JP2811364B2 - 4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法 - Google Patents
4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法Info
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Description
ム陽性菌に対しても有効で広範囲の抗菌スペクトルを有
する、一般式[I] 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保護基を;R
3は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保護さ
れていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよい
アミノ基、保護されていてもよい低級アルキルアミノ基
またはジ−低級アルキルアミノ基を;R4は、保護されて
いてもよいアミノ基を;R5は、置換されていてもよい低
級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、アリー
ルまたは複素環式基を; [R6は、水素原子、ハロゲン原子またはR5と一緒になっ
て式 (R7は、水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アル
キル基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル
基、低級アルキリデン基およびR7が結合する炭素原子と
ともにシクロアルカン環を形成する基から選ばれる1つ
以上の基を;およびBは、酸素原子もしくは硫黄原子ま
たは低級アルキル基で置換されていてもよいイミノ基を
示す。)で表わされる基を示す。]を;並びにX1は、ハ
ロゲン原子をそれぞれ示す。」 で表わされる7−(1−アミノシクロプロピル)−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸誘導
体およびその塩の重要な中間体である、一般式[II] 「式中、R1およびX1は、前記したと同様の意味を有し;X
2は、ハロゲン原子を;並びにY1およびY2は、同一また
は異なって水素原子またはハロゲン原子をそれぞれ示
す。」 で表わされる化合物およびその塩並びにそれらを用いる
下記製造法に関する。
の塩をホフマン転位反応に付し、必要に応じて保護基を
脱離、保護基を導入または塩に変換させて、一般式
「I」で表わされる化合物の中間体である一般式[II
I] 「式中、R1、X1、X2、Y1およびY2は、前記したと同様の
意味を有し;並びにR2は、水素原子またはアミノ保護基
を示す。」 で表わされる4−(1−アミノシクロプロピル)安息香
酸誘導体またはその塩を製造する方法に関する。
ロピル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸誘導体およびその塩は、特開平1−93573号
および同2−28178号において、緑膿菌を含むグラム陰
性菌のみならずグラム陽性菌に対しても有効で、広範囲
の抗菌スペクトルを有すると同時に、溶解性に優れ、高
い血中濃度を示し、かつ中枢神経への作用のないなど安
全性が高い優れた性質を有すること、並びに一般式[II
I]で表わされる化合物およびその塩が一般式[I]で
表わされる化合物およびその塩の有用な中間体であるこ
とが示されている。
の塩を製造する方法として、一般式[II]で表わされる
新規な化合物またはその塩を中間体として経由する方法
は全く知られていない。
−アミノシクロプロピル)−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソ−3−キノリンカルボン酸誘導体またはその塩を製造
するための中間体である一般式[III]で表わされる4
−(1−アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体または
その塩を工業的に容易に得る製造法およびその反応の原
料である一般式[II]で表わされる化合物およびその塩
を提供することにある。
果、一般式[II]の化合物またはその塩をホフマン転位
反応に付し、一般式[III]の4−(1−アミノシクロ
プロピル)安息香酸誘導体またはその塩を容易に得る方
法を見出し、本発明を完成するに至った。
原子とは、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
またはヨウ素原子などを;アルキル基とは、たとえば、
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペン
チル、ヘキシルまたはオクチルなどのC1〜10アルキル
基を;低級アルキル基とは、たとえば、上記したアルキ
ル基のうちC1〜5アルキル基を;低級アルケニル基と
は、たとえば、ビニル、アリル、1−プロペニルまたは
1−ブテニルなどのC2〜5アルケニル基を;シクロア
ルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルなどのC
3〜6シクロアルキル基を;アリール基とは、たとえ
ば、フェニルまたはナフチルなどを;複素環式基とは、
酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選ばれる1つ以
上の異項原子を含む5員もしくは6員環またはそれらの
縮合環式基、たとえば、フリル、ピロリル、チエニル、
オキサゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、1−ピロリ
ジニル、ベンゾフリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、
キノリル、ピリミジニルまたはモルホリノなどを;アル
コキシ基とは、たとえば、−O−アルキル基(アルキル
基は、上記したC1〜10アルキル基を示す。)を;アル
コキシカルボニル基とは、たとえば、−CO−O−アルキ
ル基(アルキル基は、上記したC1〜10アルキル基を示
す。)を;アルコキシアルコキシ基とは、たとえば、−
O−アルキル−O−アルキル基(アルキル基は、上記し
たC1〜10アルキル基を示す。)を;アシルアミノ基と
は、たとえば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、トリ
フルオロアセチルアミノ、プロピオニルアミノまたはブ
チリルアミノなどのC1〜4アシルアミノ基を;アシル
−低級アルキルアミノ基とは、たとえば、ホルミルメチ
ルアミノ、アセチルメチルアミノ、トリフルオロアセチ
ルメチルアミノ、プロピオニルエチルアミノまたはブチ
リルエチルアミノなどのC1〜4アシル−C1〜5アル
キルアミノ基を;アシルオキシ基とは、たとえば、ホル
ミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシまた
はブチリルオキシなどのC1〜4アシルオキシ基を;ト
リハロゲノ−低級アルキル基とは、たとえば、トリフル
オロメチルまたはトリクロロメチルなどのトリハロゲノ
−C1〜5アルキル基を;低級アルキルアミノ基とは、
たとえば、メチルアミノ、エチルアミノまたはプロピル
アミノなどのC1〜5アルキルアミノ基を;ジ−低級ア
ルキルアミノ基とは、たとえば、ジメチルアミノまたは
ジエチルアミノなどのジ−C1〜5アルキルアミノ基
を:ハロゲノ低級アルキル基とは、たとえば、クロロメ
チル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、クロロエチル、ジクロロエチル、トリクロロエチル
またはクロロプロピルなどのハロゲノ−C1〜5アルキ
ル基を;ヒドロキシ低級アルキル基とは、たとえば、ヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチルまたはヒドロキシプ
ロピルなどのヒドロキシ−C1〜5アルキル基を;低級
アルキリデン基とは、たとえば、メチレン、エチリデ
ン、プロピリデンまたはイソプロピリデンなどのC
1〜5アルキリデン基を;シクロアルカン環とは、たと
えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン
またはシクロヘキサンなどのC3〜6シクロアルカン環
をそれぞれ意味する。
基は、ハロゲン原子;シアノ基;カルボキシル基;ヒド
ロキシル基;アミノ基;アルキル基;アルコキシ基;ア
ルコキシカルボニル基;アルコキシアルコキシ基;アリ
ール基;シクロアルキル基;アシルアミノ基;アシル−
低級アルキルアミノ基;アシルオキシ基;低級アルケニ
ル基;トリハロゲノ−低級アルキル基;低級アルキルア
ミノ基;またはジ−低級アルキルアミノ基などから選ば
れる一つ以上の置換基で置換されていてもよい。
化学的還元もしくはその他の緩和条件で処理することに
より脱離するエステル形成基;生体内において容易に脱
離するエステル形成基;または水もしくはアルコールで
処理することにより容易に脱離する有機シリル、有機リ
ンもしくは有機スズ基などの特開昭59−80665号に記載
されたカルボキシル保護基が挙げられる。
は、通常当該分野で使用される保護基が挙げられ、たと
えば、ホルミル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベ
ンジル、2,4−ジメトキシベンジル、メトキシカルボニ
ルおよび特開昭59−80665号に記載された通常のアミノ
保護基が挙げられる。
で使用される保護基が挙げられ、たとえば、水またはア
ルコールで処理することにより容易に脱離する有機シリ
ル基並びにホルミル、アセチル、ベンジル、トリチルお
よびメトキシメチルなどの特開昭59−80665号に記載さ
れた通常のヒドロキシル保護基が挙げられる。
の塩としては、通常知られているアミノ基などの塩基性
基またはヒドロキシルもしくはカルボキシル基などの酸
性基における塩を挙げることができる。
水素酸もしくは硫酸などの鉱酸との塩;酒石酸、ギ酸、
クエン酸、トリクロロ酢酸もしくはトリフルオロ酢酸な
どの有機カルボン酸との塩;またはメタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メシチ
レンスルホン酸もしくはナフタレンスルホン酸などのス
ルホン酸との塩などを、また、酸性基における塩として
は、たとえば、ナトリウムもしくはカリウムなどのアル
カリ金属との塩;カルシウムもしくはマグネシウムなど
のアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;またはト
リメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピ
ペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジ
シクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミ
ン、N−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフェ
ナミンもしくはN,N′−ジベンジルエチレンジアミンな
どの含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。
ノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩は、一
般式[II]で表わされる化合物またはその塩をホフマン
転位反応に付すことによって得ることができる。
は、反応に悪影響をおよぼさない溶媒であれば特に限定
されないが、たとえば、水;並びにメタノールおよびエ
タノールなどのアルコール類などが挙げられ、これらの
溶媒を2種以上混合して使用してもよい。
使用されるN−ハロアミド化剤および塩基が使用され、
N−ハロアミド化剤としては、たとえば、次亜ハロゲン
酸(次亜塩素酸メチル、次亜塩素酸エチルおよび次亜塩
素酸t−ブチルなどの次亜塩素酸エステル;並びに次亜
塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜臭素酸ナ
トリウムおよび次亜臭素酸カリウムなどの次亜ハロゲン
酸塩)が挙げられる。
ゲンと塩基から調製することもできる。
よび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ;並びにナト
リウムメトキシドおよびナトリウムエトキシドなどの金
属アルコキシドなどが挙げられる。
たはその塩に対して、それぞれ、等モル以上、好ましく
は、1.0〜2.0倍モルである。
その塩に対して、それぞれ、等モル以上、好ましくは、
2.0〜5.0倍モルである。
すればよい。
反応試剤により適宜選択される。
物またはその塩は、所望により公知方法により、保護基
の脱離反応、保護基の導入または塩形成反応に付すこと
により、それぞれ対応する化合物に誘導することができ
る。
る一般式[II]の化合物またはその塩は、新規化合物で
あり、通常、公知の反応を組み合わせることによって得
ることができるが、たとえば、つぎに示す製造ルートに
したがって製造することができる。
意味を有し;R1aは、R1と同様のカルボキシル保護基を;R
8は、水素原子またはカルボキシル保護基を;X3は、ハロ
ゲン原子を;並びにX4およびX5は、同一または異なって
脱離基をそれぞれ示す。」 一般式[VIII]の化合物におけるX4およびX5の脱離基
としては、たとえば、塩素、臭素およびヨウ素などのハ
ロゲン原子;メタンスルホニルオキシなどのアルカンス
ルホニルオキシ基;並びにトルエンスルホニルオキシな
どのアレーンスルホニルオキシ基などが挙げられる。
[X]の化合物の塩としては、一般式[I]の化合物の
塩で説明したと同様の塩が挙げられる。
チレンの塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウム
およびリチウムなどのアルカリ金属との塩が挙げられ
る。
式[IV]の化合物またはその塩を米国特許第3,590,036
号に記載の方法に準じて、一般式[V]またはその塩と
反応させることによって、一般式[VI]の化合物または
その塩に誘導し、これを通常の方法によって、脱保護お
よび脱炭酸反応を行うことによって得ることができる。
よび触媒の存在下または不存在下、一般式[VII]の化
合物またはその塩と一般式[VIII]の化合物を反応させ
ることによって得ることができる。
は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定さ
れないが、たとえば、水;メタノール、エタノールおよ
び2−プロパノールなどのアルコール類;ジエチルエー
テル、テトラヒドロフランおよびジオキサンなどのエー
テル類;ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香
族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−
ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジメチル
スルホキシドなどのスルホキシド類などを挙げられ、こ
れらの溶媒を二種類以上混合して使用してもよい。
ば、水酸化アルカリ、炭酸水素アルカリおよび炭酸アル
カリなどの無機塩基;水素化ナトリウムおよび水素化カ
リウムなどの金属水素化物;ナトリウムエトキシドおよ
びナトリウムメトキシドなどの金属アルコキシド;並び
に1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エンな
どの有機塩基が挙げられる。
ば、18−クラウン−6およびジベンゾ−18−クラウン−
6などのクラウンエーテル類;並びにテトラメチルアン
モニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウム
クロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライ
ド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド、テト
ラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモ
ニウムハイドロジェンサルフェート、トリオクチルメチ
ルアンモニウムクロライドおよびN−ラウリルピリジニ
ウムクロライドなどの相間移動触媒類が挙げられる。
の化合物またはその塩に対して、等モル以上、好ましく
は、1〜5倍モルである。
塩に対して、等モル以上である。
塩に対して、触媒量以上である。
ましくは、10〜60℃で、通常5分から20時間実施すれば
よい。
[IV]の化合物またはその塩を特開平2−28178号に記
載の方法にしたがって得ることができる。
[IX]の化合物またはその塩を公知の方法、たとえば、
新実験化学講座、第14巻(第1151〜1154頁)に記載に方
法に準じて加水分解反応を行うことによって得ることが
できる。
は、一般式[X]の化合物またはその塩を公知の方法、
たとえば、新実験化学講座、第14巻(第1136〜1151頁)
に記載の方法に準じて酸アミド化することによって得る
こともできる。
は、常法によって、単離または分離することなくつぎの
反応に使用することもできる。
たはその塩は、たとえば、特開平1−93573号および同
2−28178号に記載の方法にしたがって一般式[I]の
化合物またはその塩に誘導することができる。
これに限定されるものではない。
テル10.0gをジメチルスルホキシド60mlに溶解させ、炭
酸カリウム14.9gおよびシアノ酢酸t−ブチルエステル
7.62gを加え、70℃で2時間撹拌する。反応液を水200ml
およびトルエン100mlの混合液に加え、6N塩酸でpH3に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢
酸エチル=10:1(V/V)]で精製すれば、4−(シアノ
−tert−ブトキシカルボニル−メチル)−2,3,5−トリ
フルオロ安息香酸エチルエステル14.0g(収率90.6%)
を得る。
チル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル1
0.0gをトルエン60mlに溶解させ、p−トルエンスルホン
酸・1水和物50mgを加え、6時間還流する。反応液に水
20mlを加え、有機層を分取した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をカラムクロマトグランフィー[溶離液;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=5:1(V/V)]で精製すれば、4−シア
ノメチル−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステ
ル6.40g(収率90.3%)を得る。
香酸エチルエステル10.0gを1,2−ジブロモエタン16.2g
に溶解させ、氷冷下、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド9.37gおよび10N水酸化ナトリウム80mlを加
え、室温で2時間撹拌する。反応液にトルエン130mlお
よび酢酸エチル50mlを加え、6N塩酸でpH1に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層に水130mlを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7.5に調整した
後、水層を分取する。分取した水層を6N塩酸でpH1に調
整し、析出結晶を取すれば、4−(1−シアノシクロ
プロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸8.9g(収率8
9.7%)を得る。
エタンを用い、同様に反応を行えば、収率85.0%で目的
物を得る。
トリフルオロ安息香酸1.0gを濃塩酸4mlに懸濁させ、40
〜45℃で6時間撹拌した後、さらに濃塩酸4mlを加え、4
0〜45℃で6時間撹拌する。反応液に水12mlを加え、析
出結晶と取すれば、4−(1−カルバモイルシクロプ
ロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸0.97g(収率9
0.3%)を得る。
ルオロ安息香酸9.94gを1N水酸化ナトリウム水溶液82.4m
lに溶解させ、室温で、35%過酸化水素水8.41gを1時間
を要して滴下し、同温度で30分間撹拌する。反応液を6N
塩酸でpH2に調整した後、析出結晶を取すれば、4−
(1−カルバモイルシクロプロピル)−2,3,5−トリフ
ルオロ安息香酸9.61g(収率90.0%)を得る。
物の物性と一致した。
5−トルフルオロ安息香酸エチルエステル5.84gをアセト
ン58mlに溶解させ、トリエチルアミン2.46gを加える。
ついで、−20〜−15℃で、クロル炭酸エチル2.64gを5
分間を要して滴下し、同温度で2時間撹拌した後、25%
アンモニア水3.7gを加えた後、反応液を室温まで昇温す
る。反応液に水180mlを加え、析出結晶を取すれば、
4−(1−カルバモイルシクロプロピル)−2,3,5−ト
リフルオロ安息香酸エチルエステル4.98g(収率85.5
%)を得る。
3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル4.9gをエタ
ノール25mlに懸濁させ、1N水酸化ナトリウム水溶液20.5
mlを加え、室温で1時間撹拌する。反応液を2N塩酸でpH
2.5に調整した後、析出結晶を取すれば、4−(1−
カルバモイルシクロプロピル)−2,3,5−トリフルオロ
安息香酸4.20g(収率95.0%)を得る。
物の物性と一致した。
トリウム水溶液7.7mlに溶解させ、4−(1−カルバモ
イルシクロプロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸
1.0gを加え、室温で1時間撹拌する。ついで、反応液を
50℃まで昇温し、同温度で2時間撹拌する。反応液を6N
塩酸でpH5に調整した後、析出結晶を取すれば、4−
(1−アミノシクロプロピル)−2,3,5−トリフルオロ
安息香酸0.82g(収率91.9%)を得る。
臭素220mgを加えた後、4−(1−カルバモイルシクロ
プロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸300mgを加
え、室温で30分間撹拌する。ついで、反応液を50℃まで
昇温し、同温度で2時間撹拌する。反応液を2N塩酸でpH
7に調整した後、析出結晶を取すれば、4−(1−ア
ミノシクロプロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸1
60mg(収率59.8%)を得る。
性と一致した。
トリフルオロ安息香酸1.0gを2N水酸化ナトリウム水溶液
3.24mlに溶解させ、室温で、無水酢酸0.57gおよび2N水
酸化ナトリウム水溶液2.50mlをpHを11.5〜12.0に保ちな
がら30分間を要して滴下し、同温度で30分間撹拌する。
反応液を6N塩酸でpH1に調整した後、析出結晶を取す
れば、4−(1−アセチルアミノシクロプロピル)−2,
3,5−トリフルオロ安息香酸1.15g(収率97.3%)を得
る。
トリフルオロ安息香酸1.0gをメタノール20mlに懸濁さ
せ、氷冷下、ナトリウムメトキシド1.04gおよび臭素0.7
4gを加え、60℃で3時間撹拌する。反応液にトルエン90
mlおよび水100mlを加え、6N塩酸でpH1に調整した後、有
機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にn−ヘキ
サンおよびジエチルエーテルを加えて結晶を取すれ
ば、2,3,5−トリフルオロ−4−(1−メトキシカルボ
ニルアミノシクロプロピル)安息香酸0.25g(収率22.3
%)を得る。
Claims (2)
- 【請求項1】一般式 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保護基を;X
1およびX2は、同一または異なってハロゲン原子を;並
びにY1およびY2は、同一または異なって水素原子または
ハロゲン原子をそれぞれ示す。」 で表わされる化合物およびその塩。 - 【請求項2】一般式 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保護基を;X
1およびX2は、同一または異なってハロゲン原子を;並
びにY1およびY2は、同一または異なって水素原子または
ハロゲン原子をそれぞれ示す。」 で表わされる化合物またはその塩をホフマン転位反応に
付し、必要に応じて保護基を脱離、保護基を導入または
塩に変換させることを特徴とする、一般式 「式中、R1、X1、X2、Y1およびY2は、前記したと同様の
意味を有し;並びにR2は、水素原子またはアミノ保護基
を示す。」 で表わされる4−(1−アミノシクロプロピル)安息香
酸誘導体またはその塩の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2257669A JP2811364B2 (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | 4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2257669A JP2811364B2 (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | 4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法 |
Publications (2)
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---|---|
JPH04139157A JPH04139157A (ja) | 1992-05-13 |
JP2811364B2 true JP2811364B2 (ja) | 1998-10-15 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2257669A Expired - Lifetime JP2811364B2 (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | 4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法 |
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JP (1) | JP2811364B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP7021503B2 (ja) * | 2017-11-02 | 2022-02-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 脂肪族ジアミンの製造方法 |
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1990
- 1990-09-27 JP JP2257669A patent/JP2811364B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPH04139157A (ja) | 1992-05-13 |
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