晶シリコン、薄膜多結晶シリコン、アモ
ルファスシリコン、アモルファスシリコンゲルマニウ
ム、アモルファスシリコンカーボンのうち少なくとも1
種類としたため、初期特性及び長期信頼性の高い光起電
力素子が得られた。
接合又はpn接合からなるセルを3回積み重なったトリ
プルセルとしたため、より初期特性の高い光起電力素子
が得られた。
けた構成の光起電力素子の製造方法において、請求項1
乃至17のいずれか1項に記載の集電電極用被覆ワイヤ
を、熱、圧力、又は熱と圧力によって、前記光起電力素
子の光入射面と付着させるため、生産上の歩留まりの高
い光起電力素子の製造方法が得られた。
ヤに加える熱が、前記ブロックイソシアネートの解離温
度以上であるため、形成された集電電極用被覆ワイヤの
接着及び硬化を短時間で完全に行うことができ、初期特
性及び長期信頼性の高い光起電力素子の製造方法が得ら
れた。
記未硬化の熱硬化性高分子樹脂のゲル分率が、20%以
上100%以下になるまで、前記集電電極用被覆ワイヤ
を加熱するため、集電電極用被覆ワイヤの接着形成後、
湿度などの影響を受けにくい長期信頼性の高い光起電力
素子の製造方法が得られた。
る。 (集電電極用被覆ワイヤ) 本発明に係る集電電極用被覆ワイヤとしては、例えば、
図1及び図2に示したものが挙げられる。図1(a)の
集電電極用被覆ワイヤ100は、金属ワイヤ101が1
種類の被覆層102でコーティングされた場合である。
図2(a)の集電電極用被覆ワイヤ200は、金属ワイ
ヤ201が2種類の被覆層、すなわち、第1被覆層20
2と第2被覆層203でコーティングされた場合であ
る。
00を構成する金属ワイヤ101及び201は、線材と
して工業的に安定に供給されているものが好ましい。ま
た、金属ワイヤ101及び201を形成する金属体の材
質としては、比抵抗が10-4Ωcm以下の金属を用いる
ことが望ましい。例えば、銅、銀、金、白金、アルミニ
ウム、モリブデン、タングステン等の材料が、電気抵抗
が低いため好適に用いられる。中でも銅、銀、金が電気
抵抗が低く望ましい。また、前記金属ワイヤはこれらの
合金であっても良い。
に腐食防止、酸化防止、導電性樹脂との接着性向上、電
気的導通の改良などの目的から、図1(b)及び図2
(b)に示すような薄い金属層103及び204を形成
しても良い。金属ワイヤの表面に設ける金属層として
は、例えば、銀、パラジューム、銀とパラジュームの合
金、金などの腐食されにくい貴金属や、ニケッル、スズ
などの耐食性の良い金属が挙げられる。中でも金、銀、
スズが湿度などの影響を受けにくいため、金属層として
好適に用いられる。金属ワイヤの表面に設ける金属層の
形成方法としては、例えば、メッキ法、クラッド法が好
適に用いられる。また、前記金属をフィラーとして樹脂
に分散して作製した導電性樹脂をコートしても良い。コ
ート厚みは所望に応じて決定されるものであるが、例え
ば断面が円形の金属ワイヤであれば直径の1%から10
%の厚みが好適である。電気的導通、耐食性の効果、金
属層厚みを考慮して金属層の比抵抗は、10-6Ωcm以
上100Ωcm以下が好適である。
ても矩形であっても良く、所望に応じて適宜選択され
る。前記金属ワイヤの直径は、電気抵抗ロスとシャドウ
ロスの和が最小となる様に設計して選択される値であ
る。具体的には、例えばJIS−C−3202に示され
るエナメル線用の直径25μmから1mmまでの銅線が
好適に用いられる。より好ましくは、その直径を25μ
mから200μmとすることで光電変換効率の良い光起
電力素子が得られる。25μmより細い場合は、ワイヤ
が切れ易く製造が困難となり、また、電気ロスも大きく
なる。また、200μm以上の場合は、シャドウロスが
大きくなったり、又は、光起電力素子表面の凹凸が大き
くなって表面被覆層に使用するEVA(エチレンビニル
アセテート)などの充填材を厚くしなければならなくな
る。
所望の直径に成型して作られる。伸線機を通過した金属
ワイヤは硬質であるが、伸び易さや曲げ易さなどは、所
望の特性に応じて公知の方法でアニールし、軟質にして
用いても良い。
集電電極用被覆ワイヤ) 本発明に係る「単層からなる導電性接着材が被覆された
集電電極用被覆ワイヤ」としては、図1(a)に示すも
のが挙げられる。
ワイヤ、102は被覆層である。金属ワイヤ101は集
電電極用被覆ワイヤの心線で電力損失を抑えるため、導
電率の高い銅ワイヤ、銀メッキ銅ワイヤや銀クラッド銅
ワイヤを用いる。被覆層102は、熱硬化性導電性接着
材あるいは熱可塑性導電性接着材により形成され、熱圧
着工程により集電電極用被覆ワイヤ本体と光起電力素子
基板とを機械的、電気的に接続する機能を持つ。
集電電極用被覆ワイヤ) 本発明に係る「2層からなる導電性接着材が被覆された
集電電極用被覆ワイヤ」としては、図2(a)に示すも
のが挙げられる。
ワイヤ、202は第1被覆層、203は第2被覆層であ
る。金属ワイヤ201は集電電極用被覆ワイヤの心線で
電力損失を押さえる為、導電率の高い銅ワイヤ、銀メッ
キ銅ワイヤや銀クラッド銅ワイヤを用いる。第1被覆層
202は熱硬化性導電性接着材により形成され、電極金
属の保護、機械的、電気的な接続を行う。また、電極金
属によるマイグレーションを防止し、さらに集電電極用
被覆ワイヤから光起電力素子の欠陥部分に流れ込む電流
を抑制する機能を持つ。第2被覆層203もまた熱硬化
性導電性接着材により形成され、熱圧着工程により集電
電極用被覆ワイヤ本体と光起電力素子基板とを機械的、
電気的に接続する機能を持つ。また、熱硬化するため、
その後の防湿層用塗料の溶剤に侵されにくい。
けられる第1被覆層202は、金属ワイヤへの湿度の浸
透を防いで金属ワイヤの表面の腐食を防ぐ機能ととも
に、金属ワイヤからの金属イオンマイグレーションを防
ぐ機能を有するバリア層である。また、前記第2被覆層
203は、前記集電電極用被覆ワイヤを半導体層あるい
は透明電極に接着固定する機能と、集電する機能とを有
する接着層である。
着材に含まれる高分子樹脂としては、上述した樹脂の中
でもとりわけ透湿性の比較的少ない樹脂が好適に用いら
れる。すなわち、ウレタン、エポキシ、フェノールある
いはこれらを変性した熱硬化性樹脂が好適な材料として
挙げられる。また、これらの樹脂は被覆後に十分な硬化
を行なうことが好ましい。さらにシャドウロスを極端に
生じなようにするためには、前記第1層の厚みは、1μ
m以上15μm以下の範囲が好ましい。1μmより薄い
厚みの場合、均一にコーティングすることが難しくピン
ホールが発生し、バリア層としての機能が不十分とな
る。また、15μmより厚い場合は、被覆層がはがれ易
くなったり、シャドウロスが大きくなりすぎるために好
ましくない。
着材に含まれる高分子樹脂としては、上述した樹脂の中
でもとりわけ接着性が良好で柔軟性の良い樹脂が好適に
用いられる。すなわち、ウレタン、エポキシ、フェノー
ルあるいはこれらを変性した熱硬化性樹脂や、フェノキ
シ、ポリアミド、ポリアミドイミドなどの熱可塑性樹脂
が好適な材料として挙げられる。とりわけウレタン樹脂
は架橋密度を調整しやすい樹脂であるため好適に用いら
れる。これらの樹脂は被覆後に未硬化の状態としてお
き、接着工程を経た後、硬化処理をする方が望ましい。
この理由から、前記高分子の硬化剤はブロックイソシア
ネートにすることが望ましい。該ブロックイソシアネー
トは、解離温度以上に加熱することにより硬化が進行す
る機構を持っている。そのため、解離温度以下で乾燥す
ることにより、含まれていた溶剤が完全に除去され、粘
着性、タック性がなくなるためリールにコイル状に巻き
取り、保存可能になる。しかも、保存時には前記イソシ
アネートの解離温度以上の熱を加えない限り、硬化が進
行しないため、集電電極形成時に一様に十分な接着力が
得られる。
径によって異なるが、例えば前記金属ワイヤが100μ
mであれば前記第2被覆層層はピンホールが無く、接着
層としての機能が十分で有りかつシャドウロスを極端に
生じないために5μm〜30μm程度が好適である。
集電電極用被覆ワイヤ) 本発明に係る「3層からなる導電性接着材が被覆された
集電電極用被覆ワイヤ」としては、図11に示すものが
挙げられる。
イヤ、1102は第1被覆層、1103は第2被覆層、
1104は第3被覆層である。金属ワイヤ1101は集
電電極用被覆ワイヤの心線で電力損失を押さえる為、導
電率の高い銅ワイヤ、銀メッキ銅ワイヤや銀クラッド銅
ワイヤを用いる。第1被覆層1102は熱硬化性接着剤
により形成され、電極金属との電気的な接続を行う。第
1被覆層には、電極金属との電気的な接続を得る為、金
属系導電性接着材が好適に用いられる。第2被覆層11
03は、電極金属及び第1被覆層に用いられる金属系導
電性接着材の金属フィラーによるマイグレーションを防
止する。また、集電電極用被覆ワイヤから光起電力素子
の欠陥部分に流れ込む電流を抑制する機能を持つ。第3
被覆層1104も熱硬化性導電性接着材により形成さ
れ、熱圧着工程により集電電極用被覆ワイヤ本体と光起
電力素子基板とを機械的、電気的に接続する機能を持
つ。また、熱硬化するため、その後の防湿層用塗料の溶
剤に侵されにくい。
導電性接着材は、導電性粒子と高分子樹脂とを分散して
得られる。前記導電性接着材の比抵抗としては、光起電
力素子によって発生する電流を集電するのに無視しうる
抵抗であり、かつ、シャントが生じない様に適度な抵抗
値とすることが必要であり、具体的には0.1以上Ωc
m100Ωcm以下程度が好ましい。0.1Ωcmより
小さい場合はシャント封止機能が少なくなり、100Ω
cmより大きい場合は電気抵抗ロスが大きくなるためで
ある。
料である。その材料としては、例えば、カーボンブラッ
ク、グラファイトなどやIn2O3,TiO2,SnO2,
ITO,ZnO及び前記材料に適当なドーパントを添加
した酸化物半導体材料等が好適に用いられる。前記導電
性粒子の粒径は、形成する前記被覆層の厚みよりも小さ
くする必要があるが、小さすぎると粒子同士の接触点で
の抵抗が大きくなるため所望の比抵抗が得られなくな
る。この様な事情から前記導電性粒子の平均粒径として
は0.02μm以上15μm以下が好ましい。また、異
なる2種類以上の導電性粒子を混合てして、比抵抗や導
電性樹脂内での分散度を調節しても良い。更にITO,
In2O3,TiO2,SnO2,ZnO等の材料を用いる
ことにより透光性を付与しても良い。中でもITOを用
いることにより特に高い透光性が得られる。
望の比抵抗を得るため好適な比率で混合されるが、導電
性粒子を増加すると比抵抗は低くなるが樹脂の比率が少
なくなるため塗膜としての安定性は悪くなる。また、高
分子樹脂を増加すると導電性粒子同士の接触が不良とな
り高抵抗化する。従って、良好な比率は、用いる高分子
樹脂と導電性粒子及び所望の物性値によって適宜選択さ
れるものである。具体的には、導電性粒子が5体積%か
ら95体積%程度とすることで良好な比抵抗が得られ
る。
形成し易く、作業性に優れ、柔軟性があり、耐候性が優
れた樹脂が好ましい。このような特性をもつ高分子樹脂
としては、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂がある。
ン、エポキシ、フェノール、ポリビニルホルマール、ア
ルキド樹脂あるいはこれらを変性した樹脂等が好適な材
料として挙げられる。とりわけ、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂はエナメル線用絶縁被覆材料と
して用いられており柔軟性や生産性の面で優れた材料で
ある。しかも、耐湿性、接着性の面でも光起電力素子の
集電電極用被覆ワイヤ材料として好適に用いられる。
ル、フェノキシ、ポリアミド、ポリアミドイミド、メラ
ミン、ブチラール、アクリル、スチレン、ポリエステ
ル、フッ素などが好適な樹脂として挙げられる。とりわ
け、ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂が、柔軟性、耐湿性、接着性
の面で優れた材料であり、光起電力素子の集電電極用被
覆ワイヤ材料として好適に用いられる。
電性粒子から構成された導電性接着材も好適に用いられ
る。カップリング剤を加えた導電性接着材を用いた場
合、良好な特性が得られる理由は以下のように説明され
る。
いる低抵抗な銅線やアルミニウム線などは安価で優れた
導電体である。エナメル線等はこれらの金属線に絶縁塗
料を被覆するわけだが、一般に無機物質である金属体を
有機物質を含む材料で被覆することは容易でない。更
に、この被覆層を介して、半導体や金属体に接着をする
場合十分な接着力が得られない場合がある。これは、被
覆層の有機物質と半導体や金属体との間に特別な結合が
存在しないためである。このことは、金属体の材質や表
面状態により更に深刻な問題となり、湿度の影響を受け
ることにより殆ど接着力が得られなくなる。本発明のカ
ップリング剤を含有した高分子樹脂と導電性粒子から構
成される被覆層を金属ワイヤに設けることにより金属体
表面が有機物質と結合しやすいように改質され、金属体
と有機物質を含む導電性樹脂層との間に高い密着性が得
られる。
に用いた場合、カップリング剤は、太陽電池基板表面又
は取り出し電極の金属タブ表面といった無機物質と、被
覆層中の有機物質との間で、結合を強める働きをする。
その結果、十分な接着力が得られない部分が生じるのを
防ぐことが可能となる。更に、2層以上からなる複数の
被覆層であるために、金属ワイヤを直接被覆する最内層
と太陽電池基板に直接に接着する最外層にカップリング
剤を金属ワイヤの材質、太陽電池基板の材質、金属タブ
の材質、更にはこれら被覆層を構成する高分子樹脂の種
類により適宜選択し効果を高めることが出来る。また、
カップリング剤により高められた接着力は高温、高湿
度、高温高湿度環境でも維持され、太陽電池を屋外で使
用した場合にも維持され、電極と太陽電池基板及び金属
タブ間との接着力の低下や被覆層の剥れによるシリーズ
抵抗の上昇等による変換効率が低下するのを防ぐことが
可能になる。
例えば、シラン系カップリング剤、チタネート系カップ
リング剤、アルミニウム系カップリングが挙げられる。
このようなカップリング剤は、無機物質と相互作用を持
つ親水基部分と有機物質と相互作用を持つ有機官能基の
部分とから構成されている。前記カップリング剤は、異
種物質間の界面を制御することを主目的として用いら
れ、特にその作用機構に共有結合が介するという点で一
般の界面活性剤とは区別される。すなわち、無機物質
(金属体)と有機物質(導電性接着材中高分子樹脂)と
の結合の仲立ちの役目を果たし両者を強固に結びつけ
る。シラン系カップリング剤は無機物質と有機物質の双
方に共有結合しているが、チタネート系カップリング剤
及びアルミニウム系カップリング剤は有機物質とは共有
結合を形成しないこともあるが、無機物質の表面の極
性、表面エネルギーを変えることにより、有機物質の結
びつきを高めることが出来る。このことから、シランカ
ップリング剤が最も有効であると言える。
グ剤としては、例えば、γ−メルカプトキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシキドプロピルトリメトキ
シシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、アミノシラン、γ−ア
ニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、へキサメチルジシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシランが挙げられる。
リング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステ
アロイルチタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシ
メチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファ
イトチタネート、テトライソピルビス(ジオクチルフォ
スファイト)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミ
ノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチル
ビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、イソプ
ロピルトリス(ジオクチルピロホスファネート)チタネ
ート、ビス(ジオクチルパイロホスフエート)オキシア
セテートチタネートが挙げられる。
プリング剤としては、例えば、アセトアルコキシアルミ
ニウムジイソプロピレートが挙げられる。
る際に、接着力等の最適特性を得るための最適量があ
り、通常はカップリング剤を所望の溶媒と混合して調整
し使用する。このような溶媒としてはメタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、トルエン、ベンゼ
ン、アセトン、メチルセルソルブ、テトラヒドロフラ
ン、水等が挙げられ、各カップリング剤と相溶性の良い
溶媒を選択して用いられ、あまり高濃度で用いるとカッ
プリング剤の活性が失活するので、通常低い濃度で用
い、0.01%〜10.0%濃度で好適に用いる。
ラン系、チタネート系、アルミニウム系により無機物質
との反応に対する適合性も考慮する必要がある。一方、
前記カップリング剤の有機官能基にはアミノ基、エポキ
シ基、カルボキシ基、フォスファイト基等があり、これ
らの有機官能基と有機物質との反応に対する適合性も考
慮する必要がある。
には、高分子樹脂と導電性粒子の密着が良好である必要
がある。この理由から、前記高分子樹脂としては、数平
均分子量が500以上50,000以下の高分子樹脂が
望ましい。
形成するためには、用いる高分子樹脂と導電性粒子との
分散性を向上させ、形成された被覆層の空孔容積を少な
くする必要があり、数平均分子量が500以上50,0
00以下の高分子樹脂を導電性粒子の種類や粒子径によ
り適宜、選択、組み合わせることにより湿度の影響を抑
制することが可能となる。好適に用いられる樹脂として
はウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ブチ
ラール樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、メラミ
ン樹脂、アルキド樹脂、フッ素樹脂、ポリピニルフォル
マール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、
ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等が挙
げられる。とりわけ、ウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、
エポキシ樹脂、フェノール樹脂はエナメル線用絶縁被覆
材料として工業的に一般に実績があり、耐湿性、柔軟性
のコントロール、生産性の面で優れた特性が得られる。
また、ブチラール樹脂は分散性に優れ、ポリイミド樹脂
は耐熱性に優れている。
分率を測定する方法がある。すなわち、前記高分子樹脂
片の試料をキシレンなどの溶媒に漬浸すると、ゲル化し
て架橋したゲル部分は溶出しないが、架橋していないゾ
ル部分は溶出する。すなわち架橋が完了すればゾル部分
の溶出はなくなる。次に前記試料を取り出しキシレンを
蒸発させることによりゾル部分も除いた未溶解のゲル部
分が残る。そこで、架橋しておらず溶出したゾル量を測
定することによりゲル分率を求めることができる。以下
に計算方法を示す。
る際に接着力を低下させる原因となる。更に、加熱圧着
し形成された集電電極の導電性樹脂層のゾル分率が低い
ことは、湿度の影響で信頼性が低下する恐れがあること
を意味する。
燥後、導電性樹脂層の高分子樹脂層のゲル分率を0%以
上20%以下にすることにより、保存後にも初期接着性
は変化しない。更に、集電電極用被覆ワイヤを加熱圧着
形成後の接着層のゲル分率が20%以上100%以下で
あることにより、使用中の信頼性も向上する。
は、所望の比抵抗を得るため好適な比率で行われる。導
電性粒子を増加すると比抵抗は低くなるが、樹脂の比率
が少なくなるため塗膜としての安定性は悪くなる。一
方、樹脂を増加すると導電性粒子同士の接触が不良とな
り高抵抗化する。したがって、好適な比率は、用いる高
分子樹脂と導電性粒子、及び所望の物性値によって適宜
選択されるものである。具体的には、導電性粒子が5体
積%から95体積%程度とすることで良好な比抵抗が得
られる。
合」において用いる分散装置としては、例えば、通常の
3本ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、ビ
ーズミル等が挙げられる。分散を良好とするため、所望
に応じて分散剤やカップリング剤を添加しても良い。分
散時、又は分散後に、導電性接着材の粘度調整のため適
当な溶剤で希釈しても良い。
用いる金属ワイヤを周囲の環境から保護する機能、金属
ワイヤとの電気的な接続を行う機能のどちらか一方、あ
るいは両方の機能を有する層である。「より電極に近接
する層」の比抵抗は、光起電力素子によって発生する電
流を集電する際に電気抵抗とならないことが必要であ
り、好適には0.1Ωcm以上100Ωcm以下の範囲
が好ましい。この「より電極に近接する層」に熱硬化性
の導電性接着材を使用した場合、製造工程における耐溶
剤性や耐熱性を、使用時における信頼性を向上すること
ができる。
クト層を、「より電極に近接する層」として形成しても
良い。該コンタクト層は、前記金属ワイヤと導電性接着
材との電気的接触をよくする機能を有する。特に、前記
電極用金属ワイヤに銅を用いる場合には、表面が酸化さ
れて高抵抗となったりするために前記導電性粒子がグラ
ファイトや金属酸化物のようなものでは接触抵抗が大き
くなる。このような現象を防ぐため前記コンタクト層を
用いる。該コンタクト層の材料としては、例えば、銀、
パラジウム、銀とパラジウムの合金、金などの腐食され
にくい貴金属や、ニッケル、スズなどの耐食性の良い金
属が挙げられる。導電性接着材からなる場合には、前記
金属をフィラーとして接着剤を作製すると良い。また、
導電性接着材を用いずメッキ法でスズや銀の層を前記金
属ワイヤに形成しても良いし、銀クラッド銅ワイヤを使
用しても良い。
電性接着材を使用した場合は、その外側に金属イオンの
マイグレーションを封止するバリヤ層を形成しても良
い。
や所望の特性によって異なるが、例えば金属ワイヤが1
00μmであれば、ピンホールが無く、バリヤ層として
の機能が充分で有り、かつ、シャドウロスを極端に生じ
ないようにするために1μm以上15μm以下の範囲が
好適である。1μm以下の厚みでは均一にコートするこ
とが難しくピンホールが発生するため、バリヤ層として
の機能が不十分となる。また、15μm以上の厚みでは
被覆層が剥がれ易くなったり、シャドウロスが大きくな
りすぎるために好ましくない。
使用する導電性接着材の空隙率が、1μm以下の空隙半
径において0.04ml/g以下であることが好まし
い。
以上の空隙は、ほとんど存在せず、それ以上の空隙が存
在した場合は、導電性接着材の硬化後の機械的強度が低
下する。また、空隙率が0.04ml/gより大きいと
外部からの水分の侵入を許し、導電性接着材中の導電性
粒子と高分子樹脂の結合が劣化し、抵抗値の上昇や金属
イオンのマイグレーションが発生したりする。
100℃以上であることが好ましい。その理由として
は、被膜形成後のオーバーコートにおける熱履歴、さら
に、トップコート剤、ラミネーションの工程における熱
履歴に充分耐え得る特性を持たせるためである。
しては、例えば、通常のエナメル線のコーティング方法
を好適に用いることができる。具体的には、前記導電性
接着材を適当な粘度となる様に溶剤で希釈し、前記金属
ワイヤにロールコーターなどを用いてコーティングした
後、所望の厚みを形成するためのダイスあるいはフェル
トを通過させてから、赤外線加熱等で乾燥、硬化させ
る。
示す模式図である。図3において、301は送り出しリ
ール、302は金属ワイヤ、303は洗浄槽、304は
コーター、305はダイス、306は乾燥炉、307は
膜厚測定機、308はテンションコントローラー、30
9は整列巻き駆動装置、310は巻き取りリール、31
1は温度調節機である。
金属ワイヤが巻いてあるボビンである。洗浄槽303
は、所望に応じて用いるものであるが、アセトン、ME
K,IPAなどの溶剤を満たしたタンクであって、金属
ワイヤ302の表面の汚れを洗浄するものである。コー
ター304は、導電性接着材を金属ワイヤ302に塗布
する装置である。コーター304には塗布する導電性接
着材が一定量貯められているが、所望に応じて粘度調整
のための溶剤添加機構や温度調整機構、導電性接着材補
充機構、ろ過機構などを追加しても良い。ダイス305
は、塗布した導電性接着材を所望の厚みとなる様に制御
するためのものである。前記ダイス305は市販のエナ
メルコート用のものが好適に用いられるが、所望に応じ
てフェルトを用いても良い。乾燥炉306は、塗布した
導電性接着材の溶剤を除去して乾燥させたり、又は、熱
硬化させたりするためのもので、熱風乾燥機や赤外線乾
燥機などが所望に応じて用いられる。膜厚測定器307
は、塗布した導電性接着材の厚みを測定し管理するため
のものであり、市販の外径測定器が好適に用いられる。
前記膜厚測定機307で測定した膜厚データを利用し
て、送り速度や導電性接着材の粘度などのフィードバッ
ク制御を行っても良い。テンションコントローラー30
8は金属ワイヤ302をたるみが生じない様に、かつ降
伏点以上の力がかからない様に一定の張力に保つ装置で
ある。整列巻き駆動装置309は巻き取りリール310
に巻き取る際にワイヤの間隔を制御しながら巻き取るた
めの装置である。巻き取りリール310は不図示のモー
ターによって所望の送り速度となるように回転駆動され
る。温調機311は乾燥炉306の温度を設定値に保つ
ためのものである。所望に応じてスライダック、オンオ
フ制御、PID制御などの公知の方法を選択して用いら
れる。
302の搬送方向は、縦方向でも横方向でも良く、所望
に応じて設計されるものである。
には、1層コーティングするごとにボビンへ巻き取って
も良いが、場合によっては、連続して複数の層をコーテ
ィングした後で最後にボビンに巻き取っても構わない。
また、図3では1本の金属ワイヤをコーティングする場
合を示したが、同時に複数本の金属ワイヤをコーティン
グしても構わない。
は、ボビンに巻き取った状態で保存し、光起電力素子の
集電電極を形成する際に適宜巻き出して用いる。
8に示す構成からなる太陽電池が挙げられる。
せるタイプのアモルファスシリコン系太陽電池の模式的
断面図である。図において、401は基板、402は下
部電極、403、413、423はn型半導体層、40
4、414、424はi型半導体層、405、415、
425はp型半導体層、406は透明導電膜からなる上
部電極、407は集電電極用被覆ワイヤが用いられるグ
リッド電極を表す。
を示し、501はシリコンウエハ基板からなる半導体
層、502は半導体層501とpn接合を形成する半導
体層、503は裏面電極、504は集電電極、505は
反射防止膜を表す。
を示し、601はシリコンウエハ基板からなる半導体
層、602は半導体層601とpn接合を形成する半導
体層、603は裏面電極、604は集電電極、605は
反射防止膜を表す。
面図を示し、701は基板、702は多結晶化した半導
体層、703は半導体層702とpn接合を形成する半
導体層、704は裏面電極、705は集電電極、706
は反射防止膜を表す。
から見た図である。801は基板、802はプラス電
極、803はマイナス電極、804は集電電極を表す。
しては、例えば、発電に寄与する半導体層と、該半導体
層の光入射側に設けた透明導電層と、該透明導電層上に
前記金属ワイヤ及び導電性接着材から構成される集電電
極用被覆ワイヤと、該半導体層の光入射側とは反対の面
に設けた裏面電極とからなる構成が好ましい。
合、pin接合、ショットキー接合等の半導体接合を有
する構造を持つことが必要である。その材料としては、
例えば、結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファス
シリコンなどのIV族の半導体や、CdS、CdTeな
どのII−VI族の半導体や、GaAsなどのIII−
V族の半導体が好適に用いられる。
半導体層の光入射面側に配置するが、その配置方法とし
ては適当な間隔で平行に配置するのが良い。本発明の電
極は、特に大面積の光起電力素子を形成する場合に適し
ている。例えば、30cm角の光起電力素子を作製する
場合には、30cmの長さの金属ワイヤと導電性接着材
とから構成される電極を、半導体層上に、所定の間隔で
平行に設置して集電電極を形成すれば良い。さらに、前
記集電電極からひとつの端子に電流を流す目的から、比
較的大きな電流が流せるバスバー電極を形成する。
導体層の裏面側に設けられるものであり、例えば、スク
リーン印刷法、蒸着法等の方法で金属を形成したもので
ある。この金属の種類としては、半導体と良好なオーミ
ック性が得られるものを適宜選択して用いる。
ファスシリコン系、微結晶シリコン系、及び、多結晶シ
リコン系を含む非単結晶半導体からなる薄膜の場合に
は、支持基板が必要となる。支持基板としては、絶縁性
基板、導電性基板の両方が使用可能である。前記導電性
基板としては、ステンレスやアルミ等の金属基板が好適
に用いられ裏面電極の役目も果たす。ガラス、高分子樹
脂、セラミックス等の絶縁性基板を用いる場合には、基
板上にクロム、アルミニウム、銀等の金属を蒸着し、裏
面電極とする。下部電極402は、半導体層403、4
04、405、413、414、415、423、42
4、425で発生した電力を取り出すための一方の電極
であり、半導体層403に対してはオーミックコンタク
トとなる仕事関数を持つことが要求される。材料として
は、例えば、Al,Ag,Pt,Au,Ni,Ti,M
o,W,Fe,V,Cr,Cu,ニクロム,SnO2,
In2O3,ZnO,ITO等のいわゆる金属体または合
金及び透明導電性酸化物(TCO)等が用いられる。下
部電極の表面は平滑であることが好ましいが、光の乱反
射を起こさせる場合にはテクスチャー化しても良い。ま
た、基板401が導電性である場合、下部電極402を
設けなくても良い。下部電極402は、例えば、メッ
キ、蒸着、スパッタ等の公知の方法で形成することがで
きる。
03、i層404、p層405を一組としたシングル構
成だけでなく、pin接合またはpn接合を2組又は3
組重ねたダブル構成やトリプル構成も好適に用いられ
る。特に、i層である404、414、424を構成す
る半導体材料としては、a−Siの他に、a−SiG
e,a−SiC等のいわゆるIV族及びIV族合金系ア
モルファス半導体が挙げられる。アモルファスシリコン
半導体層の成膜方法としては、例えば、蒸着法、スパッ
タ法、高周波プラズマCVD法、マイクロプラズマCV
D法、ECR法、熱CVD法、LPCVD法等公知の方
法を所望に応じて用いる。成膜装置としては、バッチ式
の装置や連続成膜装置等が所望に応じて使用できる。透
明導電膜406は、アモルファスシリコンのようにシー
ト抵抗が高い場合必要であり、かつ、光入射側に位置す
るために透明であることが必要である。透明導電膜40
6の材料としては、例えば、SnO2,In2O3,Zn
O,CdO,CdSnO4,ITO等の金属酸化物が挙
げられる。
リコン太陽電池600の場合、支持基板を設けず、単結
晶ウエハ501や多結晶ウエハ601が基板の役目をす
る。単結晶ウエハ501は、CZ法で引き上げられたS
iインゴットを切断する方法等で得られる。多結晶ウエ
ハ601は、キャスト法により得られたSiインゴット
を切断する方法や、リボン法によりシート状の多結晶を
得る方法等により形成される。pn接合の形成方法とし
ては、例えば、POCl3を用いた気相拡散法、Ti
O2,SiO2,又はP2O5を用いた塗付拡散法、イオン
を直接にドープするイオン打ち込み法等が用いられ、半
導体層502、602が得られる。裏面電極503、6
03は、例えば、蒸着、スパッタ法等により金属膜を形
成したり、銀ペーストのスクリーン印刷等により形成す
る。反射防止膜504、604は、太陽電池表面での光
の反射による効率の低下を防ぐために形成され、その材
料としては、例えば、SiO2,Ta2O5,Nb2O5等
が用いられる。
イトなどの基板701上にSi多結晶薄膜702を成長
し、場合によっては、これをさらに粒径拡大化の処理を
行った後、これを再度基板とし、その上に活性層となる
ベース層を形成、その上に表面層703をエピタキシャ
ル成長法等により形成する。基板701としては、金属
Siなどの低コストの基板を用いても良い。
2の電極804は、前記半導体層の光入射面側に配置さ
れるが、配置方法としては集電の電気抵抗による損失と
シャドウロスとの和が最小となる様に適当な間隔で平行
に配置するのが好ましい。例えばシート抵抗が100Ω
/□程度であれば、集電電極の間隔は5mm程度が好ま
しい。また、細い径のワイヤを用いた場合にはピッチを
狭くし、太い径のワイヤを用いた場合にはピッチを広く
するという最適化を行うことで最高の効率が得られる。
を形成する場合に適しており、例えば30cm角の太陽
電池を作製する場合には、半導体層上に30cm長さの
本発明の電極用被覆ワイヤを平行に所定の間隔で設置し
て集電電極を形成すれば良い。さらに、前記集電電極か
らひとつの端子に電流を流すためには、比較的大きな電
流を流すために集電部としてタブ等を配置しても良い。
使用の際、耐侯性を良くし機械的強度を保つために、公
知の方法でエンカプシュレーションをしてモジュール化
される。具体的には、エンカプシュレーション用材料と
しては、接着層についてはEVA(エチレンビニルアセ
テート)等が好適に用いられる。また、機械的強度を向
上するために、クレーンガラス等にEVAを含浸させて
用いても良い。更に、耐湿性や耐傷性を向上させるため
に、表面保護層としてフッ素の樹脂が積層される。例え
ば、4フッ化エチレンの共重合体TFE、4フッ化エチ
レンとエチレンの共重合体ETFE、ポリフッ化ビニ
ル、ポリクロロフルオロエチレンCTFE等が挙げられ
る。また、これらの樹脂に紫外線吸収剤を加えることで
耐侯性を向上させても良い。これらの樹脂を太陽電池基
板と積層する方法としては、例えば、真空ラミネーター
のような市販の装置を用いて、真空中で加熱、圧着する
ことが可能である。
す模式的断面図である。図9において、901は支持基
板、902は裏面側の電極、903はp型半導体層、9
04はi型半導体層、905はn型半導体層、906は
集電電極を表す。
接着材が被覆された集電電極用被覆ワイヤ(以下では、
2層被覆集電電極用被覆ワイヤと略記する)」を用いた
光起電力素子モジュール1000の模式図である。図1
0において、1001は光起電力素子基板、1002は
プラス電極、1003はマイナス電極、1004は本発
明の2層被覆集電電極用被覆ワイヤである。光起電力素
子基板1001は、ステンレス基板上にp、i、nの各
半導体層及び透明導電膜をCVD法やスパッタリング法
を用いて成膜したものである。プラス電極1002は、
集電電極で集電した電流を外部へ取りだす為の電極であ
り、例えば、導電率の高い銅、銀メッキ銅が好適に使用
される。マイナス電極1003は、ステンレス基板側か
らの電流取り出し電極であり、この電極にも銅が好適に
使用される。2層被覆集電電極用被覆ワイヤ1004
は、光起電力素子基板から発生する電流を集電する機能
を持つ。2層被覆集電電極1004は、熱圧着工程を経
ることにより光起電力素子基板及びプラス電極と機械
的、電気的に接続される。
集電電極として配置する方法としては、例えば光起電力
素子表面に平行に複数本配置する場合、細い径のワイヤ
を用いた場合にはピッチを狭くし、太い径のワイヤを用
いた場合にはピッチを広くするという最適化を行うこと
で最高の効率が得られる。
の最外層は、ワイヤへの塗布を行う時に硬化反応はさせ
ずに溶剤の乾燥のみを行って、接着時に加熱して、接着
と硬化をさせればよい。
に示す太陽電池の作製方法が挙げられる。
半導体層又は透明導電膜の表面上に、熱、圧力、又は熱
と圧力で接着する方法が好ましい。
層及び前記第2層の導電性樹脂の軟化点以上の温度にす
ることが好ましく、前記接着層及び前記第2層のみが軟
化して前記集電電極用被覆ワイヤが太陽電池表面に接着
し、前記第1層は軟化せずに初期の膜厚を保つことが望
ましい。また、前記導電性樹脂の硬化剤がブロックイソ
シアネートからなる場合には、前記ブロックイソシアネ
ートの解離温度以上の温度に保ち、接着工程中に熱硬化
させることが好ましい。
び前記第2層が適度に変形する圧力が好ましく、太陽電
池を破壊しない程度の圧力以下でなければならない。具
体的には、例えばアモルファスシリコンのような薄膜太
陽電池では、0.1kg/cm2から1.0kg/cm2
が好適である。
層及び前記第2層がホットメルトタイプであれば、熱に
より軟化させて太陽電池に接着させることが望ましい
が、接着時には適度な圧力を加えても良い。また、前記
第2層が熱可塑性であれば加熱により軟化するが、熱硬
化性の樹脂の場合は、ワイヤへの塗布を行う時に硬化反
応はさせずに溶剤の乾燥のみ行って、接着時に加熱によ
り硬化させても良い。
に該集電電極用被覆ワイヤを用いた光起電力素子及びそ
の製造方法は、上述した太陽電池以外の光起電力素子に
も十分に適応可能である。
ンで製造し、電極形成時まで貯蔵するためには、金属ワ
イヤに樹脂を被覆乾燥後、樹脂の硬化促進を制御するこ
とが困難である点が挙げられる。ブロックイソシアネー
トを硬化剤として用いることにより、被覆乾燥時及び乾
燥後には樹脂は含まれていた溶剤が乾燥されただけで硬
化せず、ある一定温度の下で加熱することによりブロッ
ク剤が解離し、活性なイソシアネート基が樹脂と反応し
て硬化することが可能となる。すなわち、従来の硬化剤
では硬化促進を制御することは非常に困難であったが、
ブロックイソシアネートを硬化剤を用いることにより、
これらの問題は解決される。
後、ボビン等に巻き取り保存すると取り扱い上便利であ
るが、被覆ワイヤ同士が被覆層のタックにより供給時に
ボビンから取り出しにくくなったり、タック大の場合に
は、被覆層が剥れるなどが生じてしまう点が挙げられ
る。これは被覆層の樹脂のガラス転移点が低い場合に起
こる現象であり、ガラス転移点が0℃以上の樹脂を用い
ることによりタック性排除の効果が現れ、ガラス転移温
度が100℃以上の高分子樹脂がより好適である。ま
た、ガラス転移温度の異なる高分子樹脂を混合して、被
覆層の柔軟性、接着性、タック排除の面で優れた被覆層
の形成が可能となる。好ましい組み合わせとしてはウレ
タン樹脂とフェノキシ樹脂等がある。
めには高分子樹脂の選択の他に導電性粒子の樹脂ヘの分
散性が重要になってくる。導電性粒子の粒子径は、形成
する導電被覆層の厚みよりも小さくする必要があるが、
小さすぎると粒子同士の接触点での抵抗が大きくなるた
め所望の比抵抗が得られなくなる。この導電性粒子が樹
脂に分散される場合、結晶子が規則的に集まった1次粒
子、1次粒子が表面の荷電とかファンデルワールス力等
で凝集した2次粒子などの凝集粒子が存在する。分散性
が悪い場合、高次の凝集粒子が存在し、被覆層の膜厚が
不均一になるばかりか、導電性も不安定になってしま
う。本発明において被覆層の導電性粒子の一次粒子の平
均粒子径が0.02μm以上15μm以下にすることに
より分散時に高次の凝集粒子を形成することなく上記の
問題が解決される。ここで、分散時の粒子の凝集状態及
び粒子径(一般に粒度と呼ばれる)を測定する方法とし
ては、レーザー回折法、光粒子相関法、光散乱法等が挙
げられる。
ラファイトなどやIn2O3,TiO2,SnO2,IT
O,ZnO及び前記材料に適当なドーパントを添加した
酸化物半導体材料等が好適に用いられる。また、前記導
電性粒子と前記高分子樹脂とは所望の比抵抗を得るため
好適な比率で混合されるが、導電性粒子を増加すると比
抵抗は低くなるが樹脂の比率が少なくなるため塗膜とし
ての安定性は悪くなる。従って、好適な比率は、用いる
高分子樹脂と導電性粒子及び所望の物性値によって適宜
選択されるものである。具体的には導電性粒子が5体積
%から95体積%程度とすることで良好な比抵抗が得ら
れる。前記導電性粒子及び高分子樹脂の混合に際して
は、3本ロールミルやぺイントシェーカー等の通常の分
散方法を用いることができる。分散時あるいは分散後に
導電性塗料の粘度調整のため適当な溶剤で希釈しても良
い。
る問題としては、ピンホールが生じるために欠陥部ヘの
リーク電流が生じ、光起電力素子の特性が低下するとい
う問題が挙げられる。しかし、この問題は、緻密な被覆
層を形成すると共に十分な膜厚の被覆層を形成すること
により解決される。被覆層の厚みは金属ワイヤの径や所
望の特性により異なるが、例えば、金属ワイヤの径が1
00μmの場合、リーク電流に対するバリア層としての
機能が十分であり、かつシャドウロスを極端に生じない
ためには、1μm乃至30μm程度が好適である。更
に、電極形成時に金属ワイヤが太陽電池基板が接触して
シャントを発生する問題にたいしては、被覆層を2層以
上形成し、最内層の被覆層は被覆時に完全に硬化してし
まうことにより圧着工程により直接に金属ワイヤが太陽
電池基板に接触することはなくなり解決される。また、
マイグレーション等の屋外で光起電力素子を使用する際
の問題も、被覆層を集電、シャント防止、マイグレーシ
ョン防止、電極固定等の機能を2層以上の複数の層を設
けて機能分離することにより解決される。
を図2(a)に、電極が該被覆層を介して光起電力素子
基板上に固定された部分の断面図を図2(c)に示す。
図2(a)及び図2(c)において、201は金属ワイ
ヤ、202は金属ワイヤに直接被覆される第1被覆層、
203は最外層を形成する第2被覆層、205は導電性
接着材からなる被覆層(全体)、206は光起電力素子
基板である。導電性の被覆層は同心円状に被覆されるこ
とが望ましい。前記導電性樹脂を前記金属ワイヤに被覆
する方法としては通常のエナメル線の絶縁被覆膜の塗布
方法が好適に用いることができるが具体的には、前記導
電性樹脂を適当な粘度となる様に溶剤で希釈し、前記金
属ワイヤにロールコーターなどを用いてコートし、所望
の厚みを形成するためのダイスを通過させて、その後加
熱炉で溶剤乾燥及び熱硬化させる。
て、図4(a)、図4(c)及び図13を用いて詳細に
説明する。図4(a)は、基板と反対側から光入射する
シングルセル構造の非晶質シリコン系太陽電池である。
図4(c)は、図4(a)の太陽電池をトリプル構造と
した非晶質シリコン系太陽電池である。図13は、図4
(a)及び図4(c)の太陽電池を光入射側から見た図
であり、約30cmの長さのグリッド電極が形成されて
いる。
堆積した非晶質シリコン系太陽電池、単結晶系、薄膜多
結晶系太陽電池においても本発明の思想を用いた構成は
適用可能であることは言うまでもない。
402は下部電極、403、404、405はそれぞれ
pinの接合を形成している半導体層、406は透明導
電膜からなる上部電極、407は集電電極用被覆ワイヤ
が用いられるグリッド電極、を表す。
05は第1のpin接合を形成している半導体層、41
3、414、415は第2のpin接合を形成している
半導体層、423、424、425は第3のpin接合
を形成している半導体層、を表す。
302は陽極取り出し部、1303は陰極取り出し部、
を表す。
膜の太陽電池の場合の半導体層403、404、405
を機械的に支持する部材であり、また場合によっては電
極として用いられる。前記基板401は、半導体層40
3、404、405を成膜するときの加熱温度に耐える
耐熱性が要求されるが導電性のものでも電気絶縁性のも
のでも良く、導電性の材料としては、具体的にはFe,
Ni,Cr,Al,Mo,Au,Nb,Ta,V,T
i,Pt,Pb,Ti等の金属またはこれらの合金、例
えば真鍮、ステンレス鋼等の薄板及びその複合体やカー
ボンシート、亜鉛メッキ鋼板等が挙げられ、電気絶縁性
材料としては、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカー
ボネート、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リアミド、ポリイミド、エポキシ等の耐熱性合成樹脂の
フィルムまたはシート又はこれらとガラスファイバー、
カーボンファイバー、ホウ素ファイバー、金属繊維等と
の複合体、及びこれらの金属の薄板、樹脂シート等の表
面に異種材質の金属薄膜及び/またはSiO2,Si3N
4,Al2O3,AlN等の絶縁性薄膜をスパッタ法、蒸
着法、鍍金法等により表面コーティング処理を行ったも
の及び、ガラス、セラミックスなどが挙げられる。
4、405で発生した電力を取り出すための一方の電極
であり、半導体層403に対してはオーミックコンタク
トとなるような仕事関数を持つことが要求される。材料
としては、例えば、Al,Ag,Pt,Au,Ni,T
i,Mo,W,Fe,V,Cr,Cu,ステンレス、真
鍮、ニクロム、SnO2,In2O3,ZnO,ITO等
のいわゆる金属単体または合金及び透明導電性酸化物
(TCO)等が用いられる。前記下部電極402の表面
は平滑であることが好ましいが、光の乱反射を起こさせ
る場合にはテクスチャー化しても良い。また、基板40
1が導電性である場合、下部電極402は特に設ける必
要はない。
タ等の方法を用いる。上部電極の作製方法としては、抵
抗加熱蒸着法、電子ビーム加熱蒸着法、スパッタリング
法、スプレー法等を用いることができ所望に応じて適宜
選択される。
晶シリコン、単結晶シリコン等が挙げられる。非晶質シ
リコン太陽電池に於いてi層404を構成する半導体材
料としては、a−Si:H,a−Si:F,a−Si:
H:F,a−SiGe:H,a−SiGe:F,a−S
iGe:H:F,a−SiC:H,a−SiC:F,a
−SiC:H:F等のいわゆるIV族及びIV族合金系
非晶質半導体が挙げられる。p層405またはn層40
3を構成する半導体材料としては、前述したi層404
を構成する半導体材料に価電子制御剤をドーピングする
ことによって得られる。また原料としては、p型半導体
を得るための価電子制御剤としては周期律表第IIIの
元素を含む化合物が用いられる。第IIIの元素として
は、B,Al,Ga,Inが挙げられる。n型半導体を
得るための価電子制御剤としては周期律表第Vの元素を
含む化合物が用いられる。第V族の元素としては、P,
N,As,Sbが拳げられる。
は、蒸着法、スパッタ法、RFプラズマCVD法、マイ
クロ波プラズマCVD法、ECR法、熱CVD法、LP
CVD法等の公知の方法を所望に応じて用いる。工業的
に採用されている方法としては、原料ガスをRFプラズ
マで分解し、基板上に堆積させるRFプラズマCVD法
が好んで用いられる。さらに、RFプラズマCVDに於
いては、原料ガスの分解効率が約10%と低いことや、
堆積速度が0.1nm/secから1nm/sec程度
と遅いことが問題であるがこの点を改良できる成膜法と
してマイクロ波プラズマCVD法が注目されている。以
上の成膜を行うための反応装置としては、バッチ式の装
置や連続成膜装置などの公知の装置が所望に応じて使用
できる。本発明の太陽電池に於いては、分光感度や電圧
の向上を目的として半導体接合を2以上積層するいわゆ
るタンデムセルやトリプルセルにも用いることが出来
る。
4、405で発生した起電力を取り出すための電極であ
り、前記下部電極402と対をなすものである。前記上
部電極406は非晶質シリコンのようにシート抵抗が高
い半導体の場合に必要であり、結晶系の太陽電池ではシ
ート抵抗が低いため特に必要としない。また、上部電極
406は、光入射側に位置するため、透明であることが
必要で、透明電極とも呼ばれる。前記上部電極406
は、太陽や白色蛍光灯等からの光を半導体層内に効率良
く吸収させるために光の透過率が85%以上であること
が望ましく、さらに、電気的には光で発生した電流を半
導体層に対し横方向に流れるようにするためシート抵抗
値は100Ω/□以下であることが望ましい。このよう
な特性を備えた材料としてSnO2,In2O3,Zn
O,CdO,CdSnO4,ITO等の金属酸化物が挙
げられる。
201と導電性の被覆層205から構成され、導電性の
被覆層205は、光起電力素子としての効率を損なわな
い程度の抵抗値であり、かつシャントを防ぐことができ
る高抵抗であることが必要である。即ち、太陽電池によ
って発生する電流に対しては抵抗とならずに、また欠陥
がある場合には抵抗として働くため、大きなリークを防
ぐことができる。導電性の被覆層205の好適な抵抗値
としてはグリッドの設計や、光起電力素子の動作点で
の、電流値、欠陥の大きさなどにより決定されるが、比
抵抗として0.1〜100Ωcmが好ましい。この範囲
でシャントが生じたときには十分な抵抗となり、且つ光
起電力素子で発生した電流に対しては無視できるほどの
抵抗値になる。また、グリッド電極407は、図4
(a)に示した光起電力素子400の光入射面側に配置
されるが、配置方法としては適当な間隔で平行に配置す
るのが良い。本発明の集電電極用被覆ワイヤはとりわけ
大面積の太陽電池を形成する場合に適しており、例え
ば、30cm角の太陽電池を作製する場合には、半導体
層上に30cmの長さの本発明の集電電極用被覆ワイヤ
を平行に所定の間隔で設置する様にすれば良い。しか
も、シャントやリークによる電流リークを少なくする構
成であるため非晶質シリコン系太陽電池に好適できるも
のであるが、同様の構成は非晶質系以外に単結晶系、多
結晶系あるいはシリコン以外の半導体を用いた太陽電
池、ショットキー接合型の太陽電池などにも適用できる
ことは言うまでもない。
る電流を更に一端に集めるための集電部である。集電部
材料としてはCu,Ag,Pt等の金属やこれらの合金
から成るものを用いることができ、形態としてはシート
状、テープ状、箔状のものを接着剤等で張り付けるのが
望ましい。
方法) 本発明に係る「光起電力素子の上に集電電極を形成する
方法」としては、例えば、次に示す太陽電池の作製方法
が挙げられる。
半導体層又は透明導電膜の表面上に、熱、圧力、又は熱
と圧力で接着する方法が好ましい。
被覆層及び被覆層を形成する高分子樹脂の軟化点以上の
温度にすることが好ましい。また、前記導電性樹脂の硬
化剤がブロックイソシアネートからなる場合には、前記
ブロックイソシアネートの解離温度以上の温度に保ち、
接着工程中に熱硬化させることが好ましい。
層が適度に変形する圧力が好ましく、太陽電池を破壊し
ない程度の圧力以下でなければならない。具体的には、
例えばアモルファスシリコンのような薄膜太陽電池で
は、0.1kg/cm2から1.0kg/cm2が好適で
ある。
被覆層がホットメルトタイプであれば、熱により軟化さ
せて太陽電池に接着させることが望ましいが、接着時に
は適度な圧力を加えても良い。
侯性を良くし機械的強度を保つために、公知の方法でエ
ンカプシュレーションをしてモジュール化される。具体
的には、エンカプシュレーション用材料としては、接着
層については、太陽電池との接着性、耐候性、緩衝効果
の点でEVA(エチレンビニルアセテート)等が好適に
用いられる。また、さらに耐湿性や耐傷性を向上させる
ために、表面保護層としてはフッ素系の樹脂が積層され
る。例えば、4フッ化エチレンの共重合体TFE(デュ
ポン社製、テフロン等)、4フッ化エチレンとエチレン
の共重合体ETFE(デュポン社製、テフゼル等)、ポ
リフッ化ビニル(デュポン社製、テドラー等)、ポリク
ロロフルオロエチレンCTFE(ダイキン工業社製、ネ
オフロン)等が挙げられる。また、これらの樹脂に公知
の紫外線吸収剤を加えることで耐侯性を向上させても良
い。
例えば、真空ラミネーターのような公知の装置を用い
て、太陽電池基板と前記樹脂フィルムとを真空中で加
熱、圧着する方法が可能望ましい。
該集電電極用被覆ワイヤを用いた光起電力素子及びその
製造方法」について実施例に基づき詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。
は、「導電性接着材が導電性粒子及び高分子樹脂からな
る場合」に関して詳細に検討した。
では、「被覆層が少なくとも2層以上であり、かつ、少
なくとも最外層の被覆層を構成する導電性接着材が、未
硬化の熱硬化性高分子樹脂からなる場合」に関して詳細
に検討した。
6では、「導電性接着材にカップリング剤が含まれる場
合」に関して詳細に検討した。
関しては、集電電極用被覆ワイヤの形成条件、太陽電池
の構造、及び太陽電池の特性評価結果を表9〜表16に
纏めて示した。
と、カーボンブラックとウレタンとからなる場合につい
て説明する。
極用被覆ワイヤ100は、以下の様にして形成した。金
属ワイヤ101としては、直径100μmの銅ワイヤを
用いた。
めのカーボンペーストを以下の様に作製した。まず、溶
剤として酢酸エチル2.5g、IPA2.5gの混合溶
剤を分散用シェーク瓶に入れた。次に、主剤となるウレ
タン樹脂を22.0gを前記シェーク瓶に加えボールミ
ルで充分撹拌した。ウレタン樹脂の数平均分子量は30
00であった。次に、硬化剤としてブロックイソシアネ
ートを1.1g、分散用ガラスビーズ10gを前記溶液
に加えた。次に、導電性粒子として平均の一次粒径が
0.05μmのカーボンブラックを2.5gを前記溶液
に加えた。
機製作所社製ペイント・シェーカにて10時間分散し
た。その後、出来上がったペーストから分散用ガラスビ
ーズを取り除いた。該ペーストの平均粒子径を測定した
ところ約1μmであった。ペイントシェーカーの変わり
にビーズミルを用いても同様の結果で有った。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、0.6Ωcmであり十分低抵抗である
ことを確認した。
メーターで測定したところ0.01ml/gであった。
さらに前記ペーストのうちカーボンブラックを除いて樹
脂のみで硬化させたシートを作製してゲル分率を測定し
たところほぼ100%であった。
ヤコート機300を用い被覆層102を形成した。
307を巻いたリールを設置し、巻き取りリール310
に向け前記金属ワイヤを張った。次に、コーターに前記
を注入した。
sec、乾燥炉306の温度は120℃とし、5回コー
トした。使用したエナメルコート用ダイスの径は110
μmから200μmまでを順次用いた。この条件で、ペ
ーストは溶剤が揮発し未硬化状態で保存する。被覆層1
02の厚さは、平均20μmで、100m長さでのコー
ト結果での膜厚のばらつきは、±0.5μm以内に納ま
っていた。
(c)に示す層構成でグリッド長が30cmのグリッド
電極を有するpin接合型トリプル構成のアモルファス
太陽電池400を作製した。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れAg
を450nm堆積し、その後ZnOを1000nmを堆
積して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不
図示のマイクロ波プラズマCVD成膜装置に入れ、n層
403にシリコン層、i層404にシリコンゲルマニウ
ム層、p層405にシリコン層の順でボトム層を形成し
た。次に、同様にしてn層413にシリコン層、i層4
14にシリコンゲルマニウム層、p層415にシリコン
層の順でミドル層を順次形成し、更に、n層423、i
層424にし、p層の順でシリコン層のトップ層を形成
し、半導体層を堆積した。その後、不図示のスパッタ装
置に入れ反射防止硬化を兼ねた機能を有する透明導電膜
406としてITOを70nm成膜した。次に、太陽電
池基板401を大きさは30×30cmでセルの有効面
積が900cm2となるように塩化第2鉄を主成分とす
るエッチングペーストと市販の印刷機を用い不要部分の
透明導電膜を除去した。
02、マイナス電極803を設け、集電電極805とし
て前記被覆ワイヤ100を6mm間隔で有効面積内に納
まるように両プラス電極802間に張り、紫外線硬化接
着剤を用いて固定した。
の加熱装置を用いて加熱圧着し、太陽電池基板401の
セル面及びプラス電極802上に集電電極804を接着
形成し、図8(a)に示す30cm×30cm角のトリ
プルセルを作製した。加熱条件は、200℃、45秒、
圧力は、1kg/cm2で行った。
を以下のように行った。太陽電池基板801の上下にク
レーンガラス及びEVAを積層し、さらにその上下にフ
ッ素樹脂フィルムETFE(ディポン社製テフゼル)を
積層し、真空ラミネータに投入して150℃で60mi
n保持しラミネーションを行った。同様の方法で、太陽
電池モジュールを50個作製した。
て測定した。まず、試料の暗状態での電圧−電流特性を
測定し、原点付近の傾きからシャント抵抗を調べたとこ
ろ200kΩcm2〜500kΩcm2であり良好な値を
示した。次に、AM1.5グローバルの太陽光スペクト
ルで100mW/cm2の光量の擬似太陽光源(以下シ
ミュレータと呼ぶ)用いて太陽電池特性を測定し、変換
効率を求めたところ9.6%+0.02%であり良好な
特性でありばらつきも少なかった。また、シリーズ抵抗
を求めたところ平均で32.0Ωcm2であり良好な値
であった。また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり
率は94%で良好であった。
格C8917の結晶系太陽電池モジュールの環境試験方
法及び耐久試験方法に定められた温湿度サイクル試験A
−2に基づいて行った。
に投入し、−40℃から+85℃(相対湿度85%)に
変化させるサイクル試験を20回繰り返し行った。次
に、試験終了後の試料を初期と同様にシミュレータを用
い太陽電池特性を測定したところ、初期変換効率に対し
て平均で2%の低下であり有意な劣化は生じなかった。
を被覆した金属ワイヤを集電電極として用いた太陽電池
は、良好な特性であり、信頼性も高いことがわかる。
が、カーボン入りフッ素系樹脂ペースト銅ワイヤからな
る場合について説明する。
100を、以下に示す以外は図1(a)に示した実施例
1と同様に作製した。
の被覆層102使用したペーストに米国特許第4,26
0,429号に記載されているようなフッ素系樹脂ペー
スト(Electrodag+502SSアチソンコロイド社製)
を用いた。
被覆層102の厚さは、平均20μmで、100m長で
のコート結果での膜厚の振れは、±1.0μm以上であ
った。
である120℃、5分で硬化させ、その体積抵抗率を測
定したところ、0.1Ωcm2であり、十分低抵抗であ
ることを確認した。この導電性接着材の空孔容積は0.
05ml/gであった。次に、実施例1と同様にして、
本ワイヤを集電電極する太陽電池モジュールを50個作
成した。
の方法で測定した。まず、シャント抵抗を調べたところ
4kΩcm2〜300kΩcm2でありばらつきが大きか
った。次に、変換効率を求めたところ9.0%±1.2
%でありばらつきが大きかった。I−Vカーブが正常な
もののシリーズ抵抗を求めたところ平均で、32.1Ω
cm2であり、良好な値であった。またI−Vカーブが
正常なものの初期歩留まり率は低く64%であった。
様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で11%の低下であり有意な劣化
が生じていた。また、シリーズ抵抗を測定したところ、
平均で62Ωcm2まで上昇していた。これにより、変
換効率の劣化原因はシリーズ抵抗の上昇によるものであ
ることが分かった。
明導電膜表面と被覆層の接着界面のペーストのコンタク
ト部の界面抵抗が上昇したためと推測される。
イヤを用いた太陽電池は初期の歩留まりが良く信頼性が
良好であることが分かった。
と、ITOとブチラールとからなる場合について説明す
る。
電極用被覆ワイヤ100において、導電性接着材を形成
するためのペーストの主剤となる高分子樹脂をブチラー
ル樹脂(エスレックBL−S積水化学工業株式会社
製)、導電性粒子として平均の一次粒径が0.05μm
のITO粉末(HYX住友金属鉱山株式会社製)とした
以外は実施例1と同様に作製した。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、1.2Ωcm2であり十分低抵抗であ
ることを確認した。さらに分光機を用いて光の透過率を
測定したところ400nmにおいて90%の光の透過率
があり良好なものであった。この導電性接着材の空孔容
積は0.02ml/gであり、ゲル分率が20%であっ
た。また高分子樹脂の数平均分子量が5万であった。
電電極用被覆ワイヤ100を形成した。該集電電極10
0用被覆ワイヤを用い実施例1と同様の方法で太陽電池
モジュールを50個作成した。 得られた試料の初期特
性を実施例1と同様の方法で測定したところ変換効率が
9.7%±0.05%、シャント抵抗が250kΩcm
2〜300kΩcm2、シリーズ抵抗が平均で32.5Ω
cm2で良好な特性が得られた。また、I−Vカーブが
正常なものの歩留まり率は94%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2%の低下であり有意なし劣化は
生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、ウレタンとSnO 2 とからなる場合について説明す
る。
電極用被覆ワイヤ100において、金属ワイヤ101を
銀、被覆層102を形成する導電性粒子として平均の一
次粒径が0.2μmのSnO2粉末(三井金属鉱業株式
会社製)とした以外は実施例1と同様に作製した。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、1.0Ωcmであり十分低抵抗である
ことを確認した。実施例1と同様にしてワイヤコート
し、集電電極用被覆ワイヤ100を形成した。該集電電
極用被覆ワイヤ100を用い実施例1と同様の方法で太
陽電池モジュールを50個作製した。
の方法で測定したところ変換効率が9.1%±0.06
%、シャント抵抗が250kΩcm2〜400kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.9Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は92%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2.5%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、ポリアミドとIn2O3とからなる場合について説明
する。
電極用被覆ワイヤ100において、金属ワイヤ101を
金、被覆層102を形成するペーストの主剤となる高分
子樹脂としてポリアミド樹脂(三菱化成社製)導電性粒
子として平均の一次粒径が0.05μmのIn2O3(住
友金属鉱業株式会社製)にした以外は実施例1と同様に
作製した。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、1.5Ωcm2であり十分低抵抗であ
ることを確認した。この導電性接着材の空孔容積は0.
04ml/gであり、高分子樹脂の数平均分子量が1万
であった。
電電極用被覆ワイヤ100を形成した。該集電電極用被
覆ワイヤ100を用い実施例1と同様の方法で太陽電池
モジュールを50個作成した。
の方法で測定したところ変換効率が9.2%±0.01
%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.3Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は90%で良好であった。
様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化は
生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、銀クラッドと、ウレタンとカーボンブラックとから
なる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ100において、導電性接着材との密
着性、電気的導通向上のため厚み2μmの銀クラッドの
金属層103を銅線101の上に形成した直径100μ
mの銀クラッド銅ワイヤを用いた以外は実施例1と同様
に作製した。
めのペーストを以下の様に作製した。まず、溶剤として
酢酸エチル2.5g、IPA2.5gの混合溶剤を分散
用シェーク瓶に入れた。次に主剤となるウレタン樹脂を
22.0gを前記シェーク瓶に加えボールミルで充分撹
拌した。次に硬化剤としてブロックイソイシアネートを
1.1g、分散用ガラスビーズ10gを前記溶液に加え
た。次に、導電性粒子として平均の一次粒径が0.05
μmのカーボンブラック2.5gを前記溶液に加えた。
機製作所社製ペイント・シェーカにて10時間分散し
た。その後、出来上がったペーストから分散用ガラスビ
ースを取り除いた。該ペーストの平均粒子径を測定した
ところ約1μmであった。ペイントシェーカーの変わり
にビーズミルを用いても同様の結果であった。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、0.6Ωcm2であり十分低抵抗であ
ることを確認した。
ヤコート機400を用い被覆層403を形成した。実施
例1と同様にして被覆層102を銀クラッド層103上
にコートし、集電電極用被覆ワイヤ100を形成した。
該集電電極用被覆ワイヤ100を用い実施例1と同様の
方法で太陽電池モジュールを50個作成した。
の方法で測定したところ変換効率が9.7%±0.03
%、シャント抵抗が300kΩcm2〜400kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で31.5Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は90%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で1.5%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、銀クラッドと、フェノキシとZnOとからなる場合
について説明する。
電極用被覆ワイヤ100において、被覆層102を形成
するペーストの主剤となる高分子樹脂としてフェノキシ
樹脂(PKHH 巴工業株式会社製)、導電性粒子とし
て平均の一次粒径が0.1μmのZnO粉末(三井金属
鉱業株式会社製)、とした以外は実施例5と同様に作製
した。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、1.3Ωcm2であり十分低抵抗であ
ることを確認した。この導電性接着材の空孔容積は0.
01ml/gであり、ゲル分率が100%であった。高
分子樹脂の数平均分子量が2.5万であった。
電極用被覆ワイヤ100を形成した。該集電電極用被覆
ワイヤ100を用い実施例1と同様の方法で太陽電池モ
ジュールを50個作成した。
の方法で測定したところ変換効率が9.6%±0.02
%、シャント抵抗が310kΩcm2〜390kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.4Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は94%で良好であった。
様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化は
生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、銀クラッドと、フェノキシとZnO+Alとからな
る場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ100において、導電性粒子の接触抵
抗を低抵抗化するためにZnOにドーパントとしてアル
ミニウムを添加したZnO粉末を用いた以外は実施例5
と同様に作製した。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、0.9Ωcm2であり十分低抵抗であ
ることを確認した。実施例5と同様にしてワイヤコート
し集電電極用被覆ワイヤ100を形成した。該集電電極
用被覆ワイヤ100を用い実施例1と同様の方法で太陽
電池モジュールを50個作成した。
の方法で測定したところ変換効率が9.6%±0.08
%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で31.5Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は92%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化は生
じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、銀メッキと、ウレタンとTiO2とからなる場合に
ついて説明する。
電極用被覆ワイヤ100において、銅線101上の金属
層103を実施例5の銀クラッドから銀メッキに替え、
導電性粒子して平均の一次粒径が0.2μmのTiO2
(石原産業株式会社製)に替えた以外は実施例5と同様
に作製した。
である160℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、1.1Ωcm2であり十分低抵抗であ
ることを確認した。実施例5と同様にしてワイヤコート
し、集電電極用被覆ワイヤ100を形成した。
例1と同様の方法で太陽電池モジュールを50個作成し
た。
の方法で測定したところ変換効率が9.5%±0.01
%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で31.6Ωcm2 で良好な
特性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩
留まり率は92%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2.3%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、スズメッキと、ポリアミドと、グラファイトとから
なる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ100において、銅線101上の金属
層103を実施例5の銀クラッドからスズメッキに替
え、ペーストの主剤となる高分子樹脂としてポリアミド
イミド樹脂(三菱化成株式会社製)、導電性粒子をグラ
ファイト(東海カーボン株式会社製)に替えた以外は実
施例5と同様に作製した。
である180℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、2.0Ωcm2であり十分低抵抗であ
ることを確認した。この導電性接着材の空孔容積は0.
01ml/gであり、高分子樹脂の数平均分子量が2.
5万であった。
電電極用被覆ワイヤ100を形成した。該集電電極用被
覆ワイヤ100を用い、実施例1と同様の方法で太陽電
池モジュールを50個作成した。
の方法で測定したところ変換効率が9.3%±0.09
%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で33.6Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は94%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2.9%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、銀ペーストと、ウレタンとカーボンブラックとから
なる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ100において、銅線101上の金属
層103を実施例5の銀クラッドから銀ペースト(デュ
ポン社製5007)に替えた以外は実施例5と同様に作
製した。
ては、エポキシ樹脂に銀の粒子を分散したペーストを用
いた。
である150℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を
測定したところ、5×10-5Ωcm2であり十分低抵抗
であることを確認した。
0を用い銅ワイヤへのコートを実施例1と同様の方法で
内殻層から順に行った前記銀ペーストによる金属層30
2は、以下に示す方法で構成した。
2を巻いたリールを設置し、巻き取りリール310に向
け前記銅ワイヤを張った。次に、コーターに前記銀ペー
スト5007を注入した。
で硬化時間が2sec、乾燥炉の温度は200℃とし、
使用したエナメルコート用ダイスの口径は160μmと
した。この条件は、ワイヤに塗布したペースト5007
が硬化する条件を実験で見いだしたものである。形成さ
れた金属層103の厚さは、平均5μmで、100m長
さでのコート結果での膜厚の振れは、±0.2μm以内
に納まっていた。
スト被覆層102を実施例5と同様の方法で構成した。
100mでのコート結果での膜厚の振れは、±1μm以
内に納まっていた。
イヤを集電電極用被覆ワイヤとする図8(a)に示すよ
うな太陽電池モジュールを50個作成した。
の方法で測定した。まず、シャント抵抗を調べたところ
150kΩcm2〜200kΩcm2であり良好な値を示
した。次に、太陽電池特性を測定し、変換効率を求めた
ところ9.2%±0.05%、シリーズ抵抗が平均で3
1.8Ωcm2であり良好な特性でありばらつきも少な
かった。また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり率
は88%で良好であった。
様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で2.1%の低下であり有意な劣
化は生じなかった。
ている事から、銀のマイグレーションの可能性を確認す
る為に、温度+85℃、相対湿度85%の環境下で太陽
電池モジュールに低照度の光を照射する試験を100時
間行った。
にシャント抵抗を調べたところ130kΩcm2〜16
0kΩcm2であり有意な劣化は生じなかった。
を被覆した金属ワイヤを集電電極用被覆ワイヤとして用
いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼性も高いこと
がわかる。
型(層構成:Siのみ)として、半導体層の形成にRF
プラズマCVD法を用いた以外は実施例1と同様の方法
で、以下の手順でアモルファス太陽電池400を作製し
た。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れAg
を400nm堆積し、その後ZnOを400nmを堆積
して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不図
示のRFプラズマCVD成膜装置に入れ、n層403、
i層404、p層405の順でシリコン層の順でシリコ
ン半導体層を形成した。その後、不図示の抵抗加熱の蒸
着装置に入れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透明導
電膜506としてIn2O3を成膜した。次に、前記集電
電極用被覆ワイヤ100を用いて実施例1と同様の方法
で太陽電池モジュールを50個作成した。このとき、前
記被覆ワイヤ100を5.5mm間隔とした。
の方法で測定したところ変換効率が5.2%±0.05
%シャント抵抗が150kΩcm2〜320kΩcm2、
シリーズ抵抗が平均で9.5Ωcm2で良好な特性が得
られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり率
は90%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2.4%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
(層構成:Si/Si)として、半導体層の形成にRF
プラズマCVD法を用いた以外は実施例1と同様の方法
で、以下の手順でアモルファス太陽電池400を作製し
た。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れAg
を400nm堆積し、その後ZnOを400nmを堆積
して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不図
示のRFプラズマCVD成膜装置に入れ、n層403、
i層404、p層405の順でシリコン層のボトム層を
形成した。次に同様にしてn層413、i層414、p
層415の順でシリコン層のトップ層を順次形成し、シ
リコン半導体層を堆積した。その後、不図示の抵抗加熱
の蒸着装置に入れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透
明導電膜406としてIn2O3を成膜した。
用い、実施例1と同様の方法で太陽電池モジュールを5
0個作成した。このとき、前記被覆ワイヤ100を5.
5mm間隔とした。
の方法で測定したところ変換効率が7.5%±0.01
%シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩcm2、
シリーズ抵抗が平均で23.1Ωcm2で良好な特性が
得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり
率は94%で良好であった。
様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で1.9%の低下であり有意な劣
化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
成:Si/SiGe)として、半導体層の形成にRFプ
ラズマCVD法を用い、ボトム層のi層にシリコンゲル
マニウム半導体層を用いた以外は実施例1と同様の方法
で、以下の手順でアモルファス太陽電池400を作製し
た。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れAg
を400nm堆積し、その後ZnOを400nmを堆積
して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不図
示のマクロ波プラズマCVD成膜装置に入れ、n層40
3にシリコン層、i層404にシリコンゲルマニウム
層、p層405にシリコン層の順でボトム層を形成し
た。次に同様にしてn層413、i層414、p層41
5の順でシリコン層のトップ層を順次形成し、半導体層
を堆積した。その後、不図示の抵抗加熱の蒸着装置に入
れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透明導電膜406
としてIn2O3を成膜した。
用い実施例1と同様の方法で太陽電池モジュールを50
個作成した。このとき、前記被覆ワイヤ100を5.5
mm間隔とした。
の方法で測定したところ変換効率が7.7%±0.02
%シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩcm2、
シリーズ抵抗が平均で20Ωcm2で良好な特性が得ら
れた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり率は
92%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化は生
じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
型(層構成:SiC/Si/SiGe)として、半導体
層の形成にRFプラズマCVD法を用い、ボトム層のi
層にシリコンゲルマニウム半導体層を用いた以外は実施
例1と同様の方法で、以下の手順でアモルファス太陽電
池400を作製した。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れAg
を400nm堆積し、その後ZnOを400nmを堆積
して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不図
示のマイクロ波プラズマCVD成膜装置に入れ、n層4
03にシリコン層、i層404にシリコンゲルマニウム
層、p層405にシリコン層の順でボトム層を形成し
た。次に、同様にしてn層413、i層414、p層4
15の順でシリコン層のミドル層を形成し、更に、n層
423にシリコン層、i層404にシリコン−C層、p
層405にシリコン層の順でトップ層を形成し、半導体
層を堆積した。その後、不図示の抵抗加熱の蒸着装置に
入れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透明導電膜40
6としてIn2O3を成膜した。
用い実施例1と同様の方法で太陽電池モジュールを50
個作成した。
の方法で測定したところ変換効率が9.5%±0.06
%シャント抵抗が260kΩcm2〜330kΩcm2、
シリーズ抵抗が平均で33.7Ωcm2で良好な特性が
得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり
率は92%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2.4%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
(単結晶Si)とした以外は実施例1と同様の方法で、
以下の手順で単結晶太陽電池500を作製した。
制御したシリコンの単結晶を作製し、該単結晶をスライ
スして約300μmの厚みのシリコンウエハ500を作
製した。更に、前記ウエハにP2O5の塗布拡散法により
n+型層501を形成した。続いて、p層500側を裏
面側とし、銀ペーストを不図示のスクリーン印刷機で印
刷し、加熱焼成し下部電極502を形成した。次に、実
施例1で用いた前記集電電極用被覆ワイヤ100を同様
の方法で光照射面側のn+型層501上に形成した。そ
の後、スパッタリング法により反射防止膜としてSiO
2膜504を形成した。次に実施例1と同様の方法によ
り図8−b)に示すような太陽電池モジュールを50個
作製した。このとき、前記被覆ワイヤ100を8.5m
m間隔とした。
の方法で測定したところ変換効率が15.8%±0.0
9%シャント抵抗が500kΩcm2〜760kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で2.8Ωcm2で良好な特性
が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留ま
り率は98%で良好であった。
次に試験終了後の試料を初期と同様にシミュレータを用
い太陽電池特性を測定したところ、初期変換効率に対し
て平均で1.9%の低下であり有意な劣化は生じなかっ
た。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
(多結晶Si)とした以外は実施例1と同様の方法で、
以下の手順で多結晶太陽電池600を作製した。
を作製し、該多結晶をスライスした後、得られた多結晶
のシリコンウエハ600にP2O5の塗布拡散法によりn
+型層601を形成した。続いて、p層600側を裏面
側とし、銀ペーストを不図示のスクリーン印刷機で印刷
し、加熱焼成し下部電極602を形成した。次に実施例
1で用いた前記集電電極用被覆ワイヤ100を同様の方
法で光照射面側のn+型層601上に形成した。その
後、スパッタリング法により反射防止膜としてSiO2
膜604を形成した。次に実施例1と同様の方法により
図8(b)に示すような太陽電池モジュールを50個作
製した。このとき、前記被覆ワイヤ100を8mm間隔
とした。
の方法で測定したところ変換効率が13.8%±0.0
1%シャント抵抗が450kΩcm2〜650kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で2.6Ωcm2で良好な特性
が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留ま
り率は94%で良好であった。
様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化は
生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
電池(薄膜多結晶Si)とした以外は実施例1と同様の
方法で、以下の手順で薄膜多結晶太陽電池700を作製
した。
701を不図示のマイクロ波プラズマCVDの成膜装置
に入れ、n層702を形成した。次にこの基板を不図示
の加熱炉に入れn層702を多結晶化した。続いてこの
基板を不図示のマイクロ波プラズマCVD成膜装置に入
れp層703を形成した。更に、不図示のスパッタリン
グ装置に入れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透明導
電膜704としてITOを成膜した。次に実施例1と同
様の方法により前記透明導電膜704上に集電電極70
5を形成し図8(b)に示すような太陽電池モジュール
を50個作製した。このとき、前記被覆ワイヤ100を
7.5mm間隔とした。
の方法で測定したところ変換効率が12.5%±0.0
1%シャント抵抗が400kΩcm2〜510kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で20Ωcm2で良好な特性が
得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり
率は92%で良好であった。
様に行った。次に試験終了後の試料を初期と同様にシミ
ュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期変
換効率に対して平均で2.1%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
0Ωcmの範囲で変化させた点が実施例1と異なる。導
電性接着材の比抵抗を変える方法としては、導電性塗料
中の高分子樹脂と導電性粒子の混合比(重量部)を、
5:95、10:90、20:80、80:20、9
0:10、95:5とすることによって行った。他の点
は、実施例1と同様とした。
例1と全く同様な手順で図4(c)に示すトリプルセル
をそれぞれ10枚ずつ作製し、同様な評価を行った。結
果を表1に示す。
を0.01Ωcm以上とすることにより、初期のシャン
トは抑えられ、変換効率がより安定して得られた。ま
た、100Ωcm以下とすることにより、シリーズ抵抗
は小さくなりより一層高い変換効率が得られることが分
かる。また、信頼性試験後のシリーズ抵抗の増加及び変
換効率の低下も少なく、信頼性試験の高いことが分か
る。
0℃の範囲で変化させた点が実施例1と異なる。集電電
極用被覆ワイヤ100の加熱圧着温度としては、10
0、160、200、250の4種類を検討した。尚、
使用したブロックイソシアネートは、実施例1と同様で
あり、その解離温度は150℃のものである。他の点
は、実施例1と同様とした。
実施例1と全く同様な手順で図4に示すトリプルセルを
それぞれ10枚作製し、同様な評価を行った。結果を表
2に示す。
度以上にすることにより、シリーズ抵抗は小さくなり、
より一層高い変換効率が得られることが分かる。また、
信頼性試験後のシリーズ抵抗の増加及び変換効率の低下
も少なく、信頼性の高いことが分かる。
0秒の範囲で変化させた点が実施例1と異なる。集電電
極用被覆ワイヤ100の加熱圧着時間としては、10
秒、20秒、45秒、60秒の4種類を検討した。この
条件での導電性接着材の硬化率を溶剤に浸漬前後の溶出
した量から測定したところ、ゲル分率はそれぞれ5%、
15%、80%、100%であった。尚、用いたブロッ
クイソシアネートは実施例1と同様で解離温度は150
℃であった。他の点は、実施例1と同様とした。
実施例1と全く同様な手順で図4に示すトリプルセルを
それぞれ10枚作製し、同様な評価を行った。結果を表
3に示す。
のゲル分率が20%以上にすることにより、シリーズ抵
抗は小さくなり、より一層高い変換効率が得られること
が分かる。また、信頼性試験後のシリーズ抵抗の増加及
び変換効率の低下も少なく、信頼性の高いことが分か
る。
極用被覆ワイヤ100の被覆層に用いた主剤のウレタン
樹脂と硬化剤として用いたブロックイソシアネートの重
量比を、100:1、50:1、20:1、10:1と
変化させた。このとき導電性接着材のゲル分率は、5
%、15%、85%、100%であった。尚、用いたブ
ロックイソシアネートは実施例1と同様で解離温度は1
50℃であった。他の点は、実施例1と同様とした。
作製し、実施例1と同様な評価を行った。その結果を表
4に示す。
覆層樹脂のゲル分率が20%以上にすることにより、シ
リーズ抵抗は小さくなり、より一層高い変換効率が得ら
れることが分かる。また、信頼性試験後のシリーズ抵抗
の増加及び変換効率の低下も少なく、信頼性の高いこと
が分かる。
と、カーボンブラックとウレタンと、カーボンブラック
とウレタンとからなる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ200を、以下の手順で形成した。金
属ワイヤ201としては、直径100μmの銅ワイヤを
用いた。
めのカーボンペーストNo.1を以下の様に作製した。
まず、溶剤としてBCA2.5g、キシレン2.5gの
混合溶剤を分散用シェーク瓶に入れた。次に、主剤とな
るウレタン樹脂を22.0gを前記シェーク瓶に加えボ
ールミルで十分攪拌した。次に、硬化剤としてブロック
イソシアネートを1.1g、分散用ガラスビーズ10g
を前記溶液に加えた。次に、導電性粒子として平均の一
次粒径が0.05μmのカーボンブラック2.5gを前
記溶液に加えた。
機製作所社製ペイント・シェーカにて10時間分散し
た。その後、出来上がったペーストから分散用ガラスビ
ーズを取り除いた。該ペーストの平均粒子径を測定した
ところ約1μmであった。ペイントシェーカの変わりに
ビーズミルを用いても同様の結果であった。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.0Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。この導電性接着材の空孔容積
は0.01ml/gであり、ゲル分率が100%であっ
た。また高分子樹脂の数平均分子量が1000であっ
た。
るためのカーボンペーストNo.2を以下の様に作製し
た。まず、溶剤としてシクロヘキサノン2.5gを分散
用シェーク瓶に入れた。
g、フェノキシ樹脂2.0gを前記シェーク瓶に加えボ
ールミルで十分攪拌した。次に、硬化剤としてブロック
イソシアネートを1.1g、分散用ガラスビーズ10g
を前記溶液に加えた。次に、導電性粒子として平均の一
次粒径が0.05μmのカーボンブラック2.5gを前
記溶液に加えた。これをペーストNo.1と同様の方法
で分散し作製した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、0.5Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
203の順で順次図3に示す縦型のワイヤコート機30
0を用い形成した。
307を巻いたリールを設置し、巻き取りリール310
に向け前記金属ワイヤを張った。次に、コーターに前記
ペーストNo.1を注入した。
sec、乾燥炉306の温度は350℃とし、5回コー
トした。使用したエナメルコート用ダイスの径は110
μmから200μmまでを順次用いた。この条件で、ペ
ーストNo.1は充分に硬化し、ペーストの密着性及び
耐溶剤性は良好であった。第1層202の厚さは、平均
5μmで、100m長でのコート結果での膜厚のばらつ
きは、±1μmに納まっていた。
03を、以下に示す以外は上述した方法と同様に作製し
た。
取られているリール310を送り出しリール301に設
置し、新たな巻き取りリール310に向け前記ワイヤを
張った。次に、コーターに前記カーボンペーストNo.
2を注入した。
が2sec、乾燥炉306の温度は120℃とし、5回
に分けてコートした。使用したエナメルコート用ダイス
の孔径は150μmから200μmとした。前記ワイヤ
に塗布されたペーストNo.2は、溶剤が揮発し未硬化
状態で存在する。第2層203の厚さは、平均20μm
で、100m長でのコート結果での膜厚のばらつきは、
±0.5μmに納まっていた。
す層構成でグリッド長が30cmのグリッド電極を有す
るpin接合型トリプル構成のアモルファス太陽電池4
00を作製した。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れ、A
gを400nm堆積し、その後ZnOを400nmを堆
積して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不
図示のマイクロ波プラズマCVD成膜装置に入れ、n層
403にシリコン層、i層404にシリコンゲルマニウ
ム層、p層405にシリコン層の順でボトム層を形成し
た。次に、同様にしてn層413にシリコン層、i層4
14にシリコンゲルマニウム層、p層415にシリコン
層の順でミドル層を順次形成し、更にn層423、i層
424にし、p層の順でシリコン層のトップ層を形成
し、半導体層を堆積した。その後、不図示の抵抗加熱の
蒸着装置に入れ、反射防止効果を兼ねた機能を有する透
明導電膜506としてITOを成膜した。次に、太陽電
池基板401を大きさは30×30cmでセルの有効面
積が900cm2となるように塩化第2鉄を主成分とす
るエッチングペーストと市販の印刷機を用い、不要部分
の透明導電膜を除去した。
02、マイナス電極803を設け、集電電極804とし
て前記被覆ワイヤ100を7mm間隔で有効面積内に納
まるように両プラス電極802間に張り、紫外線硬化接
着剤を用いて固定した。
401のセル面に接着する為に、不図示の加熱装置を用
いて加熱圧着し図8(a)に示す30×30角のトリプ
ルセルを作製した。加熱条件は、200℃、45秒、圧
力は1kg/cm2で行った。
を以下のように行った。太陽電池基板801の上下にク
レーンガラス及びEVAを積層し、さらにその上下にフ
ッ素樹脂フィルムETFEを積層し、真空ラミネータに
投入して150℃で60min保持しラミネーションを
行った。同様の方法で、太陽電池モジュールを50個作
成した。
て測定した。まず、試料の暗状態での電圧−電流特性を
測定し、原点付近の傾きからシャント抵抗を調べたとこ
ろ200kΩcm2〜500kΩcm2であり良好な値を
示した。次に、AM1.5グローバルの太陽光スペクト
ルで100mW/cm2の光量の疑似太陽光源(以下シ
ミュレータと呼ぶ)を用いて太陽電池特性を測定し、変
換効率を求めたところ9.6%±0.02%であり良好
な特性でありばらつきも少なかった。また、シリーズ抵
抗を求めたところ平均で、32.0Ωcm2であり良好
な値であった。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は98%良好であった。
様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化は
生じなかった。
認するために、信頼性試験を以下のように行った。まず
試料を温湿度が、制御できる光が透光可能な窓を持つ恒
温恒湿器に投入し+85℃/相対湿度85%の状態に保
持した。温湿度が十分平衡になったところで、窓の外部
に設置したシミュレータによりAM1.5グローバルの
太陽光スペクトルで100mW/cm2の光量を照射し
た。
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化は
生じなかった。
を被覆した金属ワイヤを集電電極として用いた太陽電池
は、良好な特性であり、信頼性も高いことがわかる。
が、銅ワイヤと、Agとポリエステルとからなる場合に
ついて説明する。
スト(デュポン社製5007)を被覆し、集電電極用被
覆ワイヤ100を形成した。この導電性接着材の空孔容
積は0.1ml/gであった。該集電電極用被覆ワイヤ
100を用い実施例1と同様の方法で太陽電池モジュー
ルを50個作製した。
変換効率が7.5%±1.8%とばらつきが大きかっ
た。またシャント抵抗も平均で1.8kΩcm2でシャ
ントしているものが多かった。シリーズ抵抗は平均で3
2.0Ωcm2であった。また、I−Vカーブが正常な
ものの歩留まり率は54%低かった。
な試料を選び出し、耐湿度リーク信頼性試験を実施例2
2と同様の方法で行った。次に、試験終了後の試料を初
期と同様にシミュレータを用い太陽電池特性を測定した
ところ、初期変換効率で20%の低下、シャント抵抗は
初期の半分以下となっていた。
と、カーボンブラックとエポキシと、カーボンブラック
とブチラールからなる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ200において、導電性接着材を形成
するためのペーストNo.1の主剤となる高分子樹脂を
エポキシ樹脂(エピコート油化シェルエポキシ株式会社
製)、ペーストNo.2の主剤となる高分子樹脂をブチ
ラール樹脂(エスレックBL−S積水化学工業株式会社
製)とした以外は実施例22と同様に作製した。
1ml/gであり、ゲル分率が100%であった。また
高分子樹脂の数平均分子量が1000であった。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
低率を測定したところ、2.1Ωcmであり十分低抵抗
であることを確認した。
集電電極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電極用
被覆ワイヤ200を用い実施例22と同様の方法で太陽
電池モジュールを50個作成した。
の方法で測定したところ変換効率が9.4%±0.06
%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩcm2
82、シリーズ抵抗が平均で32.2Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は96%良好であった。これらの試料の信頼性試
験を実施例22と同様に行った。次に、試験終了後の試
料を初期と同様にシミュレータを用い太陽電池特性を測
定したところ、初期変換効率に対して平均で2.6%の
低下であり、有意な劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、カーボンブラックとウレタンと、ITOとウレタン
とからなる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ200において、金属ワイヤ201を
銀ワイヤに、導電性接着材を形成するためのペーストN
o.2の導電性粒子を平均の一次粒径が0.05μmの
ITO粉末(HYX住友金属鉱山株式会社製)とした以
外は実施例22と同様に作製した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.0Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
集電電極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電極用
被覆ワイヤ200を用い実施例22と同様の方法で太陽
電池モジュールを50個作成した。
様の方法で測定したところ変換効率が9.5%±0.0
7%、シャント抵抗が300kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.5Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は94%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2.3%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、グラファイトとウレタンと、SnO2とウレタンと
からなる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ200において、金属ワイヤ201を
金ワイヤに、導電性接着材を形成するためのペーストN
o.1の導電性粒子を平均の一次粒径が0.05μmの
グラファイト粉末(東海カーボン株式会社製)、ペース
トNo.2の導電性粒子を平均の一次粒径が0.2μm
のSnO2粉末(三井金属株式会社製)とした以外は実
施例22と同様に作製した。
硬化条件である180℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.8Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.4Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
電電極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電極用被
覆ワイヤ200を用い実施例22と同様の方法で太陽電
池モジュールを50個作成した。
様の方法で測定したところ変換効率が9.3%±0.0
1%、シャント抵抗が230kΩcm2〜420kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で33.0Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は96%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2.1%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
銀クラッドと、カーボンブラックとウレタンと、カーボ
ンブラックとウレタンとからなる場合について説明す
る。
電極用被覆ワイヤ3200において、導電性接着材との
密着性、電気的導通向上のため厚み2μmの銀クラッド
の金属層203を銅線201の上に形成した直径100
μmの銀クラッド銅ワイヤを用いた以外は実施例22と
同様にして作製した。また、実施例1と同様にしてワイ
ヤコートし、集電電極用被覆ワイヤ200を形成した。
さらに、該集電電極用被覆ワイヤ200を用い実施例2
2と同様の方法で太陽電池モジュールを50個作製し
た。
様の方法で測定したところ変換効率が9.7%±0.0
2%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で31.8Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は98%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、銀クラッドと、ZnOとウレタンと、In2O3とウ
レタンとからなる場合について説明する。
電極用被覆ワイヤ200において、銀クラッド銅ワイヤ
を用い、導電性接着材を形成するためのペーストNo.
1の導電性粒子を平均の一次粒径が0.1μmのZnO
粉末(三井金属鉱業株式会社製)、ペーストNo.2の
導電性粒子を平均の一次粒径が0.05μmのIn2O3
粉末(住友金属鉱山株式会社製)とした以外は実施例2
2と同様に作製した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.4Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、0.7Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
集電電極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電極用
被覆ワイヤ200を用い実施例22と同様の方法で太陽
電池モジュールを50個作成した。
様の方法で測定したところ変換効率が9.6%±0.0
3%、シャント抵抗が320kΩcm2〜390kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.1Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は96%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2%の低下であり有意な劣化
は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
銀メッキと、カーボンブラックとフェノールと、カーボ
ンブラックとポリアミドからなる場合について説明す
る。
電極用被覆ワイヤ200において、金属層203を銀ク
ラッドを銀メッキとした直径100μmの銀メッキワイ
ヤを用い、導電性接着材を形成するためのペーストN
o.1の高分子樹脂の主剤をフェノール樹脂(大日本イ
ンキ化学工業株式会社製)、ペーストNo.2の高分子
樹脂の主剤をポリアミド樹脂(三菱化成株式会社製)と
した以外は実施例22と同様にして作製した。このペー
ストNo.1の空孔容積は0.01ml/gであり、ゲ
ル分率が100%であった。また高分子樹脂の数平均分
子量が1000であった。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.5Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、0.8Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
電電極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電極用被
覆ワイヤ200を用い実施例22と同様の方法で太陽電
池モジュールを50個作成した。
様の方法で測定したところ変換効率が9.3%±0.0
1%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.7Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は96%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2.8%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、スズメッキと、ZnO+Alと、カーボンブラック
とウレタンと、TiO2とウレタンとからなる場合につ
いて説明する。
電極用被覆ワイヤ200において、金属層203を銀ク
ラッドをスズメッキとした直径100μmのスズメッキ
銅ワイヤを用い、導電性接着材を形成するためのペース
トNo.1の導電性粒子を接触抵抗を低抵抗化するため
にZnOにドーパントとしてアルミニウムを添加した一
次粒径が0.05μmのZnO粉末、ペーストNo.2
の導電性粒子を平均の一次粒径が0.05μmのTiO
2粉末とした以外は実施例22と同様にして作製した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、0.9Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.5Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電極用被覆ワ
イヤ200を用い実施例22と同様の方法で太陽電池モ
ジュールを50個作成した。
様の方法で測定したところ変換効率が9.4%±0.0
1%、シャント抵抗が360kΩcm2〜430kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.6Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は94%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2.1%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
と、金メッキと、カーボンブラックとフェノキシと、カ
ーボンブラックとポリアミドイミドとからなる場合につ
いて説明する。
電極用被覆ワイヤ200において、金属層203を銀ク
ラッドを金メッキとした直径100μmの金メッキ銅ワ
イヤを用い、導電性接着材を形成するためのペーストN
o.1の高分子樹脂の主剤をフェノキシ樹脂(巴工業株
式会社製)、ペーストNo.2の高分子樹脂の主剤ポリ
アミドイミド樹脂(三菱化成株式会社製)とした以外
は,実施例22と同様にして作製した。
硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、1.0Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
硬化条件である180℃、30分で硬化させ、その体積
抵抗率を測定したところ、2.0Ωcmであり十分低抵
抗であることを確認した。
電電極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電極用被
覆ワイヤ200を用い実施例22と同様の方法で太陽電
池モジュールを50個作製した。
様の方法で測定したところ変換効率が9.5%±0.0
5%、シャント抵抗が240kΩcm2〜350kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で34.1Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は96%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で3.0%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
銀ペーストと、ウレタンとカーボンブラックと、ウレタ
ンとカーボンブラックとからなる場合について説明す
る。
電極用被覆ワイヤ200において、銅線201上の金属
層203を実施例26の銀クラッドから銀ペースト(デ
ュポン社製5007)に替えた以外は実施例26とほぼ
同様にして形成した。前記金属層205に使用したペー
ストはエポキシ樹脂に銀の粒子を分散したペーストを用
いた。金属層203のコートを実施例10と同様に行っ
た。次に第1層202、第2層203の順で順次コート
し、集電電極用被覆ワイヤ200を形成した。該集電電
極用被覆ワイヤ200を用い実施例26と同様の方法で
太陽電池モジュールを50作製した。
様の方法で測定したところ変換効率が9.5%±0.0
8%、シャント抵抗が190kΩcm2〜300kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で32.0Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は94%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2.4%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れAg
を400nm堆積し、その後ZnOを400nmを堆積
して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不図
示のRFプラズマCVD成膜装置に入れ、n層403、
i層404、p層405の順でシリコン層の順でシリコ
ン半導体層を形成した。その後、不図示のスパッタ装置
に入れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透明導電膜4
06としてIn2O3を成膜した。次に、前記集電電極用
被覆ワイヤ200を用い実施例26と同様の方法で太陽
電池モジュールを50個作成した。このとき、前記被覆
ワイヤ200を5.5mm間隔とした。得られた試料の
初期特性を実施例22と同様の方法で測定したところ変
換効率が5.2%±0.05%、シャント抵抗が150
kΩcm2〜320kΩcm2、シリーズ抵抗が平均で
9.5Ωcm2で良好な特性が得られた。また、I−V
カーブが正常なものの歩留まり率は92%で良好であっ
た。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2.4%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
(層構成:Si/Si)として、半導体層の形成にRF
プラズマCVD法を用いた以外は実施例26と同様の方
法で、以下の手順でアモルファス太陽電池400を作製
した。
BA基板401を不図示のDCスパッタ装置に入れAg
を400nm堆積し、その後ZnOを400nmを堆積
して下部電極402を形成した。基板を取り出し、不図
示のRFプラズマCVD成膜装置に入れ、n層403、
i層404、p層405の順でシリコン層のボトム層を
形成した。次に同様にしてn層413、i層414、p
層415の順でシリコン層のトップ層を順次形成し、シ
リコン半導体層を堆積した。その後、不図示の抵抗加熱
の蒸着装置に入れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透
明導電膜406としてIn2O3を成膜した。
用い実施例1と同様の方法で太陽電池モジュールを50
個作成した。このとき、前記被覆ワイヤ200を6mm
間隔とした。
様の方法で測定したところ変換効率が7.5%±0.0
8%、シャント抵抗が400kΩcm2〜500kΩc
m2、シリーズ抵抗が平均で23.1Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は96%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で1.9%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
(単結晶Si)とした以外は実施例26と同様の方法
で、以下の手順で単結晶太陽電池500を作製した。
制御したシリコンの単結晶を作製し、該単結晶をスライ
スして約300μmの厚みのシリコンウエハ500を作
製した。更に、前記ウエハにP2O5の塗布拡散法により
n+型層501を形成した。続いて、p層500側を裏
面側とし、銀ペーストを不図示のスクリーン印刷機で印
刷し、加熱焼成し下部電極502を形成した。次に、実
施例1で用いた前記集電電極用被覆ワイヤ200を同様
の方法で光照射面側のn+型層501上に形成した。そ
の後、スパッタリング法により反射防止膜としてSiO
2膜504を形成した。次に実施例26と同様の方法に
より太陽電池モジュールを50個作製した。このとき、
前記被覆ワイヤ200を8.5mm間隔とした。
様の方法で測定したところ変換効率が15.8%±0.
01%、シャント抵抗が500kΩcm2〜760kΩ
cm2、シリーズ抵抗が平均で2.8Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は98%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で1.9%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
(多結晶Si)とした以外は実施例26と同様の方法
で、以下の手順で多結晶太陽電池600を作製した。
を作製し、該多結晶をスライスした後、得られた多結晶
のシリコンウエハ600にP2O5の塗布拡散法によりn
+型層601を形成した。続いて、p層600側を裏面
側とし、銀ペーストを不図示のスクリーン印刷機で印刷
し、加熱焼成し下部電極602を形成した。次に、実施
例26で用いた前記集電電極用被覆ワイヤ200を同様
の方法で光照射面側のn+型層601上に形成した。そ
の後、スパッタリング法により反射防止膜としてSiO
2膜604を形成した。次に実施例1と同様の方法によ
り太陽電池モジュールを50個作製した。このとき、前
記被覆ワイヤ200を8.0mm間隔とした。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
電池(薄膜多結晶Si)とした以外は実施例26と同様
の方法で、以下の手順で薄膜多結晶太陽電池700を作
製した。
701を不図示のマイクロ波プラズマCVD成膜装置に
入れ、n層702を形成した。次にこの基板を不図示の
加熱炉に入れn層702を多結晶化した。続いてこの基
板を不図示のマイクロ波プラズマCVD成膜装置に入れ
p層703を形成した。更に、不図示のスパッタリング
装置に入れ反射防止効果を兼ねた機能を有する透明導電
膜704としてITOを成膜した。次に実施例26と同
様の方法により前記透明導電膜704上にグリッド70
5を形成し電極太陽電池モジュールを50個作製した。
また、I−Vカーブが正常なものの歩留まり率は94%
で良好であった。
様の方法で測定したところ変換効率が12.5%±0.
01%、シャント抵抗が400kΩcm2〜510kΩ
cm2、シリーズ抵抗が平均で4.5Ωcm2で良好な特
性が得られた。また、I−Vカーブが正常なものの歩留
まり率は94%で良好であった。
同様に行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様に
シミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初
期変換効率に対して平均で2.1%の低下であり有意な
劣化は生じなかった。
覆ワイヤを用いた太陽電池は、良好な特性であり、信頼
性も高いことがわかる。
0Ωcmの範囲で変化させた点が実施例26と異なる。
導電性接着材の比抵抗を変える方法としては、導電性塗
料中の高分子樹脂と導電性粒子の混合比(重量部)を、
5:95、10:90、20:80、80:20、9
0:10、95:5とすることによって行った。他の点
は、実施例26と同様とした。
例26と全く同様な手順で図4(c)に示すトリプルセ
ルをそれぞれ10枚ずつ作製し、同様な評価を行った。
結果を表5に示す。
cm以上とすることにより、シャントは抑えられ、変換
効率がより安定して得られた。また、100Ωcm以下
とすることにより、シリーズ抵抗は小さくなりより一層
高い変換効率が得られることが分かる。また、信頼性試
験後のシリーズ抵抗の増加及び変換効率の低下も少な
く、信頼性試験の高いことが分かる。
0℃の範囲で変化させた点が実施例1と異なる。集電電
極用被覆ワイヤ200の加熱圧着温度としては、10
0、160、200、250の4種類を検討した。尚、
使用したブロックイソシアネートは、実施例1と同様で
あり、その解離温度は150℃のものである。他の点
は、実施例26と同様とした。
実施例26と全く同様な手順で図4に示すトリプルセル
をそれぞれ10枚作製し、同様な評価を行った。結果を
表6に示す。
度以上にすることにより、シリーズ抵抗は小さくなり、
より一層高い変換効率が得られることが分かる。また、
信頼性試験後のシリーズ抵抗の増加及び変換効率の低下
も少なく、信頼性の高いことが分かる。
0秒の範囲で変化させた点が実施例26と異なる。集電
電極用被覆ワイヤ200の加熱圧着時間としては、10
秒、20秒、45秒、60秒の4種類を検討した。この
条件での導電性接着材の硬化率を溶剤に浸漬前後の溶出
した量から測定したところ、ゲル分率はそれぞれ5%、
15%、80%、100%であった。尚、用いたブロッ
クイソシアネートは実施例1と同様で解離温度は150
℃であった。他の点は、実施例26と同様とした。
実施例26と全く同様な手順で図7に示すトリプルセル
をそれぞれ10枚作製し、同様な評価を行った。結果を
表7に示す。
度以上にすることにより、シリーズ抵抗は小さくなり、
より一層高い変換効率が得られることが分かる。また、
信頼性試験後のシリーズ抵抗の増加及び変換効率の低下
も少なく、信頼性の高いことが分かる。
極用被覆ワイヤ200の被覆層に用いた主剤のウレタン
樹脂と硬化剤として用いたブロックイソシアネートの重
量比を、100:1、50:1、20:1、10:1と
変化させた。このとき導電性接着材のゲル分率は、5
%、15%、85%、100%であった。尚、用いたブ
ロックイソシアネートは実施例1と同様で解離温度は1
50℃であった。他の点は、実施例26と同様とした。
作製し、実施例26と同様な評価を行った。その結果を
表8に示す。
まれる硬化剤であるブロックイソシアネートの解離温度
以上にすることにより、シリーズ抵抗は小さくなり、よ
り一層高い変換効率が得られることが分かる。また、信
頼性試験後のシリーズ抵抗の増加及び変換効率の低下も
少なく、信頼性の高いことが分かる。
接着材を使用した集電電極用被覆ワイヤを有する光起電
力素子を作製し、その性能を以下に示す手順で確認し
た。
をなす熱硬化性導電性接着材を形成するためのペースト
No.4の作製方法について説明する。 (1)溶剤として、ブチル・カルビトール・アセテート
17.4g、メチル・エチル・ケトン11.6gの混合
溶剤を分散用シェーク瓶に取った。 (2)バインダ主剤となる積水化学工業社製ブチラール
樹脂BL−Sを8.9gシェーク瓶に加え、充分溶解す
るまでボール・ミルで攪拌した。 (3)硬化剤として、武田薬品工業製ブロックイソシア
ネートB−815Nを1.40g、分散用ガラスビーズ
15gを前記溶液に加えた。 (4)導電性粒子として、コロンビヤン・カーボン社製
コンダクテックス975ビーズを5.3g前記溶液に加
え、導電性粒子が前記溶液に充分沈降するまで静置し
た。
東洋精機製作所社製ぺイント・シェーカにて12時間分
散した。この時間は、ペーストNo.4の体積抵抗率
が、最低となる時間を実験で求めたものである。 (6)その後、ペーストNo.4から分散用ガラスビー
ズを取り除いた。このペーストNo.4を前記硬化剤の
標準硬化条件である160℃、30分で硬化させ、その
体積抵抗率を測定したところ、0.8Ωcmであり充分
低抵抗であることを確認した。
00を用い、直径100μmの銀クラッド銅ワイヤへ、
ペーストNo.4のコートを行った。ワイヤコートに使
用したエナメルコート用ダイス605は、大阪ダイヤモ
ンド社製PVFダイスを使用した。乾燥炉606は、坂
口電熱社製IR炉SS−09(赤外線炉)2台を縦置き
にし、向かい合わせに組みあげ使用した。乾燥炉の雰囲
気温度は、温度調節機311で調整し希望の温度に設定
した。銅ワイヤの引き上げには、不図示のサーボ・モー
タを使用し引き上げスピードの制御を行った。ワイヤの
巻き取りリール側には、整列巻き駆動装置309を設置
した。また、導電性接着材のコー卜厚を測定する為にキ
ーエンス社製LS−3100/3034膜厚測定機30
7を乾燥炉の出口に設置し膜厚を測定した。
1の被覆層202として形成するときの条件について説
明する。
硬化時間が60sec、乾燥炉の温度は280℃とし、
使用したエナメルコート用ダイスの口径は180μmと
した。この条件は、ペーストNo.4の硬化反応が充分
進行し、ペーストNo.4の脱落が無くなる状態を実験
で見いだした。具体的には、メチル・エチル・ケトンに
てコートワイヤを30sec間超音波洗浄し、ペースト
No.4からなる導電性接着材が脱落しない事で確認し
た。銀クラッド銅ワイヤに塗布されたペーストNo.4
からなる導電性接着材は、架橋が進行し硬化状態で存在
する。第1の被覆層202の厚さは、平均11μmで、
100m長でのコート結果での膜厚の振れは、±1μm
以内であった。
(ペーストNo.4)を用いた第2の被覆層203に関
する形成条件と、本発明の光起電力素子に使用する集電
電極用被覆ワイヤの作製方法について説明する。
乾燥時間が60sec、乾燥炉の温度は120℃とし、
使用したエナメルコート用ダイスの口径は200μmと
した。この条件は、ブロックイソシアネー卜の解離温度
以下で、前記ワイヤに塗布した導電性接着材No.1の
タックが無く、ワイヤへの接着力が十分な条件を実験で
見いだした。前記ワイヤに塗布されたペーストNo.4
からなる導電性接着材は、溶剤が揮発し熱可塑状態で存
在する。被覆層303の厚さは平均8μmで、100m
長でのコート結果での膜厚の振れは±1.5μm以内で
あった。
作製する工程について説明する。 (1)図10は、前記の方法で作成した集電電極100
4を使用した光起電力素子モジュールを示す。使用した
基板1001は、マイナス電極を兼ねたSUS基板上に
pinタイプのダブルセルをCVDにより膜形成したも
のを用いた。更に、光入射側には、プラス電極として、
In2O3の透明導電膜を形成した。 (2)基板1001の有効面積は30×30cmで、塩
化第2鉄を主成分とするエッチングペーストと市販の印
刷機とエッチング用印刷版を用いエッチングペーストを
基板上に印刷し、不要部分の透明導電膜を除去した。 (3)次に、有効面積外に硬質銅のプラス電極100
2、マイナス電極1003を設け、前記集電電極100
4を7mm間隔で有効面積内に納まるように両プラス電
極202間に張り、プラス電極の外側つまり有効面積外
で紫外線硬化接着剤を用いて仮固定した。 (4)次に、前記集電電極1004を基板1001のセ
ル面に加熱圧着した。圧力は1kg/cm2とし、加熱
条件は、60minで200℃までランプ状に昇温し、
20minで冷却するプロファイルとした。この加熱条
件は、光起電力素子セル面に対する集電電極用被覆ワイ
ヤの接着力の測定及び接着された集電電極用被覆ワイヤ
の断面形状を観察する事により、実験で見いだした。
熱圧着プロセスでとれているが、更に信頼性を上げるた
めに銀ペーストによるドッティングあるいは半田付けを
行っても良い。加熱圧着は、真空ラミネータ等の加熱と
加圧が同時に行える装置で行う。上述した工程によっ
て、光起電力素子モジュールを10個作製した。
光起電力素子モジュール)の初期特性を調べた結果につ
いて説明する。 (1)前記試料の暗状態における電圧−電流特性の測定
した。原点付近の傾きからシャント抵抗を調べたとこ
ろ、200kΩcm2〜500kΩcm2であり、良好な
値を示した。 (2)AM1.5グローバルの太陽光スペクトルで10
0mW/cm2の光量の疑似太陽光源(以下シミュレー
タと呼ぶ)を用いて、前記試料の太陽電池特性を測定し
た。変換効率を求めたところ、7.9±0.02%と良
好な特性であり、ばらつきも少なかった。
を以下の手順で行った。基板1001の上下にクレーン
ガラス及びEVAを積層し、さらにその上下にフッ素樹
脂フィルムETFEを積層し、真空ラミネータに投入し
て150℃で60min保持しラミネーションを行っ
た。
頼性試験を実施した。信頼性試験としては、日本工業規
格C8917の結晶系太陽電池モジュールの環境試験方
法、及び耐久試験方法に定められた温湿度サイクル試験
A−2に基づいて行った。
入し、−40℃から+85℃(相対湿度85%)に変化
させるサイクル試験を20回繰り返し行った。次に、試
験終了後の試料を初期と同様にシミュレータを用い太陽
電池特性を測定したところ、初期変換効率に対して平均
で2%の低下であり、有為な劣化は生じなかった。
は、良好な特性であり、信頼性も高いことが分かった。
て、熱可塑性導電性接着材を用いた点が異なる。図2
(a)に示す第1の被覆層202にCMI社の熱可塑性
導電性接着材107−25を使用して集電電極及び試料
を作製した。
て、熱可塑性導電性接着材を用いた点が異なる。図2
(a)に示す第1の被覆層202にCMI社の熱可塑性
導電性接着材107−25を使用して集電電極用被覆ワ
イヤ及び試料を作製した。
107−25を用いて、以下に示す条件で形成し、集電
電極用被覆ワイヤを作製した。
が60sec、乾燥炉の温度は120℃とし、使用した
エナメルコート用ダイスの口径は180μmとした。被
覆層202の厚さは平均8μmで、100m長でのコー
ト結果での膜厚の振れは、±1.5μm以内に納まって
いた。
ーストNo.4からなる導電性接着材を使用し、同様の
条件で形成した。
1004を基板1001のセル面に加熱圧着した。圧力
は1kg/cm2とし、加熱条件は40minで150
℃までランプ状に昇温し、20minで冷却するプロフ
ァイルとした。
子モジュールを10個作成した。この試料を実施例41
と同様の方法でエンカプシュレーションし初期特性を測
定したところ、変換効率が平均で7.8%、シリーズ抵
抗が27Ωcm2であった。
できる恒温恒湿器に投入し、−40℃から+85℃(相
対湿度85%)に変化させるサイクル試験を20回繰り
返し行った。次に、試験終了後の試料を初期と同様にシ
ミュレータを用い太陽電池特性を測定したところ、初期
変換効率に対して平均で10%の低下であり、有為な劣
化が生じていた。
ので、湿度による金属ワイヤと熱可塑性接着剤との界面
抵抗の上昇、導電性接着材自身の劣化による体積抵抗率
の上昇が考えられる。
シュレーション前の試料10個に対する防湿塗料のコー
ティングコート効果について検討した。他の点は実施例
41と同様とした。
したところ、変換効率7.9±0.02%、シリーズ抵
抗24Ωcm2であり、良好な特性で、ばらつきも少な
かった。
ハードをスプレーで塗布し熱風乾燥炉で80℃から19
0℃にランプ状に昇温させる温度条件で乾燥硬化させ
た。
ミュレータで測定したところ、変換効率が7.8%、シ
リーズ抵抗が28Ωcm2で有為な劣化は生じなかっ
た。
ュレーション前の試料10個に対する防湿塗料のコーテ
ィングコート効果について検討した。他の点は実施例4
1と同様とした。
したところ、変換効率7.9±0.02%、シリーズ抵
抗24Ωcm2であり、良好な特性で、ばらつきも少な
かった。
ファインハードをスプレーで試料に塗布し、熱風乾燥炉
で80℃から190℃にランプ状に昇温させる温度条件
で乾燥硬化させた。
ミュレータで測定したところ変換効率が5.5%、シリ
ーズ抵抗が60Ωcm2で有為な劣化が発生していた。
部に浸透したことによる電極金属と導電性接着材の剥
離、コート材の硬化プロセスでの加熱による熱可塑性導
電性接着材の劣化による体積抵抗率の上昇が考えられ
る。
チラール樹脂に代えて、カーボンブラックとウレタン樹
脂の混合物を用いて集電電極用被覆ワイヤ及び試料を作
製した点が実施例41と異なる。
をなす一液型熱硬化性導電性接着材を形成するためのペ
ーストNo.5の作製方法について説明する。 (1)溶剤として、ブチル・カルビトール・アセテート
17.0g、メチル・エチル・ケトン11.6gの混合
溶液を分散用シェーク瓶に取った。 (2)バインダ主剤となる日本ポリウレタン社製ウレタ
ン樹脂5120を8.9gシェーク瓶に加え、充分溶解
するまでボール・ミルで攪拌した。 (3)硬化剤として、日本ポリウレタン社製ブロックイ
ソシアネート2515を1.4g、分散用ガラスビーズ
15gを前記溶液に加えた。 (4)導電性粒子として、コロンビヤン・カーボン社製
コンダクテックス975ビーズを5.3g、前記溶液に
加え、導電性粒子が前記溶液に充分沈降するまで静置し
た。
て12時間分散した。 (6)その後、出来上がったペーストNo.5から分散
用ガラスビーズを取り除いた。 (7)このペーストNo.5を前記硬化剤の標準硬化条
件である180℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率
を測定したところ、5.1Ωcmであり充分低抵抗であ
ることを確認した。
の被覆層202として、ワイヤコート機300を用いて
形成するときの条件について説明する。
硬化時間が60sec、乾燥炉の温度は280℃とし、
使用したエナメルコート用ダイスの口径は180μmと
して。第1の被覆層202の厚さは平均11μmで、1
00m長でのコート結果での膜厚の振れは、±1μm以
内であった。
らなる導電性接着材を、第2の被覆層203として、ワ
イヤコート機300を用いて形成するときの条件につい
て説明する。
乾燥時間が60sec、乾燥炉の温度は120℃とし、
使用したエナメルコート用ダイスの口径は200μmと
した。この条件は、ブロックイソシアネートの解離温度
以下で、前記ワイヤに塗布したペーストNo.5のタッ
クが無くなる条件を実験で見いだした。前記ワイヤに塗
布されたペーストNo.5からなる導電性接着材は、溶
剤が揮発し熱可塑状態で存在する。被覆層203の厚さ
は、平均8μmで、100m長でのコート結果での膜厚
の振れは、±1.5μm以内であった。
方法で、光起電力素子モジュールを10個作製した。
例1と同様の方法で測定したところ、変換効率が平均で
7.8%、シリーズ抵抗が25Ωcm2であった。
試験を実施したところ、初期変換効率に対する劣化率は
平均1.5%で有為な劣化は生じなかった。
は、良好な特性であり、信頼性も高いことがわかる。
のフィラーを、実施例41のコンダクテックス975ビ
ーズに代えて、酸化チタンを用いて集電電極用被覆ワイ
ヤ及び試料を作製した点が実施例41と異なる。第2の
被覆層203は、実施例41と同じペーストNo.4か
らなる導電性接着材を使用し、同様の条件で形成した。
をなす導電性接着材を形成するためのペーストNo.6
の作製方法について説明する。 (1)溶剤として、ブチル・カルビトール・アセテート
17.4g、メチル・エチル・ケトン11.6gの混合
溶剤を分散用シェーク瓶に取った。 (2)バインダ主剤となる積水化学工業社製ブチラール
樹脂BL−Sを8.9gシェーク瓶に加え充分溶解する
までボール・ミルで攪拌した。 (3)硬化剤として、武田薬品工業社製ブロックイソシ
アネートB−815Nを1.4g、分散用ガラスビーズ
15gを前記溶液に加えた。 (4)導電性粒子として、石原産業社製酸化チタン粉F
T−1000を5.3g、前記溶液に加え、導電性粒子
が前記溶液に充分沈降するまで静置した。
東洋精機製作所社製ペイント・シェーカにて10時間分
散した。 (6)その後、出来上がったペーストNo.6から分散
用ガラスビーズを取り除いた。このペーストNo.6を
前記硬化材の標準硬化条件である160℃、30分で硬
化させ、その堆積抵抗率を測定したところ、8Ωcmで
あり、充分低抵抗であることを確認した。 (7)次に、ペーストNo.6からなる導電性接着材に
よる第1の被覆層202を、実施例41と同様の条件で
形成し、集電電極用被覆ワイヤを作製した。
力素子モジュールを10個作製した。
例41と同様の方法で測定したところ、変換効率が7.
7%、シリーズ抵抗が27Ωcm2であった。
クル試験を実施したところ、初期変換効率に対する劣化
率は平均3%で有為な劣化は生じなかった。
は、良好な特性であり、信頼性も高いことが分かった。
脂に、顔料の比率を変えて含有させることによって、導
電性接着材の体積抵抗率を変化させたときの効果につい
て検討した。前記の顔料比率としては、20wt%,2
5wt%,30wt%,35wt%,40wt%,45
wt%からなる6種類を用いて、熱硬化性導電性接着材
を形成するためのペーストNo.7−1〜7−6を作製
した。
の作製方法について説明する。 (1)溶剤として、シクロヘキサノンを分散用シェーク
瓶に取った。 (2)バインダ主剤となるユニオンカーバイド社製フェ
ノキシ樹脂PKHHをシェーク瓶に加え、充分溶解する
までボールミルで攪拌した。 (3)分散剤として、積水化学社製ブチラール樹脂BL
−Sを加えボールミルで攪拌した。 (4)硬化剤として、武田薬品社製ブロックイソシアネ
ートB−815N、分散用ガラスビーズを前記溶液に加
えた。 (5)導電性粒子として、コロンビアンカーボン社製C
ONDUCTEX975BEADSを前記溶剤に加え、
フィラーが、前記溶剤に充分沈降するまで静置した。
10時間分散した。 (7)その後、出来上がったペーストNo.7−1〜7
−6から分散用ガラスビーズを取り除いた。このペース
トNo.7−1〜7−6を前記硬化剤の標準硬化条件で
ある160℃、30minで硬化させ、その体積抵抗率
を測定したところ表17の結果を得た。
導電性接着材を、第1の被覆層202として、ワイヤコ
ート機300を用いて形成するときの条件について説明
する。
間が60sec、乾燥炉の温度は280℃とし、使用し
たエナメルコート用ダイスの口径は180μmとした。
第1の被覆層302の厚さは、平均11μmで、100
m長におけるコーティング結果では、膜厚の振れ量は±
1μm以内であった。
らなる導電性接着材を、第2の被覆層203として、ワ
イヤコート機300を用いて集電電極用被覆ワイヤを作
製した。
子モジュールを各5個作製した。この試料の変換効率を
実施例41と同様の方法で測定し、平均化したところ図
12の結果を得た。
は、導電性接着材の体積抵抗率が0.1〜100Ωcm
の範囲で良好な初期特性が得られることが分かった。
オンバリア性を検討した。このイオンバリア性を確認す
るために、第1の被覆層として、銀フィラを使用したア
サヒ化学社製の導電性接着材LS−708を使用した3
層構成集電電極用被覆ワイヤ及び光起電力素子モジュー
ルを以下の手順で作製した。
mの銅ワイヤで、巻き取り速度は8.9mm/sで乾燥
時間が60sec、乾燥炉の温度は250℃とし、使用
したエナメルコート用ダイスの口径は180μmとし
た。第1被覆層202の厚さは平均8μmで、100m
長におけるコーティング結果では、膜厚の振れ量は±
1.5μm以内であった。
と同じペーストNo.7−1〜7−6からなる導電性接
着材を使用し、同様の条件で形成した。このペーストN
o.7−1〜7−6からなる導電性接着材の空隙率をMI
CROMERITICS社製AUTO-PORE9200で測定したところ表18
の結果を得た。
と同じペーストNo.4からなる導電性接着材を使用し
同様の条件で形成し、3層構成集電電極1004を作製
した。 (4)次に、実施例41と同様に、前記集電電極100
4を基板1001のセル面に加熱圧着した。更に、実施
例41と同様の方法でエンカプシュレーションし、初期
特性を測定し平均化したところ表2の結果を得た。
温湿度が制御できる恒温恒湿器に投入し、温度+85
℃、相対湿度85%に保持し、順方向バイアス電圧1V
を加える独自の試験を100時間実施した。100時間
後のリーク電流、及びシャント抵抗として表18の結果
を得た。
後のリーク電流が、800mAとなり試験開始直後から
次第に増加した。この試料はシャント抵抗が5kΩcm
2以下となりシャントが発生していることが分かった。
これは、高温、高湿下での順バイアスの印加により第1
の被覆層に使用した導電性接着材中の銀がイオン化し、
マイグレーションによる短絡が発生したと考えられ、第
2の被覆層によるイオンバリア効果が低下していること
が分かった。
は、導電性接着材の空隙率が0.02ml/g以下の範
囲で良好なイオンバリア性が得られると判断した。
なる被覆層を有する集電電極用被覆ワイヤを検討した。
極用被覆ワイヤ200は、以下のようにして形成した。
金属ワイヤ201としては表面に銀をクラッド状にして
被覆してある直径100μmの銅ワイヤを用いた。ここ
では、図2(a)に示すような被覆層が2層構成のもの
を形成した。
る被覆層202をなす導電性接着材を形成するためのペ
ーストNo.8の作製方法について説明する。 (1)溶剤として、メチルカルビトールを分散用シェー
ク瓶に入れた。 (2)主剤となるウレタン樹脂(日本ポリウレタン社
製)、分散性を高めるためにプチラール樹脂(積水化学
工業社製)を加えボールミルで十分に攪拌した。 (3)硬化剤としてブロックイソシアネート(武田薬品
工業社製)、更に、シランカップリング剤としてγ−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン(東レ・シリコー
ン社製)を前記溶液に加えた。 (4)導電性粒子としてとして平均の一次粒子径が0.
05μmのカーボンブラック(コロンビアンカーボン社
製)を前記溶液に加えた。このときの配合は樹脂分の重
量比が67wt%、導電性粒子の重量比が33wt%で
あった。
を東洋精機製作所社製ペイントシェーカーにて10時間
分散した。 (6)出来上がったペーストNo.8から分散用ガラス
ビーズを取り除いた。該ペーストNo.8の平均粒子径
をレーザー回折法にて測定したところ、約0.8μmで
あり良好な分散が行なわれていた。ぺイントシェーカー
の代わりにビーズミルを用いても同様の結果だった。 (7)前記ペーストNo.8の導電性に関する特性を調
ベるために、前記硬化剤の標準硬化条件である160
℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を測定したとこ
ろ、0.5Ωcmであり、十分低抵抗であることを確認
した。
覆層203をなす導電性接着材を形成するためのペース
トNo.9の作製方法について説明する。 (8)溶剤として、シクロヘキサノンを分散用シェーク
瓶に入れた。 (9)主剤となるウレタン樹脂(日本ポリウレタン社
製)と被覆したワイヤをボビンへの巻き取り時のタック
性をなくすためにフェノキシ樹脂(巴工業社製)を加え
ボールミルで十分に攪拌した。次に硬化剤としてブロッ
クイソシアネート(武田薬品工業社製)、更に、シラン
カップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン(トーレ・シリコーン社製)を前記溶液に加
えた。 (10)導電性粒子として、平均の一次粒子径が0.0
5μmのカーボンブラック(コロンビアンカーボン社
製)を前記溶液に加えた。このときの配合は樹脂分の重
量比が65wt%、導電性粒子の重量比が35wt%で
あった。
同様に分散し、ペーストNo.9を作製した。該ペース
トの平均粒子径は約1.0μmであった。 (12)前記ペーストNo.9の導電性に関する特性を
調べるために、前記硬化剤の標準硬化条件である160
℃、30分で硬化させ、その体積抵抗率を測定したとこ
ろ、0.4Ωcmであり、十分低抵抗であることを確認
した。
用い、ペーストNo.8からなる被覆層202及びペー
ストNo.9からなる被覆層203を形成する方法につ
いて説明する。
たボビンを設置し、巻き取り用のボビンに向け前記金属
ワイヤを張った。次に、コーターに前記ペーストNo.
8を注入した。
sec,乾燥炉の温度は350℃とし、5回コートし
た。使用したエナメルコート用ダイスの径は110μm
から200μmまでを順次用いた。この条件で、ペース
トNo.8は充分に硬化し、ペーストの密着性及び耐溶
剤性は良好であった。ペーストNo.8からなる被覆層
202の厚さは、平均5μmで、100m長でのコート
結果での膜厚のばらつきは、±0.5μm以内に納まっ
ていた。
取り速度は40m/minで乾燥時間が2sec,乾燥
炉306の温度は120℃とし、5回に分けてコートし
た。使用したエナメルコート用ダイスの孔径は150μ
mから200μmとした。前記ワイヤに塗布されたぺー
ストNo.9は、溶剤が揮発し未硬化状態で存在するが
タック性は認められなかった。ペーストNo.9からな
る被覆層203の厚さは、平均20μmで、100m長
でのコート結果での膜厚のばらつきは、±1.0μm以
内に納まっていた。
を、金属ワイヤ201とペーストNo.8からなる被覆
層202との接着力、光起電力素子基板及び金属タブ基
板とペーストNo.9からなる被覆層203との接着力
に分けて調ベた。
8からなる被覆層202との接着力を調べるために、電
極200として金属ワイヤ201に被覆層202と被覆
層203を設け、不図示の乾燥炉で160℃、30分で
硬化させた試料1を作製した。JIS3003の密着力
試験をもとに電極200を急激伸長し、切断した部分の
観察を行ない接着性を調ベたところ、異常な亀裂や剥離
は観察されず良好な接着力であった。
とペーストNo.9からなる被覆層203との接着力を
調べるために、電極200を、非晶質太陽電池基板に透
明導電膜としてITOが積層された基板及び表面に銀が
積層された銅タブ基板に、それぞれ不図示の加熱加圧装
置で熱圧着して試料2を作製した。JIS3003の接
着力試験をもとに電極200をそれぞれの基板と垂直方
向に引っ張り、その張力を測定し接着力を調ベたところ
それぞれ0.15kgfN以上あり良好な接着力であっ
た。
ために、前記試料1及び試料2をそれぞれ温度85℃、
湿度85%RHの環境試験機の中に放置して、1000
時間放置後(高温高湿度試験)、同様の接着力試験を行
ったが特性に変化はなかった。
極は線幅が均一で、優れた接着性が得られることが分か
った。また、高温高湿度の過酷な環境に長時間保持して
も亀裂や剥離が発生することなく、高い信頼性を有する
ことが確認された。
かった点が実施例47と異なる。他の点は、実施例47
と同様として電極形成を行った。
にして調べたところ、金属ワイヤ201とペーストN
o.8からなる被覆層202との接着力については、一
部亀裂が観察された。また、光起電力素子基板とペース
トNo.9からなる被覆層203との接着力は0.09
kgfN,金属タブ基板とペーストNo.9からなる被
覆層203との接着力は0.03kgfNと低かった。
後に接着力試験を行ったところ、金属ワイヤ201とペ
ーストNo.8からなる被覆層202との接着力につい
ては、亀裂が広がり、剥離が多数生じていた。また、光
起電力素子基板とペーストNo.9からなる被覆層20
3との接着力は0.04kgfN,金属タブ基板とペー
ストNo.9からなる被覆層203との接着力は殆どな
く接着力が低下していた。
ップリング剤をチタネート系カップリング剤としてイソ
プロピルトリイソステアロイルチタネート(味の素社
製)とした点が実施例47と異なる。他の点は、実施例
47と同様として電極形成を行った。
たところ、金属ワイヤ201とペーストNo.8からな
る被覆層202との接着力については、異常な亀裂や剥
離は観察されず良好な接着力であった。また、光起電力
素子基板及び金属タブ基板とペーストNo.9からなる
被覆層203との接着力は、それぞれ0.15kgfN
及び0.14kgfNであり、良好な接着力をもつこと
が分かった。
後に接着力試験を行ったところ、特性に変化はなかっ
た。
ップリング剤をアルミニウム系カップリング剤としてア
セトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート(味の
素社製)とした点が実施例47と異なる。他の点は、実
施例47と同様として電極形成を行った。
たところ、金属ワイヤ201とペーストNo.8からな
る被覆層202との接着力については、異常な亀裂や剥
離は観察されず良好な接着力であった。また、光起電力
素子基板及び金属タブ基板とペーストNo.9からなる
被覆層203との接着力は、それぞれ0.15kgfN
及び0.14kgfNであり、良好な接着力をもつこと
が分かった。
後に接着力試験を行ったところ、特性に変化はなかっ
た。
高分子樹脂の主剤をエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ
社製)、カップリング剤をシラン系カップリング剤とし
てγ−グリシキドプロピルトリメトキシシラン(東レ・
シリコーン社製)とした点が実施例47と異なる。他の
点は、実施例47と同様として電極形成を行った。
たところ、金属ワイヤ201とペーストNo.8からな
る被覆層202との接着力については、異常な亀裂や剥
離は観察されず良好な接着力であった。また、光起電力
素子基板及び金属タブ基板とペーストNo.9からなる
被覆層203との接着力は、両方とも0.15kgfN
であり、良好な接着力をもつことが分かった。
後に接着力試験を行ったところ、特性に変化はなかっ
た。
高分子樹脂の主剤をフェノール樹脂(大日本インキ化学
工業社製)、カップリング剤をシラン系カップリング剤
としてγ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメ
トキシシラン(東レ・シリコーン社製)とした点が実施
例47と異なる。他の点は、実施例47と同様として電
極形成を行った。
たところ、金属ワイヤ201とペーストNo.8からな
る被覆層202との接着力については、異常な亀裂や剥
離は観察されず良好な接着力であった。また、光起電力
素子基板及び金属タブ基板とペーストNo.9からなる
被覆層203との接着力は、両方とも0.15kgfN
であり、良好な接着力をもつことが分かった。
後に接着力試験を行ったところ、特性に変化はなかっ
た。
高分子樹脂の主剤をポリイミド樹脂(日本ポリイミド社
製)、カップリング剤をシラン系カップリング剤として
γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン(東レ・シリ
コーン社製)とした点が実施例47と異なる。他の点
は、実施例47と同様として電極形成を行った。
たところ、金属ワイヤ201とペーストNo.8からな
る被覆層202との接着力については、異常な亀裂や剥
離は観察されず良好な接着力であった。また、光起電力
素子基板及び金属タブ基板とペーストNo.9からなる
被覆層203との接着力は、両方とも0.15kgfN
であり、良好な接着力をもつことが分かった。
後に接着力試験を行なったところ、特性に変化はなかっ
た。
30cmであるグリッドを形成した、pin接合型シン
グル構成の非晶質太陽電池400を作製した。
ついて説明する。 (1)十分に脱脂、洗浄したSUS430BA製基板4
01を不図示のDCスパッタ装置に入れ、Agを400
nm堆積した後、ZnOを400nmを堆積して下部電
極402を形成した。 (2)基板を取り出し、不図示のRFプラズマCVD成
膜装置に入れ、n層403、i層404、p層405の
順でアモルファスシリコン半導体層の堆積を行った。 (3)不図示の抵抗加熱の蒸着装置に入れ、反射防止効
果を兼ねた機能を有する透明性導電膜406としてIT
O膜を成膜した(成膜温度450℃、膜厚70nm)。
8及びNo.9を用いて、導電性接着材からなる被覆膜
を形成した電極200を作製した。 (5)この電極200を、太陽電池の有効エリア外に幅
5mmの接着剤付きの部分を設け、その表面上に銀を積
層した銅箔のタブ501を配置した基板401上に、不
図示の布線機を用いて配置し、両端を接着剤で仮固定し
た。 (6)不図示の加熱圧着機を用いてワイヤに塗布してあ
るペーストNo.9を介して基板上に固定し、グリッド
電極307を形成した。 (7)図13に示すとおり、陽極取り出し部1302、
陰極取り出し部1303を半田で接続し、30cm×3
0cm角のシングルセルを作製した。
池に対して、次に示すとおりエンカプシュレーションを
行なった。非晶質太陽電池1300の上下にEVAを積
層し、さらにその上下にフッ素樹脂フィルムETFE
(エチレンテトラフルオロエチレン)(デュポン社製製
品名テフゼル)を積層した後、真空ラミネーターに投入
して昇温し150℃で45分間保持して真空ラミネーシ
ョンを行なった。
料作製を終えた。得られた試料に対する初期特性は、次
のように測定した。AMl.5グローバル太陽光スペク
トルで100mW/cm2の光量の疑似太陽光源(以下
シュミレーターと呼ぶ)を用いて太陽電池特性を測定し
た。変換効率を求めたところ6.7%、シャント抵抗
(暗状態)が50kΩcm2、シリーズ抵抗9.5Ωc
m2であり良好な特性であった。
規格C8917の結晶系太陽電池モジュールの環境試験
方法及び耐久試験方法に定められた温湿度サイクル試験
A−2に基づいて行った。まず、試料を湿度が制御でき
る恒温恒湿器に投入し、−40℃から+85℃(相対湿
度85%)に変化させるサイクル試験を20回繰り返し
行なった。試験10回終了ごとに初期特性の測定と同様
にしてシミュレーターを用い太陽電池特性を測定したと
ころ、試験20回終了後初期変換効率に対して3.2%
の低下であり、シャント抵抗(暗状態)が10%の減少
でともに有意な劣化は生じなかった。また、シリーズ抵
抗を測定したところ、図14に示したように、本例の試
料は約2.4%増加したのみで電極部での剥離などの現
象も起きていなかった。
な特性で、信頼性も良いことが分かった。
させなかった以外は実施例1同様にして電極形成を行な
った。次に、この電極を用いて、実施例53と同様にし
て非晶質太陽電池を作製した。さらに、この非晶質太陽
電池のエンカプシュレーションを実施例53と同様に行
い試料を作製した。
様の手順で測定したところ、初期変換効率は5.8%、
シリーズ抵抗15.5Ω・cm2であり実施例53に比
較してシリーズ抵抗が高かった。
同様に評価した。温湿度サイクル試験終了後の試料の変
換効率を測定したところ、試験20回後で初期値に対し
て17%の低下を示し、有意な劣化が起きていた。
ところ、図14に示したように経時的に変化し、試験2
0回後で約2倍まで上昇しており、電極間の接着性が低
下していることがわかった。
ル型の非晶質太陽電池400とし、半導体層の形成にマ
イクロ波CVD法を用いた点が実施例53と異なる。
ついて説明する。 (1)SUS基板401上にAgとZnOからなる下部
電極402を形成した。 (2)不図示のマイクロ波プラズマCVD成膜装置に入
れ、n層403、i層404、p層405の順でボトム
層を形成した。次に、同様にn層413、i層414、
p層415の順でミドル層、n層423、i層424、
p層425の順でトップ層を順次形成し、半導体層を堆
積した。 (3)実施例53と同様に反射防止効果を兼ねた機能を
有する透明性導電膜406としてITO膜を成膜した
(成膜温度450℃、膜厚70nm)。
8及びNo.9を用いて、導電性接着材からなる被覆膜
を形成した電極200を作製した。 (5)この電極200を、太陽電池の有効エリア外に幅
5mmの接着剤付きの部分を設け、その表面上に銀を積
層した銅箔のタブ501を配置した基板401上に、不
図示の布線機を用いて配置し、両端を接着剤で仮固定し
た。 (6)不図示の加熱圧着機を用いてワイヤに塗布してあ
るペーストNo.9を介して基板上に固定し、グリッド
電極307を形成した。 (7)図13に示すとおり、陽極取り出し部1302、
陰極取り出し部1303を半田で接続し、30cm×3
0cm角のシングルセルを作製した。
池に対して、実施例53と同様にエンカプシュレーショ
ンを行った。
料作製を終えた。得られた試料に対する初期特性を実施
例53と同様に測定したところ、初期変換効率は8.3
%シャント抵抗(暗状態)が42kΩ・cm2,シリー
ズ抵抗33.0Ω・cm2であり良好な特性であった。
と同様に測定したところ、試験20回後でシリーズ抵抗
は初期値に対して2.7%の上昇、変換効率は初期値に
対して1.8%の低下にすぎず、有意な劣化は生じなか
った。
な特性で、信頼性も良いことが分かった。
例47の電極をボビン状に巻き取り、100日間室温で
保存後に実施例47と同様にして電極200の接着性を
調ベたところ、実施例47と同様に良好な接着性が確認
された。
接着性、長期保存性が極めて高く、信頼性の高い集電電
極用被覆ワイヤが得られる。
ことによって、初期特性が高く、長期信頼性に優れた光
起電力素子が得られる。
性の良好な光起電力素子の作製方法が得られる。
る被覆層を設けた集電電極用被 覆ワイヤの構成を模式的
に示す断面図である。
被覆ワイヤの構成、及びその集電電極用被覆ワイヤを基
板に固定した状態を模式的に示す断面図である。
ために用いたワイヤコート装置の模式図である。
の構成を模式的に示す断面図である。
を模式的に示す断面図である。
を模式的に示す断面図である。
構成を模式的に示す断面図である。
池の構成を模式的に示す平面図である。
極用被覆ワイヤを用いた光起電力素子モジュールの構成
を模式的に示す断面図である。
を有する集電電極用被覆ワイヤを用いた光起電力素子モ
ジュールの構成を模式的に示す平面図である。
電極用被覆ワイヤの構成を模式的に示す断面図である。
て、体積抵抗率と変換効率との関係を示すグラフであ
る。
ワイヤを用いた他の光起電力素子モジュールの構成を模
式的に示す平面図である。
て、温湿度サイクル試験の回数とシリーズ抵抗との関係
を示すグラフである。
004 集電電極、 101、201、302、1101 金属ワイヤ、 102 被覆層、 103、204 金属層、 202、1102、第1被覆層、 203、1103 第2被覆層、 906、1104 第3被覆層、 205 被覆層(全体)、 206 光起電力素子基板、 300 ワイヤコート装置、 301 送り出しリール、 303 洗浄槽、 304 コーター、 305 ダイス、 306 乾燥炉、 307 膜厚測定器、 308 テンションコントローラ、 309 整列巻き駆動装置、 310 巻き取りリール、 311 温度調節機、 400、500、600、700、800、900、1
000 光起電力素子モジュール、 401、701、901、1001 基板、 402 下部電極、 403、413、423、902 n型半導体層、 404、414、424、903 i型半導体層、 405、415、425、904 p型半導体層、 406、905 透明導電膜、 501、502、601、602、702、703 半
導体層、 503 裏面電極、 505、605、704 反射防止膜、 802、1002 プラス電極、 803、1003 マイナス電極、 1301 金属タブ、 1302 陽極取り出し部、 1303 陰極取り出し部。
Claims (25)
- 【請求項1】 導電性接着材からなる被覆層を有する金
属ワイヤが、前記被覆層を介して光起電力素子に接着形
成される集電電極用被覆ワイヤにおいて、 前記金属ワイヤの金属イオンが、該集電電極用被覆ワイ
ヤの表面にマイグレーションすることを防ぐ被覆層を有
することを特徴とする集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項2】 前記光起電力素子の起電力以上の電圧が
前記金属ワイヤに印加された場合においても、前記被覆
層が前記金属イオンの拡散を防ぐ機能を有することを特
徴とする請求項1に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項3】 前記導電性接着材が、導電性粒子及び高
分子樹脂からなることを特徴とする請求項1又は2に記
載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項4】 前記導電性接着材が、カップリング剤、
導電性粒子及び高分子樹脂からなることを特徴とする請
求項1又は2に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項5】 前記カップリング剤が、シラン系カップ
リング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム
系カップリング剤から選ばれる少なくとも1種類である
ことを特徴とする請求項4に記載の集電電極用被覆ワイ
ヤ。 - 【請求項6】 前記導電性接着材の空隙率が、1μm以
下の空隙半径において0.04ml/g以下であること
を特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の集
電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項7】 前記高分子樹脂の数平均分子量が、50
0以上50,000以下であることを特徴とする請求項
1乃至6のいずれか1項に記載の集電電極用被覆ワイ
ヤ。 - 【請求項8】 前記高分子樹脂のゲル分率が20%以上
100%以下であることを特徴とする請求項1乃至7の
いずれか1項に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項9】 前記被覆層が少なくとも2層以上であ
り、かつ、少なくとも最外層以外の内側の被覆層を構成
する導電性接着材が、請求項7又は8に記載の高分子樹
脂からなることを特徴とする集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項10】 前記被覆層が少なくとも2層以上であ
り、かつ、少なくとも最外層の被覆層を構成する導電性
接着材が、未硬化の熱硬化性高分子樹脂からなることを
特徴とする請求項9に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項11】 前記導電性接着材が少なくとも2層か
ら構成されており、かつ、より電極に近接する層を構成
する該導電性接着材の軟化点が、該光起電力素子の熱履
歴の最高温度よりも高いことを特徴とする請求項1乃至
7のいずれか1項に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項12】 前記導電性接着材の比抵抗が、0.1
Ωcm以上100Ωcm以下であることを特徴とする請
求項11に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項13】 前記高分子樹脂は、ウレタン、フェノ
キシ、エポキシ、ブチラール、フェノール、ポリイミ
ド、ポリアミド及びポリアミドイミドから選ばれる少な
くとも1種類であることを特徴とする請求項1乃至12
のいずれか1項に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項14】 前記導電性接着材に含まれる硬化剤
が、ブロックイソシアネートであることを特徴とする請
求項1乃至13のいずれか1項に記載の集電電極用被覆
ワイヤ。 - 【請求項15】 前記導電性接着材のガラス転移点が、
100℃以上であることを特徴とする請求項1乃至14
のいずれか1項に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項16】 前記導電性粒子の一次粒子の平均粒子
径が、0.02μm以上15μm以下であることを特徴
とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の集電電
極用被覆ワイヤ。 - 【請求項17】 前記導電性粒子は、グラファイト、カ
ーボンブラック、In2O3,TiO2,SnO2,IT
O,ZnO,及びこれらに三価の金属元素からなるドー
パントを添加したものから選ばれる少なくとも1種類で
あることを特徴とする請求項1乃至16のいずれか1項
に記載の集電電極用被覆ワイヤ。 - 【請求項18】 少なくとも1つのpin接合又はpn
接合からなる半導体層と、前記半導体層の光入射側に設
けた集電電極とからなる光起電力素子において、前記集
電電極が、請求項1乃至17のいずれか1項に記載の集
電電極用被覆ワイヤにより形成された集電電極であるこ
とを特徴とする光起電力素子。 - 【請求項19】 前記半導体層の光入射側に透明電極を
有し、かつ、前記透明電極上に前記集電電極用被覆ワイ
ヤを集電電極として設けたことを特徴とする請求項18
に記載の光起電力素子。 - 【請求項20】 前記光起電力素子の半導体層上に配設
された透明電極上に請求項1乃至17のいずれか1項に
記載の集電電極用被覆ワイヤの前記導電性接着剤が接す
るように該集電電極被覆ワイヤを集電電極として設けた
ことを特徴とする請求項18に記載の光起電力素子。 - 【請求項21】 前記半導体層が、単結晶シリコン、多
結晶シリコン、薄膜多結晶シリコン、アモルファスシリ
コン、アモルファスシリコンゲルマニウム、アモルファ
スシリコンカーボンのうち少なくとも1種類からなるこ
とを特徴とする請求項18又は19に記載の光起電力素
子。 - 【請求項22】 前記半導体層が、pin接合又はpn
接合からなるセルを3回積み重なったトリプルセルであ
ることを特徴とする請求項18乃至21のいずれか1項
に記載の光起電力素子。 - 【請求項23】 光入射側に集電電極を設けた構成の光
起電力素子の製造方法において、請求項1乃至17のい
ずれか1項に記載の集電電極用被覆ワイヤを、熱、圧
力、又は熱と圧力によって、前記光起電力素子の光入射
面と付着させることを特徴とする光起電力素子の製造方
法。 - 【請求項24】 前記集電電極用被覆ワイヤに加える熱
が、前記ブロックイソシアネートの解離温度以上である
ことを特徴とする請求項23に記載の光起電力素子の製
造方法。 - 【請求項25】 前記被覆層を形成する前記未硬化の熱
硬化性高分子樹脂のゲル分率が、20%以上100%以
下になるまで、前記集電電極用被覆ワイヤを加熱するこ
とを特徴とする請求項23又は24に記載の光起電力素
子の製造方法。
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